JPS6023113B2 - 新規ピラゾ−ル誘導体の製造法 - Google Patents
新規ピラゾ−ル誘導体の製造法Info
- Publication number
- JPS6023113B2 JPS6023113B2 JP10616880A JP10616880A JPS6023113B2 JP S6023113 B2 JPS6023113 B2 JP S6023113B2 JP 10616880 A JP10616880 A JP 10616880A JP 10616880 A JP10616880 A JP 10616880A JP S6023113 B2 JPS6023113 B2 JP S6023113B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- general formula
- formula
- producing
- group
- pyrazole
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Landscapes
- Plural Heterocyclic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規ピラゾール誘導体の製造法に関するもので
ある。
ある。
詳しくは、シクロプロベニウム塩を用いるピラゾール誘
導体の製造法に関するものである。ピラゾール骨格を有
する化合物は、医薬、染料またはカラー写真のカップラ
−として重要なものが数多〈知られている。
導体の製造法に関するものである。ピラゾール骨格を有
する化合物は、医薬、染料またはカラー写真のカップラ
−として重要なものが数多〈知られている。
従来、ピラゾール骨格の製造法としては、８−ジカルボ
ニル化合物とヒドラジンまたはその置換体とを縮合させ
る方法、アセチレンカルボニル化合物にヒドラジンまた
はその贋襖体を作用させる方法、脂肪族ジアゾ化合物と
３−ジケトンまたはアセチレン化合物を反応させる方法
などが知られているが、贋換基が自由に選択できないな
ど必ずしも十分な方法とは言えず、ピラゾールの製造法
の改良が望まれていた。
ニル化合物とヒドラジンまたはその置換体とを縮合させ
る方法、アセチレンカルボニル化合物にヒドラジンまた
はその贋襖体を作用させる方法、脂肪族ジアゾ化合物と
３−ジケトンまたはアセチレン化合物を反応させる方法
などが知られているが、贋換基が自由に選択できないな
ど必ずしも十分な方法とは言えず、ピラゾールの製造法
の改良が望まれていた。
一方、本発明者等は先にシクロプｏベニウム塩と第一級
アミンまたはジアゾアルカンを反応させて、ピ。
アミンまたはジアゾアルカンを反応させて、ピ。
ールまたはピリダジンを製造する方法を見出し、報告し
たが、未だピラゾールの製造には成功していなかった。
本発明者は、これらの事情に鑑みシクロプロベニゥム塩
を用いる複素環の製造法を拡張してピラゾールにも通用
すべく研究した結果、本発明に到達した。
たが、未だピラゾールの製造には成功していなかった。
本発明者は、これらの事情に鑑みシクロプロベニゥム塩
を用いる複素環の製造法を拡張してピラゾールにも通用
すべく研究した結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明の要旨は、一般式（０）（式中、Ｒ１
、Ｒ２およびＲ３は低級アルキル基を表わし、Ｘｅは陰
イオンを表わす。
、Ｒ２およびＲ３は低級アルキル基を表わし、Ｘｅは陰
イオンを表わす。
）で示されるトリチオシクロブロベニウム塩と一般式（
ｍ）Ｒ４−ＮＨ−ＮＨ２ （ｍ）（式
中、Ｒ４は水素原子低級アルキル基、アリール基、また
はヒドロキシアルキル基を表わす。
ｍ）Ｒ４−ＮＨ−ＮＨ２ （ｍ）（式
中、Ｒ４は水素原子低級アルキル基、アリール基、また
はヒドロキシアルキル基を表わす。
）で示されるヒドラジン類を反応させることを特徴とす
る一般式（１）〔式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ４はそれぞ
れ一般式（０）および（ｍ）中におけると同義とする。
る一般式（１）〔式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ４はそれぞ
れ一般式（０）および（ｍ）中におけると同義とする。
〕で示されるピラゾール誘導体の製造法に存する。
以下に本発明を詳細に説明する。本発明に係る方法によ
って製造される化合物は、前記一般式（１）で示される
ピラゾール誘導体である。
って製造される化合物は、前記一般式（１）で示される
ピラゾール誘導体である。
一般式（１）および（０）においてＲ１、Ｒ２およびＲ
３は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ＩＳｏープロピ
ル、ｎーブチル、ｌｓｏーブチル、ｓｅｃ−フチル、ｔ
−ブチル等のアルキル基を表わし、相互に同一でもよい
。
３は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ＩＳｏープロピ
ル、ｎーブチル、ｌｓｏーブチル、ｓｅｃ−フチル、ｔ
−ブチル等のアルキル基を表わし、相互に同一でもよい
。
一般式（１）で示されるピラゾール誘導体の具体例とし
ては３・４−ジーｉＳｏ−プロピルチオピラゾール、３
・４ージーｔーブチルチオピラゾール、１ーメチルー３
・４ージーｉｓｏ一プチルチオピラゾール、１ーメチル
−３・４−ジーｔ−ブチルチオピラゾール、１ーエチル
−３・４ージーｌｓｏープロピルチオピラゾール、１−
エチル一３・４−ジーｔ一プチルチオピラゾール、１ー
フエニル−３・４−ジーｔーブチルチオピラゾール、１
−（３ーヒドロキシエチル）一３・４ージ−ｔ−ブチル
チオピラゾールなどを挙げることができる。
ては３・４−ジーｉＳｏ−プロピルチオピラゾール、３
・４ージーｔーブチルチオピラゾール、１ーメチルー３
・４ージーｉｓｏ一プチルチオピラゾール、１ーメチル
−３・４−ジーｔ−ブチルチオピラゾール、１ーエチル
−３・４ージーｌｓｏープロピルチオピラゾール、１−
エチル一３・４−ジーｔ一プチルチオピラゾール、１ー
フエニル−３・４−ジーｔーブチルチオピラゾール、１
−（３ーヒドロキシエチル）一３・４ージ−ｔ−ブチル
チオピラゾールなどを挙げることができる。
一般式（１）で示されるピラゾール誘導体は、前記一般
式（０）で示されるトリチオシクロプロベニゥム塩と、
前記一般式（ｍ）で示されるヒドラジン類とを反応させ
ることにより製造することができる。
式（０）で示されるトリチオシクロプロベニゥム塩と、
前記一般式（ｍ）で示されるヒドラジン類とを反応させ
ることにより製造することができる。
原料となるトリチオシクロプロベニウム塩は、例えば特
閑昭４８一９６５６４号公報に記載された方法により、
製造すれば良い。
閑昭４８一９６５６４号公報に記載された方法により、
製造すれば良い。
一般式（０）においてＸｅは任意の陰イオンである。
例えばハ。ゲソィオン、過塩素酸イオン、フルオロホウ
酸イオン、六フツ化アンチモンイオン、六ｄ副ヒアンチ
モソィオン、塩化アルミニウムイオン等である。もう一
方の原料であるヒドラジン類の一般式（ｍ）において、
Ｒ４は例えば水素原子、メチル、エチル、ｌｓｏ−プロ
ピル等の低級アルキル基、アリール基、２−ヒドロキシ
ェチル等のヒドロキシアルキル基などである。
酸イオン、六フツ化アンチモンイオン、六ｄ副ヒアンチ
モソィオン、塩化アルミニウムイオン等である。もう一
方の原料であるヒドラジン類の一般式（ｍ）において、
Ｒ４は例えば水素原子、メチル、エチル、ｌｓｏ−プロ
ピル等の低級アルキル基、アリール基、２−ヒドロキシ
ェチル等のヒドロキシアルキル基などである。
一般式（ｍ）で示されるヒドラジン類の具体例としては
、ヒドラジン、メチルヒドラジン、エチルヒドラジン、
メトキシエチルヒドラジン、２ークロロエチルヒドラジ
ソ、ベンジルヒドラジンなどを挙げることができる。
、ヒドラジン、メチルヒドラジン、エチルヒドラジン、
メトキシエチルヒドラジン、２ークロロエチルヒドラジ
ソ、ベンジルヒドラジンなどを挙げることができる。
ヒドラジン類とトリチオシクロプロベニウム塩との反応
は、通常、適当な溶剤中で行なわれる。
は、通常、適当な溶剤中で行なわれる。
溶剤としては塩化メチレン、ク。ロホルム、ジメトキシ
ェタン、ジメチルホルムアミド等が用いられる。ヒドラ
ジン類は、トリチオシクロプロベニウム塩に対し等モル
程度加えるのが望ましい。
ェタン、ジメチルホルムアミド等が用いられる。ヒドラ
ジン類は、トリチオシクロプロベニウム塩に対し等モル
程度加えるのが望ましい。
反応温度は０〜１００午０通常室温付近が選ばれる。
また、反応を円滑に進行させるため、第一級アミンをト
リチオシクロプロベニウム塩に加えた後夕に、塩基を反
応系に加える。
リチオシクロプロベニウム塩に加えた後夕に、塩基を反
応系に加える。
塩基としては例えばｔープトキシカリウムなどの金属ア
ルコキシドがあげられ、その好適な量は、トリチオシク
ロプロベニウム塩に対して２倍モル程度用いるのがよい
。０ 反応時間は３０分〜５時間、通常１〜２時間程度
である。
ルコキシドがあげられ、その好適な量は、トリチオシク
ロプロベニウム塩に対して２倍モル程度用いるのがよい
。０ 反応時間は３０分〜５時間、通常１〜２時間程度
である。
生成したピラゾール譲導体は有機化学合成の常法に従し
、ロ週、抽出、溶媒蟹去等の方法によって反応液より粗
生成物を分離し、カラムクロマトグラフィ−、昇華、再
結晶の方法により単離、精製することができる。
、ロ週、抽出、溶媒蟹去等の方法によって反応液より粗
生成物を分離し、カラムクロマトグラフィ−、昇華、再
結晶の方法により単離、精製することができる。
本発明に係るピラゾール誘導体は新規な化合物であり、
農薬、医薬等に利用され、またその反応性を利用して各
種合成化学原料としての用途が期待される。
農薬、医薬等に利用され、またその反応性を利用して各
種合成化学原料としての用途が期待される。
さらに、本発明に係るピラゾール誘導体をラネーニッケ
ル等の金属触媒の存在下水素で処理すると−ＳＲＩ基お
よび一ＳＲ２基を脱欧させることができ、周知のピラゾ
ール誘導体に導くことも出来るので、周知のピラゾール
誘導体の製造方法としても有用である。以下に実施例を
挙げて、本発明を更に具体的に説明するが、本発明はそ
の要旨を越えない限り、実施例により限定を受けるもの
ではない。
ル等の金属触媒の存在下水素で処理すると−ＳＲＩ基お
よび一ＳＲ２基を脱欧させることができ、周知のピラゾ
ール誘導体に導くことも出来るので、周知のピラゾール
誘導体の製造方法としても有用である。以下に実施例を
挙げて、本発明を更に具体的に説明するが、本発明はそ
の要旨を越えない限り、実施例により限定を受けるもの
ではない。
実施例 １
窒素置換された５０の【のナス型フラスコに、ヒドラジ
ン塩酸塩を０．００２モル、ジメチルホルムアミド１５
の‘を入れ、ｔ−ブトキシカリウムを当量加えてヒドラ
ジンを遊離させ、トリ−ｔ−ブチルチオシクロプロベニ
ウム過塩素酸塩４０３のｐ（０．００１モル）を溶かし
たジメチルホルムアミド１０泌を徐々に滴下した。
ン塩酸塩を０．００２モル、ジメチルホルムアミド１５
の‘を入れ、ｔ−ブトキシカリウムを当量加えてヒドラ
ジンを遊離させ、トリ−ｔ−ブチルチオシクロプロベニ
ウム過塩素酸塩４０３のｐ（０．００１モル）を溶かし
たジメチルホルムアミド１０泌を徐々に滴下した。
半時間後、稀炭酸ナトリウム水溶液を加え、石油エーテ
ル抽出を行ない、硫酸ナトリウムを用いて乾燥後、溶媒
留去した残澄をシリカゲルカラムクロマトグラフ処理す
ることにより、３・４ージーｔ−ブチルチオピラゾール
を得た。生成物（旧ｕはｔーブチル基を表わす） 性 状 黄色固体 収 率 ２０％ ｎ．ｍ．ｒ．スペクトル（ＣＣ１４）値：１．２２（Ｓ
、班、畑ｕ）、１．３０（Ｓ、鮒、ｔＢｕ）、７．鬼（
Ｓ、ＩＨ、一ＣＨ＝Ｎ）、１２．０〜１２．２（広、Ｉ
Ｈ、Ｎ−Ｈ）肌マススベクトル：Ｍ＋実施例 ２ 実施例１において、ヒドラジン塩酸塩をメチルヒドラジ
ン塩酸塩に変えたほかは全く同様にして、１ーメチルー
３・４ージ−ｔ一プチルチオビラゾールを得た。
ル抽出を行ない、硫酸ナトリウムを用いて乾燥後、溶媒
留去した残澄をシリカゲルカラムクロマトグラフ処理す
ることにより、３・４ージーｔ−ブチルチオピラゾール
を得た。生成物（旧ｕはｔーブチル基を表わす） 性 状 黄色固体 収 率 ２０％ ｎ．ｍ．ｒ．スペクトル（ＣＣ１４）値：１．２２（Ｓ
、班、畑ｕ）、１．３０（Ｓ、鮒、ｔＢｕ）、７．鬼（
Ｓ、ＩＨ、一ＣＨ＝Ｎ）、１２．０〜１２．２（広、Ｉ
Ｈ、Ｎ−Ｈ）肌マススベクトル：Ｍ＋実施例 ２ 実施例１において、ヒドラジン塩酸塩をメチルヒドラジ
ン塩酸塩に変えたほかは全く同様にして、１ーメチルー
３・４ージ−ｔ一プチルチオビラゾールを得た。
生成物
収 率 ５３％
性 状 シラップ状のオイル
ｎ．ｍ．ｒ．スペクトル（ＣＣ１４）６値：１．２０（
Ｓ、■日、旧ｕ）、１，２８（Ｓ、斑、ｔＢｕ）、３．
９６（Ｓ、洲、Ｎ‐ＣＨ３）、７，４５（Ｓ、ＩＨ、ー
ＣＨニＮ）肌１．ｒ．スペクトル（ｎｅａｔ）：１４６
０ １３７以 １１７０、聡０１．ｒ．スペクトル（ｎ
ｅａｔ）：１４６０ １３７以 １１７０、聡ＯＧｗ−
１マススベクトル：Ｍ＋２５８ 元素分析 日 Ｃ Ｎ Ｓ ｑ重量匁） 計算値 ８．５８ ５５．７７ １０．８４ ２４．
８１８析値 ８．７０ ５５．８７ １０．６２ ２
４．７８実施例 ３実施例１において、ヒドラジン塩酸
塩をフェニルヒドラジン塩酸塩に変えたほかは全く同様
にして、１ーフエニル−３・４ージーｔ−ブチルチオピ
ラゾールを得た。
Ｓ、■日、旧ｕ）、１，２８（Ｓ、斑、ｔＢｕ）、３．
９６（Ｓ、洲、Ｎ‐ＣＨ３）、７，４５（Ｓ、ＩＨ、ー
ＣＨニＮ）肌１．ｒ．スペクトル（ｎｅａｔ）：１４６
０ １３７以 １１７０、聡０１．ｒ．スペクトル（ｎ
ｅａｔ）：１４６０ １３７以 １１７０、聡ＯＧｗ−
１マススベクトル：Ｍ＋２５８ 元素分析 日 Ｃ Ｎ Ｓ ｑ重量匁） 計算値 ８．５８ ５５．７７ １０．８４ ２４．
８１８析値 ８．７０ ５５．８７ １０．６２ ２
４．７８実施例 ３実施例１において、ヒドラジン塩酸
塩をフェニルヒドラジン塩酸塩に変えたほかは全く同様
にして、１ーフエニル−３・４ージーｔ−ブチルチオピ
ラゾールを得た。
生成物
（Ｐｈはフェニル基を表わす）
収 率 ７８％
性 状 白色固体、ｍ．ｐ．１４６００
ｎ．ｍ．ｒ．スペクトル（ＣＣ１４）６値：１．２５（
Ｓ、班、伍ｕ）、１．４８（Ｓ、斑、ｔＢｕ）、７．１
〜７，７（ｍ、斑、Ｐｈ）、７．８６（Ｓ、ＩＨ、Ｃｉ
ＣＨ‐Ｎ）脚１．ｒ．スペクトル（ＫＢｒ）：１６０ふ
１５１リ１０２０、７６０Ｃｍ‐１実施例 ４ 塩化メチレン２０Ｍに８−ヒドロキシェチルヒドラジン
（ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＮＨ２）（０．００３モル）を
溶解した溶液に、トリーｔ−ブチルチオシクロプロべニ
ウム過塩素酸塩（０．４０３夕、０．００１モル）を溶
かした塩化メチレン１０の‘を室温で滴下し、この温度
で５時間かくはんしたのち、反応混合物を水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、キューゲ
ルロール（ＫｕｇｅＩＲｏｈｒ）で真空蒸留（１５３−
１６０００／１肋Ｈｇ）することにより１一（８−ヒド
ロキシエチル）一３・４ージーｔ−ブチルチオピラゾー
ル０．２８２夕を得た。
Ｓ、班、伍ｕ）、１．４８（Ｓ、斑、ｔＢｕ）、７．１
〜７，７（ｍ、斑、Ｐｈ）、７．８６（Ｓ、ＩＨ、Ｃｉ
ＣＨ‐Ｎ）脚１．ｒ．スペクトル（ＫＢｒ）：１６０ふ
１５１リ１０２０、７６０Ｃｍ‐１実施例 ４ 塩化メチレン２０Ｍに８−ヒドロキシェチルヒドラジン
（ＨＯＣＨ２ＣＨ２ＮＨＮＨ２）（０．００３モル）を
溶解した溶液に、トリーｔ−ブチルチオシクロプロべニ
ウム過塩素酸塩（０．４０３夕、０．００１モル）を溶
かした塩化メチレン１０の‘を室温で滴下し、この温度
で５時間かくはんしたのち、反応混合物を水で洗浄し、
無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を留去し、キューゲ
ルロール（ＫｕｇｅＩＲｏｈｒ）で真空蒸留（１５３−
１６０００／１肋Ｈｇ）することにより１一（８−ヒド
ロキシエチル）一３・４ージーｔ−ブチルチオピラゾー
ル０．２８２夕を得た。
生成物収 率 ９８％
性 状 シラッブ状オイル
ｎ．ｍ．ｒ．スペクトル（ＣＣ１４）８値：１．２０（
Ｓ、岬、旧ｕ）、１．３０（Ｓ、畑、ｔＢｕ）、３．４
２（ｂｒｏａｄＳ、ＩＨ、ＯＨ）、３．９０（ｔ、２日
、Ｊ＝９．２ＨＺ、Ｃ山）、４．４３（ｔ、が、Ｊ＝９
．２ＨＺ、Ｃ比）、７．５３（Ｓ、ＩＨ、−ＣＨニＮ）
胸１．ｒ．スペクトル（肥ａｔ）：３３００、１４６０
、１３６４、１１６５肌−Ｉマススベクトル：Ｍ十２８
８ 元素分析 日 Ｃ Ｎ Ｓ ■量旦多）
Ｓ、岬、旧ｕ）、１．３０（Ｓ、畑、ｔＢｕ）、３．４
２（ｂｒｏａｄＳ、ＩＨ、ＯＨ）、３．９０（ｔ、２日
、Ｊ＝９．２ＨＺ、Ｃ山）、４．４３（ｔ、が、Ｊ＝９
．２ＨＺ、Ｃ比）、７．５３（Ｓ、ＩＨ、−ＣＨニＮ）
胸１．ｒ．スペクトル（肥ａｔ）：３３００、１４６０
、１３６４、１１６５肌−Ｉマススベクトル：Ｍ十２８
８ 元素分析 日 Ｃ Ｎ Ｓ ■量旦多）
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 一般式（II） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾３は低級アルキル基
を表わし、Ｘ■は陰イオンを表わす。 ）で示されるトリチオシクロプロペニウム塩と一般式（
III） Ｒ＾４−ＮＨ−ＮＨ＿２ （III） （式中、Ｒ＾４は水素原子、低級アルキル基、アリール
基またはヒドロキシアルキル基を表わす。 ）で示されるヒドラジン類を反応させることを特徴とす
る一般式（I）▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２およびＲ＾４はそれぞれ一般式
（II）および（III）中におけると同義とする。 〕で示されるピラゾール誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10616880A JPS6023113B2 (ja) | 1980-08-01 | 1980-08-01 | 新規ピラゾ−ル誘導体の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10616880A JPS6023113B2 (ja) | 1980-08-01 | 1980-08-01 | 新規ピラゾ−ル誘導体の製造法 |
Related Parent Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10920877A Division JPS5444667A (en) | 1977-09-10 | 1977-09-10 | Novel pyrazole derivative and its preparation |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5649367A JPS5649367A (en) | 1981-05-02 |
| JPS6023113B2 true JPS6023113B2 (ja) | 1985-06-05 |
Family
ID=14426735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10616880A Expired JPS6023113B2 (ja) | 1980-08-01 | 1980-08-01 | 新規ピラゾ−ル誘導体の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6023113B2 (ja) |
-
1980
- 1980-08-01 JP JP10616880A patent/JPS6023113B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5649367A (en) | 1981-05-02 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| RU2136665C1 (ru) | Способ сульфинилирования гетероциклических соединений, способ получения 4- сульфинилпиразолов и сульфинамидные соединения | |
| US4507488A (en) | N-Pyrazolylalkylenediamine intermediates | |
| JPS6056143B2 (ja) | アミジン誘導体ならびにその製造法 | |
| US3441602A (en) | 1,1 - diphenyl - 1 - lower alkoxy - 3 - or - 4-amino-alkanes and the salts thereof | |
| JPS6023113B2 (ja) | 新規ピラゾ−ル誘導体の製造法 | |
| JPH04234367A (ja) | １−ヒドロキシメチルピラゾール類の製造方法 | |
| US5089651A (en) | Process for producing 3-iminonitriles | |
| JP2678758B2 (ja) | 新規なプロパン誘導体 | |
| CA1119179A (en) | Process for preparing n-tritylimidazole compounds | |
| JPS63316743A (ja) | 脱アシル化方法 | |
| KR970001474B1 (ko) | 5-아미노피라졸 유도체의 제조방법 | |
| JPS6338992B2 (ja) | ||
| US4980495A (en) | Trialkylamine salts of 3-chloro-1,1-dicyano-2-hydroxy-1-propene and preparation of 2-amino-4-chloro-3-cyano-5-formylthiophene | |
| JPS5923314B2 (ja) | 新規ピロ−ル誘導体 | |
| JPS61118371A (ja) | 新規ピラゾロン誘導体およびその製造法 | |
| JPH04230640A (ja) | シクロヘキセノール誘導体 | |
| JPH03215488A (ja) | ピリミドベンズイミダゾール誘導体 | |
| JPH09132554A (ja) | ４−アルコキシ−１，１，１−トリフルオロ−３−ブテン−２−オンの製造方法 | |
| KR830000634B1 (ko) | N-트리틸 이미다졸 화합물을 제조하는 방법 | |
| HU188959B (en) | Process for preparing 5-mercapto-1,2,3-thiadiazole derivatives | |
| JPS595586B2 (ja) | ピロ−ル誘導体の製造方法 | |
| JPH03204859A (ja) | ４―ニトロ―１，２―ヒドロカルビルピラゾリジン化合物とその製造方法 | |
| US4065465A (en) | Process for the preparation of substituted trichloroacetamidine derivatives | |
| US3148216A (en) | Nu, nu'-tetramethylene-bis | |
| JPS62195366A (ja) | ５−ヒドラジノ−１ｈ−ピラゾ−ル系化合物 |