JPS60229347A - クリーンルーム用搬送システム - Google Patents
クリーンルーム用搬送システムInfo
- Publication number
- JPS60229347A JPS60229347A JP8404484A JP8404484A JPS60229347A JP S60229347 A JPS60229347 A JP S60229347A JP 8404484 A JP8404484 A JP 8404484A JP 8404484 A JP8404484 A JP 8404484A JP S60229347 A JPS60229347 A JP S60229347A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- station
- belt
- carrier box
- conveyor
- gas
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67769—Storage means
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67706—Mechanical details, e.g. roller, belt
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/6773—Conveying cassettes, containers or carriers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Structure Of Belt Conveyors (AREA)
- Intermediate Stations On Conveyors (AREA)
- Specific Conveyance Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［発明の技術分野］
この発明は半纏体集積回路用ウェーハなとの情・ン送に
用いられる搬送システムに関する。
用いられる搬送システムに関する。
［発明の背景技術とその問題点］
一般に、半導体装置は、シリコンなどからなるウェーハ
に独立した複数のパターンを形成したのち、このパター
ンを１つづつ含むチップに分割して組立てられる。この
パターンは、現在製作されている集積回路においても微
細であるが、今後集積回路が晶密度化するにつれてます
ます微細化することが予測されている。
に独立した複数のパターンを形成したのち、このパター
ンを１つづつ含むチップに分割して組立てられる。この
パターンは、現在製作されている集積回路においても微
細であるが、今後集積回路が晶密度化するにつれてます
ます微細化することが予測されている。
通常、上記パターンは、ウェーッ・向上にエキタビシャ
ル成長、不純物拡散、酸化、フォトマスキング、真空蒸
着などの処理を繰返しおこなう複雑な工程で形成される
が、今ｈｗ績回路が尚密度化するにつれて、この工程も
ますます妙雑化するようになる。
ル成長、不純物拡散、酸化、フォトマスキング、真空蒸
着などの処理を繰返しおこなう複雑な工程で形成される
が、今ｈｗ績回路が尚密度化するにつれて、この工程も
ますます妙雑化するようになる。
このようなパターンは、従来から塵埃の少いクリーンル
ーム内で製作されているが、より微細化しより複雑な工
程を酢なけれはならない高密度集積回路のパターン形成
Ｌ：は、さらに高い清浄度のクリーンルームが必要とな
ル。
ーム内で製作されているが、より微細化しより複雑な工
程を酢なけれはならない高密度集積回路のパターン形成
Ｌ：は、さらに高い清浄度のクリーンルームが必要とな
ル。
一般に、半導体装置のパターンを形成するにあたり、ク
リーンルーム内で発生する塵埃は、作業者の人体および
作業者が着ている衣服などから発生するものが最も多い
とされている。したがって高密度集積回路のパターン形
成においては、商い清浄度を維持するクリーンルーム設
備と、人手を必要としない自動生産設備が必要となる。
リーンルーム内で発生する塵埃は、作業者の人体および
作業者が着ている衣服などから発生するものが最も多い
とされている。したがって高密度集積回路のパターン形
成においては、商い清浄度を維持するクリーンルーム設
備と、人手を必要としない自動生産設備が必要となる。
ところで、高い清浄度を維持するクリーンルームは、膨
大な付帯設備が必要であるため、高密度集積回路のパタ
ーンを形成するクリーンルームとしては、謁１図に示す
ような構造がよいとされている。このクリーンルームは
、ウェーッ蔦の処理工程ごとに、各種ウェーハの処理が
要求する清浄度に保たれた最小限度（面＆）の処理室（
１）を複数作って、各処理室（１）に自動処理装置（２
）を設置するとともに、各処理室（１）をそれよりも低
い清浄度の共通の部屋（８１で接続し、この部屋り８１
に設置された搬送装置（４）を介して各処理室（１）に
ウェーッ・を供給するようにしたものである。したかつ
てこのような生産形Ｌ−においては、搬送システムは、
まず鶏埃の発生が少く、ウェーハを収納したキャリヤボ
ックスなどに付着して処理室（１）に持込まれる塵埃の
童を極力少くする構造でなければならない。またこのよ
うな生産形態では、処理室（１）への人の出入は検力禁
止され、谷処理工程の管理は共通の部屋（８（からおこ
なうようにするのか好捷しく、共通の部屋（３１に設置
される蒙送親ｋ （４１は人の通行をさまたげないもの
がよい。
大な付帯設備が必要であるため、高密度集積回路のパタ
ーンを形成するクリーンルームとしては、謁１図に示す
ような構造がよいとされている。このクリーンルームは
、ウェーッ蔦の処理工程ごとに、各種ウェーハの処理が
要求する清浄度に保たれた最小限度（面＆）の処理室（
１）を複数作って、各処理室（１）に自動処理装置（２
）を設置するとともに、各処理室（１）をそれよりも低
い清浄度の共通の部屋（８１で接続し、この部屋り８１
に設置された搬送装置（４）を介して各処理室（１）に
ウェーッ・を供給するようにしたものである。したかつ
てこのような生産形Ｌ−においては、搬送システムは、
まず鶏埃の発生が少く、ウェーハを収納したキャリヤボ
ックスなどに付着して処理室（１）に持込まれる塵埃の
童を極力少くする構造でなければならない。またこのよ
うな生産形態では、処理室（１）への人の出入は検力禁
止され、谷処理工程の管理は共通の部屋（８（からおこ
なうようにするのか好捷しく、共通の部屋（３１に設置
される蒙送親ｋ （４１は人の通行をさまたげないもの
がよい。
しかしこのような搬送システムは、虜だ陽光の段階であ
って公表されたものはない。またこのようなＰ２送シス
テムの一ユニットとして塵埃の発生を防止したオーバヘ
ッドコンベヤはあるが、このオーバヘッドコンベヤは、
搬送択僧が被搬送部材の上にあるため、塵埃の発生を防
止してもなお搬送機構の摩擦部分などから発生する塵埃
が薔搬送部材に付所する欠点がある。
って公表されたものはない。またこのようなＰ２送シス
テムの一ユニットとして塵埃の発生を防止したオーバヘ
ッドコンベヤはあるが、このオーバヘッドコンベヤは、
搬送択僧が被搬送部材の上にあるため、塵埃の発生を防
止してもなお搬送機構の摩擦部分などから発生する塵埃
が薔搬送部材に付所する欠点がある。
［発明の目的］
この発明は塵埃の発生が少い搬送システムを提供するこ
とにある。
とにある。
［発明の概要］
塵埃を発生しないように構成した一対のベルトコンベヤ
を走行方向を互に逆にして上部空間に並列設置するとと
もに、このベルトコンベヤよりも低い位置に、部材を収
納したキャリヤボックスを一時的に叙ドする第１ステー
シヨンを設け、この第１ステーシヨンに対応してベルト
コンベヤに沿って設けられた第２ステーシヨンに、上ｄ
［１一対のベルトコンベヤ上および上記第１ステーシヨ
ンをζ作範囲とするロボットを設置して、ベルトコンベ
ヤに塔載されて第２ステーシヨンに到ｉｔ Ｌ、 ｆｃ
キャリヤボックスを第１ステーシヨンに移載するとトモ
に、第１ステーシヨンに載トされたキャリヤボックスを
ベルトコンベヤＣ二８載するようＣ１朴１成した。
を走行方向を互に逆にして上部空間に並列設置するとと
もに、このベルトコンベヤよりも低い位置に、部材を収
納したキャリヤボックスを一時的に叙ドする第１ステー
シヨンを設け、この第１ステーシヨンに対応してベルト
コンベヤに沿って設けられた第２ステーシヨンに、上ｄ
［１一対のベルトコンベヤ上および上記第１ステーシヨ
ンをζ作範囲とするロボットを設置して、ベルトコンベ
ヤに塔載されて第２ステーシヨンに到ｉｔ Ｌ、 ｆｃ
キャリヤボックスを第１ステーシヨンに移載するとトモ
に、第１ステーシヨンに載トされたキャリヤボックスを
ベルトコンベヤＣ二８載するようＣ１朴１成した。
［発明の実施例］
以下、図面を参照してこの発明を実施例に基づいて説明
する。
する。
第２図は高密度集積回路のパターンを形成する設置ｉの
概要を示す因であって、クリーンルームは、各核ウェー
ハ処理が要求する高い珂＃Ｍｌに併ｆｃれた複数の処理
室−−−−−−−と、これら各処理￥叫−−−−と隔壁
（Ｉｌｌを介して隣接し、各処理室０Ｏ１−よりも低い
清浄展に保たれた共通の部屋−とからなる。しかしてこ
のクリーンルームには、。上１：「シ各処理￥ａ［相］
−−−−−−に設値された各沖自動処理装置にウェーハ
を供給する搬送システムか設けられている。この搬送シ
ステムは、上記共垂１の部屋（転）にｄく１内された搬
送装置０９）と、上記各処理室Ｄｏ） −−−−−−−
に設「えさまた第１ステーシヨン０〜と、この第１ステ
ーシヨン（＋４に対応して上記共通の部屋（１２１に位
置する第２ステーシヨンへ５）に蔽けらｔ′したロボッ
トθ６）とからなる。
概要を示す因であって、クリーンルームは、各核ウェー
ハ処理が要求する高い珂＃Ｍｌに併ｆｃれた複数の処理
室−−−−−−−と、これら各処理￥叫−−−−と隔壁
（Ｉｌｌを介して隣接し、各処理室０Ｏ１−よりも低い
清浄展に保たれた共通の部屋−とからなる。しかしてこ
のクリーンルームには、。上１：「シ各処理￥ａ［相］
−−−−−−に設値された各沖自動処理装置にウェーハ
を供給する搬送システムか設けられている。この搬送シ
ステムは、上記共垂１の部屋（転）にｄく１内された搬
送装置０９）と、上記各処理室Ｄｏ） −−−−−−−
に設「えさまた第１ステーシヨン０〜と、この第１ステ
ーシヨン（＋４に対応して上記共通の部屋（１２１に位
置する第２ステーシヨンへ５）に蔽けらｔ′したロボッ
トθ６）とからなる。
上記搬送＆置ａｍは、第３図に孕すように各処理室−−
−−−−−−に沿って共通の部屋（（２）の上部空間に
並列収ｆｔｔされた一対のベルトコンベヤ（２０ａ）、
（２０ｂ）からなる。この一対のベルトコンベヤ（２
０ａ）。
−−−−−−に沿って共通の部屋（（２）の上部空間に
並列収ｆｔｔされた一対のベルトコンベヤ（２０ａ）、
（２０ｂ）からなる。この一対のベルトコンベヤ（２
０ａ）。
（２０ｂ） ｔよそれぞれ同一構造に形成され、各ベル
トコンベヤ（２０ａ）、 （２０ｂ）は、８１４４図に
示すように図示しない基台に一足間隔へたてて対向設伽
された槌 駆動ブー１月２１１と駆動プーリ（２）に、鋼、伺届な
ど発塵の少い部材からなるベルト部）を装架し、図示し
ない外勤装置によって回転される駆動プーリ沈ｌ）の付
勢によって、ベルト−が一定方向に走行するユニットコ
ンベヤに）を複数台１列に配設し、各二ニットコンベヤ
例間に補助コンベヤ瞥１を設けた構造のものであり、一
対のベルトコンペ−Ｙ （２０ａ）、 （２０ｂ）は、
ベルト啜）の走行方向が逆になっている。
トコンベヤ（２０ａ）、 （２０ｂ）は、８１４４図に
示すように図示しない基台に一足間隔へたてて対向設伽
された槌 駆動ブー１月２１１と駆動プーリ（２）に、鋼、伺届な
ど発塵の少い部材からなるベルト部）を装架し、図示し
ない外勤装置によって回転される駆動プーリ沈ｌ）の付
勢によって、ベルト−が一定方向に走行するユニットコ
ンベヤに）を複数台１列に配設し、各二ニットコンベヤ
例間に補助コンベヤ瞥１を設けた構造のものであり、一
対のベルトコンペ−Ｙ （２０ａ）、 （２０ｂ）は、
ベルト啜）の走行方向が逆になっている。
上記各ユニットコンベヤ例は、特に発塵の少い構造に形
成され、駆動プーリ１２１１の付勢によって上部径路を
通るベル） （２３ａ）と下部径路を辿るベル） （２
３ｂ）との間に、上記ベル） （２３ａ）の下面に気体
を吹付けて、ベルト（２３ａ）を駆動プーリ＠１１およ
び従動ブーＩＪ Ｈ以外のコンベヤ構成部材から非接触
に浮上させる気体吹出上［＠と、この気体吹出装置直塀
）から吹出された気体をベルト（２３ａ）の両端部上面
から吸入して１９」収する回収装置Ｇ）とを４５する。
成され、駆動プーリ１２１１の付勢によって上部径路を
通るベル） （２３ａ）と下部径路を辿るベル） （２
３ｂ）との間に、上記ベル） （２３ａ）の下面に気体
を吹付けて、ベルト（２３ａ）を駆動プーリ＠１１およ
び従動ブーＩＪ Ｈ以外のコンベヤ構成部材から非接触
に浮上させる気体吹出上［＠と、この気体吹出装置直塀
）から吹出された気体をベルト（２３ａ）の両端部上面
から吸入して１９」収する回収装置Ｇ）とを４５する。
上記ベル） （２３ａ）を浮上させる気体は、ベル）
（２３ａ）の下面に接近しかつ平行に設けられた気体吹
出上＠ １２７１の上端面に形成された＋ｈｕの気体吹
出孔から供給され、第５図に／■すように上トビベル）
（２３ａ）の両側端部上拘に接近して設けられた気体
吸入孔（ロ））から、上記ベルト（２３８）の両側端部
を取凹む如く設けられた一対のダク） ４９０１を介し
て吸入され、このダクト卿）に設けられたフィルタなど
からなる図示しない篩過装置で、塵埃を濾過して上記気
体吹出ＲＮ ＠７１ に帰還される。したがってこのユ
ニットコンベヤーは、ベルト剛が駆動プーリし】）およ
び従動プーリ（財）以外のコンベヤ（ち成部材と非接触
で走行するため、属埃の発生が少く、また仮に塵埃を発
生しても、気体吸入孔−から気体とともに回収され、発
塵しない。
（２３ａ）の下面に接近しかつ平行に設けられた気体吹
出上＠ １２７１の上端面に形成された＋ｈｕの気体吹
出孔から供給され、第５図に／■すように上トビベル）
（２３ａ）の両側端部上拘に接近して設けられた気体
吸入孔（ロ））から、上記ベルト（２３８）の両側端部
を取凹む如く設けられた一対のダク） ４９０１を介し
て吸入され、このダクト卿）に設けられたフィルタなど
からなる図示しない篩過装置で、塵埃を濾過して上記気
体吹出ＲＮ ＠７１ に帰還される。したがってこのユ
ニットコンベヤーは、ベルト剛が駆動プーリし】）およ
び従動プーリ（財）以外のコンベヤ（ち成部材と非接触
で走行するため、属埃の発生が少く、また仮に塵埃を発
生しても、気体吸入孔−から気体とともに回収され、発
塵しない。
また上記補助コンベヤ臣）は、三角形の頂点に配設され
た回転自在の３個のプーリーにベルト（転））を装架［
２，２個のプーリーに支持された上向のベルトを隣接ユ
ニットコンベヤ例のベル） （２３ａ）と同じ平面上に
なるようにしたもので、前段のユニットコンベヤーで搬
送されてきたキャリヤボックスを一時的に支持して、後
段のユニットコンベヤーに移載する。
た回転自在の３個のプーリーにベルト（転））を装架［
２，２個のプーリーに支持された上向のベルトを隣接ユ
ニットコンベヤ例のベル） （２３ａ）と同じ平面上に
なるようにしたもので、前段のユニットコンベヤーで搬
送されてきたキャリヤボックスを一時的に支持して、後
段のユニットコンベヤーに移載する。
各処理室Ｃｌ０Ｉ−−−−−−−に設置される第１ステ
ーシヨン（６）は、その処理室Ｕωに設置された自動処
理装置で処理されるウェーハを収納したキャリヤボック
スおよび処理されたウェーハを収納したキャリヤボック
スを一時的に載置する。この第１ステーシヨン０４）は
、前記ベルトコンベヤ０３）より低い位ｔｌ″ｔにあっ
て、四じ処理室叫内に設置さすした自動処１１３！装置
とコンベヤΦ）で接続されている。またとの紀１ステー
ション（６）には、これから処理されるウェーハを収納
したキャリヤボックスをコンベヤ１３５１に搭載し、ま
たコンベヤＧ３５）で搬送されてきた処理済みのウェー
ハを収納したキャリヤボックスなｔｊＰＪｌステーショ
ンＣＩ４に移載するロボット（図だせず）が設置されて
いる。
ーシヨン（６）は、その処理室Ｕωに設置された自動処
理装置で処理されるウェーハを収納したキャリヤボック
スおよび処理されたウェーハを収納したキャリヤボック
スを一時的に載置する。この第１ステーシヨン０４）は
、前記ベルトコンベヤ０３）より低い位ｔｌ″ｔにあっ
て、四じ処理室叫内に設置さすした自動処１１３！装置
とコンベヤΦ）で接続されている。またとの紀１ステー
ション（６）には、これから処理されるウェーハを収納
したキャリヤボックスをコンベヤ１３５１に搭載し、ま
たコンベヤＧ３５）で搬送されてきた処理済みのウェー
ハを収納したキャリヤボックスなｔｊＰＪｌステーショ
ンＣＩ４に移載するロボット（図だせず）が設置されて
いる。
第２ステーシヨンｏ５）は、上記第１ステーシヨンａ４
に対応イして、処理室叫と共通の部屋１１のとの間の隔
壁（ロ）を介して、共通のｆｌｆｌｌ屋（＋２１１：Ｌ
罎・る。この第２ステーション０．５）に設置されるロ
ボットＣ１６）Ｕ％ヘルドコンベヤ０８）により搬送さ
れて第２ステーシヨン（＋５）に到着したキャリヤボッ
クスＩＷＩを第１ステーシヨンＯ→に、またウェーハの
部上ｉが終って第１ステーシヨン０旬に一時的に載置さ
れたキャリヤボックスをベルトコンベヤ０３）に移載す
るため、ベルトコンベヤ（１Ｂ）上および第１ステーシ
ヨン０４を動作範囲とするように構成されている。すな
わちこの口ポット（＋６）ｔｌ、Ｌｇ２ステーション（
１５）上に設けられた基台Ｉ：＠）上に立設されて、電
、Ｉ機陣の回転駆動により歯車（４０ａ）、 （４０ｂ
）を介して垂直軸の１わりを回転するコラムＳｌｌと、
先端部にキャリヤボックスを支持する支持装置囮が取付
けられ、この把持装負敗・（の水平面上の位置を任意に
変えることができるアーム制とを有し、このアーム（６
））は上記コラム田）の中心軸（垂直１１１）上を辿り
、コラム…）に固足された電動ｂｍの回転駆動により回
転する送りねじ←別に取付けらね、コラムゆ】）に形成
されたガイド部−に沿って上下に移動する。したかつて
このロボツ） （＋６）は、コラム世）の回転と、送り
ねじ圃の回転によるアーム制の上下移動と、アームの水
平面上における位置変更の組合せで、一対のベルトコン
ベヤ０匂と第１ステーシヨン０＝との間でキャリヤボッ
クス値）の移載をおこなうことができる。
に対応イして、処理室叫と共通の部屋１１のとの間の隔
壁（ロ）を介して、共通のｆｌｆｌｌ屋（＋２１１：Ｌ
罎・る。この第２ステーション０．５）に設置されるロ
ボットＣ１６）Ｕ％ヘルドコンベヤ０８）により搬送さ
れて第２ステーシヨン（＋５）に到着したキャリヤボッ
クスＩＷＩを第１ステーシヨンＯ→に、またウェーハの
部上ｉが終って第１ステーシヨン０旬に一時的に載置さ
れたキャリヤボックスをベルトコンベヤ０３）に移載す
るため、ベルトコンベヤ（１Ｂ）上および第１ステーシ
ヨン０４を動作範囲とするように構成されている。すな
わちこの口ポット（＋６）ｔｌ、Ｌｇ２ステーション（
１５）上に設けられた基台Ｉ：＠）上に立設されて、電
、Ｉ機陣の回転駆動により歯車（４０ａ）、 （４０ｂ
）を介して垂直軸の１わりを回転するコラムＳｌｌと、
先端部にキャリヤボックスを支持する支持装置囮が取付
けられ、この把持装負敗・（の水平面上の位置を任意に
変えることができるアーム制とを有し、このアーム（６
））は上記コラム田）の中心軸（垂直１１１）上を辿り
、コラム…）に固足された電動ｂｍの回転駆動により回
転する送りねじ←別に取付けらね、コラムゆ】）に形成
されたガイド部−に沿って上下に移動する。したかつて
このロボツ） （＋６）は、コラム世）の回転と、送り
ねじ圃の回転によるアーム制の上下移動と、アームの水
平面上における位置変更の組合せで、一対のベルトコン
ベヤ０匂と第１ステーシヨン０＝との間でキャリヤボッ
クス値）の移載をおこなうことができる。
この搬送システムの動作は、上記各構成の説明から明白
であるが、なお若干の説明を補足するとつぎのとおりで
ある。まず、この搬送システム全体の運転は、Ｂ・、；
ｉ示しない制御装置からの指令に基づいて制御されるが
、らｌ制御装置に６けられたスイッチの切換えにより、
一対のベルトコンペ−？ （２０ａ）。
であるが、なお若干の説明を補足するとつぎのとおりで
ある。まず、この搬送システム全体の運転は、Ｂ・、；
ｉ示しない制御装置からの指令に基づいて制御されるが
、らｌ制御装置に６けられたスイッチの切換えにより、
一対のベルトコンペ−？ （２０ａ）。
（２０ｂ） 、およびロボット０６）をそれぞれ単独に
停廿することもできる。今搬送システム全体が正常に運
転されていて、たとえはウェーハを収納したキャリヤボ
ックス別がベルトコンベヤ（２０ａ） ｌ二搭載されて
搬送され、所定の第２ステーシヨン（１５）に到着した
とすると、このキャリヤボックス別ヲ塔載しているベル
トコンベヤ（２０ａ） 、正確には、このベルトコンベ
ヤ（２０ａ）をａ４欣、しているユニットコンベヤーの
１つが停止する。この場合、他のベルトコンベヤ（２０
ｂ）およびベルトコンベヤ（２０ａ）の他のユニットコ
ンベヤ四には、別の第２ステーシヨン＠）に搬送するキ
ャリヤボックス（９）が塔載すｈているので、上記１つ
のユニットコンベヤーが停止しても停止せず搬送な枕け
る。上記のようにキャリヤボックス値）が所定の第２ス
テーシヨン（至）〕に到着してベルトコンベヤ（２０ａ
）か停止すると、Ｃの第２ステーシヨン（１５）に設置
−さ几たロボッ） ００）が動作を開始し、上記キャリ
ヤボックスａ６に対する把持装置へ１の位置を修正した
のち、送りねじ−０（の回転によってアーム１４ａ＋を
下方に移動させ、把持装鰺囮に設けられｆｃ１対の爪で
上１キャリヤボックス侑）を杷持する。把持装匁囮がキ
ャリヤボックス値）を杷持すると、送りねじｉ６１の回
転によりアーム囮は一旦上方に移動する。つぎにこのア
ーム（ト）：を支持するコラム間を回転するととも（二
、辺りねし修正する。そしてさらにアーム殿１を下方に
移動させて、把持装置囮に把持されたキャリヤボックス
ｇＩ＋を第１ステーシヨンに）に載置スる。
停廿することもできる。今搬送システム全体が正常に運
転されていて、たとえはウェーハを収納したキャリヤボ
ックス別がベルトコンベヤ（２０ａ） ｌ二搭載されて
搬送され、所定の第２ステーシヨン（１５）に到着した
とすると、このキャリヤボックス別ヲ塔載しているベル
トコンベヤ（２０ａ） 、正確には、このベルトコンベ
ヤ（２０ａ）をａ４欣、しているユニットコンベヤーの
１つが停止する。この場合、他のベルトコンベヤ（２０
ｂ）およびベルトコンベヤ（２０ａ）の他のユニットコ
ンベヤ四には、別の第２ステーシヨン＠）に搬送するキ
ャリヤボックス（９）が塔載すｈているので、上記１つ
のユニットコンベヤーが停止しても停止せず搬送な枕け
る。上記のようにキャリヤボックス値）が所定の第２ス
テーシヨン（至）〕に到着してベルトコンベヤ（２０ａ
）か停止すると、Ｃの第２ステーシヨン（１５）に設置
−さ几たロボッ） ００）が動作を開始し、上記キャリ
ヤボックスａ６に対する把持装置へ１の位置を修正した
のち、送りねじ−０（の回転によってアーム１４ａ＋を
下方に移動させ、把持装鰺囮に設けられｆｃ１対の爪で
上１キャリヤボックス侑）を杷持する。把持装匁囮がキ
ャリヤボックス値）を杷持すると、送りねじｉ６１の回
転によりアーム囮は一旦上方に移動する。つぎにこのア
ーム（ト）：を支持するコラム間を回転するととも（二
、辺りねし修正する。そしてさらにアーム殿１を下方に
移動させて、把持装置囮に把持されたキャリヤボックス
ｇＩ＋を第１ステーシヨンに）に載置スる。
第１ステーシヨンに）（二装置されているキャリヤボッ
クス別を歓送装置０１３）に移載する方法は、上記動作
の逆であるのでその説明を省略する。
クス別を歓送装置０１３）に移載する方法は、上記動作
の逆であるのでその説明を省略する。
通常、半導体装１ｄのパターンは、前記した各種処理を
繰返しおこなって形成され、１つの処理を終了したウェ
ーハは、キャリヤボックス値）に収納され、この密送シ
ステムによって順次つきの処理室（１０１に搬送される
。
繰返しおこなって形成され、１つの処理を終了したウェ
ーハは、キャリヤボックス値）に収納され、この密送シ
ステムによって順次つきの処理室（１０１に搬送される
。
上記のようにｊ転送システムを４ Ｌ ｌｌ’ｌすると
、搬送装丁１・が上部空間にムクけられているので、下
部空ｊ１１１に設けた場合にくらべて、搬送中のキャリ
ヤボックスに付着するｍ埃の量を軽減することができる
。
、搬送装丁１・が上部空間にムクけられているので、下
部空ｊ１１１に設けた場合にくらべて、搬送中のキャリ
ヤボックスに付着するｍ埃の量を軽減することができる
。
また搬送システムは、塵埃を発生しない４４造の搬送装
置を用いているので、搬送装置から発生する践埃のキャ
リヤボックスへの付Ａ１を防止することができる。
置を用いているので、搬送装置から発生する践埃のキャ
リヤボックスへの付Ａ１を防止することができる。
またこの搬送システムは、搬送装置を一対のベルトコン
ベヤで形成しｆｃので、他の形式の搬送装置にくらべて
、キャリヤボックスの移載が容易である。
ベヤで形成しｆｃので、他の形式の搬送装置にくらべて
、キャリヤボックスの移載が容易である。
第１図ｉｔ畠留度集積回路のパターンを形成するための
クリーンルームのモデル図、１Ｊ４２１ｙ、Ｉｉｊクリ
ーンルーム内に設置されたこの発明の＋ＴＩ込シフシス
テム要を示す平面図、第３図はこの発明の悦・ｊシステ
ムを一部断面で７］クシた正面図、第４ン１目−上記搬
送システムを構成するベルトコンベヤの正面図、第５図
は同じくその側面図である。
クリーンルームのモデル図、１Ｊ４２１ｙ、Ｉｉｊクリ
ーンルーム内に設置されたこの発明の＋ＴＩ込シフシス
テム要を示す平面図、第３図はこの発明の悦・ｊシステ
ムを一部断面で７］クシた正面図、第４ン１目−上記搬
送システムを構成するベルトコンベヤの正面図、第５図
は同じくその側面図である。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 駆動プーリと従動プーリとに装架され上記駆動プーリの
付勢によって上部径路および下部径路を通って無端回転
するベルト、上記上部径路を通るベルトと上記下部径路
を通るベルトとの間に８３２置されて上記上部性格を通
るベルトを上記駆動プーリおよび上記従動グーリ以外の
コンベヤ構成部材から非接触に浮上させる気体を上記上
部径路を通るベルトの下面に吹付ける気体吹出装置、お
よび上記上部径路を通るベルトの両側端部上面に接近し
て設けられた気体吸入孔から上記上部径路を通るベルト
の両側端部をへり如く配設されたダクトを介して上記気
体吹出装置から吹出された気体を吸入して回収する回収
装置を有し、上記上部径路を通るベルトの走行方向を互
に逆にして上部空間に並列設置された一対のベルトコン
ベヤト、このベルトコンベヤの位置よりも低い位置に設
置されて部拐を収納したキャリヤボックスを一時的に載
置する第１ステーションと、 この第１ステーシヨンに対応して上記ベルトコンベヤに
沿って設けられた紀２ステーションにおいて上白己一対
のベルトコンベヤおよび上記第１ステーシヨンを動作範
囲としアームに取付けらハた把持装置により上記ベルト
コンベヤに塔載さ力て上記第２ステーシヨンに到着した
キャリヤボックスを把持して上記第１ステーシヨンに移
載するととも仁上記第１ステーションに載置されたキャ
リヤボックスを把持して上記ベルトコンベヤに移載する
ロボットとを具備することを特徴とする搬送システム。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59084044A JPH062527B2 (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | クリーンルーム用搬送システム |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59084044A JPH062527B2 (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | クリーンルーム用搬送システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60229347A true JPS60229347A (ja) | 1985-11-14 |
| JPH062527B2 JPH062527B2 (ja) | 1994-01-12 |
Family
ID=13819507
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59084044A Expired - Lifetime JPH062527B2 (ja) | 1984-04-27 | 1984-04-27 | クリーンルーム用搬送システム |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH062527B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5100276A (en) * | 1987-08-12 | 1992-03-31 | Hitachi, Ltd. | Production system using wafer-like carrier jig |
| US5164905A (en) * | 1987-08-12 | 1992-11-17 | Hitachi, Ltd. | Production system with order of processing determination |
| US5384531A (en) * | 1991-09-05 | 1995-01-24 | Mitsubishi Electrical Engineering Co. Ltd. | Apparatus for inspecting characteristics of semiconductor chips |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2571046A4 (en) * | 2010-05-13 | 2014-09-24 | Murata Machinery Ltd | TRANSMISSION UNIT |
| EP3064455A4 (en) | 2013-10-28 | 2017-06-21 | Murata Machinery, Ltd. | Conveyor device |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5023195A (ja) * | 1973-06-27 | 1975-03-12 | ||
| JPS5221793A (en) * | 1975-08-13 | 1977-02-18 | Toshiba Corp | Recovery reflection plate and production process |
| JPS5587650A (en) * | 1978-12-26 | 1980-07-02 | Tokyo Shibaura Electric Co | Conveyor |
-
1984
- 1984-04-27 JP JP59084044A patent/JPH062527B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5023195A (ja) * | 1973-06-27 | 1975-03-12 | ||
| JPS5221793A (en) * | 1975-08-13 | 1977-02-18 | Toshiba Corp | Recovery reflection plate and production process |
| JPS5587650A (en) * | 1978-12-26 | 1980-07-02 | Tokyo Shibaura Electric Co | Conveyor |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5100276A (en) * | 1987-08-12 | 1992-03-31 | Hitachi, Ltd. | Production system using wafer-like carrier jig |
| US5164905A (en) * | 1987-08-12 | 1992-11-17 | Hitachi, Ltd. | Production system with order of processing determination |
| US5384531A (en) * | 1991-09-05 | 1995-01-24 | Mitsubishi Electrical Engineering Co. Ltd. | Apparatus for inspecting characteristics of semiconductor chips |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH062527B2 (ja) | 1994-01-12 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5113992A (en) | Vertical wafer carrying apparatus | |
| KR970003907B1 (ko) | 기판처리 장치 및 기판처리 방법 | |
| KR100350719B1 (ko) | 반도체 제조에 사용되는 이송 장치 | |
| JP2002118051A (ja) | 塗布装置及び塗布方法 | |
| JPH02153546A (ja) | 半導体の無塵化製造装置 | |
| KR20090031255A (ko) | 기판의 처리 장치 | |
| WO2003105216A1 (ja) | 容器搬送システム | |
| JPS61123150A (ja) | 製造装置 | |
| CN100446214C (zh) | 基板处理装置 | |
| JPS60229347A (ja) | クリーンルーム用搬送システム | |
| JP2003192127A (ja) | フラットパネル枚葉搬送システム | |
| JP3393858B2 (ja) | 搬送システム | |
| JP3514312B2 (ja) | ウェハ搬送装置 | |
| JPH04233747A (ja) | キャリアストッカ | |
| JPH02196414A (ja) | レジスト処理装置 | |
| JPS60204511A (ja) | ベルトコンベヤ | |
| JPH04118913A (ja) | 半導体製造装置 | |
| JP3251566B2 (ja) | ストッカ搬送システム | |
| JP3852694B2 (ja) | 加工物受け渡し装置 | |
| JPS60206017A (ja) | 清浄搬送システム | |
| JPH11224894A (ja) | 半導体デバイスの製造装置 | |
| JPH05226457A (ja) | 搬送装置 | |
| KR20220144046A (ko) | 기판 이송 장치 및 기판 이송 방법 | |
| JPS62150735A (ja) | ウエハ搬送装置 | |
| JP4060496B2 (ja) | クリーン搬送車 |