JPS60229711A - 成形装置 - Google Patents

成形装置

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JPS60229711A
JPS60229711A JP8656384A JP8656384A JPS60229711A JP S60229711 A JPS60229711 A JP S60229711A JP 8656384 A JP8656384 A JP 8656384A JP 8656384 A JP8656384 A JP 8656384A JP S60229711 A JPS60229711 A JP S60229711A
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JP
Japan
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mold
molding
vacuum
hole
shielding
Prior art date
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Pending
Application number
JP8656384A
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English (en)
Inventor
岩下 延芳
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KOOTAKI KK
KOTAKI KK
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KOOTAKI KK
KOTAKI KK
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ビ1 技術分野 本発明をまレンガ成形に好適な成形装置に関する。
(ロ)従来技術と問題点 レンガ成形の如く加圧材料が粉体の場合。
金型内にあって上下両パンチを用いて加圧成形する際に
真空雰囲気下で、加圧成形すればよ〇一層密に質の良い
加圧成形を行なうことが知られており、この為の成形装
置の一例として特公昭58−44054号に開示の[真
空式煉瓦成形装置jがある。
この従来例によれば、金型の型孔内にあって対向配置さ
れた上下両パンチの周囲を囲繞して上下両真空室を形成
するのに、上ノ(ンチの基部外周に形成した筒体と、金
型の上面に接離自在とする上部封鎖リングと、筒体及び
この上部封鎖リング間を接続する軟質スカートにて下真
空室を、そして下)(ンチの外周を囲む筒体と、本体フ
レーム上面に接離自在とする下部封鎖リングと、筒体及
び下部封鎖リング間を接続する軟質スカートにて下真空
室を、各々形成するようにしている。
然しなから、この従来例にあって上下両真空室を形成す
るのに各々軟質スカートを不可欠のものとしているが、
これら軟質スカートは上下部封鎖リングの移動を許すた
めに伸縮自在なゴム状のものを使用せざるを得ぬため。
成形装置を長期間使用するに際し加圧成形のたびごとに
繰り返し減圧を受けることに因0疲労し易いものであり
、しかも軟質スカートを筒体なO上又は下部封鎖リング
と接続するには完全に密な状態で接続せねばならず、そ
の端末処理に相当の配慮が強いられ、その分構造が複雑
化し、ているものであった。
1)→ 目的 本発明の目的は真空脱気の為の上下両真空室をベローズ
やスカート類を使用せずに比較的簡単な構造で形成し、
真空室内容積も可能な限り小として真空脱気し易くシ、
もって成形能率を高めることのできる成形装置を提供せ
んとするものである。
(−1構成 本発明に係る成形装置は上記目的を達成するために、上
パンチを垂下支持する上ベース体の周面を密に囲繞し且
つこの局面に沿って上下スライド自在にした遮蔽体の下
方シール部を金型の上面に当接して下真空室を形成し。
そして支持テーブルにて金型全体を載置すると共に金型
の下面を密接シールし、且つドパンチを上方へ突設した
下ペース体の局面に対しスライド自在に密に囲繞せしめ
る遮蔽フランジ部を支持テーブルの一部に設けることに
よって下真空室を形成したことを要旨とじている。
(ホ)実施例 第1図に示す一実施例を参照しこの「成形装置」を更に
詳述する。金型1、土酸形部2−下成形部3にて主に成
形装置4が形成され。
金型1の中央には綾状の型孔5が設けてあり、そこへ成
形材料例えばレンガ用の粉体Aを供給自在としている。
そして型孔5と干渉せぬ部分で上下両面6.7の後述す
る上下真空室8.9に対応する部分には上下両真空室8
゜9を導通ずる通孔10が形成しである。尚。
上下両面6.7は後述するシールのため高い面精度で形
成されている〇 土酸形部2は加圧降下用の圧力シリンダ11、そのピス
トン12.取付は体13.14.上ベース体15、遮蔽
体16、上パンチ17そして型開き用の圧力シリンダ1
8とから主に構成されている。
圧力シリンダ11にて加圧降下されるピストン12には
取付は体43.14を介して上ベース体15が設けであ
る。このPベース体15はその下面に上バンチ17を垂
下支持しており、周面19には0−リング状のノール材
20が取り付けである。取付は体13゜14、上ペース
体15には真空脱気孔21が連設してあり、図示せぬ真
空ポンプと接続する真空脱気系22が形成されている。
尚真空脱気孔21は下真空室8内にその開口23をのぞ
ませるべく十ベース体15の下面にあって上パンチ17
の取付けと干渉せぬ位置に設けられている。
遮蔽体16は上下にフランジ部24 .25を有する全
体が筒状のもので、上ベース体15の周面19を密に囲
繞し、しかもこの周面19に沿って上下スライド自在と
されている。26は圧力シリンダで、遮蔽体16を上下
スライドすべくその上フランジ部24と接続されている
。また下フランジ部25にはO−リング状のシール材2
7が設けられて「下方シール部」を形成し金型1の上面
6と当接自在にされ、当接時、遮蔽体16内部に上翼空
室8を形成するようにしている。そして遮幣体16のサ
イズは上ペース体15の横断面サイズと相応するので、
十ベース体15の横断面を上パンチ17の垂下支持並び
に開口23の形成に支障のない範囲で小サイズのものと
することにより、遮蔽体16が形成する上翼空室8の容
積を小さくして真空脱気処理をその分容易にしている。
上パンチ17は前述した如く上ベース体15の下面に垂
下支持された状態で金型1の型孔5内へ侵入せしめられ
昇降自在とされるものである。
型開き用の圧力シリンダ18はフレーム28を介してピ
ストン12と係合しており、加圧成形後上パンチ17を
上昇復帰させるものである。
尚、29は第2の遮蔽体で、先の遮蔽体16ニ比べ筒状
部の上下サイズが長いものとしてあ0同じく第2の取付
は体30−上パンチ31゜圧力シリンダ32と共に、先
のものに対し交換自在に配置されているものである。
下成形部3は支持テーブル33.下ベース体34.下パ
ンチ35とから主に形成されている。
支持テーブル33は金型1の全体を載置固定するもので
あり、上面部36に0−IJソング状シール材37を備
え、この上面部36を金型1の下面7へ密接せしめてい
る。更にこの支持テーブル33にはその内方、に遮蔽フ
ランジ部38が前記上面部36と連続して曲折形成しで
ある。
下ベース体34は圧力シリンダ39にて上下動自在とさ
れておOlその上面に一ドバンチ35を突設して備えて
いる。そして下ベース体34の周面40にはQ IJソ
ング状シール材41が取付けられ、前記した遮蔽フラン
ジ部38の内面に対しこの下ベース体34をスライド自
在にして遮蔽フランジ部3Bテ密i、m囲繞し、その内
部に下真空室9が形成されるものである。
尚、42はペーステーブルで、図示せぬフレームその他
を介し装置全体を支持し7ているものである。
次に作用を説明する。
型孔5内に成形材料として粉体IA+を供給し、圧力シ
リンダ11を機能させ5ピストン12、取付は体13.
14.及び上ベース体15を介して上パンチ17を型孔
5内に於いて加圧降下させるが、それに先たち圧力シリ
ンダ26にて遮蔽体16を降下させ「下方シール部」と
しての下フランジ部25−及びそのシール材27を金型
1の上面6に密接せしめて、遮蔽体16の内部を外部に
対し遮蔽しそこに上翼空室8を形成するものである。そ
して図示せぬ真空ポンプよO真空脱気系22及びその真
空脱気孔21を介し開口23から上真空室8内を真空脱
気し、この状態において上パンチ17を加圧降下させる
ことになる。上パンチ17が加圧降下するとき上べ〜ス
体15の周面19は遮蔽体16の内面に対しソール材2
0を介して密な状態を維持しつつスライドすることにな
る。
この時、下バンチ35は型孔5内にあって粉体圓?挾ん
で上バンチ17と上下対向Lノでおn、支持テーブル3
3の遮蔽フランジ部ア内に形成された下真空室9は通孔
10を介して上翼空室8と共に真空脱気されている。そ
して支持テーブル33は上面部36に設けたシール材3
7を介して金型1の下面7と密接してお0且つ遮蔽フラ
ンジ部38が下ベース体34の周面40と同じくシール
材41を介して密接しているため、上記下真空室9の真
空脱気処理が確実に行なわれることになる。
このようにして真空雰囲気下で粉体Wを加圧成形したの
ちは上下真空室8,9内を大気開放し、圧力シリンダ1
8を用いて型開きを行ない製品を取り出すものである。
尚1以上の説明において上下真空室8.9は通孔10に
て導通状態のものと【ノて述べたが、こJtに限定され
ず下真空室9を真空脱気系44にて図示せぬ真空ポンプ
と接続し、通孔10を省略することも可能である。
((へ)効果 本発明に係る成形装置は以上説明してきた如き内容のも
のなので、従来の如くベローズやスカートを用いること
なく上下真空室を比較的簡単な構造で形成することがで
き、しかも土嚢空室は上パンチ支持用の十ベース体の局
面を囲繞させた遮蔽体にて、また工具空室は下パンチ支
持用の下ペース体の局面を囲繞させた遮蔽フランジ部に
て各々ベローズやスカートを用いず形成しているため上
下ベース体の横断面サイズを小さくすることで上下真空
室の容積を上下支持体のサイズに合わせ小サイズのもの
とでき、その分真空脱気処理がし易く成形効率が向上す
るものでもある。また遮蔽体は上バンチの操作に合わせ
て圧力シリンダにて十ベース体の局面に沼ってスライド
下降させ金型の上面に当接させるだけでよく、繰り返し
の真空脱気処理を行なっても疲労する部分がなく、その
分耐久性があり、更に遮蔽フランジ部は金型の下面を載
置支持している支持テーブルの一部に一体のものとして
設けることができ、別部品を用いずして工具空室を比較
的構造簡単にして形成できるという多くの効果がある。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す成形装置の全体の概略
断面図、そして第2図は第1図の装置の要部断面図であ
る。 1・・・・・・金型 2・・・・・土酸形部 3・・・・・・下成形部 5・・・・・・型孔 A・・・・・・粉体 8・・・・・・土嚢空室 9・・・・・工具空室 15・・・・・・上ベース体 16・・・・・・遮蔽体 17・・・・・上パンチ 22・・・・・・真空脱気系 33 ・・・・支持テーブル 34・・・・・・下ベース体 35 ・・・・下パンチ 38・・・・・・遮蔽フランジ部

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (])金型の型孔内に対向・配置する上下両パンチの周
    辺を囲繞して上下真空室を形成し型孔内に供給した材料
    を真空雰囲気下で加圧する成形装置に於いて。 上記上置空室は、上バンチを垂下支持する十ペース体の
    局面を密に囲繞し且つこの局面に沿って上下スライド自
    在にして設けられた遮幣体の下方シール部を、金型の上
    面に当接して形成され。 下真空室は、金型全体を載置し金型の下面を密接せしめ
    た支持テーブルに、下バッチを上方へ突設した下ペース
    体の局面に対しスライド自在に密に囲繞せしめる遮蔽フ
    ランジ部を設けて、形成したことを特徴とする成形装置
    。 (2)金凰は上下両真空室を導通ずる通孔を備えている
    特許請求の範囲第1項記載の成形装置。 (31上下ベース体は上下パンチの支持に支障のない範
    囲で横断面積のサイズを小とし、これに応じてその周面
    を囲繞する遮蔽体及び遮蔽フランジ部の容積サイズを小
    としている特許請求の範囲第1項記載の成形装置。
JP8656384A 1984-04-27 1984-04-27 成形装置 Pending JPS60229711A (ja)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4844307A (ja) * 1971-08-02 1973-06-26
JPS5844054A (ja) * 1981-09-10 1983-03-14 工業技術院長 盲人用歩行補助装置における段差検出方法

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS4844307A (ja) * 1971-08-02 1973-06-26
JPS5844054A (ja) * 1981-09-10 1983-03-14 工業技術院長 盲人用歩行補助装置における段差検出方法

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