JPS60243655A - 現像方法 - Google Patents
現像方法Info
- Publication number
- JPS60243655A JPS60243655A JP10096784A JP10096784A JPS60243655A JP S60243655 A JPS60243655 A JP S60243655A JP 10096784 A JP10096784 A JP 10096784A JP 10096784 A JP10096784 A JP 10096784A JP S60243655 A JPS60243655 A JP S60243655A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- development
- developing
- resist
- executing
- soln
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/26—Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
- G03F7/30—Imagewise removal using liquid means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Manufacturing Optical Record Carriers (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は半導体のマスク、あるいはビデオディスク、オ
ーディオディスク、及びその他の情報ディスクの原盤の
作製工程に用いられるレジストの現像方法に関するもの
である。
ーディオディスク、及びその他の情報ディスクの原盤の
作製工程に用いられるレジストの現像方法に関するもの
である。
従来例の構成とその問題点
レジストの現像方法としては、ドライエツチングによる
乾式方法によるものと、アルカリ性の溶液による湿式方
法によるものがある。
乾式方法によるものと、アルカリ性の溶液による湿式方
法によるものがある。
通常、湿式方法によるポジ型レジストの現像装置はレジ
スト表面に、スプレーあるいは滴下により水、現像液、
水の順で現像を行なっている。
スト表面に、スプレーあるいは滴下により水、現像液、
水の順で現像を行なっている。
以下図面を参照しながら従来の現像装置について説明す
る。第１図は、ガラス等の基板１の上にレジスト２全塗
布したガラス原盤である。ポジ型レジストの一例として
ＡＺｌ ３５０（ヘキスト社製）の場合の成分中のキノ
ンジアザイドの化学式は式（１）に示す通りである。
る。第１図は、ガラス等の基板１の上にレジスト２全塗
布したガラス原盤である。ポジ型レジストの一例として
ＡＺｌ ３５０（ヘキスト社製）の場合の成分中のキノ
ンジアザイドの化学式は式（１）に示す通りである。
これに信号部分のみ紫外線を照射すると式（２）に示す
様に照射された部分のみＮ２が放出する。この様に信号
を記録したガラスマスターを現像するには、第２図に示
す様に回転するターンテーブル上にガラスマスターをの
せ、低速で回転しながら、上方よりスプレーあるいは滴
下により、１ず水を流し、表面に水の膜を設けることに
よりレジスト表面を活性化すなわち水に馴まし、次に現
像液を流すことにより紫外線照射された部分のレジスト
を分解し現像全行なう。現像光子時においては、現像液
の代わりに水全流し、現像液を洗い流すことにより現像
を終了する。また、すべてが完了した時点においてター
ンテーブルを高速回転することにより水切りを行なう。
様に照射された部分のみＮ２が放出する。この様に信号
を記録したガラスマスターを現像するには、第２図に示
す様に回転するターンテーブル上にガラスマスターをの
せ、低速で回転しながら、上方よりスプレーあるいは滴
下により、１ず水を流し、表面に水の膜を設けることに
よりレジスト表面を活性化すなわち水に馴まし、次に現
像液を流すことにより紫外線照射された部分のレジスト
を分解し現像全行なう。現像光子時においては、現像液
の代わりに水全流し、現像液を洗い流すことにより現像
を終了する。また、すべてが完了した時点においてター
ンテーブルを高速回転することにより水切りを行なう。
しかしながら上記のような方法においては次のような問
題点がある。
題点がある。
第一にレジストが撥水性の為、水と馴みにくく、レジス
ト表面に水の均一な膜が設けにくく、レジスト表面の現
像液との切り換わりが不均一に行なわれやすく、数ミク
ロン以下の膜厚のレジストの現像において、局部的に未
現像の部分が発生するといった現像ムラを起こしやすい
。第二に現像液から水に切り換わる時にも短時間に、か
つ均一に切り換わらなければ同様に現像ムラを起こしや
すい。従ってターンテーブルの回転数、及び水、現像液
量の条件出しが非常に難しく、捷だ少しの量の変動や液
温の変化で現像ムラ奮起こしやすい。
ト表面に水の均一な膜が設けにくく、レジスト表面の現
像液との切り換わりが不均一に行なわれやすく、数ミク
ロン以下の膜厚のレジストの現像において、局部的に未
現像の部分が発生するといった現像ムラを起こしやすい
。第二に現像液から水に切り換わる時にも短時間に、か
つ均一に切り換わらなければ同様に現像ムラを起こしや
すい。従ってターンテーブルの回転数、及び水、現像液
量の条件出しが非常に難しく、捷だ少しの量の変動や液
温の変化で現像ムラ奮起こしやすい。
発明の目的
本発明の目的は、ポジ型レジストの現像において、現像
前にレジスト表面の活性の為のプＩＪ 現像及び現像後
の中和処理を設けることにより、上記問題点を除去する
現像方法を提供することである。
前にレジスト表面の活性の為のプＩＪ 現像及び現像後
の中和処理を設けることにより、上記問題点を除去する
現像方法を提供することである。
発明の構成
本発明の現像方法は前処理として現像の前に、１パーセ
ント以下の水酸化ナトリウム、あるいは現像液などを用
いることによりレジスト表面の活性化をはかり、また現
像液がアルカリ性であることから現像後に希酸性の液で
の中和工程を設けた現像方法である。
ント以下の水酸化ナトリウム、あるいは現像液などを用
いることによりレジスト表面の活性化をはかり、また現
像液がアルカリ性であることから現像後に希酸性の液で
の中和工程を設けた現像方法である。
実施例の説明
以下本発明の一実施例について説明する。本発明の現像
方法に用いられる現像装置は第２図と同様のものである
。
方法に用いられる現像装置は第２図と同様のものである
。
捷ず、ガラス原盤に水を流すことにより原盤を洗う。次
に、現像の前に１パ一セント程度の水酸化ナトリウム、
あるいは現像液ｉ２０〜３０秒程度レジスト表面上に流
すことによりレジスト表面の活性化を行なう。すなわち
レジスト表面に少し凹凸を設け、レジスト全面に液の膜
を張る。そして現像液との切り換えにおいて全面均一に
行なえるようにしたものである。また現像後において水
洗いの前に４パ一セント程度に希釈したリン酸等の弱酸
性液で中和することにより、現像液の停止をすばやく行
なうものである。その後、水洗いにより現像後のガラス
原盤表面を洗い流す。
に、現像の前に１パ一セント程度の水酸化ナトリウム、
あるいは現像液ｉ２０〜３０秒程度レジスト表面上に流
すことによりレジスト表面の活性化を行なう。すなわち
レジスト表面に少し凹凸を設け、レジスト全面に液の膜
を張る。そして現像液との切り換えにおいて全面均一に
行なえるようにしたものである。また現像後において水
洗いの前に４パ一セント程度に希釈したリン酸等の弱酸
性液で中和することにより、現像液の停止をすばやく行
なうものである。その後、水洗いにより現像後のガラス
原盤表面を洗い流す。
発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明は、プリ現像を
設けることにより、現像前に均一な液の膜を設け、現像
液との切り換えを均一に行ない、レジスト全面において
、現像を安定に行なうことが出来る。寸た現像後、弱酸
性液で中和することにより、現像時間の微細なコントロ
ールが出来る。
設けることにより、現像前に均一な液の膜を設け、現像
液との切り換えを均一に行ない、レジスト全面において
、現像を安定に行なうことが出来る。寸た現像後、弱酸
性液で中和することにより、現像時間の微細なコントロ
ールが出来る。
第１図はガラス原盤を示す側断面図、第２図は本発明の
現像方法を示す構造図である。 １・ ・・・ガラス盤、２ ・・・レジスト層、３・・
・現像装置ターンテーブル、４・・・・・・現像液ス
プレー（滴下）ノズル、５・・・ 現像液。
現像方法を示す構造図である。 １・ ・・・ガラス盤、２ ・・・レジスト層、３・・
・現像装置ターンテーブル、４・・・・・・現像液ス
プレー（滴下）ノズル、５・・・ 現像液。
Claims (1)
- 真板上に形成されだポジ型レジストの表面全活性にする
ためのプリ現像工程と、前記ブリ現像工程に行なわれる
現像工程と、前記現像工程の後に行なわれる、現像液の
中和を行なう中和工程とを備えた現像方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10096784A JPS60243655A (ja) | 1984-05-18 | 1984-05-18 | 現像方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10096784A JPS60243655A (ja) | 1984-05-18 | 1984-05-18 | 現像方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60243655A true JPS60243655A (ja) | 1985-12-03 |
Family
ID=14288116
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10096784A Pending JPS60243655A (ja) | 1984-05-18 | 1984-05-18 | 現像方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60243655A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0247835A2 (en) * | 1986-05-27 | 1987-12-02 | Konica Corporation | Method of processing presensitized lithographic printing plate and apparatus therefor |
| JP2008210873A (ja) * | 2007-02-23 | 2008-09-11 | Sokudo:Kk | 基板現像方法および現像装置 |
-
1984
- 1984-05-18 JP JP10096784A patent/JPS60243655A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0247835A2 (en) * | 1986-05-27 | 1987-12-02 | Konica Corporation | Method of processing presensitized lithographic printing plate and apparatus therefor |
| JP2008210873A (ja) * | 2007-02-23 | 2008-09-11 | Sokudo:Kk | 基板現像方法および現像装置 |
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