JPS60241887A - ギ酸脱水素酵素及びその製造方法 - Google Patents
ギ酸脱水素酵素及びその製造方法Info
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- JPS60241887A JPS60241887A JP9752384A JP9752384A JPS60241887A JP S60241887 A JPS60241887 A JP S60241887A JP 9752384 A JP9752384 A JP 9752384A JP 9752384 A JP9752384 A JP 9752384A JP S60241887 A JPS60241887 A JP S60241887A
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- JP
- Japan
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- formate dehydrogenase
- formic acid
- temperature
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の目的Ｊ
本発明は微生物による新規なギ酸脱水素酵素及びその製
造方法に関し、更に詳しくは、リポマイセス属に馴しメ
タノールを唯一の炭素源として生育しつる酵母を培養し
て、その代蛎産物としてギ酸脱水素酵素を蓄積させて得
られる新規なギ酸脱水素酵素及びその製造方法に関する
ものであり、その目的とするところは安価で大量に得ら
れるメタノールを発酵原料として有効利用り、産業上に
有益なギ酸脱水素酵素を掃供することにある。
造方法に関し、更に詳しくは、リポマイセス属に馴しメ
タノールを唯一の炭素源として生育しつる酵母を培養し
て、その代蛎産物としてギ酸脱水素酵素を蓄積させて得
られる新規なギ酸脱水素酵素及びその製造方法に関する
ものであり、その目的とするところは安価で大量に得ら
れるメタノールを発酵原料として有効利用り、産業上に
有益なギ酸脱水素酵素を掃供することにある。
［産業上の利用９１月
ギ酸脱水素酵素（＃素番号ｒ １．２．１．２．） ’
）はＴｉ「１．反応を触媒する酵素である。
）はＴｉ「１．反応を触媒する酵素である。
ギ酸脱水素酵素は生物反応での賞賛な補酵素であるＮＡ
ＤＨの再生系の酵素として、又ギ酸の分析等に使用する
ことができる。峙にＮＡＤＨ再生糸のｖＰ素としてｅ」
５、反応生成物がＣＯ，でちゃ副産物が蓄積しない利点
があり、工業的規模でのＮ Ａ Ｄ Ｈ再生系酵素とし
て注目されている。
ＤＨの再生系の酵素として、又ギ酸の分析等に使用する
ことができる。峙にＮＡＤＨ再生糸のｖＰ素としてｅ」
５、反応生成物がＣＯ，でちゃ副産物が蓄積しない利点
があり、工業的規模でのＮ Ａ Ｄ Ｈ再生系酵素とし
て注目されている。
「従来の技術」
メタノール資化性微生物として知られている酵母には例
えば、カンデイダ（Ｃａｎｄｌｄａ）属、ノッゼヌラ（
Ｈａｎｍｅｎｕｌａ）縞、ビヒア（Ｐｌｃｈｌａ ）属
、トルロプシス（Ｔｏｙｕｌｏｐｓｌｇ ）属及びクロ
エケラ（Ｋｌｏｅｃｋｅｒａ ）１’Ｘ等の菌株が知ら
れている。
えば、カンデイダ（Ｃａｎｄｌｄａ）属、ノッゼヌラ（
Ｈａｎｍｅｎｕｌａ）縞、ビヒア（Ｐｌｃｈｌａ ）属
、トルロプシス（Ｔｏｙｕｌｏｐｓｌｇ ）属及びクロ
エケラ（Ｋｌｏｅｃｋｅｒａ ）１’Ｘ等の菌株が知ら
れている。
これらの菌株はメタノールの代謝に際してギ酸脱水素酵
素を誘導し、メタノールの酸化反応ＶＣよって生じるギ
酸を酸化する。
素を誘導し、メタノールの酸化反応ＶＣよって生じるギ
酸を酸化する。
史に具体的なギ酸脱水素酵素生産菌としてはカンディダ
ボイデイニ（Ｃａｎｄｌｄａ ｂｏｉｄｉｎｌ ） （
Ｅｕｒ、 Ｊ、 ＢｉｏｃｈｅｍＶｏｌ、６２ １５１
（１９７６）参照）、クロエケラ エスピー（Ｋｌｏｅ
ｃｋｅｒａ ａｐ、 ） （Ａｇｒｉｃ Ｂｌｏｌ、
Ｃｈｅｍ Ｖｏｗ、 ３８１１１（１９７４）参照）、
ビヒアサテバウ（Ｐｌｃｈｊａｓａｔｌｖｕｍ ） （
Ｊ、Ｂｌｏｃｈｅｍ Ｖｏｌ、 ７５ １２５７（１９
７４）参照）、ピヒアパストリス（Ｐｌｃｈｉａ ｐａ
ｓｔｏｒｉａ ）（Ａｇｒｉｅ Ｂｌｏｌ Ｃｈｅｍ
Ｖｏｌ、４７ ２５４７（１９８３）参照）が既に知ら
れている。
ボイデイニ（Ｃａｎｄｌｄａ ｂｏｉｄｉｎｌ ） （
Ｅｕｒ、 Ｊ、 ＢｉｏｃｈｅｍＶｏｌ、６２ １５１
（１９７６）参照）、クロエケラ エスピー（Ｋｌｏｅ
ｃｋｅｒａ ａｐ、 ） （Ａｇｒｉｃ Ｂｌｏｌ、
Ｃｈｅｍ Ｖｏｗ、 ３８１１１（１９７４）参照）、
ビヒアサテバウ（Ｐｌｃｈｊａｓａｔｌｖｕｍ ） （
Ｊ、Ｂｌｏｃｈｅｍ Ｖｏｌ、 ７５ １２５７（１９
７４）参照）、ピヒアパストリス（Ｐｌｃｈｉａ ｐａ
ｓｔｏｒｉａ ）（Ａｇｒｉｅ Ｂｌｏｌ Ｃｈｅｍ
Ｖｏｌ、４７ ２５４７（１９８３）参照）が既に知ら
れている。
５−
「発明が解決しようとする問題点１
これまでギ酸脱水素酵素を生産する菌株は上鮎の如く知
られている。
られている。
ギ酸脱水素酵素は先にも述べたように補酵素であるＮＡ
ＤＨの再生系の＃累として注目されているＫも拘らず。
ＤＨの再生系の＃累として注目されているＫも拘らず。
工業的規模での利用は行われるには至っていない。この
理由としては １．既知のギ酸脱水素酵素の比活性が低
いこと２ギ酸及びＮＡＤ”Ｋ対するギ酸脱水素酵素のＫ
ｍ値が大きいことなどが考えられ、工業的規模でのＮＡ
ＤＨ再生系としてギ酸脱水素酵素を利用することの障害
となっている。
理由としては １．既知のギ酸脱水素酵素の比活性が低
いこと２ギ酸及びＮＡＤ”Ｋ対するギ酸脱水素酵素のＫ
ｍ値が大きいことなどが考えられ、工業的規模でのＮＡ
ＤＨ再生系としてギ酸脱水素酵素を利用することの障害
となっている。
「問題を解決するだめの手段」
本発明者らはメタノールを資化利用し、月っ高活性のギ
酸脱水素酵素生産酵母の分離を広範囲に行つた結果、リ
ポマイセス属の酵母がメタノールを也く資化し、且つ高
活性でギ酸及びＨＡＤ＋に対するＫｍ値の小さいギ酸脱
水素酵素＝６− を生産することを発見し本発明を完成するに至った。
酸脱水素酵素生産酵母の分離を広範囲に行つた結果、リ
ポマイセス属の酵母がメタノールを也く資化し、且つ高
活性でギ酸及びＨＡＤ＋に対するＫｍ値の小さいギ酸脱
水素酵素＝６− を生産することを発見し本発明を完成するに至った。
即ち本発明は、リポマイセス属に桐し、ギ酸脱水素酵素
生産能を有する酵母、好１しくけメタノールを唯一の炭
素源として生育し得る１祥母、ｙｒ好捷しくけりボマイ
セス・メタノシルビエンシスを液仕培地に培養し菌体内
に生成蓄積したギ酸脱水素酵素￥素、好壕しくけ（ＡＩ
活性、温度範囲：２５°（〜６０℃、至適湯度：５０℃
、ｐ）ｆ範囲：６〜９至適ｐＨ： ７．５ （Ｂ）分子
ｉｒｌ ： ７６（１００（Ｃ）ギ酸に対するＫｍ値５
．６４ ｍＭ （ＤＩ ＮＡ Ｄ＋に対するＫｍ値０．
０７３ｍＭ（Ｅ１安定性、温度＝５５℃以下、ｐＨ：６
５〜Ｚ５であるギ酸脱水素酵素を菌から採取することを
特徴とするギ酸脱水素酵素の＆ｌ造方法を提供するもの
である。
生産能を有する酵母、好１しくけメタノールを唯一の炭
素源として生育し得る１祥母、ｙｒ好捷しくけりボマイ
セス・メタノシルビエンシスを液仕培地に培養し菌体内
に生成蓄積したギ酸脱水素酵素￥素、好壕しくけ（ＡＩ
活性、温度範囲：２５°（〜６０℃、至適湯度：５０℃
、ｐ）ｆ範囲：６〜９至適ｐＨ： ７．５ （Ｂ）分子
ｉｒｌ ： ７６（１００（Ｃ）ギ酸に対するＫｍ値５
．６４ ｍＭ （ＤＩ ＮＡ Ｄ＋に対するＫｍ値０．
０７３ｍＭ（Ｅ１安定性、温度＝５５℃以下、ｐＨ：６
５〜Ｚ５であるギ酸脱水素酵素を菌から採取することを
特徴とするギ酸脱水素酵素の＆ｌ造方法を提供するもの
である。
本発明において使用する酵母は、以下に詳述する如く、
メタノールを唯一の炭素源としてこれを資化することが
好ましいが、ギ酸脱水素酵素を生産するものであればい
ずれでも模い。これらの具体的菌株としては、例えばリ
ボマイセス・メタノシルビエンシス（Ｌｌｐｏｍｙｃｅ
ｍ ｍｅｔｈａｎｏｓｌｌｖｌｅｎｓｉｓ）Ｋよって代
表されるが、この他にもメタノールを資化し、ギ酸脱水
素酵素を生産するりボマイセス属であればいずれでも使
用できる。
メタノールを唯一の炭素源としてこれを資化することが
好ましいが、ギ酸脱水素酵素を生産するものであればい
ずれでも模い。これらの具体的菌株としては、例えばリ
ボマイセス・メタノシルビエンシス（Ｌｌｐｏｍｙｃｅ
ｍ ｍｅｔｈａｎｏｓｌｌｖｌｅｎｓｉｓ）Ｋよって代
表されるが、この他にもメタノールを資化し、ギ酸脱水
素酵素を生産するりボマイセス属であればいずれでも使
用できる。
又、本発明に用い得る微生物は、前記リボマイセス・メ
タノシルビエンシスに限らず、その自然的又は人為的変
異株であってもメタノールを炭素源として、ギ酸脱水素
酵素生産能を有するリポマイセス属酵母である限り、使
用ｉ：ｉＴ能である。
タノシルビエンシスに限らず、その自然的又は人為的変
異株であってもメタノールを炭素源として、ギ酸脱水素
酵素生産能を有するリポマイセス属酵母である限り、使
用ｉ：ｉＴ能である。
尚、前記リボマイセスーメタノシルビエンシスは既に微
生物受託番号第５４８９号として昭和５５年４月１５日
付で工業技術院微生物工業技術研究所へ寄託されており
、その菌学的性質は、特公昭５７−２８５５１号公報に
言１シ載されているとおりである。
生物受託番号第５４８９号として昭和５５年４月１５日
付で工業技術院微生物工業技術研究所へ寄託されており
、その菌学的性質は、特公昭５７−２８５５１号公報に
言１シ載されているとおりである。
本発明使用の酵母によるギ酸脱水素酵素生産に使用する
培地としては、主炭素源としてのメタノールと窒素源、
無機物、ビタミン、その他生長促進物質をそれぞれ適量
に含有する培地ならば合成培地又は天然増地のいずれで
も使用できる。
培地としては、主炭素源としてのメタノールと窒素源、
無機物、ビタミン、その他生長促進物質をそれぞれ適量
に含有する培地ならば合成培地又は天然増地のいずれで
も使用できる。
本発明使用の酵母は、培地中の主炭素源であるメタノー
ル濃度が４重−ｉ％まで生育できるが培養方法としては
、培養時の通気によるメタノールの蒸発損失を少なくす
るために培地中のメタノール初濃度をできるだけ低くし
てメタノールの消費に合わせてメタノールを添加し、培
養液中のメタノールを低濃度に保ちながら培養する方法
をとることが好ましい。窒素源としてはアンモニウム塩
、尿素、コーンステイープリカー、酵母エキス、ペプト
ンなどの窒素化合物が用いられる。又、その他の無機塩
としては例えばマグネシウム塩、リン酸塩、カリウム塩
、カルシウム塩、鉄塩９− などが挙げられ、必要に応じてビタミン類などの生育に
必須な物質あるいは生長促進物質を添加することも好せ
しい。
ル濃度が４重−ｉ％まで生育できるが培養方法としては
、培養時の通気によるメタノールの蒸発損失を少なくす
るために培地中のメタノール初濃度をできるだけ低くし
てメタノールの消費に合わせてメタノールを添加し、培
養液中のメタノールを低濃度に保ちながら培養する方法
をとることが好ましい。窒素源としてはアンモニウム塩
、尿素、コーンステイープリカー、酵母エキス、ペプト
ンなどの窒素化合物が用いられる。又、その他の無機塩
としては例えばマグネシウム塩、リン酸塩、カリウム塩
、カルシウム塩、鉄塩９− などが挙げられ、必要に応じてビタミン類などの生育に
必須な物質あるいは生長促進物質を添加することも好せ
しい。
本発明使用酵母の培養条件は、培養温度２０〜４２℃で
生育可能であるがギ酸脱水素酵素の生成などの点から３
４〜３９℃が特に好ましい。又、ｐＨ３〜７で生育可能
であるが、ｐＨ５，５〜５５が好ましく、さらに目的と
する酵母以外の雑菌の汚染のない状態で長期にわたり連
続培養を行ないギ酸脱水素酵素の生産を行なうためＫは
、ｐＨ４〜５で培養することが特に好ましい。又、培養
方式は、１分培養または連続培養のいずれでも良い。
生育可能であるがギ酸脱水素酵素の生成などの点から３
４〜３９℃が特に好ましい。又、ｐＨ３〜７で生育可能
であるが、ｐＨ５，５〜５５が好ましく、さらに目的と
する酵母以外の雑菌の汚染のない状態で長期にわたり連
続培養を行ないギ酸脱水素酵素の生産を行なうためＫは
、ｐＨ４〜５で培養することが特に好ましい。又、培養
方式は、１分培養または連続培養のいずれでも良い。
かくして得られた培養物中のギ酸脱水素酵素は、主に菌
体内に生成されている。従って培養終了液中に生産され
たギ酸脱水素酵素を単離するＫは、遠心分離などの手段
によって菌体を集めた後、ダイノミル細胞破砕機等によ
り細胞を破砕し、緩衝液で抽出され、塩析法、溶媒析出
法、カラ１０− ムクロマトグラフイーなどにより単離されるが、通常、
細胞、破砕後の抽出液に硫安を５０％飽和と々るように
加え生じた沈澱を遠心分離などによって除去し、沈澱゛
を除去した上清にさらに硫安を加え７０％飽和とする。
体内に生成されている。従って培養終了液中に生産され
たギ酸脱水素酵素を単離するＫは、遠心分離などの手段
によって菌体を集めた後、ダイノミル細胞破砕機等によ
り細胞を破砕し、緩衝液で抽出され、塩析法、溶媒析出
法、カラ１０− ムクロマトグラフイーなどにより単離されるが、通常、
細胞、破砕後の抽出液に硫安を５０％飽和と々るように
加え生じた沈澱を遠心分離などによって除去し、沈澱゛
を除去した上清にさらに硫安を加え７０％飽和とする。
生じた沈澱をギ酸脱水素酵素の安定剤と１７での０５％
グリセリン及び３０ｍＭ？−メルカプトエタノールを含
むリン酸ナトリウム酸（１ｔｉ＃に懸濁後、同バッファ
ーに対して透析し、同バッファーで平衡化したＩ）ＥＡ
Ｅ・セファセルカラムに吸着させる。次いで０〜０．４
Ｍの塩化す） ＩＪウム連緋譲度勾配で浴出し、ギ酸脱
水素酵素活性を含む両分を集める。活性画分を濃縮１２
透桁後ノ・イドロキシアパタイト力ラムに吸着させ、０
２Ｍのリン酸ナトリウム緩衝液で溶出する。活性画分を
７Ｍ後、セファデックスＧ１００によるゲル口過を行な
い活性画分を集め＠製酵素を得ることができる。ギ酸脱
水素酵素の活性測定は、ギ酸及びＮＡＤを反応基質とし
、酵素反応で生じるＮＡＤＨの３４０ ｎｍの吸光度の
増加によシ行彦った。反応温度は２５℃とし、１分間に
１μｍｏｌｅのＮＡＤＨを生成する酵素量を１単位とし
た。
グリセリン及び３０ｍＭ？−メルカプトエタノールを含
むリン酸ナトリウム酸（１ｔｉ＃に懸濁後、同バッファ
ーに対して透析し、同バッファーで平衡化したＩ）ＥＡ
Ｅ・セファセルカラムに吸着させる。次いで０〜０．４
Ｍの塩化す） ＩＪウム連緋譲度勾配で浴出し、ギ酸脱
水素酵素活性を含む両分を集める。活性画分を濃縮１２
透桁後ノ・イドロキシアパタイト力ラムに吸着させ、０
２Ｍのリン酸ナトリウム緩衝液で溶出する。活性画分を
７Ｍ後、セファデックスＧ１００によるゲル口過を行な
い活性画分を集め＠製酵素を得ることができる。ギ酸脱
水素酵素の活性測定は、ギ酸及びＮＡＤを反応基質とし
、酵素反応で生じるＮＡＤＨの３４０ ｎｍの吸光度の
増加によシ行彦った。反応温度は２５℃とし、１分間に
１μｍｏｌｅのＮＡＤＨを生成する酵素量を１単位とし
た。
次に実施例を示すことによりさらｒ（本発明の酵素を詳
細に説明する。
細に説明する。
昔実施例１
リボマイセス・メタノンルビエンシスをメタノールをＩ
＋１１−の炭素源とした（”Ｉ（４）＊ ８０４２．４
＆ ｓ ＮＨ４Ｈ２Ｐ ０４５．９ ＆ ＊ＫＨ，Ｐ
０．１．１５１１、ＭｇＳＯ４’７Ｈ，０１，Ｏｇ、Ｆ
ｅＳＯ４’７Ｈ，００、１１１、Ｃａ（ＮＯｓ）ｚ・４
ＨｔＯＯ，１７１＊ ビオチン１０μｇ１チアミン塩酸
塩５■、酵母エキス０１ｇ、水道水１１ｐＨ５，５の培
地で培饗して得た湿菌体１００ｇをダイノミルＭｏｄｅ
ｌ ＫＤＬで破砕し１５，０００ｘ＃ ２０分間の遠心
により上清にギ酸脱水素酵素約８００Ｕを含む菌体抽出
液を（また。１９湿菌体当りのギ酸脱水素酵素活性は８
Ｕであり、タンパク質１ダ当りの活性、即ち比活性は０
．１０Ｕ／ｑタンパク質であった。
＋１１−の炭素源とした（”Ｉ（４）＊ ８０４２．４
＆ ｓ ＮＨ４Ｈ２Ｐ ０４５．９ ＆ ＊ＫＨ，Ｐ
０．１．１５１１、ＭｇＳＯ４’７Ｈ，０１，Ｏｇ、Ｆ
ｅＳＯ４’７Ｈ，００、１１１、Ｃａ（ＮＯｓ）ｚ・４
ＨｔＯＯ，１７１＊ ビオチン１０μｇ１チアミン塩酸
塩５■、酵母エキス０１ｇ、水道水１１ｐＨ５，５の培
地で培饗して得た湿菌体１００ｇをダイノミルＭｏｄｅ
ｌ ＫＤＬで破砕し１５，０００ｘ＃ ２０分間の遠心
により上清にギ酸脱水素酵素約８００Ｕを含む菌体抽出
液を（また。１９湿菌体当りのギ酸脱水素酵素活性は８
Ｕであり、タンパク質１ダ当りの活性、即ち比活性は０
．１０Ｕ／ｑタンパク質であった。
この菌体抽出液から硫安塩析、イオン交換クロマトグラ
フィー、ゲル口過分画によって、電気泳動的に単一なバ
ンドとなったギ酸脱水素酵素約１００Ｕを精製標品と１
−て得た。セファデックスＧｌ ００による既知分子量
のタンパク質の溶出位瞳上の比較から本酵素の分子量は
約７＜Ｓ、０００であった。精製酵素の比活性は１．６
７Ｕ／Ｖタンパク質であった。
フィー、ゲル口過分画によって、電気泳動的に単一なバ
ンドとなったギ酸脱水素酵素約１００Ｕを精製標品と１
−て得た。セファデックスＧｌ ００による既知分子量
のタンパク質の溶出位瞳上の比較から本酵素の分子量は
約７＜Ｓ、０００であった。精製酵素の比活性は１．６
７Ｕ／Ｖタンパク質であった。
本例の結果は、リボマイセス・メタノンルビエンシスか
らのギ酸脱水素酵素の生産を証明するものである。
らのギ酸脱水素酵素の生産を証明するものである。
釜実施例２
実施例１で得られた精製ギ酸脱水素酵素（以下本酵素と
呼ぶ）の活性測定を異なるｐＨ値で行ない各ｐＨでの本
酵素の活性を調べた。
呼ぶ）の活性測定を異なるｐＨ値で行ない各ｐＨでの本
酵素の活性を調べた。
１６−
ｐＨ７５での活性を１００とした時の相対活性として表
わしだ０５５ ８ ６０ ８７ ６．５ ９０ ７０ ９６ ７．５ １００ ８０ ９９ ８５ ９８ ９０ ９０ ９５ ６６ １０．０ ３２ これらの結果より本酵素の反応至適ｐＨは７５で作用範
囲は６〜？であることを示した。
わしだ０５５ ８ ６０ ８７ ６．５ ９０ ７０ ９６ ７．５ １００ ８０ ９９ ８５ ９８ ９０ ９０ ９５ ６６ １０．０ ３２ これらの結果より本酵素の反応至適ｐＨは７５で作用範
囲は６〜？であることを示した。
養実施例６
ｐＨ７での本酵素の反応至適温度を調べた。５０℃での
活性を１００とした時の相対活性として表わした。
活性を１００とした時の相対活性として表わした。
１４−
反応温度（”Ｃ） 相対活性
２５ ２８
３０ ３９
３５ ４５
４０ ６２
４５ ８０
５０ １００
５５ ９９
６０ ３５
６５ １１
本酵素の反応至適温度は５０℃で、作用範囲は２５℃〜
６０℃であった。
６０℃であった。
釜実施例４
本酵素のｐＨ７での温度安定性を各温度で１０分間前処
理したへ季素の残存活性を調べることにより検討した。
理したへ季素の残存活性を調べることにより検討した。
−１ぺ −
前処理温度（’Ｃ） 残存活性（％）
無処理 １００
２５ １００
３０ １００
３５ １ ＤＯ
４Ｑ Ｉ ＤＯ
４５１００
ｓｏ Ｉ ＤＯ
５５１ＤＯ
６０６９
６５６
本酵素は５５℃までは非常に安定であった。
蒼実施例５
本酵素のｐＨ安定性を各ｐＨで４℃２４時間前処理した
酵素の残存活性を調べることにより検討した。
酵素の残存活性を調べることにより検討した。
＝１Ａ−
５０５０
５５７０
６０８Ｂ
６５ ９１
７０ １００
７５ ９３
８０ ７８
８５ ６２
９０ ４５
１０．０ ３２
本酵素はｐＨ６，５〜７５の範囲で安定であった釜実施
例６ 本酵素のギ酸及びＮＡＤ＋に対するＫｍ値をギ酸及びＮ
ＡＤの濃度と反応速度との関係からめたところ、ギ酸に
対しては５．６４ｍＭ ＮＡＤ”Ｋ対しては０．０７３
ｍＭと非常に低いＫｍ値をもつことが明らかとなり、Ｎ
ＡＤＨの再生糸に本酵素を用いる際の優位性が示された
。
例６ 本酵素のギ酸及びＮＡＤ＋に対するＫｍ値をギ酸及びＮ
ＡＤの濃度と反応速度との関係からめたところ、ギ酸に
対しては５．６４ｍＭ ＮＡＤ”Ｋ対しては０．０７３
ｍＭと非常に低いＫｍ値をもつことが明らかとなり、Ｎ
ＡＤＨの再生糸に本酵素を用いる際の優位性が示された
。
代理人 弁理士 高 橋勝利
１７−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、（薊 活性 温度範囲：２５℃〜６０℃、至適温度：５０℃ｐＨ範囲
＝６〜９、至適ｐＨ： ７．５（Ｂ） 分子量 約７６．０００ ｆｃ） ギ酸に対するＫｍ値 ３、６４ ｍＭ Ｑ）ｌ ＮＡＤ Ｋ対するＫｍ値 ０．０７３ｍＭ （ト））安定性 温度＝５５℃以下 ｐａ：ｓ５〜７５ 王妃の性質を有するギ酸脱水素酵素。 ２゜ リポマイセス属に属し、ギ酸脱水素酵素生産能を
有する酵母を液体培地に培養し菌体内に生成蓄積したギ
酸脱水素酵素を菌体から検取することを％徴とするギ酸
脱水素酵素の製造方法。 ３ ギ酸脱水素酵素が（Ａ）活性温度範囲＝２５°Ｃ〜
６０℃、至適温度：５０℃、ｐＨ範囲＝６〜９、至適ｐ
Ｈニア、５、（Ｂ）分子量：約７６．０００（Ｃ）ギ酸
に対するＫｍ値： ５．６４ ｍＭ（ＤＩＮＡＤに対す
るＫｍ値：０．０７３ｍＭ（Ｅｌ安定性温度：５５℃以
下 ｐＨ：６．５〜７５であることを特徴とする特許請
求の範囲第２項記載のギ酸脱水素酵素の製造方法。 ４ 酵母がメタノールを唯一の炭素源として生育しうる
酵母であることを特徴とする特許請求の範囲第２項また
は第６項記載のギ酸脱水素酵素の製造方法。 ５ ＃母がリボマイセスＱメタノシルビエンシスである
ことを特徴とする特許請求の範囲第２項、第６項または
第４項記載のギ酸脱水素酵素の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9752384A JPS60241887A (ja) | 1984-05-17 | 1984-05-17 | ギ酸脱水素酵素及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9752384A JPS60241887A (ja) | 1984-05-17 | 1984-05-17 | ギ酸脱水素酵素及びその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60241887A true JPS60241887A (ja) | 1985-11-30 |
Family
ID=14194613
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9752384A Pending JPS60241887A (ja) | 1984-05-17 | 1984-05-17 | ギ酸脱水素酵素及びその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60241887A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7432095B2 (en) | 2001-10-09 | 2008-10-07 | Kaneka Corporation | Formate dehydrogenase tolerant to halogen compounds and process for producing the same |
-
1984
- 1984-05-17 JP JP9752384A patent/JPS60241887A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7432095B2 (en) | 2001-10-09 | 2008-10-07 | Kaneka Corporation | Formate dehydrogenase tolerant to halogen compounds and process for producing the same |
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