JPS6023389A - ビニルホスホン酸又はビニルピロホスホン酸の誘導体の製造法 - Google Patents

ビニルホスホン酸又はビニルピロホスホン酸の誘導体の製造法

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JPS6023389A
JPS6023389A JP59131219A JP13121984A JPS6023389A JP S6023389 A JPS6023389 A JP S6023389A JP 59131219 A JP59131219 A JP 59131219A JP 13121984 A JP13121984 A JP 13121984A JP S6023389 A JPS6023389 A JP S6023389A
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    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/3804Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ケトンを三塩化燐と高温度で反応させてビニ
ルホスホン酸又はビニルビロホヌホン酸の誘導体を製造
する方法に関する。
従来の技術 ビニルホスホン酸及びその誘導体は工業上重要である。
それというのもこれらは重合して高分子化合物が得られ
るか又は他の重合性化合物で処理して共重合体が得られ
るからである。
f!lばl−フェニルビニル−1−ホスホン酸又はその
ホモポリマー又は他のビニル化合物とのコーポリマーは
、ホヌフエート処理の金属表面を後処理するために使用
する(Pイッ公開特許第24−55624号明細書及び
第26154−89号明細書)。
f置換されているビニルホスホン酸を製造する公知技術
は、ケ!・ンを土塩化燐と酢酸の存在で反応させる方法
である〔ポウベン・ワイヤー(Houbθn−Wθy1
.)、メト−デン・デア・オルガニランエン−ヘミ−(
、Method、en der organi、sch
enOhemie )、Xll /コ1巻、363〜3
64−頁(196341〕oこの場合には、塩化アセチ
ル及び塩化水素を脱離して環状ホスホン酸が生じ、その
加水分解によって中間生成物として1−ヒドロキシアル
カン−]−ホンホン酸が生じ、最後に不活性浴剤、19
11えば1.、:1..2.2−テトラクロルエタン中
での加熱によるその脱水によって所望の置換されている
ビニルホスホン酸が得られる(l−′イツ公開時、8′
1第2’060218壮明細書)。
発明が解決しようとする問題点 しかしながら、多くの中間工程を経て進行するこの作業
法は、K〜しく費111がかかる。
問題点を解決するプこめの手段 意外なことにも、前記方法で酢酸を亜燐酸に代えると、
ビニルホスホン酸誘導体は著しく容易に得られることが
判明した。
新規方法は、ケトンを、亜燐酸及び三塩化燐とモル比2
:1:1で、場合により不活性溶剤中でI)11度20
〜150℃、殊に40〜120℃で反応させることを特
徴とし、その際亜燐酸1モルを、三塩化燐の他のモル及
び水3当mに代えることができ、従ってモル比1 : 
1.5のケトンと水との混合物に三塩化燐全部で1モル
を添加する。好ましくはケI・ンを亜燐酸と一緒に装入
し、反応温度に加熱し、三塩化燐を緩慢に添加し、その
際塩化水素が漏出する。
好1しくけ、更に同時に溶剤として使用するか又は最終
生成物中の残りの過剰量の亜燐酸をわずかに糺持するた
めに、ケトンを過剰量で使用してもよい。
本発明方法のもう1つの可能な別法は、ケトンを三塩化
燐と一緒にして、同じ1対1の大きさのモル比で場合に
より不活性溶剤と共に装入し、更に水を添加することで
あり、その場合同じようにして水1,5当量を必要とす
る。もちろん、この場合にも三塩化燐の半分及び水を、
相応する量の亜燐酸に代えることができる。
反応性ケトン、例えばアセトフェノンの場合ニハ、先づ
ビニルビT1ボスボン酸が形成し、これは−所望の場合
には一化学量論的量の水で公知方法で加水分解して相応
するビニルホスホン酸にすることができる。
反応性がわずかなケトンの場合には、加水分解の前又は
後に先づ生じる粗製生成物の熱処理が続く。このために
は反応生成物を、反応温度〜250℃の温度で1〜60
分間加熱する。それぞれの最低温度は、使用したケトン
の反応性による。ケトンとしては、次の一般式の化合物
を使用することができる: 1 RROH−0−R 〔式中R及びR′d、同一か又は異なっていてもよく、
水素又はハロゲン置換か又は非置換の炭素原子1〜18
個を有するアルキル、アリール、アルカリール又はアル
アルキル基を表ワシ、RはC原子1〜18個を有するア
ルキル、アリール、アルカリール又はアルアルキル基を
表わす〕。
発明の効果 新規方法は当業者には予期することができず、公知技術
に相応する常法に対して、なかんずく助剤、例えば酢酸
を添加することは不必要であり、それ散開産物、例えば
塩化アセチルの余儀ない生成が避けられる利点を有する
。既にビニルホスホン酸又はビニルピロホスホン酸の誘
導体を、ケトンをテトラ燐ヘキソキシrと接触量のプロ
トン放出物質、例えばH6PO,の存在で反応させて製
造することが提案された(ドイツ公開特許第31253
29号明細書〕が、この作業法は、工業的規模で実施す
ることができない欠点を有する。・それというのも子ト
ラ燐ヘキソキシドは工業的生成物ではなく、実験室で費
用をかけて製造することができるのに過ぎず、一般に元
素状黄燐で不純化しているからである。
実施例 例1゜ p−プロl\ア±トフエノン79.el?(0,4−モ
ル)を、ドルオール]、 OOmeにとかした亜燐酸1
6.4g(0,2モル)と−緒に、還流冷却器、温度計
、攪拌器及び滴下ロートを有する500meの多q(i
’iフラヌコに装入し、90〜100℃に加熱する。王
塩化燐27.5FC0,2モル)を、低い熱の供給下に
30分間に滴下する。?Jl+ Iff温度で10分間
反応させた後に、水3.6g(0,2モル)を添加して
ピロ化合物を加水分解する。
再び10分間反応させた後に、冷却させる。浴する。ホ
スホン酸87M(0,32モル) ヲ、、i(’+−離
し、これは収率808%に相応する。収率は、母液を再
循環させて増大することができる。
例2 例1と同じ装置で、α−テトラロン4−3.219(0
,3モル)を+llj燐#12.1g(0,15モル)
と−緒にドルオール90m1中に装入し、90〜100
℃ニ加熱スル。三塩化燐20..:M(0,15モル)
を滴下する。次いで反応を、沸騰温度で30分間行なう
。70℃に冷却後、水2.7g(0,15モル〕で加水
分解する。冷却後に、3、 4ニー)ヒrロナフタリ〉
−1−ホスホン酸56、!9(0,27モル)を単離す
ることができ、これは収率90%に相応する。母液を再
循環させて、収率を90%以」−に増大することができ
る例3 例1と同じ装置にアセトフェノン80Φg(0,67モ
ル〕を、塩化メチレン100 meにとがした亜燐酸2
7.5g(0,335モル)と−緒に装入し、加熱して
カ15騰させる。三塩化燐46.1、F(0,335モ
ル)を、50分間に添加する。
水6.2g(0,34−モル)を添加し、溶剤を溜去し
、残渣を150℃に1o分間加熱する。””P−NMR
スペクトルにより1−フェニルビニル−1−ボ、2ホ>
 酸91.2 重t%、■−ヒrロキシー1−フェニル
ビニル−1−ホスホン酸1.9 重量%、ill?燐酸
5. ]、 ITj邦%及び燐酸1.8重量%の組成を
有する′!11製生成物]、 20 、qを単離する。
働手 例1と同じ装置に、ア七l・フェノン16牛g(]、、
 53モル〕を水4−1.牛g(23モル)と−緒に装
入し、80℃に加熱する。三塩化燐210.8g(1,
53モル)を滴下し、その際反応温度は滴下の終りに1
00℃に」−る。生成物を水13gF(0,77モル〕
で加水分解し、1501 ℃で5分間加熱する。 P−NMT(スペクトルにより
なかんずく亜燐酸44%と共に、1−フェニルビニル−
1−ポヌボ〉酸87%の組成を有する反応生成物279
9を4+離する。
例5 例1と同じ装置に、アセトフェノン144g(1,2モ
ル)を三塩化燐137.5,9(1モル)と−緒に装入
する。室温で水の添加を始める。
水27g(1,5モル)を35分間内に添加し、その際
反応温度はわずかな熱の供給で終りに100℃に達する
。水の放射真空中で150℃で過剰昂のケトンを除去す
る。このようにして得られた粗製生成物1+19を水8
0m1.で加水分解し、希釈して生成物の水溶液221
gにす3す る。組成として、P −NMRスペクトルによって(無
水最終生成物に対して〕次のものが判明する:なかんず
く燐酸約184重量%及び亜燐酸約1、2 p 量%、
!:共に、l−フェニルぎニル−1一ホスホン酸約95
重量%。
例6 例1と同じ装置にシクロヘキサメン49g(05モル)
を、ドルオールl OOm7!にとかした亜燐酸20.
5g(0,25モル〕と一緒に装入し、90℃に加熱す
る。ドルオール50m1にとかした三塩化燐31g(0
,25モル〕を滴下する。溶剤を溜去し、粗製生成物を
200℃で2分間加熱する。100℃に冷却後、水4−
.5.9 (025モル〕で加水分解し、粗製生成物を
酢酸に吸収させる。酢酸溶液からシクロヘキセン−1−
ホスホン酸50.V(0,3モル〕が晶出し、これに収
率61.7%に相応する。
例7 例1と同じ装置に、アセトン300 mlを水27g(
1,5モル)と一緒に装入し、加熱して沸騰させる。三
塩化燐]、 37.59 (1モル)を滴下する。i+
+++ II!温度で10分間反応後に、水20m1で
加水分解する:溶剤相から生じた樹脂を分離し、これを
200℃で2分間加熱する。
1 P−NMR,2ベクトルによって、亜燐酸25重量%と
共ニ、プロペン−2−ボスポンfil 75 重ff。
%を有する生成物92gが得られる。
804−

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 ケトンを三塩化燐と高温度で反応させてビニルホス
    ホン酸又はビニルビロホヌホン酸の誘導体を製造する方
    法において、反応を亜燐酸の存在で、ケトン、亜燐酸及
    び三塩化燐をモル比2:1:1で使用することによって
    行ない、その際場合により亜燐酸1モルを、三塩化燐の
    他のモル及び水3モルに代えることができることを特徴
    とする、ビニルホスホン酸又ハビニルビロホヌホン酸の
    製造法。 2、 ケトンを亜燐酸と一緒に装入し、混合物を加熱し
    、三塩化燐を特徴する特許請求の範囲第1項記載の方法
    。 3、反応を不活性溶剤の存在で行なう、特許請求の範囲
    第1項又は第2項記載の方法。 4−1 溶剤として過剰量のケトンを特徴する特許請求
    の範囲第3項記載の方法。 5、反応を温度20〜150℃で行なう、特許請求の範
    囲第1項から第1項までのいずれか1項記載の方法。
JP59131219A 1983-06-29 1984-06-27 ビニルホスホン酸又はビニルピロホスホン酸の誘導体の製造法 Granted JPS6023389A (ja)

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Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19833323392 DE3323392A1 (de) 1983-06-29 1983-06-29 Verfahren zur herstellung von derivaten der vinylphosphon-, oder vinylpyrophosphonsaeure
DE3323392.6 1983-06-29

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JPS6023389A true JPS6023389A (ja) 1985-02-05
JPH0421677B2 JPH0421677B2 (ja) 1992-04-13

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