JPS60244340A - クロロシランの不均等化反応触媒の製造方法 - Google Patents

クロロシランの不均等化反応触媒の製造方法

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JPS60244340A
JPS60244340A JP60086610A JP8661085A JPS60244340A JP S60244340 A JPS60244340 A JP S60244340A JP 60086610 A JP60086610 A JP 60086610A JP 8661085 A JP8661085 A JP 8661085A JP S60244340 A JPS60244340 A JP S60244340A
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    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
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    • B01J27/06Halogens; Compounds thereof
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は新規なりロロシランの不均等化反応触媒の製造
方法、特に無フ験=母立零、第4級アンモニウム塩が結
合した有機トリアルコキシシランをシリカやゼオライト
の如き無機物又は他のノ・ロシランと結合させることに
より新規なりロロシランの不均等化反応触媒を製造する
方法に関するものである。
(従来の技術) 珪素と水素の結合(Si−H)を有するクロロシランは
不飽和結合を有する有機化合物に付加反応を起こすこと
ができるのでいろいろな有機クロロシランを合成するの
に使用されている非常に有用な珪素化合物である(E、
 Y、 Lukevits & M、 G。
Voronkov、 ”% iV族元素の有機インザー
ション反応(Organic In5ertion R
eactiuns of Group工V Eleme
nts)”、 Con5ulants Bureau、
 New York。
1966)。工業用金属珪素から半導体珪素を製造する
工程に於いてもトリクロロシランは中間物質として広く
知られている。すなわち、高純度の半導体珪素を製造す
るために不純物の多い工業用金属珪素を塩化水素と反応
させてトリクロロシランに転換させ、これを精製した後
に再び還元させ高純度の半導体珪素を得ている(F、A
、 Padovani、米国特許第4092466号)
。半導体工業が発達するにしたがって半導体珪素の需要
が増加しその製造工程の改善に対する関心が高まり、ト
リクロロシランを還元しやすく精製しやすいジクロロシ
ランやシランに転換させ、半導体珪素を得る方法に改善
された(L、 H,Coleman、米国特許第434
0574号)。
従って、クロロシランの工業的な重要度は日増しに高ま
っていると言える。
珪素と水素の結合を有するクロロシランは銅を触媒とし
て金属珪素と塩化水素を反応させて得られるが、この反
応は発熱反応であるため工業的に゛は流動層反応槽を使
用することにより反応熱を除去する。反応温度を制御で
き々いと、副産物が多くなるため経済性がなくなるため
である。しかし、反応条件をよく調節しても予想される
ジクロロシランは非常に少ない量が得られるだけであり
、主生成物はトリクロロシランで、約80%が得られ、
次にはテトラクロロシランが15チぐらい得られる。し
たがってジクロロシランやシランはトリクロロシランか
ら不均等化反応によってジクロロシーランとテトラクロ
ロシランに転換され、次いでこ゛のジクロロシランから
同じ方法によってシランを得ることができる(C,J、
 Litteral、米国特許第4115845号)。
不均化反応は、珪素に結合された水素が水素だけで集ま
り、塩素が塩素だけで集って、一方は水素が多くなり、
他方は塩素が多くなる化合物に分離する反応であり、こ
の反応は必ず触媒を必要とし、従来いろいろな種類の触
媒が使用されているが、その中で工業的に重要なものは
多くない。
(発明が解決しようとする問題点) 従来は、塩化アルミニウム、6塩化ホウ素の様なルイス
酸を触媒に使用したり(C0E、Er1ckson。
米国特許等2627451.2755861号)、ニト
リルヤアミン化合物、トリフェニルフォスフイン、ジメ
チルフォルムアミド等の有機化合物が使用されるか(D
、L、Ba1ley、米国特許第2732282号)、
炭素粉末、アルカリ金属塩等が使用された(M、Kin
ger、米国特許第36’27501号)。しかしなが
ら、塩化アルミニウムや5塩化ホウ素の様な触媒は、反
応後に生成物から容易に分離できる利点はあるが、反応
温度が200℃程度の高い温度を必要とするが、トリク
ロロシランの沸点は62℃であり、ジクロロシランの沸
点は8℃であり、シランの沸点は、−112℃であるた
め反応温度が高いと反応槽の圧力も高くなければならず
、このため工程の運転には難点が多い。また、炭素やア
ルカリ金属塩を使用すると、反応温度を500−350
℃まで上けなければ々らないので実用性ははとんどなく
、ニトリルやアミン化合物の様な有機物を触媒として使
用すると反応温度は100〜150℃であシ、比較的低
い温度で反応が起きるが、反応時間が長く、反応後には
触媒が生成物に溶けるため、生成物から触媒を分離する
わずられしい蒸留工程を経なければならない。
この様に生成物から分離しやすい固体型の触媒は反応温
度が高くなければならないし、反応温度の低い有機系統
の触媒は反応後に触媒が生成物に溶は入るため分離する
のに難点がある。従って、この二つの形態の触媒の長所
を持ち、短所を補完した触媒として第4級アルキルアン
モニウム塩が置換された有機系統のイオン交換樹脂を使
用しトリクロロシランに転換させる方法が開発された(
、r、Bakay、米国特許第3928542号)。イ
オン交換樹脂はクロロシランに溶けないため分離しやす
く、100℃以下の温度で反応が起き、反応時間も60
分以内で短い方である。この目的に使用されるイオン交
換樹脂としては、米国のロームアンドハス社ノAmbe
ryst A−21とA−26やAmberite工R
A−400等が用いられ、公知の触媒中で最も使用しや
すく、簡単な触媒として知られている。しかし、この様
な触媒はイオン交換樹脂の比重が低いため連続工程に於
いては反応物に巻き込まれない様に支持体と共に充填し
なければならない煩わしさがあり、反応条件で樹脂と第
4級アルキルアンモニウム塩の結合が破壊されるため長
時間使用できない短所がある。これは第4級アルキルア
ンモニウム塩が有機系統の高分子であるイオン交換樹脂
に結合されている構造的特性からくるものと考えられて
いる。従って、この様なイオン交換樹脂を触媒として使
用しようとすれば、樹脂の比重が低い事に由来する問題
と触媒の安定性を高める問題を解決しなければならない
必要がある。
(問題点を解決するための手段) シリカやゼオライト等の無機物は若干の反応性のある水
酸基結合を持っているため、この官能基に反応性がある
有機珪素化合物を結合させる事ができる(F、 R,H
artley & P、 N、 Vezey、 ’有機
金属化学の進歩(Avd、 in Organomet
al chem、 )、”15巻、189頁、(197
8))。この様な無機物の表面にある官能基に有機珪素
化合物を結合させる事はプラスチック工業に使用される
無機充填剤を表面処理する時に多く使用されている。
本発明者らは種々検討を重ねた結果、上記の技術を利用
して前記要望にこたえた触媒を製造しうろことを見出し
、本発明に達成した。
無機化合物および/または下記一般式(II)で表わさ
れる化合物に結合させることを特徴とするクロロシラン
の不均等化反応触媒の製造方法である。
(2行余白) 一般式(I) 1 (RO)’3Si(CH2)イーN+−R3X−2 〔式中、nは1〜4の整数であり、Rは炭素数1〜4の
アルキル基であり R1とR2は同一または異なる炭素
数1〜8のアルキル基またはアリール基であり、R3は
炭素数1〜20のアルキル基またはジメチルアミノ基を
有するアルキル基であり、Xは塩素、臭素、沃素のハロ
ゲン原子である。〕一般式(I[) R4(CH2) n51X4 〔式中、nは1〜4の整数であり、芹は炭素数1〜乙の
アルキル基またはアリール基、または−H1臭素、沃素
またはOR6基(R6は炭素数1〜4のアルキル基であ
る)である。〕 すなわち、本発明の第1の能様によれば、上記一般式(
r)の第4級アンモニウム塩が置換された珪素化合物で
シリカやゼオライト等の無機物を処理すると次の様に無
機物の水酸基と有機珪素化合物が反応して第4級アンモ
ニウム塩が化学的に結合された生成物が得られる。
この様に製造された生成物はクロロシランの不均等化反
応触媒として有効であシ、この触媒は公知の有機樹脂に
第四級アンモニウム塩が結合された触媒に比べ、比重が
大きいため連続工程に於いても反応物質が通過する時巻
き込まれないため、充填が容易であり、・また、活性の
ある第四級アンモニウム塩が無機物の表面に結合されて
いるため反応物質との接触が容易であシ、反応性が高く
さらにまた、無機物に結合されているため安定性の良い
特徴がある。
本発明の第2の態様によれば、上記一般式(r)の化合
物と上記一般式(U)の珪素樹脂を形成できる化合物と
を適当量(好ましくは、一般式(I[)の化合物1モル
に対して一般式(1)の化合物を0.01〜5モル)混
合して加水分解し縮重合させると次のような反応によっ
て第四級アンモニウム塩が結合された形態の固体珪素樹
脂の触媒が得られる。この触媒はシリカ表面に一般式(
I)の化合物を結合させた形態に似た構造であり、クロ
ロシランの不均等化反応用触媒として有効である。
1 R’ (CHj) −S I X’s 十(RO)l 
S i (CH2) rlN+−R3X −z (CH,)、、R4 ? −0−8i−〇− 111 00 II まだ、本発明の第6の態様によれば、上記一般式(I)
の化合物とシリカやゼオライトの如き珪素含有無機物と
の混合物に一般式(II)の化合物を加えて加水分解す
ることによってクロロシランの不均等化反応に有効な触
媒が得られる。
本発明を更に詳細に説明する。一般式(I)の化合物と
シリカを結合させる場合には一般式(I)の化合物を好
ましくは40〜70チ濃度でメタノールに溶解させ、こ
の溶液に反応させようとするシリカを入れ薄い塩酸溶液
を徐々に加えて加水分解させることによって触媒が得ら
れる。
この場合、さらに一定量(一般式(1)の化合物1モル
に対し0.01〜10モル量)の好ましくは、第6級ア
ミノ基を有する一般式(I[)の化合物を混ぜて加水分
解することによっても、触媒が得られる。
これらの化合物は、加水分解して縮合する際、シリカと
化学的に結合するばかシでなく、化合物どうしが重合す
ることもある。固体触媒は水溶液からろ過した水分を除
去する。第4級アンモニウム塩は高温では分解する産め
水と共に沸とうするアルコール類やベンゼン等の溶媒を
使用して蒸留させ、150℃以下に維持しながら減圧下
で溶媒を蒸発させる。
一般式(I)で表される化合物をゼオライに結合させる
工程は、先ず例えばゼオライ)BXを塩化アンモニウム
溶液で処理してぜオライド中のナトリウムイオンをアン
モニウムイオンに交換させ、アンモニウムイメンが交換
されたぜオライドを600〜400℃の温度で加熱して
アン阜ニアを蒸発させ1974)。このように処理した
ゼオライトを一般式(I)の化合物をメタノールに好ま
しくは55〜85%溶解した溶液で処理し、溶媒である
メタノールを蒸留除去する。一般式(1)の化合物が結
合されたゼオライトはジブチルチンジラウレートを5チ
の濃度でトルエンに溶かした溶液で再び処理してトルエ
ンを蒸留させる。残る固体は100℃程度で加熱しなが
ら真空中で揮発分を除去し反応を完結させる。
この場合、シリカの場合と同様、一般式(I[)の化合
物を混在させてもよい。
第4級アンモニウム塩が結合された固体形態の珪素樹脂
の製造は、一般式(I)の化合物をメタノールに溶かし
、1〜10倍の一般式(I)の化合物であり輯キ輻有機
トリアルコキシシランと混ぜた後、弱酸性の水を加えて
加水分解して作る。加水分解が終るとゲル状態の固体が
得られるがこれを乾留して水溶液から分離し、無水アル
コールで数回洗い流し、真空乾燥機で乾燥すると固まり
状態の固体が得られる。この工程でジメチルアミノプロ
ピルトリエトキシシランを適当量混ぜて加水分解すると
第4級アンモニウム塩と第6級アミンを同時に有する生
成物が得られる。
上記の様に製造した本発明による触媒は、回分式、連続
式のどちらにも適合するが、触媒の比重が大きいため反
応槽に充填しやすく、クロロシランを通過させる時巻き
込まれないため連続式に特に有利である。
本方法により製造された触媒を用いて、トリクロロシラ
ンから不均等化反応によりジクロロシランを製造する反
応は、0℃から200℃の温度でなされるが、常温から
100℃までの温度が適当である。反応圧力は常圧や高
圧共に可能であるが常圧では反応物質や生成物の沸点が
低いので気相反応になるため反応速度が遅く、高圧では
液相反応になるため反応速度面では有利である。
しかし、反応温度と反応圧力以外にもう一つ留意する事
項は触媒と反応物質との充分な接触時間を与えなければ
ならないことである。これは回分式反応では触媒の量を
増やし反応時間を充分にする事によシ解決でき、連続工
程では触媒を充填した反応槽の長さを長くシ、反応物質
の流速を遅くし合わすことができる。出発物質トリクロ
ロ7ランの代シにジクロロシランを使用し、同じ触媒を
使用して反応させるとシランが得られる。
次の実施例によって本発明をさらに詳細に説明するが、
本発明はこれに局限されるものではない。
実施例 1 攪拌機、滴下漏斗、コンデンサーを装置した12容量の
三つ口の丸底フラスコに微片状のシリカゲル200gを
入れ、メタノールに40%濃度で溶けている3−()リ
メトキシシリル)プロビルオタタデシルジメチルアンモ
ニウム=クロリド溶液200g(0,16モル)を入れ
た。弱い酸性になる様に塩酸溶液を細滴か入れた水30
0#=/を滴下漏斗に入れ、攪拌機を猛烈に作動させな
がら水を徐々に注加し、反応を完結させるために1時間
攪拌した後、停止すると固体の沈殿が得られた。固体を
乾留して再び200ゴの無水エタノールで二層洗い流し
200耐のベンゼンを入れ蒸留し、固体中に含有される
水、エタノール、ベンゼンを除去スル。
微量残っている溶媒は減圧下で90℃まで加熱して除き
固体を乾燥させた。この様にして製造された触媒は25
6gであった。
なお、この触媒は次に示すようにシランの製造に有効に
用いることができた。
すなわち、若干の圧力に耐えるテフロン−々ルブの付い
た6ooM!容量のガラス管反応槽に上記の触媒100
gを入れ、次いで150yの5iHC烏を入れた後、テ
フロン・ぐルブを締め100℃で1時間加熱した。得ら
れた生成物をガスクロマドからフィーテ分析した結果、
5iH(4,2>80.9%、5iC4カ9.52チ、
Sin、C42カ8.8 %、5iH3C4!カ024
 %4う+h*コとがわかった。
また、上記と同様の触媒600gをステンレススチール
316型で作った反応槽に入れ、反応槽の外には、熱線
を巻いて自動温度調節機で80℃を維持するようにした
。反応槽の下には5iH(4,を注入できるポンプを連
結し反応槽の上には圧力を調節できる・ぐルブを付着し
、バルブ外部にはガスクロマトグラフィーと連結させ生
成物の組成を分析できる様にした。
5iHC1!、3の反応槽に滞留する時間が20〜60
分になる様に5iHCf3の注入速度を調節して反応さ
せたら4〜8 % (7) 5iH2ci□7>;生成
し、6〜12v)SiCj+、4、t タ0.02〜0
.03%ノS 1H3Cfl ;d(4C) レタ。
実施例 2 100g(0,16モル)の6−(トリメトキシシリル
)プロピルトリメチルアンモニウム=クロリド4゜チメ
タノール溶液を使用して実施例1と同じ方法で触媒を製
造した。
この触媒は次に示すようにクロロシランの不均等化反応
に有効に用いることができだ。すなわち、実施例1と同
様にガラス反応槽を用い、5iH2C12を反応させた
ら、SiH4が10.61XSiHCI!、3が622
%、5iC44が0.1チ生成され、残りは出発物質が
回収された。
実施例 6 実施例1と同じ条件で0.01モルのジメチルアミノプ
ロピルトリメトキシシランを添加して触媒を製造した。
実施例 4 実施例1の様に攪拌機、滴下漏斗、コンデンサーを装置
した1β容量の三つ口の丸底フラスコに94g(0,5
モ→えも距H予鞠めシアノノロピルトリメ゛トキシシラ
ンを入れ、メタノールに40チ溶液で溶けている6−(
トリメトキンシリル)プロピルオクタデシルジメチルア
ンモニウム−クロリド溶液63 g (0,05モル)
を300−1!の水に溶かした後、滴下漏斗に入れ攪拌
を作動させ々がら徐々゛に漏斗のコックを開け1時間か
けて滴下し反応を完結させるためにINHCIV、溶液
100+yzをさらに加え60分間攪拌した。生成した
固体を乾留したら固い固まり状の固体が得られた。この
固体を無水アルコールで2回洗い流し真空乾燥機で2時
間乾燥し触媒を製造した。
実施例 5 3−()リメトキシシリル)プロピルオクタデシルジメ
チルアンモニウム−クロリド溶液の代りに3−()リメ
トキシシリル)プロピルベンジルジメチルアンモニウム
−クロリドを使用して実施例4の様な方法で触媒を製造
した。
実施例 6 実施例6に於いてと同じ条件で0.01モルのジメチル
アミンプロピルトリメトキシシランを添加し触媒を製造
した。
実施例 7 ゼオライト(BX)100gを29gの塩化アンモニウ
ムを120−の水に溶かした溶液に入れ、80℃に加熱
しながら2時間放置してからろ過して再び同じ作業を2
回反復してアンモニウム塩に置換し、このゼオライトを
ろ過して適当に乾燥しφ た600〜400℃で2時間加熱した。この様に処理し
たゼオライトを6−(トリメトキシシリル)プメタノー
ルを蒸留しゼオライトが乾燥すると2gのジブチルチン
ジラウ、レートを40gのトルエンに溶かしゼオライト
を処理した。トルエンを蒸留し100℃に加熱しながら
真空で揮発分を揮発させ反応を完結させて触媒を製造し
た。
上記の触媒は倒れもクロロシランの不均等化触媒として
有効であった。
〔発明の効果〕
本発明を用い、ることにより、容易にクロロシランの不
均等化反応触媒を製造することができ、また、この触媒
は反応器への充填が容易でかつ高い活性を安定して維持
できるのでシランをより容易Kかつ安価に製造すること
ができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1) 下記一般式(I)で表わされる珪素化合物を珪素
    含有無機物および/または下記一般式(1)で表わされ
    る化合物に結合させることを特許とするクロロシランの
    不均等化反応触媒の製造方法。 一般式(I) 1 〔式中、nは1〜4の整数であシ、Rは炭素数1〜4の
    アルキル基であシ R1とR2は同一または異なる炭素
    数1〜8のアルキル基またはアリール基であり R3は
    炭素数1〜20のアルキル基またはジメチルアミノ基を
    有するアルキル基であり、Xは塩素、臭素、沃素のハロ
    ゲン原子である。〕一般式(I) R4(CI(、)、SiX/s 〔式中、nは1〜4の整数であり、芹は炭素数1〜6の
    アルキル基またはアリール基、または−H9塩素、臭素
    、沃素またはOR’基(ヤは炭素数1〜4のアルキル基
    である)である。〕 2)珪素含有無機物がシリカ又はゼオライトである特許
    請求の範囲第1)項に記載のクロロシランの不均等化反
    応触媒の製造方法。 6)一般式(I)で表わされる珪素化食物と一般式(I
    I)で表わされる化合物との結合反応を一般式(I)の
    化合物と一般式(1)の化合物との混合物を加水分解す
    ることによって行う特許請求の範囲第1)項に記載のク
    ロロシランの不均等化反応触媒の製造方法。 4)該混合物が一般式(It)で表わされる化合物1モ
    ルに対して一般式(I)で表わされる化合物0,01〜
    5モルの比率であることを特徴とする特許請求の範囲第
    3)項に記載のクロロシランの不均等化反応触媒の製造
    方法。 5)一般式(I)で表わされる珪素化合物、珪素含有無
    機物及び一般式(II)で表わされる化合物との結合反
    応を一般式(I)の化合物と珪素含有無機物との混合物
    に一般式(II)の化合物を加えて加水分解することに
    よって行う特許請求の範囲第1)項に記載のクロロシラ
    ンの不均等化反応触媒の製造方法。 6)一般式(I)で表わされる化合物1モルに対して一
    般式(n)で表わされる化合物0.01〜10モルの比
    率であることを特徴とする特許請求の範囲第5項に記載
    のクロロシランの不均等化反応触媒の製造方法。
JP60086610A 1984-05-17 1985-04-24 クロロシランの不均等化反応触媒の製造方法 Granted JPS60244340A (ja)

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JPH07330781A (ja) * 1994-06-01 1995-12-19 Wacker Chemie Gmbh アルキル−又はアリールジクロルシランの製法、触媒及び触媒の製法
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