JPS60233024A - 第３級ブチルアルコ−ルの製造方法 - Google Patents
第３級ブチルアルコ−ルの製造方法Info
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- JPS60233024A JPS60233024A JP59087865A JP8786584A JPS60233024A JP S60233024 A JPS60233024 A JP S60233024A JP 59087865 A JP59087865 A JP 59087865A JP 8786584 A JP8786584 A JP 8786584A JP S60233024 A JPS60233024 A JP S60233024A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はイソナチレンと水を反応させ、高選択率にて第
３級ブチルアルコール（以下ＴＢＡと略す）を工業的に
製造する方法に関する。
３級ブチルアルコール（以下ＴＢＡと略す）を工業的に
製造する方法に関する。
Ｃ４混合物から、イソブチレンを水和して、ＴＢＡを製
造する方法は、多く知られている。これらの方法は、１
．触媒が異なる方法、２１反応系（不均一系、均一系）
が異なる方法、３．均一系とする為に添加する溶媒に特
徴のある方法等に分類される。
造する方法は、多く知られている。これらの方法は、１
．触媒が異なる方法、２１反応系（不均一系、均一系）
が異なる方法、３．均一系とする為に添加する溶媒に特
徴のある方法等に分類される。
例えば、触媒として硫酸を用いる方法が古くから知られ
ているが、副生成物（二量体、二量体）量の多さや、装
置材質の高級化等の問題がある。
ているが、副生成物（二量体、二量体）量の多さや、装
置材質の高級化等の問題がある。
又、固体酸などを用いる方法では、反応を高温高圧下で
実施する必要がある。これらに対し、強酸臘イオン交換
樹脂では、比較的低温で、反応を速やかに行なりことが
可能であル、この触媒下で収率を上げる数多くの方法が
提案されている。例えば、溶媒等を使用せず不均一系で
反応させる方法としては、特開昭５４−２７５０７、特
開昭５４−３０１０４、特開昭５４−３０１０５、特開
昭５５−８５５２９、特開昭５５−１０８８２５、特公
昭５２−１５１１０６等が知られているが、反応速度の
問題から収率を上げる為に拡反応器が大きくなるという
工業的不利がある。
実施する必要がある。これらに対し、強酸臘イオン交換
樹脂では、比較的低温で、反応を速やかに行なりことが
可能であル、この触媒下で収率を上げる数多くの方法が
提案されている。例えば、溶媒等を使用せず不均一系で
反応させる方法としては、特開昭５４−２７５０７、特
開昭５４−３０１０４、特開昭５４−３０１０５、特開
昭５５−８５５２９、特開昭５５−１０８８２５、特公
昭５２−１５１１０６等が知られているが、反応速度の
問題から収率を上げる為に拡反応器が大きくなるという
工業的不利がある。
一方、均一系下で反応を行なう場合、溶媒の種類として
は有機酸を用いる方法（特公昭５３−２０４８２、特公
昭５３−１４０４４、特公昭５６−２２８５５等）が知
られているが、生成したＴＢＡと有機酸とが更に反応し
、有機酸エステルが多量副生じイソブチレン原単位を上
げる為には、生成したエステルを加水分解するなどの操
作が必要とな夛、又、装置材質も高級化する必要がある
。
は有機酸を用いる方法（特公昭５３−２０４８２、特公
昭５３−１４０４４、特公昭５６−２２８５５等）が知
られているが、生成したＴＢＡと有機酸とが更に反応し
、有機酸エステルが多量副生じイソブチレン原単位を上
げる為には、生成したエステルを加水分解するなどの操
作が必要とな夛、又、装置材質も高級化する必要がある
。
更に、極性溶媒を用いる方法（特開昭５６−３４６４３
、特開昭５７−１０８０２８、特開昭５６−８７５２６
、特公昭５７−１０８５３、特開昭５６−１０１２４、
等）が ゛知られているが、これらは使用する溶媒と反
応プ四セスの組合わせで収率を上げる工夫を行なってい
る。特に溶媒としてＴＢＡを使用する場合（特公昭５７
−１０８５３、特開−５７−１０８０２８）には、反応
が平衡反応である事、原料Ｃ４、水、ＴＢＡが任意の割
合で混合し均一相とはならない事等の問題があ）、工業
的水準迄収率を上げる為には、反応プロセスにかなシの
工夫が必要である。
、特開昭５７−１０８０２８、特開昭５６−８７５２６
、特公昭５７−１０８５３、特開昭５６−１０１２４、
等）が ゛知られているが、これらは使用する溶媒と反
応プ四セスの組合わせで収率を上げる工夫を行なってい
る。特に溶媒としてＴＢＡを使用する場合（特公昭５７
−１０８５３、特開−５７−１０８０２８）には、反応
が平衡反応である事、原料Ｃ４、水、ＴＢＡが任意の割
合で混合し均一相とはならない事等の問題があ）、工業
的水準迄収率を上げる為には、反応プロセスにかなシの
工夫が必要である。
そこで、特公昭５７−１０８５３の方法によると、水１
００モルに対して１０〜５００モルのアルコール（ＴＢ
Ａ含む）を添加すると記載されているが、これは不均一
相下となる条件をも含んでおシ、その様な条件下で反応
を実施した場合、反応器入口部で拡、反応が進まず均一
相下となる迄に多量の触媒を必要とすることが類推され
、との記載条件で工業化するのは容易ではない。一方、
特開昭５６−１０１２４の方法によると、Ｊｌ、紀条件
を限定し反応帯域の組成が均一系となる組成領域のある
部分に規定すると記載されている。又、その中の記述で
はイソブチレン転化速度は均一・不均一の境界附近の原
料組成がすぐれている、とされている。
００モルに対して１０〜５００モルのアルコール（ＴＢ
Ａ含む）を添加すると記載されているが、これは不均一
相下となる条件をも含んでおシ、その様な条件下で反応
を実施した場合、反応器入口部で拡、反応が進まず均一
相下となる迄に多量の触媒を必要とすることが類推され
、との記載条件で工業化するのは容易ではない。一方、
特開昭５６−１０１２４の方法によると、Ｊｌ、紀条件
を限定し反応帯域の組成が均一系となる組成領域のある
部分に規定すると記載されている。又、その中の記述で
はイソブチレン転化速度は均一・不均一の境界附近の原
料組成がすぐれている、とされている。
しかし、この領域内であっても水とＴＢＡの含有量の少
ない領域で反応を実施すると、原料イソブチレンの二量
化が起こシ選択率が悪くなる不利があシ、工業的にイソ
ブチレンの転化率を上げる為、通常の多段反応器にて本
反応奪行なう時、最少の触媒量にする為には、どうして
も前記の領域から出発する必要があり、選択率の低下は
不可避である。逆に、高選択率にてイソブチレンをＴＥ
Ａに転化させようとするとイソブチレン含有炭化水素、
水、ＴＢＡの混合溶液中のイソブチレン含有炭化水素の
濃度の低い溶液から反応を開始し、逐次、水を供給し反
応させても良いが、この様な方法だけ ・ではイソブチ
レンがある程度反応した段階でイソブチレンからＴＢＡ
の転化速度が急速に小さくなシ ；高転化率を得る為に
は美大なる量の触媒が必要と ｉなる。
ない領域で反応を実施すると、原料イソブチレンの二量
化が起こシ選択率が悪くなる不利があシ、工業的にイソ
ブチレンの転化率を上げる為、通常の多段反応器にて本
反応奪行なう時、最少の触媒量にする為には、どうして
も前記の領域から出発する必要があり、選択率の低下は
不可避である。逆に、高選択率にてイソブチレンをＴＥ
Ａに転化させようとするとイソブチレン含有炭化水素、
水、ＴＢＡの混合溶液中のイソブチレン含有炭化水素の
濃度の低い溶液から反応を開始し、逐次、水を供給し反
応させても良いが、この様な方法だけ ・ではイソブチ
レンがある程度反応した段階でイソブチレンからＴＢＡ
の転化速度が急速に小さくなシ ；高転化率を得る為に
は美大なる量の触媒が必要と ｉなる。
又、反応器を出た反応液に水を添加し２相分離 ・させ
、油相は次の反応器へ送液する方法も記載さ □れてい
るが、これは、Ｃ４留分、水、ＴＢＡの和平 □衡によ
シ油相の組成が決定される為、Ｃ４留分の １濃度を高
める為には大量の水にて抽出する必要があシ、又、ＴＢ
Ａを抽出した水溶液は希薄で、そのような水溶液からＴ
ＢＡを回収することは多くの工 ：ネルギーや操作を要
し工業的にとるべき好ましい方法とは言えない。
、油相は次の反応器へ送液する方法も記載さ □れてい
るが、これは、Ｃ４留分、水、ＴＢＡの和平 □衡によ
シ油相の組成が決定される為、Ｃ４留分の １濃度を高
める為には大量の水にて抽出する必要があシ、又、ＴＢ
Ａを抽出した水溶液は希薄で、そのような水溶液からＴ
ＢＡを回収することは多くの工 ：ネルギーや操作を要
し工業的にとるべき好ましい方法とは言えない。
本発明は上記に鑑みてなされたものであシ、イソブチレ
ン又はイソブチレン含有炭化水素と水か ：らＴＢＡを
合成するにあたシ、反応を円滑に進める □ことができ
且つＴＥＡを高選択、高収率で得ることができる製造方
法を提供することを目的とする。
ン又はイソブチレン含有炭化水素と水か ：らＴＢＡを
合成するにあたシ、反応を円滑に進める □ことができ
且つＴＥＡを高選択、高収率で得ることができる製造方
法を提供することを目的とする。
本発明者等は鋭意研究の結果、イソブチレンと水の多段
反応において、第１反応帯域と第２反応帯域を蒸留等に
よシ物理的に分離し、第１反応帯域と第２反応帯域に供
給するＴＤＡ％水、Ｃ４混合溶液中のＣ４留分の濃度に
ついて、第２反応帯域に供給するＴＢＡ−水−Ｃ４留分
混合溶液中のＣ４留分の濃度を、第１反応帯域に供給す
るＴＢＡ−水−Ｃ４留分混合溶液中のＣ４留分の濃度よ
シも高くすることが、反応を円滑に進め、更に高選択率
高収率にて本反応を行うことができることを見出し、本
発明を完成するに至った０ すなわち、本発明は、インブチレン又はイソブチレン含
有炭化水素と水とを陽イオン交換樹脂の存在下にて反応
させ、第３級グチルアルコールを製造する方法において
、イソブチレン又はイソブチレン含有炭化水素と水とを
陽イオン交換樹脂の存在下で反応せしめ、第３級グチル
アルコール、未反応イソブチレン又はイソブチレン含有
炭化水素及び水からなる反応混合物を得る第１蒸留帯域
Ｂ反応混合物を未反応イソブチレン又はインブチレン含
有炭化水素と第３級グチルアルコール水溶液とに分離す
る蒸留帯域及び蒸留帯域から分離された未反応イソブチ
レン又はイソブチレン含有炭化水素と水とを陽イオン交
換樹脂の存在下で反応せしめ、第３級グチルアルコール
、未反応イソブチレン又はイソブチレン含有炭化水素及
び水からなる反応混合物を得る第２反応帯域からな夛、
蒸留帯域から分離された第３級グチルアルコール水溶液
の一部は、第１反応帯域及び／又は第２反応帯域に供給
せしめ、この際、第１反応帯域及び第２反応帯域の原料
供給口付近の第３級ノチルアルコールー水−イソブチレ
ン又はイソブチレン含有炭化水素混合物が均一相となる
ような組成とし、かつ、第２反応帯域に供給する第３級
ツチルアルコールー水−イソグチレン又はイソブチレン
含有炭化水素混合溶液中のイソブチレン又はイノブチレ
ン含有炭化水素の濃度を１ 第１反応帯域に供給する第
３級ツチルアルコールー水−イソツチレン又はイソブチ
レン含有炭化水素混合溶液中のイソブチレン又はインブ
チレン含有炭化水素の濃度よシも高く維持することを特
徴とする第３級グチルアルコールの製造方法を要旨とす
る。
反応において、第１反応帯域と第２反応帯域を蒸留等に
よシ物理的に分離し、第１反応帯域と第２反応帯域に供
給するＴＤＡ％水、Ｃ４混合溶液中のＣ４留分の濃度に
ついて、第２反応帯域に供給するＴＢＡ−水−Ｃ４留分
混合溶液中のＣ４留分の濃度を、第１反応帯域に供給す
るＴＢＡ−水−Ｃ４留分混合溶液中のＣ４留分の濃度よ
シも高くすることが、反応を円滑に進め、更に高選択率
高収率にて本反応を行うことができることを見出し、本
発明を完成するに至った０ すなわち、本発明は、インブチレン又はイソブチレン含
有炭化水素と水とを陽イオン交換樹脂の存在下にて反応
させ、第３級グチルアルコールを製造する方法において
、イソブチレン又はイソブチレン含有炭化水素と水とを
陽イオン交換樹脂の存在下で反応せしめ、第３級グチル
アルコール、未反応イソブチレン又はイソブチレン含有
炭化水素及び水からなる反応混合物を得る第１蒸留帯域
Ｂ反応混合物を未反応イソブチレン又はインブチレン含
有炭化水素と第３級グチルアルコール水溶液とに分離す
る蒸留帯域及び蒸留帯域から分離された未反応イソブチ
レン又はイソブチレン含有炭化水素と水とを陽イオン交
換樹脂の存在下で反応せしめ、第３級グチルアルコール
、未反応イソブチレン又はイソブチレン含有炭化水素及
び水からなる反応混合物を得る第２反応帯域からな夛、
蒸留帯域から分離された第３級グチルアルコール水溶液
の一部は、第１反応帯域及び／又は第２反応帯域に供給
せしめ、この際、第１反応帯域及び第２反応帯域の原料
供給口付近の第３級ノチルアルコールー水−イソブチレ
ン又はイソブチレン含有炭化水素混合物が均一相となる
ような組成とし、かつ、第２反応帯域に供給する第３級
ツチルアルコールー水−イソグチレン又はイソブチレン
含有炭化水素混合溶液中のイソブチレン又はイノブチレ
ン含有炭化水素の濃度を１ 第１反応帯域に供給する第
３級ツチルアルコールー水−イソツチレン又はイソブチ
レン含有炭化水素混合溶液中のイソブチレン又はインブ
チレン含有炭化水素の濃度よシも高く維持することを特
徴とする第３級グチルアルコールの製造方法を要旨とす
る。
以下、本発明を図面によシ詳しく説明する。
第１図は本発明の一例を示したものである。但し、本発
明はこれだけに限定されるものではない・第１図に示め
すノ冒セス紘１．．基本的には、Ｃ４炭化水素と水とを
陽イオン交換樹脂の存在下で反応せしめ、ＴＢＡ、未反
応Ｃ４炭些水素及び水からなる反応混合物を得る第１反
応帯域Ａ及び第、２反応帯域Ｃ１並びに未反応Ｃ４炭化
水素とＴＢＡ水溶液とに蒸留分離する第１蒸留帯域Ｂ及
び第２蒸留帯域りから構成されている。 。
明はこれだけに限定されるものではない・第１図に示め
すノ冒セス紘１．．基本的には、Ｃ４炭化水素と水とを
陽イオン交換樹脂の存在下で反応せしめ、ＴＢＡ、未反
応Ｃ４炭些水素及び水からなる反応混合物を得る第１反
応帯域Ａ及び第、２反応帯域Ｃ１並びに未反応Ｃ４炭化
水素とＴＢＡ水溶液とに蒸留分離する第１蒸留帯域Ｂ及
び第２蒸留帯域りから構成されている。 。
第１反応帯域９Ａには、ライン２よシ所定の組成に制御
されたＣ４炭化水素、水及びＴＢＡの混合物を供給する
。この場合、Ｃ４炭化水素はライン１よ）供給し、水及
びＴＢＡは、ｊＩｘ蒸留帯域から蒸留分離され九ＴＤＡ
水溶液の一部をライン４，６を経て、ＴＢム水溶液貯槽
Ｅに導きここで２イン７より水を供給して所定組成のＴ
ＢＡ本溶液とじ丸うえライン８を経て２イン２に合流さ
せる。本発明においては、第１反応帯域Ａの原料供給口
付近のＴＢＡ−水−Ｃ４炭化水素混合物が均一相となる
ように組成を定めることが重要である。
されたＣ４炭化水素、水及びＴＢＡの混合物を供給する
。この場合、Ｃ４炭化水素はライン１よ）供給し、水及
びＴＢＡは、ｊＩｘ蒸留帯域から蒸留分離され九ＴＤＡ
水溶液の一部をライン４，６を経て、ＴＢム水溶液貯槽
Ｅに導きここで２イン７より水を供給して所定組成のＴ
ＢＡ本溶液とじ丸うえライン８を経て２イン２に合流さ
せる。本発明においては、第１反応帯域Ａの原料供給口
付近のＴＢＡ−水−Ｃ４炭化水素混合物が均一相となる
ように組成を定めることが重要である。
第１反応帯域で反応して得られたＴＢＡ 、未反応Ｃ４
炭化水素及び水からなる反応混合物は、ライン３から第
１蒸留帯域Ｂに供給される。第１蒸留帯域Ｂで未反応Ｃ
４炭化水素とＴＢＡ水溶液とに分離される。分離された
ＴＢＡ水溶液の一部はライン４．５を経て精製工程（図
示しない）等に送られる。他の一部は、前述のとおシ、
水の含有量を調節してライン４ｅ６ｐ８ｅ２を経て第１
反応帯域Ａに供給される。一方、未反応Ｃ４炭化水素の
一部は、ライン９ｔ１０により循環させるとともに、他
の一部は、ライン９，１１，１２を経て、第１反応帯域
Ｃに供給される。
炭化水素及び水からなる反応混合物は、ライン３から第
１蒸留帯域Ｂに供給される。第１蒸留帯域Ｂで未反応Ｃ
４炭化水素とＴＢＡ水溶液とに分離される。分離された
ＴＢＡ水溶液の一部はライン４．５を経て精製工程（図
示しない）等に送られる。他の一部は、前述のとおシ、
水の含有量を調節してライン４ｅ６ｐ８ｅ２を経て第１
反応帯域Ａに供給される。一方、未反応Ｃ４炭化水素の
一部は、ライン９ｔ１０により循環させるとともに、他
の一部は、ライン９，１１，１２を経て、第１反応帯域
Ｃに供給される。
なお、本発明の第１反応帯域から得られた反応混合物か
ら蒸留帯域によって分離′された未反応イソブチレン又
はイソブチレン含有炭化水素には若干のＴＢＡや水は含
まれても差しつかえなく、精密にこれらを蒸留分離する
必要は全く々い。
ら蒸留帯域によって分離′された未反応イソブチレン又
はイソブチレン含有炭化水素には若干のＴＢＡや水は含
まれても差しつかえなく、精密にこれらを蒸留分離する
必要は全く々い。
第２反応帯域Ｃに供給される水及びＴＢＡは、第２蒸留
帯域から蒸留分離されたＴＢＡ水溶液の一部を２イン１
４．１６を経てＴＢＡ水溶液貯槽Ｆに導きとこでライン
１７よシ水を供給して所定組成のＴＢム水溶液としたう
えライン１８を経てツイン１２に合流させる。第２反応
帯域Ｃに供給される水及びＴＢＡは、その一部を第１蒸
留帯域から得られるものを用いても勿論構わない。
帯域から蒸留分離されたＴＢＡ水溶液の一部を２イン１
４．１６を経てＴＢＡ水溶液貯槽Ｆに導きとこでライン
１７よシ水を供給して所定組成のＴＢム水溶液としたう
えライン１８を経てツイン１２に合流させる。第２反応
帯域Ｃに供給される水及びＴＢＡは、その一部を第１蒸
留帯域から得られるものを用いても勿論構わない。
本発明においては、第１反応帯域の場合と同様に１．第
２反応帯域Ｃの原料供給口付近のＴＢＡ−水一０４炭化
水素混合物が均一相となるように組成を定めることが重
要である。そして本発明においては、第２反応帯域Ｃに
供給するＴＢＡ−水−Ｃ４炭化水素混合溶液中の０４炭
化水素濃度を、第１蒸留帯域ムに供給するＴＢＡ−水−
０４炭化水素混合溶液中の０４炭化水素濃度よシも高く
維持することが重要である。これに対し、特開昭５６−
１０１２４号公報は各反応帯域に供給する原料の組成が
ある範囲にあれば良いことを開示するに留まる。
２反応帯域Ｃの原料供給口付近のＴＢＡ−水一０４炭化
水素混合物が均一相となるように組成を定めることが重
要である。そして本発明においては、第２反応帯域Ｃに
供給するＴＢＡ−水−Ｃ４炭化水素混合溶液中の０４炭
化水素濃度を、第１蒸留帯域ムに供給するＴＢＡ−水−
０４炭化水素混合溶液中の０４炭化水素濃度よシも高く
維持することが重要である。これに対し、特開昭５６−
１０１２４号公報は各反応帯域に供給する原料の組成が
ある範囲にあれば良いことを開示するに留まる。
第２反応帯域で反応して得られたＴＢＡ、未反応Ｃ４炭
化水素及び水からなる反応混合物は、ライ／１３から第
２蒸留帯域りに供給される。第２蒸留帯域りで未反応Ｃ
４炭化水素とＴＢＡ水溶液とに分離される。分離された
ＴＢＡ水溶液の一部はライン１４．１５を経て精製工程
（図示しない）等に送られる。他の一部は、前述のとお
シ、水の含有量を調節してライン１４，１６，１８，１
２を経て第２反応帯域Ｃに供給される。図示していない
がＴＢＡ水溶液の一部は、第１蒸留帯域からのＴＢＡ水
溶液に合して、第１反応帯域人に供給することもできる
。
化水素及び水からなる反応混合物は、ライ／１３から第
２蒸留帯域りに供給される。第２蒸留帯域りで未反応Ｃ
４炭化水素とＴＢＡ水溶液とに分離される。分離された
ＴＢＡ水溶液の一部はライン１４．１５を経て精製工程
（図示しない）等に送られる。他の一部は、前述のとお
シ、水の含有量を調節してライン１４，１６，１８，１
２を経て第２反応帯域Ｃに供給される。図示していない
がＴＢＡ水溶液の一部は、第１蒸留帯域からのＴＢＡ水
溶液に合して、第１反応帯域人に供給することもできる
。
第２蒸留帯域りから蒸留分離された未反応Ｃ４炭化水素
の一部はライン１９，２０によシ循環させるとともに、
他の一部はライン１９．２１を経て系外へ排出される。
の一部はライン１９，２０によシ循環させるとともに、
他の一部はライン１９．２１を経て系外へ排出される。
又、本反応は発熱反応である為、反応熱によシ反応帯域
の温度が上昇したシ、あるいは反応帯域の入口の反応混
合物の組成を微調節したい場合等には、図中に破線で示
めしたライン２２，２３０ように第１反応帯域Ａ１第１
反応帯域Ｃの各々において出口の反応混合物を入口に循
環するなどしても良い。
の温度が上昇したシ、あるいは反応帯域の入口の反応混
合物の組成を微調節したい場合等には、図中に破線で示
めしたライン２２，２３０ように第１反応帯域Ａ１第１
反応帯域Ｃの各々において出口の反応混合物を入口に循
環するなどしても良い。
第１図では、反応帯域が２つの場合を示めしているが、
ライン２１の未反応イソッチレンを含むＣ４炭化水素か
ら更にＴＢＡを合成する場合には、□ 第２反応帯域Ｃ
に供給されるライン１２における’ ＴＢムー水−０４
炭化水素混合物中の０４炭化水□素“ 濃度よシも高く
なる様に、２イン２１のｃ４炭化水素Ｋ ＴＢＡ水溶液
を混合して、第１図と同様の方法で更に反応帯域、蒸留
帯域を追加するなどしても□良い。
ライン２１の未反応イソッチレンを含むＣ４炭化水素か
ら更にＴＢＡを合成する場合には、□ 第２反応帯域Ｃ
に供給されるライン１２における’ ＴＢムー水−０４
炭化水素混合物中の０４炭化水□素“ 濃度よシも高く
なる様に、２イン２１のｃ４炭化水素Ｋ ＴＢＡ水溶液
を混合して、第１図と同様の方法で更に反応帯域、蒸留
帯域を追加するなどしても□良い。
なお、本発明に≦いても、第１反応帯域、第２反応帯域
各々において、触媒層を多段に分割し途、 中に水を添
加するなどしてもよい・本発明において使用されるイソ
ブチレン含有炭化水素は、特に限定されるものではない
が、工業的に紘す７すの水蒸気分解やへ重質油の接触分
解□ から得られるＣ４留分である。このＣ４留分中に
ハ、イソッチレンの他に１−ラテン、Ｔｒａｎｓ −２
−ラテン、Ｃｉｓ −２−ｆテｙ、ｎ−ブタン、イソブ
タンと若干量のＣ３、Ｃ５留分及びブタジェンが含まれ
る。
各々において、触媒層を多段に分割し途、 中に水を添
加するなどしてもよい・本発明において使用されるイソ
ブチレン含有炭化水素は、特に限定されるものではない
が、工業的に紘す７すの水蒸気分解やへ重質油の接触分
解□ から得られるＣ４留分である。このＣ４留分中に
ハ、イソッチレンの他に１−ラテン、Ｔｒａｎｓ −２
−ラテン、Ｃｉｓ −２−ｆテｙ、ｎ−ブタン、イソブ
タンと若干量のＣ３、Ｃ５留分及びブタジェンが含まれ
る。
本発明で用いられる陽イオン交換樹脂は強酸性型陽イオ
ン交換樹脂が用いられ、好ましくは多孔性のものが良い
。異体的には、レパチ、トやアンバーライＦ等の商品名
で市販されているものであ □る。
ン交換樹脂が用いられ、好ましくは多孔性のものが良い
。異体的には、レパチ、トやアンバーライＦ等の商品名
で市販されているものであ □る。
本発明を更にわか）やすくする為に、第３図によシ説明
する。
する。
第３図は、ＴＢＡ−水−Ｃ４炭化水素の３成分系におけ
る組成を表す三角図であシ、線Ｘｍｂｙｒ。
る組成を表す三角図であシ、線Ｘｍｂｙｒ。
Ｙは均一液相領域と不均一液相領域との境界−である。
なお特開昭５６−１０１２４の第２図に示めされている
ものも同様である。各反応器へ供給する液の組成はこの
境界線上にとるのが反応上有利であるが、多段反応によ
シ本反応を行なう場合、水を逐次供給してゆく方法や、
反応器を出た反応液に水を一部し２相分離させ、ｉ層を
次の反応器に送液する方法（４Ｉｆ＋開昭５６−１０１
２４号公報の実施例５）などの方法では、第１段目の反
応器からそれに続く反応器の入口組成は、この境界線上
に沿ってＸからＹの方向へ移動することに劣る。しかし
、本発明の方法では、これとは逆にＹからＸの方向に沿
って各反応器の入口組成が移動することになる。
ものも同様である。各反応器へ供給する液の組成はこの
境界線上にとるのが反応上有利であるが、多段反応によ
シ本反応を行なう場合、水を逐次供給してゆく方法や、
反応器を出た反応液に水を一部し２相分離させ、ｉ層を
次の反応器に送液する方法（４Ｉｆ＋開昭５６−１０１
２４号公報の実施例５）などの方法では、第１段目の反
応器からそれに続く反応器の入口組成は、この境界線上
に沿ってＸからＹの方向へ移動することに劣る。しかし
、本発明の方法では、これとは逆にＹからＸの方向に沿
って各反応器の入口組成が移動することになる。
ここで、４５重量−のインブチレンを含むＣ４炭化水素
を原料とし、反応させる場合を例にとシ説明する。第１
反応帯域に供給する反応混合物の入口組成を後述の１ｇ
４表のｂを選んだとすると、第３図において第１反応帯
域内の反応混合物の組成は反応の進行にともない点すと
点αを結ぶ線上を点すから点αの方向へ変化する。（但
し、点αは、４５チイソツチレン含有Ｃ４を点すから反
応させた場合に、反応の進行に伴い、組成変化する目標
点であシ、この”場合のインブチレンのＴＤＡへの選択
率はは＃’！’１００１１とし、その他のＣ４炭化水素
はほとんど反応しないか又は反応しても無視できる程微
少な量とする。）いま、第１反応帯域から得られた反応
混合物が点βで表わされる組成の混合物とする第２反応
帯域に供給する原料の組成の調整を水を該混合物に添加
することによって行なう場合、この混合物に水の添加量
の増加に伴い、原料の組成は点βから点Ｙを結ぶ線上で
組成が変化し水の添加量が多い程点Ｙの組成に近づく・
第１反応帯域入口で境界線上の点γの組成となる様に、
水を添加した場合点γにおけるＣ４炭化水素の濃度は、
点すにおけるＣ４炭化水素の濃度よシ小さくなっている
。又、この図から明かなように点β一点ｒ間の組成は、
Ｃ４炭化水素の濃度が常に点すにおけるＣ４炭化水素の
濃度よフ小さいＯ 以上に対し本発明の場合、点βの反応混合物を蒸留によ
〕完全にＣ４炭化水素とＴ１３Ａ水溶液とに分離すれば
、塔頂からは点Ｘで表されるＣ４炭化水素１００重量％
の留分子が得られ、塔底からは点Ｘと点βを結んだ直線
の延長と線ｙｚの交点の点δで表されるＴＢＡ水溶液が
得られる。このＣ４炭化水素留分にＴＢム水溶液を混合
し、Ｃ４炭化水素濃度が点すよシも高く、かつ、境界線
ｘ−ｂ−Ｙ上にある組成のＴＢＡ−水−Ｃ４炭化水素混
合物を調整しようとすると、混合すべきＴＢＡ水溶液の
組成は点Ｘと点すを結んだ直締の延長と線ＹＺの交点の
点Ｃと点δの間のε−δ線上にあることがわかる。この
様に６からδで表される組成のＴＢＡ水溶液を混合する
ことによ多、本発明に記載されている第２反応帯域に供
給すべきＣ４炭化水素、水、ＴＢＡの混合溶液を調整す
ることができる。
を原料とし、反応させる場合を例にとシ説明する。第１
反応帯域に供給する反応混合物の入口組成を後述の１ｇ
４表のｂを選んだとすると、第３図において第１反応帯
域内の反応混合物の組成は反応の進行にともない点すと
点αを結ぶ線上を点すから点αの方向へ変化する。（但
し、点αは、４５チイソツチレン含有Ｃ４を点すから反
応させた場合に、反応の進行に伴い、組成変化する目標
点であシ、この”場合のインブチレンのＴＤＡへの選択
率はは＃’！’１００１１とし、その他のＣ４炭化水素
はほとんど反応しないか又は反応しても無視できる程微
少な量とする。）いま、第１反応帯域から得られた反応
混合物が点βで表わされる組成の混合物とする第２反応
帯域に供給する原料の組成の調整を水を該混合物に添加
することによって行なう場合、この混合物に水の添加量
の増加に伴い、原料の組成は点βから点Ｙを結ぶ線上で
組成が変化し水の添加量が多い程点Ｙの組成に近づく・
第１反応帯域入口で境界線上の点γの組成となる様に、
水を添加した場合点γにおけるＣ４炭化水素の濃度は、
点すにおけるＣ４炭化水素の濃度よシ小さくなっている
。又、この図から明かなように点β一点ｒ間の組成は、
Ｃ４炭化水素の濃度が常に点すにおけるＣ４炭化水素の
濃度よフ小さいＯ 以上に対し本発明の場合、点βの反応混合物を蒸留によ
〕完全にＣ４炭化水素とＴ１３Ａ水溶液とに分離すれば
、塔頂からは点Ｘで表されるＣ４炭化水素１００重量％
の留分子が得られ、塔底からは点Ｘと点βを結んだ直線
の延長と線ｙｚの交点の点δで表されるＴＢＡ水溶液が
得られる。このＣ４炭化水素留分にＴＢム水溶液を混合
し、Ｃ４炭化水素濃度が点すよシも高く、かつ、境界線
ｘ−ｂ−Ｙ上にある組成のＴＢＡ−水−Ｃ４炭化水素混
合物を調整しようとすると、混合すべきＴＢＡ水溶液の
組成は点Ｘと点すを結んだ直締の延長と線ＹＺの交点の
点Ｃと点δの間のε−δ線上にあることがわかる。この
様に６からδで表される組成のＴＢＡ水溶液を混合する
ことによ多、本発明に記載されている第２反応帯域に供
給すべきＣ４炭化水素、水、ＴＢＡの混合溶液を調整す
ることができる。
次に本発明を具体的な実施例で説明する。尚、実施例・
比較例とも各々の組成は、水についてはカールフィシキ
ー法で分析し、その他についてはガスクロマトグラフィ
ーで分析した。
比較例とも各々の組成は、水についてはカールフィシキ
ー法で分析し、その他についてはガスクロマトグラフィ
ーで分析した。
実施例１〜４
第１図のフローに従い第１表で示めされているインブチ
レン含有炭化水素をライン１から供給し、ＴＢＡの合成
を行った。
レン含有炭化水素をライン１から供給し、ＴＢＡの合成
を行った。
第１．第１反応帯域Ａ ｙ Ｃ１第１．第２蒸留帯域Ｂ
、Ｄの各々に対応するものとして、第２表で示めされた
構造・操作条件の反応器Ａ、Ｃ，蒸留塔Ｂ、Ｄを使用し
た。各々の反応器の入口（ライン２，１２の）組成は第
３表の条件となる様に運転した。
、Ｄの各々に対応するものとして、第２表で示めされた
構造・操作条件の反応器Ａ、Ｃ，蒸留塔Ｂ、Ｄを使用し
た。各々の反応器の入口（ライン２，１２の）組成は第
３表の条件となる様に運転した。
第３表中の記号ａｗｄの具体的な組成は第４表に示めし
たとおシである。反応結果は第５表のとおシであった。
たとおシである。反応結果は第５表のとおシであった。
第 １ 表
第 ２ 表
第 ３ 表
第 ４ 表
第 ５ 表
比較例１〜４
第２図の７０−に従い、第１表で示めされているイソメ
チレン含有炭化水素を原料とし、ＴＢＡ合成を行った。
チレン含有炭化水素を原料とし、ＴＢＡ合成を行った。
第１反応帯域Ａ１第２反応帯域Ｃ１蒸留帯域りは第２表
の反応器Ａ、Ｃ，蒸留塔りを使用し第２表の操作条件で
運転した。第１反応器ＡＫ供給したＴＢムー水−Ｃ４炭
化水素の組成拡第６表のとおシで、その表中の記号ａｙ
ｄの具体的な組成は第４表に示めされたものである。
の反応器Ａ、Ｃ，蒸留塔りを使用し第２表の操作条件で
運転した。第１反応器ＡＫ供給したＴＢムー水−Ｃ４炭
化水素の組成拡第６表のとおシで、その表中の記号ａｙ
ｄの具体的な組成は第４表に示めされたものである。
第７表に、結果を示めした。
第 ６ 表
第 ７ 表
第２図の７０−について説明する。第２図に示めすプロ
セスは、基本的には、Ｃ４炭化水素と水とを陽イオン交
換樹脂の存在下で反応せしめ、ＴＤＡ 、未反応Ｃ４炭
化水素及び水からなる反応混合物を得る第１反応帯域Ａ
及び第２反応帯域Ｃ１第１反応帯域Ａに紘、ライン２よ
シ所定の組成に調整されたＣ４炭化水素、水及びＴＢＡ
の混合物を供給する。この場合、Ｃ４炭化水素はライン
１よシ供給し、水及びＴＢＡは、蒸留帯域りから蒸留分
離されたＴＢＡ水溶液の一部をライン７．９を経て、Ｔ
ＢＡ水溶水溶液貯槽基き、ここでライン１０ ”よ〕水
を供給して、所定組成のＴＢＡ水溶液としたうえライン
１１を経てライン２に合流させる・第１反応帯域Ａで反
応して得られたＴＢＡ、未反応Ｃ４炭化水素及び水から
なる反応混合物は、ライン３で抜き出され、ライン４よ
シ水を供給、混合された後、ライン５を経て第２反応帯
域Ｃに供 給される。
セスは、基本的には、Ｃ４炭化水素と水とを陽イオン交
換樹脂の存在下で反応せしめ、ＴＤＡ 、未反応Ｃ４炭
化水素及び水からなる反応混合物を得る第１反応帯域Ａ
及び第２反応帯域Ｃ１第１反応帯域Ａに紘、ライン２よ
シ所定の組成に調整されたＣ４炭化水素、水及びＴＢＡ
の混合物を供給する。この場合、Ｃ４炭化水素はライン
１よシ供給し、水及びＴＢＡは、蒸留帯域りから蒸留分
離されたＴＢＡ水溶液の一部をライン７．９を経て、Ｔ
ＢＡ水溶水溶液貯槽基き、ここでライン１０ ”よ〕水
を供給して、所定組成のＴＢＡ水溶液としたうえライン
１１を経てライン２に合流させる・第１反応帯域Ａで反
応して得られたＴＢＡ、未反応Ｃ４炭化水素及び水から
なる反応混合物は、ライン３で抜き出され、ライン４よ
シ水を供給、混合された後、ライン５を経て第２反応帯
域Ｃに供 給される。
第２反応帯域Ｃで反応して得られたＴＢＡ 、未反応Ｃ
４炭化水素及び水からなる反応混合物は、ライン６を経
て蒸留帯域りに供給される。蒸留帯域Ｄで未反応Ｃ４炭
化水素とＴＢＡ水溶液とに分離される・分離されたＴＢ
Ａ水溶液の一部はライン７゜８を経て系外へ排出される
。
４炭化水素及び水からなる反応混合物は、ライン６を経
て蒸留帯域りに供給される。蒸留帯域Ｄで未反応Ｃ４炭
化水素とＴＢＡ水溶液とに分離される・分離されたＴＢ
Ａ水溶液の一部はライン７゜８を経て系外へ排出される
。
他の一部は、前述のとおシ、水の含有量を調節してライ
ン７．９，１１，２を経て第２反応帯域Ａに供給される
。
ン７．９，１１，２を経て第２反応帯域Ａに供給される
。
蒸留帯域りから蒸留分離された未反応Ｃ４炭化水素の一
部はライン１２，１３によシ循環させるとともに、他の
一部はライン１２．１４を経て系外へ排出される。
部はライン１２，１３によシ循環させるとともに、他の
一部はライン１２．１４を経て系外へ排出される。
第１図は本発明の１例を示すプロセス７０−図である。
第２図は比較例のｆｏセス７０−図である。
第３図はＴＢＡ−水−Ｃ４炭化水素の３成分系における
組成を表わす三角図である。 ム・・・第１反応帯域、Ｂ−・・蒸留帯域、Ｃ・・・第
２反応帯域。
組成を表わす三角図である。 ム・・・第１反応帯域、Ｂ−・・蒸留帯域、Ｃ・・・第
２反応帯域。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）イソブチレン又はイソブチレン含有炭化水、、 素
と水とを陽イオン交換樹脂の存在下にて反応させ、第３
級ブチルアルコールを製造する方法において イソブチレン又はイソブチレン含有炭化水素と水とを陽
イオン交換樹脂の存在下で反応せしめ、第３級ブチルア
ルコール、未反応イソブチレン又はイソブチレン含有炭
化水素及び水からなる反応混合物を得る第１反応帯域、
蚊反応混合物を未反応イソブチレン又はイソブチレン含
有炭化水素と第３級ブチルアルコール水溶液とに分離す
る蒸留帯域及び蒸留帯域から分離された未反応インブチ
レン又はイソブチレン含有炭化水素と水とを陽イオン交
換樹脂の存在下で反応せしめ、第３ｆチルアルコール、
未反応イソブチレン又はイソブチレン含有炭化水素及び
水からなる反応混合物を得る第２反応帯域からなシ、蒸
留帯域から分離された第３級ブチルアルコール水溶液の
一部は、第１反応帯域及び又は第２反応帯域に供給せし
め、この際、第１反応帯域及び第２反応帯域の原料供給
口 □付近の第３級ブチルアルコール−水−イソブチレ
ン又はイソブチレン含有炭化水素混合物が均一相となる
ような組成とし、かつ、第２反応帯域に供給する第３級
ジチルアルコール−水−インツチレン又はイソブチレン
含有炭化水素混合溶液中のイソブチレン又はイソブチレ
ン含有炭化水素め濃度を、第１反応帯域に供給する第３
級！チルアル；−ルー水−イソゾチレン又はイソブチレ
ン含有炭化水素混合溶液中のイソブチレン又はイソブチ
レン含有炭化水素の濃度よシも高く維持することを特徴
とする第３級ブチルアルコールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59087865A JPS60233024A (ja) | 1984-05-02 | 1984-05-02 | 第３級ブチルアルコ−ルの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59087865A JPS60233024A (ja) | 1984-05-02 | 1984-05-02 | 第３級ブチルアルコ−ルの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60233024A true JPS60233024A (ja) | 1985-11-19 |
| JPH0342250B2 JPH0342250B2 (ja) | 1991-06-26 |
Family
ID=13926771
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59087865A Granted JPS60233024A (ja) | 1984-05-02 | 1984-05-02 | 第３級ブチルアルコ−ルの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60233024A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999033775A1 (fr) * | 1997-12-26 | 1999-07-08 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Procede de preparation d'alcool tert-butylique |
| JP2005068150A (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Oxeno Olefinchemie Gmbh | ｔ−ブタノールの製造方法 |
| JP2010043122A (ja) * | 2009-11-16 | 2010-02-25 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | アルコールの製造方法 |
| JP2010059091A (ja) * | 2008-09-03 | 2010-03-18 | Tosoh Corp | ｔ−ブチルアルコール溶液及びその製造法 |
| US7709690B2 (en) | 2004-12-17 | 2010-05-04 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Method for producing tertiary butyl alcohol |
| WO2023190038A1 (ja) * | 2022-03-28 | 2023-10-05 | 三菱ケミカル株式会社 | 第三級ブチルアルコールの製造方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5314044A (en) * | 1976-07-22 | 1978-02-08 | Sofuia Kk | Pachinko game machine |
-
1984
- 1984-05-02 JP JP59087865A patent/JPS60233024A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5314044A (en) * | 1976-07-22 | 1978-02-08 | Sofuia Kk | Pachinko game machine |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1999033775A1 (fr) * | 1997-12-26 | 1999-07-08 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Procede de preparation d'alcool tert-butylique |
| US6111148A (en) * | 1997-12-26 | 2000-08-29 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Process for producing tertiary butyl alcohol |
| JP2005068150A (ja) * | 2003-08-22 | 2005-03-17 | Oxeno Olefinchemie Gmbh | ｔ−ブタノールの製造方法 |
| JP4504135B2 (ja) * | 2003-08-22 | 2010-07-14 | エボニック オクセノ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | ｔ−ブタノールの製造方法 |
| US7709690B2 (en) | 2004-12-17 | 2010-05-04 | Mitsubishi Rayon Co., Ltd. | Method for producing tertiary butyl alcohol |
| JP2010059091A (ja) * | 2008-09-03 | 2010-03-18 | Tosoh Corp | ｔ−ブチルアルコール溶液及びその製造法 |
| JP2010043122A (ja) * | 2009-11-16 | 2010-02-25 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | アルコールの製造方法 |
| WO2023190038A1 (ja) * | 2022-03-28 | 2023-10-05 | 三菱ケミカル株式会社 | 第三級ブチルアルコールの製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0342250B2 (ja) | 1991-06-26 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |