JPS6024034A

JPS6024034A - ウエハ反転装置

Info

Publication number: JPS6024034A
Application number: JP2851384A
Authority: JP
Inventors: Hiroto Nagatomo; 長友　宏人; Tetsuya Takagaki; 哲也高垣; Ryoichi Okuda; 奥田　亮一
Original assignee: Hitachi Ltd
Current assignee: Hitachi Ltd
Priority date: 1984-02-20
Filing date: 1984-02-20
Publication date: 1985-02-06

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】本発明は物体移換装置に係り２例えば半導体ウェハ等の
ように形状および大きさの同様な複数の物体をある治具
から別の治具に移すに際し、該移送作業時に上記物体を
損傷することなくしかもその作業が容易で父上配別の治
具上に上記物体を整列させ得る物体整列装置を提供する
ことを目的とする。

一般に、形状および大きさの同様な複数の物体を加工あ
るい＆を製造する等の場合、該物体をある治具から別の
治具へ移し整列させねばならない必要性がある。

例えば半導体装置の製造時、ベース拡散処理等を終えた
ウェハにエミッタ拡散処理を行なおうとする場合、上記
ウェハのエミッタ電極穴あけのエツチング処理、つ（・
でウェハの洗浄処理をしだ後該ウェハな洗浄用治具■か
らエミッタ拡散用の石英治具（Ｑｌ［移す必要がある。

従来、上記洗浄用治具として種々のものが使用されてい
るが、該洗浄用治具を使用して上記洗浄を終えた後裔ウ
ェハを上記石英治具に移す方法としては、これらのウェ
ハをビンセット等により個々に移す方法がとられていた
。

しかしながら、このビンセットを用いる方法においては
、多数のウェハを個々に移しているためその作業が面倒
であり、又作業時にビンセットによりウェハな（・ため
ることもあり、更に上記石英治其上各ウェハを均等に配
列させることが困難である等の欠点を有していた。

又別の方法としては、上記洗浄用治具として、第１図に
示す如く、−治具上２０〜３０枚程度を互いに並列状に
載置する治具を用〜・て、この洗浄用治具を上記石英治
具上に位置させそのまま反転させてウェハを該石英治具
に移す方法も知られている。

しかし、この方法においても、各ウェハな上記石英治具
上に整列させることは困難であり、これによりエミッタ
拡散処理の条件がウェハ毎に異なってしまうと〜・う欠
点を有していた。

そこで、このような欠点を解消する機構として本出願人
は既に第２図（ａｔ〜（ｈｌに示す物品移換装置を提案
している。同図（ａｌ〜（ｈｌはウェハを洗浄用治具（
Ｔｌから上記石英治具（Ｑに移し換えるとともに整列さ
せる際の各状態の縦断側面図を示す。ここで機構を説明
すると、１はＸ方向に移動可能なテーブルで、その所定
位置には細長形状の貫通孔２および３が夫々上記Ｘ方向
に並列して穿設されている。４は洗浄用治具、５は上記
石英治具で、これら治具４および５は夫々上記テーブル
１の各貫通孔２および３の各位置に互（・に上記Ｘ方向
に並列に載置されている。６はウェハで、その円形周辺
の一部にはオリエンテーション・フラット６ａが形成さ
れており、これら各ウェハ６は一回の整列作業により２
５枚提度が同時に整列される。７はウェハ受けで、上記
貫通孔２．３を通して上記テーブル１面に対して垂直方
向に上下動し上記ウェハ６を上下て移動する。このウェ
ハ受け７の上記ウェハ６をささえる面には、各ウェハ６
を垂直に保持し、しかも各ウェハ間の間隔を規定するた
め。

所定のピッチで溝（図示せず）が形成されている。

８はバッファー拳ケースで、上記ウェハ受け７によりテ
ーブル１の上方ｆ移送されたウェハ６を両側面から挾み
該各ウェハ６を整列させる。このバッファー・ケー７８
は、その駆動源を上記テーブル１のＸ方向移動機構とは
別にされており一上記ウェハ６を挾持した状態で該バッ
ファー・ケー７８を回転して上記ウェハ６のオリエンテ
ーション−フラット６ａの向きを自由に選定し位置させ
うる。

９はウェハガイド板で、常時は上記テーブル１の上方に
設置されており、上記バッファー・ケー２８により挾持
されたウェハ６を該バッファー・ケース８から上記石英
治具５に移す際に該石英治具５の上端部に位置しウェハ
６がだおれるのを防止し、かつバクファー・ケース８の
整列をそのまま保持させる。

次に上記構成の装置によりウェハ６を洗浄用治具４から
石英治具５に移し整列させる際の動作につき説明する。

先ず、第２図ｆａｔに示す如く、最初のセット状態では
、ウェハ６は洗浄用治具４により支持され。

又パッ７アー−ケー７８は開（・て（・る。次に、第２
図（ｂｌに示す如く、上記洗浄用治具４内のウェハ６は
ウェハ受け７の上昇によりバッファー・ケース８の高さ
まで上昇し、その位置で停止する。この状態で、第２図
（ｃ）に示す如く、上記バッファー・ケース８が閉じて
上記ウェハ６を挾持し、一方１記ウェハ受け７は下降し
てテーブルｌの下面の最初の位置まで移動する。このバ
ッファー・ケース８の閉じる動作により、各ウェハ６は
均等に整列される。

次に、第２図（ｄ）に示す如く、上記テーブル１が図中
矢＃ｊの方向に移動し、上記バッファー・ケー７８（お
よびウェハ６）は石英治具５の上方に位置する。このテ
ープＡ／１の移動時、上記バッファー・ケース８は約１
８０．＆回転してウェハ６のオリエンテーション・７ラ
ソト６ａが該ウェハ６の上部に位置する。又このテーブ
ル１の移動の結果、上記ウェハ受け７は、上記石英治具
５下の貫通孔２の下に位置する。こうした後、第２図（
ｅ）に示す如く、上記ウェハ受げ７が上記貫通孔２を通
って上昇し、その上端がウェハ６の下端に接する位置で
停止する。この時、テーブルｌの上方にあったウェハガ
イド板９が下降して上記石英治具５の上端に位置する。

しかる後、第２図＋ｆ）　Ｋ示す如く、上記バッファー
・ケース８が開きウェハ６はウェハ受け７上に夫々整列
された状態のまま保持される。続（・で、該ウェハ受け
７は、第２図（ｇ）に示す如く、徐々に下降してウェハ
６は上記整列された状態で石英治具５上に移される。な
お上記ウェハガイド板９は、上記ウェハ受け７の下降時
釦ウェハ６がたおれるのを防止して℃・るが、それが終
了した段階でテーブル１の上方の元の位置にもどる。

上記ウェハ６が石英治具５に移った後、第２図（旬に示
す如く、上記テーブル１は図中左方に移動し、これによ
り上記石英治具５は作業者側に位置しエミッタ拡散処理
等の次の処理か行なわれる。

しかし、このような機構の物品移換装置は、ウェハガイ
ド板等を必要とするため、機構が複雑となる難点がある
。

また、バッファ−１ケース、ウェハガイド板および石英
治具の３者が重なる状態にあっては、それぞれウニノ・
を収容する収容溝が縦方向に一致する必要があり、この
一致を得るには各機構部の停止精度を高めなければなら
ず、また、収容溝の溝幅、溝ピッチ等の加工精度の向上
を図らなければならない。この結果、ウニノ・の厚さが
異なると使用できないなど汎用性が低くなる。

また、前記物品移換装置では、収容治具内のウェハのオ
リエンテーション・フラット（０，Ｆ、）　ヲ一定の方
向に位置させることができず、また、ウェハ全体の向き
を変えることができない。

したがって、本発明の目的は一物品の移換を全て自動的
に行なう機構の簡単な此種物品移換装置を提供すること
にある。

また１本発明は、物品の移換時に物品の収容状態を変化
させたり、すべての物品の方向性を自動的に揃えること
のできる此種物品移換装置を提供することにある。

このような目的を達成するために本発明の一実施例は、
多数のウェハを両側から挾持し、その状態でバッファー
治具を１８０度回転させることによって、オリフラ位置
の変更を行なうものである。

第３図〜第１３図に亘って本発明の物品移換装置の一実
施例を示す。この物品移換装置は外観的には第３図に示
すように、テフロン（商品名）からなる洗浄用治具（Ｔ
ＩＩＯおよび洗浄用治具よりもａだけ背の低〜・石英か
らなる熱処理用治具（Ｑｌｌｌを載置する板状の載置テ
ーブル（テーブル）１２を中央上部に有する機台１３と
、この機台１３の一部上面から突出し前記テーブル１２
土にウェハを一時的に挾持するバッファ受け１４を支持
するイコラム１５とからなつている。また、前記テーブル１２
は第６図に示すように、１対のガイドレール１６に車輪
１７を介して滑動自在に取り付けられ、モータ１８の正
逆転によってブー１７１９．２０およびベルト２１を介
して第１０図に示すように。

ステーションＡ、Ｂ、Ｃの３箇所を往復動するようにな
っている。また、ステーションＡ　、　Ｂ’　、　Ｃに
おけるテーブル１２の停止動作はテーブルの一端に配置
しである光電子スイッチ２２．．２３．２４が光源２５
からの光をミラー２６を介して受光した場合、モータ１
８を停止するようになっている。

また、前記テーブル１２には、第５図で示すように、細
長の２つの貫通孔２７．２８が設けられている。一方の
貫通孔２７は洗浄治具用に設けられるとともに、他方の
貫通孔２８は熱処理治具を載置する矩形の補助板２９を
嵌合するようになっている。また１機台１３上にはテー
ブル１２を挾んで１対の発光器３０と受光器３１とが設
けられ、テーブル１２上に載置される治具内にウニノ・
３２が存在するか否かを検出するようになっている。

□つぎに、移換機構部について第４図を参照しながら説
明する。第４図に示すように、板状のペース３３上には
ウェハ３２を林立状態で収容するウェハ受け３４が配設
されている。このウェハ受け３４の上面は円弧状となる
とともに、平行に多数の収容溝が設けられてし・る。た
とえば、洗浄用治具および熱処理用治具にそれぞれ２５
枚のウェハが収容される場合には、前記収容溝は２５本
設けられ、かつそのピッチ間隔はそれぞれ洗浄用治具お
よび熱処理用治具と同一である。このウェハ受け３４は
ベース３３を貫通し上下動自在の１対の支軸３５によっ
て支えられている。また、この支軸３５の上下動は支軸
下端間を連結している連結棒３６にビン３７を介して揺
動自在に上下動するレバー３８によって行なわれる。こ
のレバー３８はカム機構等によって制御される。

また、前記ウェハ受げ３４を取り囲むように枠状の治具
受け３９が配設されている。この治具受け３９もペース
３３を貫通し上下動自在の１対の支軸４０によって支え
られている。また、この支軸下端を連結する連結片４１
は前記連結棒３６よりも外れている。そして、この連結
片４１は前記連結棒３６の一側に設けられた突子４２に
その上面が引っ掛けるようになるとともに、この連結片
４１とベース３３との間には引張コイルばね４３が設け
られ、常に治具受け３９を上昇させるようになっている
。また、治具受け３９の支軸４ｏの途中にはストッパ４
４が固定され、ウェハ受け３４の上昇に伴なって引張コ
イルばね４３の復元力によって上昇するが、一定の高さ
、すなわち、洗浄用治具よりも背の低し・熱処理用治具
の上面が洗浄用治具の上面とほぼ一致する高さに達する
と、ストッパ４４がベース３３の下面に当接して治具受
け３９の上昇は停止するようになって（・る。また、治
具受け３９の上面には位置決め用突子４５が設けられて
いる。

一方、ウェハ受け３４の真上にはバッファ受け１４が配
設されている。このバッファ受け１４は第７図にも示す
ように、鉛直面に沿う平行な２枚の受板４６．４７がら
なり、これら受板４６．４７はベース３３がら延びるコ
ラム１５の土部に設けられている。そして、これら受板
４６．４７の対応面には第５図に示すように、鉛直方向
に互（・に対応する収容溝４８ａが設けらゎるとともに
、その中央部には円弧溝４８ｂが複数平行に設けられ。

これら対応する円弧溝４８ｂには受板４６，４７が閉状
態でウェハ３２を保持するようになっている。また、こ
れら１対の受板４６，４７の開閉は受板４６．．４７間
に挿入される楔４９の出入により行なわれ、これら楔４
９はガイド棒５ｏに嵌合して移動し、開閉用カム５１に
接触駆動するそれぞれのレバー５２によって移動する。

この開閉は前記ウェハ受け３４の動きと同期するように
なっている。また、前記バッファ受け１４は第７図に示
すように、ウェハ全体を９０度反転できる反転構造とも
なっている。すなわち、前記受板４６゜４７はその両端
にそれぞれガイド片５３を直交するように固定している
。そして、対応するガイド片５３は互（・にその間に位
置する支片５４の両端に直線的に平行に２本植設された
ガイド棒５５に摺動自在に嵌合している。したがって、
前記横４９の移動によって、１対２組のガイド片５３上
にそれぞり取り付けられたローラ５６との接触で受板４
６．４７が開閉するようになっている。また。

前記支片５４はその外面にそれぞれ支軸５７が取り付け
られている。そして、一方の支軸５７には傘歯車および
平歯車等の歯車群５８を介し℃モータ５９の回転が伝達
されるようになっている。なお、支軸５７には半回転ス
トッパ６０および半回転検出スイッチ６エが取り付けら
れている。この結果、バッファ受は全体のウェハ３２を
反転したい場合には、モータ５９を作動させることによ
ってバッファ受は全体を反転すればよい。

また、前記テーブル１２とウェハ受け３４との関係はつ
ぎのようになっている。すなわち、洗浄用治具１０を載
置する位置に設けた貫通孔２７（洗浄治具用貫通孔）は
ウェハ受け３４だけが通過することができ一治具受け３
９はテーブル１２の下面に当接して通過できないように
なって℃・る。

また、熱処理用治具１１を載置する矩形の補助板２９を
上方に着脱自在に嵌合する他方の貫通孔２８（熱処理治
具用貫通孔）にあっては、治具受け３９は補助板２９を
支えて上昇するようになっている。

また、この際、ウェハ受け３４は補助板２９の枠内の孔
を通過するようになっている。また、治具受け３９の上
面の位置決め用突子４５が補助板２９の下面の図示しな
い窪みに嵌合し、位置決めを行なうとともに、補助板２
９を持ち上げるようになっている。

また、この装置には、洗浄用治具ある（・は熱処理用治
具に収容されるウェハの方向性を一定に揃える第１整列
機構と第２整列機構とが備えられて（・る。第１整列機
構は第８図に示すような構造となっている。すなわち、
この機構はウェハ受け３４の設けられる隣りのテーブル
１２の下方に配設されるものである。同図には六角柱体
からなる垂直動伝達ブロック６２が示されて（・る。こ
の垂直動伝達ブロック６２の中央には上下方向に支軸６
３が摺動自在に嵌合している。この支軸６３の上端６は
逆り字状のリフト６４の水平突片部６５に固定されてい
る。また、リフト６４の垂直板部６６には上下方向に溝
６７が設けられている。そして。

コノ溝６７には前記垂直動伝達ブロック６２の−側に植
設されたビン６８に取り付けられたローラ６９がその周
面を介して嵌合して℃・る。また、このローラ６９の周
面上部にはビン７ｏを中心に揺動するレバー７１の先端
が接触している。また、このレバー７１の途中には図示
しないカムフォロアが設けらハ、このカムフォロアを介
して回転軸７２に固定された第１上下動力、！−７３に
接触している。また、前記レバー７１とローラ６９とを
常に接触させるように、ビン７ｏとリフト６４の上部に
突設された支棒７４との間には引張コイルばね７５が取
り付けられている。

一方、前記垂直動伝達ブロック６２の上端には、水平方
向にほぼコの字形に延びる基板７６が固定されている。

そして、この基板７６の両端がら側板７７．７８を立設
し、これらの側板７７　、７８間にウェハ３２に回動力
を伝えるための１本の修正用回転軸７９を回転自在に掛
は渡してし・る。と＝の修正用回転軸７９は一方の側板
７８に取り付けたモータ８０と直結されるプーリ８１か
ら回転力を受けることができるようにベルト８２で繋が
れている。また、前記基板７６の側突出端の対面する内
側にはそれぞれ上方に向がって先鋭に延びる１対の楔板
８３．８４が設けられて（・る。

このような構造にあって５回転軸７２０回転に伴なって
、第１上下動カム７３のカムの動きがレバー７１．ロー
ラ６９．ビン６８を介して垂直動伝達ブロック６２に伝
わる。この結果、垂直動伝達ブロック６２の上昇によっ
て、修正用回転軸７９は治具の下方に入り込み停止する
。そこで、モータ８０が一定時間回転するため、修正用
回転軸７９は一方向に回転する。この修正用回転軸７９
の高さは、治具内のウェハ３２の平坦なオリエンテーシ
ョンフラット（０，Ｆ、面）が下方に位置している場合
は接触せず、下方が円周部であると円周部をわずかに持
ち上げる状態で接触するようになっている。したかつ壬
、修正用回転軸７９の回転によって０．Ｆ’、面が下方
に位置していないウェハは摩擦によって回転を始め、　
０．Ｆ、面が下方に達すると回転を停止する。このため
、一定時間修正用回転軸７９を回転させると、すべての
ウェハのＯ，Ｆ、面は下方に揃うことになる。

しかし、この場合、０．Ｆ１面は全て水平にはならず、
それぞれわずかに傾斜した状態となって、ウェハの整列
は完全には成されない。そこで、と００、Ｆ１面を全て
水平に修正するのが、つぎに説明する第２整列機構であ
る。

第２整列機構は第９図に示すような構造となっている。

同図には六角柱体からなる上下動伝達ブロック８５が示
されている。この上下動伝達ブロック８５は中央を貫く
支軸８６に沿って上下動する。また、この上下動は前記
第１整列機構とほぼ同様な構造となり、前記回転軸７２
に固定された第２上下動カム８７の動きを、ビン７０に
一端を回動自在に支持されたレバー８８のカムフォロア
８９等を介して上下動伝達ブロック８５に伝達するよう
になっている。また、上下動伝達ブロック８５の下部の
両端には同一線上に延びるようにそれぞれ支軸９０が固
定されている。そして、これらの支軸９０にはそれぞれ
２本のレバー９１．９２が回動自在に取り付けられてい
る。そして、これらの４本のレバー９１．９２は上方に
延びるととモニ、それぞれ平行に延びる２本の（Ｉ正１
ｉ１３９４の両端部に固定される。また、前記修正板９
３゜９４は上面が平坦に形成されても・る。また、隣り
合うレバー９１．９２間には１対の修正板９３゜９４を
互（・Ｋ密着させるように図示しない引張コイルばねが
取り付けらねてし・る。さらに、隣り合う１対のレバー
９１．９２の側面にはそれぞれローラ９５，９６が取り
付けられている。そして。

このローラ９５，９６間に前記第１整列機構の楔板８３
．８４が第１整列機構の上昇時に入り込み、１対の修正
板９３．９４を拡散させ、この拡散した間を第１整列機
構の修正用回転軸７９が通過するようになっている。ま
た、前記回転軸７２には１回転停止カム９７が固定され
ている。

このような機構にあって、第２上下動カム８７の回転に
よってレバー８８等を介して上下動伝達ブロック８５は
上昇し、治具の下部に臨み、第１整列機構によってＯ，
Ｆ、面が下方に位置するウェハ３２を２度に亘って突き
上げる。この結果、ウェハ３２は０．１１面を平坦な修
正板９３．９４で上方に治具が浮かされることから、そ
の自重によって、０．１１面は修正板９３．９４に密着
し、修正板９３゜９４が下方に降下した際には全てのウ
ニノ・の０．Ｆ。

面は水平方向に延び、ウニノ・の整列しま完全となる。

つぎに、第１１図および第５図（ａｌ〜ｌｌに基づ（・
て、ウニノ・の移換動作について説明する。まず。

第５図（ａｔおよび第３図に示すように、テーブル１２
上にウニノ・３２を収容した洗浄用治具（ＴＩＩＯおよ
び洗浄用治具１０よりもａだけ背が低いウニノ＼を収容
しない空の熱処理用治具（Ｑｌｌを載置した後。

スタート釦を押す。すると、発光器３０と受光器３１と
からなる光学式検出機構が作動して、洗浄用治具１０内
にウェハ３２が収容されているか否かを検出し、ウニノ
ー３２が収容されていれば、第１１図のフローチャート
で示すように、左側のＴ→Ｑなる作業系を選択し、以下
この作業系に沿って各機構を順次動作させる。なお、第
３図および第５図（ａ）で示すテーブル１２の停止位置
はステーションＡとなっている。

つぎに、第５図（ａｔに示すように、第１整列機構か動
作して、修正用回転軸７９がテーブル１２の洗浄治具用
貫通孔２７を上昇通過して洗浄用治具１０内に入って停
止するとともに、一定時間回転して、ウェハ３２を回転
させてオリエンテーションフラット（０，Ｆ、面）９８
を下方にさせる。その後、同図（ｂ）で示すように、修
正用回転軸７９はテーブル１２の下方に下降するが、今
度は第２整列機構が動作して、洗浄用治具１０内に上面
が平坦な修正板９３．９４を下方から突出させる。そし
て、洗浄用治具１０内のウェハ３２を２度はど持ち上げ
た後、同図（ｃ）で示すように、テーブル１２の下方に
下降する。この結果、０．Ｆ１面９８は全て平坦な修正
板９３．９４に密着するようになることから、水平とな
り、洗浄用治具１０内のウェハ３２は０．Ｆ０面９８を
下方にして整列される。

つぎに、同図（ｄ）で示すように、テーブル１２はステ
ーションＢの位置に前進し、ウニノ・受け３４の真上に
洗浄用治具１０を位置させる。また、この状態ではバッ
ファ受け１４の両受板４６．４７は互いに離反している
。そこで、レバー３８が上昇することによってウェハ受
け３４は洗浄治具用貫通孔２７内を上昇（２，バッファ
受げ１４にまで達する。この際、ウェハ受け３４の各円
弧溝内には洗浄用治具１０に収容されているウニノ・３
２の下縁が嵌合して、ウニノ・３２は洗浄用治具１０か
ら上方に抜ける。また、洗浄用治具１０の収容溝からウ
ェハ３２が完全に抜けないうちに、受板４６゜４７の収
容溝４８ａにウニ／１３２の両側縁部が入るようになり
、さらにウニノ・３２はこれら収容溝４８ａにガイドさ
れて上昇し７円弧溝４８ｂの中心高さにウニノ・３２の
中心がほぼ一致するところで停止する。そして、この状
態で受板４６．４７は開閉用カム５１０回転、これに係
止するレバー５２、楔４９の動きによって互いに接近し
て停止する。すると、ウニノ・３２は円弧溝４８ｂの下
部に引っ掛けるようになる。したがって、このバッファ
受け１４の閉動作によってウェハ３２はバッファ受け１
４に保持され、脱落しないようになる。

また、ウェハ受け３４の上昇に伴ない、突子４２に阻止
されていた治具受け３９も引張コイルばね４３の復元力
によって上昇する。しかし、この治具受け３９はテーブ
ル１２の洗浄治具用貫通孔２７よりも大きいため、この
貫通孔を通過できずに。

テーブル１２の下面で阻止され停止する。

つぎに、同図（ｅｌで示すように、レバー１８の下降に
よって、ウェハ受け３４および治具受け３９はテーブル
１２の下方に下降する。

つぎに、同図（ｆ）で示すように、テーブル１２はなお
も前進してステーションＣの位置に進み、ウェハ受け３
４とバッファ受け１４との間に熱処理用治具１１を位置
させて停止する。

つぎに、バッファ受け１４はモータ５９の回転によって
１８０度回転し、ウェハ３２の０．Ｆ、面９８が上方で
水平となるようにする。なお、このウェハの１８０度反
転は必ずしも必要でなく、必要に応じて行なう。その後
、同図（ｇｌで示すように、再びウェハ受け３４は上昇
し、バッファ受１ｔ１４に保持されている複数のウェハ
３２下縁をウェハ受け３４上面の収容溝内で受けて支え
る。、また、ウェハ受け３４の上昇に伴ない、治具受け
３９も上昇する。そして今度は、治具受け３９はテーブ
ル１２の熱処理治具用貫通孔２８内を通過可能であるこ
とから、熱処理治具用貫通孔２８に載置状態で取り付け
られている補助板２９を持ち上げて上昇する。しかし、
治具受げ３９を支持する支軸４０の一部にはストッパ４
４が固定されていることから、このストッパ４４がペー
ス３３の下面に当接することによってその上昇運動を停
止する。

この停止時にあっては、背の低い熱処理用治具１１のウ
ェハ収容部の高さは洗浄用治具１０のウェハ収容部の高
さと一致するよう罠なっている。

つぎに、同図（ｇ）で示すように、バッファ受け１４は
開閉用カム５１．レバー５２．楔４９の一連の動作によ
って開状態となり、ウェハ３２の保持を解放する。しか
し、この場合であっても、ウェハ３２の両縁部は受板４
６．４７に設けられた収容溝４８ａからは脱落しな（・
程度にしか受板４６゜４７は互いに離反しない。

その後、同図（ｈ）で示すように、ウェハ受ケ３４は下
降し、バッファ受げ１４から熱処理用治具１１にウェハ
３２を移す。この際、ウェハ３２はバッファ受け１４の
収容溝４８ａがら完全に抜けな℃・うちに、ウェハ下部
側縁は熱処理用治具１１の収容溝に入る。このため、ウ
ェハ３２のバッファ受け１４から熱処理用治具１１への
移し換えは確実となる。

つ（・で、同図（１）およびｆｊｌで示すように、ウェ
ハ受け３４および治具受げ３９が共にテーブル１２の下
方に移動すると、テーブル１２は後退して所定のステー
ションＡの位置に空の状態の洗浄用治具ｌＯとウェハ３
２を収容した熱処理用治具１１を運搬して、一連のウェ
ハ移換作業を終了（ストップ）する。

一方、熱処理用治具（Ｑから洗浄用治具ｆＴｌにウェハ
を移し換える場合には、テーブル１２上にウェハ３２を
収容した熱処理用治具１１およびこの熱処理用治具１１
よりもａだけ背の高い空の洗浄用治具１０を載置した後
、スタート釦を押すと１機台１３上の発光器３０、受光
器３１によって洗浄用治具１０内にウェハ３２が存在し
なし・ことを検出し、第１１図で示すように、右側のＱ
→Ｔなる作業系を自動的に選択し、テーブル１２をステ
ーションＣの位置に前進停止させた後、熱処理用治具１
１を治具受け３９でａだけ持ち上げるとともに、熱処理
用治具１１内のウェハ３２をウェハ受け３４で支えて上
昇させ、開状態のバッファ受け１４内に位置させろ。そ
の後、バッファ受け１４を閉動作させて、バッファ受け
１４でウェハ３２を保持した後、ウェハ受け３４および
治具受用９をテーブル１２の下方に降下させる。

つぎに、テーブル１２をステーションＢの位置に後退さ
せ、一度のウェハ受け３４の上下動によって、バッファ
受け１４内のウェハ３２を洗浄用治具１０内に移し換え
、その後、テーブルを後退させてステーションＡの位置
に戻し、全ての動作を停止（ストップ）させる。

このような実施例によれば、ウェハは従来のようにビン
セット等によって挾んだりして保持されず、各収容溝（
円弧溝も含む）によって載置される状態で保持されるこ
とから、チッピング等の破損は生じにくい。たとえば、
第１２図で示すように、従来の真空吸着ピンセットによ
ってウニノ・の移し換えを行なった場合と本発明による
場合との比較のグラフかられかるように、本発明の場合
はウェハの破損は極めて少な（・。

また、この実施例では、背の低い治具にウニノ１を移し
換える場合には、背の低い治具を持ち上げてから移換を
行なう構造となっているため、確実にウニノ・の移換が
行なえる。

また、この実施例では、収容治具内に収容されるウェハ
の０．Ｆ、面の位置がアトランダムな状態となって（・
でも、簡単に整列することができる。

また、この実施例では、ウニノ・の方向性を反転させて
他の収容治具に移し換えることもできる。

さらに、この実施例によれば、テーブル上に空の収容治
具とウニノ・を収容した収容治具を載置（自動的にでも
手作業でもよい。）するだけで、移換条件を検出選択し
て自動的にウニノ・の移換作業を行なう。このため極め
て作業性がよい。たとえば、ウェハ移換作業は従来の手
作業の場合に較べて６０％減にも達する。

なお１本発明は前記実施例に限定されない。また、図示
はしなかったが、各部の動きは全て制御装置によっ℃制
御されるようになっている。また、本発明における被移
換物品はウニノ・に限定されるものではな℃・。

以上のように、本発明の物品移換装置によれば、物品を
傷付けずにかつ高速で第１の収容治具から第２の収容治
具に移し換えることができるので極めて作業性がよい。

また１本発明によれば、物品の移換作業時に物品の方向
性を揃えたり、あるいは全ての物品を同時に反転させる
ことができるので極めて便利である。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来用いられている洗浄用治具の斜視図、第２
図（ａｔ〜（ｈｌは本出願人の提案による物品移換装置
の原理説明図、第３図は本発明の物品移換装置の外観図
、第４図は同じく機構図、第５図（ａｌ＝（ｊｌは同じ
く動作を説明する原理図、第６図は同じくテーブルの動
作機構を示す斜視図、第７図は本発明のバッファ受けの
斜視図、第８図は第１整列機構を示す斜視図、第９図は
第２整列機構を示す斜視図、第１０図はテーブルの位置
検出機構を示す説明図、第１１図は作業順序を示すフロ
ーチャート、第１２図はウェハ一枚当りの周辺の欠は数
を示すグラフである。トチ−プル、２，３・・貫通孔、４・・洗浄用治具、５
・・・石英治具、６・・・ウェハ、６ａ・・・オリエン
テーション脅フラット、７・・・ウェハ受け、８・・・
バッファー−ケース、９・・・ウェハガイド板、１０・
・・洗浄用治具、１ゝ１・・・熱処理用治具、１２・・
載置テーブル（テーブル）、１３・・・機台、１４・バ
ッファ受け、１５・・コラム、１６・・・ガイドレール
、１７・・車輪、１８・・・モータ％　１９．２０・プ
ーリ、２１・・・ベルト、２２，２３．２４・・光電子
スイッチ、２５・・・光源、２６・・・ミラー、２７．
２８・・・貫通孔、２９・・・補助板、３０・・・発光
器、３１・・・受光器、３２−・・ウェハ、３３・・・
ベース、３４・・・ウェハ９け、３５・・支軸、３６・
・・連結棒、３７・・・ピン、３８・・・レバー、３９
　治具受け、４０・・支軸、４１・・・連結片。４２・・・突子、４３・・・引張コイルばね、４４・・
・ストッパ、４５・・位置決め用突子、４６．４７・・
・受板、４８ａ・・収容溝、４８ｂ・・・円弧溝、４９
・・楔、５０・・ガイド棒、５１・・・開閉用カム、５
２・・・レバー。５３・・ガイド片、５４・・・支片、５５・・・ガイド
棒。５６・・・ローラ、５７・・・支軸、５８・・・歯車群
、５９・モータ、６０・・・半回転ストッパ、６１・・
・半回転検出スイッチ、６２・・・垂直動伝達ブロック
、６３・・・支軸、６４・・リフト、６５・・・水平突
片部、６６・・垂直板部、６７・・・溝、６８・・ピン
、６９・・・ローラ、７０・・ピン、７１・・・レバー
−７２・・・回転軸、７３・・・第１上下動カム、７４
・・支棒、７５・・・引張コイルはね、７６・・・基板
、７７．７８・・・側板、７９・修正用回転軸、８０・
・・モータ、８１・・・プーリ、８２・・ベルト、８３
．８４・・・楔板、８５・・・上下動伝達ブロック、８
６・・・支軸、８７・・・第２上下動カム、８８・・・
レバー、８９・・・カムフォロア、９０・・・支軸、９
１．９２・・・レバー、９３．９４・・・修正板、９５
．９６・・・ローラ、９７・・一回転停止カム、９８・
・・オリエンテーションφフラット。代理人　弁理士　高　橋　明　夫第　２　図（’ｊ　）　（１）第　３　図（６１）５図（ｄ）（ｅ）５図（ｆ）とス　）５図りゝ　／４第　６　図ノθ ノ第　７　図第　８　図覧第　９　図第」　０図１！５Ｃ

Claims

【特許請求の範囲】

１、　ウェハを挾持した状態でウェハの向きを反転させ
るようにしたウェハ反転装置。