JPS60228475A - 新規1,3−ジオキサン類およびその製法 - Google Patents

新規1,3−ジオキサン類およびその製法

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JPS60228475A
JPS60228475A JP59087397A JP8739784A JPS60228475A JP S60228475 A JPS60228475 A JP S60228475A JP 59087397 A JP59087397 A JP 59087397A JP 8739784 A JP8739784 A JP 8739784A JP S60228475 A JPS60228475 A JP S60228475A
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naphthyl
dioxane
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Kimiya Masaoka
仁也 正岡
Kazushi Yukimura
一志 幸村
Fujihito Nemoto
藤人 根本
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Neos Co Ltd
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Neos Co Ltd
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  • Catalysts (AREA)
  • Sealing Material Composition (AREA)
  • Lubricants (AREA)
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は新規な1.3−ジオキサン類およびその製造法
に関する。
本発明化合物は熱的に極めて安定であり、しかも高い誘
電率を有するため、コンデンサーの絶縁紙用含浸剤とし
て用い、コンデンサーを小型化することが可能となる。
まだ、高沸点であるだめ、各種熱媒体、潤滑油、シーリ
ング剤、電気絶縁油等として有用である。
従来技術 本発明は新規化合物であり、この種の化合物を熱媒体、
電気絶縁油、コンデンサー等に使用する試みはなされて
いない。
一方、近年電力需要の増大に伴ない、電送機器か大型化
する傾向かあり、これを小型化するだめの検討かなされ
ている。例えばコンデンサー用絶縁紙用含浸剤として誘
導率の高い油が種々提案されているが、より誘電率が高
くかつ耐熱性に優れたものの開発が嘱望されている。
発明の目的 本発明は耐熱性に優れかつ高い誘電率を有する新規1,
3−ジオキサン類、2−ナフチル(まだはテトラヒドロ
ナフチル)−4−イソプロピル−5゜5−ジメチル−1
,3−ジオキサンならびにその2−アルキル置換体およ
びその製法を提供するととを目的とする。
発明の構成 本発明は一般式: 〔式中、Xはナフチル基まだはテトラヒドロナフチル基
、kは水素まだはアルキル基を示す〕で示される1、3
−ジオキサン類およびその製造法に関する。
本発明において、高い誘電率を得るだめには、Xはナフ
チル基またはテトラヒドロナフチル基であるのが好まし
く、kは水素またはアルキル基であるのが望ましい。R
がメチルからn−プロピルのものは融点が比較的低く、
常温で液体であるので、潤滑油、シーリング剤、電気絶
縁油等として有用である。
本発明化合物は2,2.4−)リフチル−1,3−ベン
タンジオールを原料とし、これにナツト(まだはテトラ
ヒドロナフト)アルデヒド又はナフチル(マタはテトラ
ヒドロナフチル)アルキルケトンを加え通常用いられる
エステル化触媒の存在下に脱水反応させることにより容
易に得ることができる。
本発明に用いるナツト(またはテトラビトロナフト)ア
ルデヒドおよびナフチル(またはテトラヒドロ)アルキ
ルケトンはα−1β−または両者の混合物いずれであっ
てもよい。
α−ナツトアルデヒドは1−ブロムナフタリンのグリニ
ヤール化合物を正ギ酸エチルと反応させる方法、β−ナ
ツトアルデヒドは2−ナフトニトリルを塩化錫(n)で
還元する等の方法で得ることができる。
テトラヒドロ−α−ナツトアルデヒドは相当するメチロ
ール基やメチル基を酸化することによシ得ることができ
る。またテトラヒドロ−β−ナフトアルデヒドは相当す
る塩化ナフトイルの接触還元等の方法で得ることができ
る。
アルキルナフチルケトンはフリーデルタラフト反応で得
ることができる。この方法では工業的にはα型とβ型と
の混合物が得られるが、コンデンサー絶縁紙用含浸剤、
絶縁油、熱媒体等にはこれをそのまま用いてもよい。比
較的純粋なα型アセチルナフタレンを得るにはBadd
eley法(J、Chem。
Soc、1949 (Suppl、l5sue No、
I)899〜103)等により得てもよい。α型とβ型
を特に精製する必要があるときは公知の適当な分離手段
、例えば、ピクリン酸でピクラートとして、α型のピク
ラートはエタノールに難溶性、β型のピクラートはエタ
ノールに易溶性である性質を利用する方法等を用いて分
離すればよい。
テトラヒドロナフチルケトン類もフリーデルクラフト反
応により容易に得られる。例えば2−アセチルテトラヒ
ドロナフタレンはテトラリンと塩化アセチルを塩化アル
ミニウムの存在下に反応させる。
原料となる2、 2.4−トリメチル−1,3−ベンタ
ンジオールは、立体構造的にろて二つの水酸基が環状ア
セタールを形成するのに適した位置にあり、本発明化合
物を高収率で得ることができ、かつ、この構造上の特徴
から生成した環状アセタールは特徴的なヒンダード構造
を六員環にもたらすため、安定な化合物が得られる。
2、2.4−トリメチル−1,3−ベンタンジオールと
、一般式: %式% 〔式中、Xはナフチル基まだはテトラヒドロナフチル基
、kは水素またはアルキル基を示す〕で表わされるカル
ボニル化合物(ナツト(またはテトラヒドロナフト)ア
ルデヒドまたはアルキlレナフチル(またはテトラヒド
ロナフチル)ケトン)との脱水反応は、両者はぼ当量用
い適当な共沸脱水用の溶剤、例えはベンゼン等の芳香族
溶剤を用いて通常のエステル化触媒、例えばp−トtレ
ニンスルホン酸の存在下に加熱条件で反応させ、生成水
を糸外に取り出すことによって行なうのが好ましい。芳
香族系溶剤を用いて行うときは還流条件、例えばベンゼ
ンの場合は80°C以上で行なうのが好ましく、高収率
で目的化合物を得ることが出来る。
この脱水反応は、無溶媒でも実施できるが芳香族溶剤を
用いた共沸脱水反応は反応条件が穏和でコントロールが
容易であり、しかも収率が極めて、高いため、工業的生
産性に非常に優れている。
発明の効果 本発明化合物は熱的に極めて安定であるため、各種潤滑
油、熱媒体、シーリング剤、電気絶縁油等として特に有
用である他、高い誘電率を有するためコンデンサーの絶
縁紙用含浸剤として用い、コンデンサーを小型化するこ
とができる。
次に本発明の実施例について具体的に説明するが、本発
明がかかる説明によって限定されるものではない。
実施例I 2、.2.4−)リッチ/l/−1,3−ベンタンジオ
ール1.4g(0,027モル)に市販の試薬特級α−
アセチルナフタレン4.6f(0,021モlし)、P
−トノレニンスルホン酸30■オヨヒヘンゼン30.n
lをディーンスタークの蒸溜器を付した攪拌器付きのフ
ラスコに仕込み、生成する水を共沸により糸外に除去し
ながら還流温度で、数時間攪拌した。
反応終了後、水洗、乾燥後、溶媒を蒸留し生成物を得た
。次いで分別、蒸留にかけ117°C10,15πmH
9の面分を採った。該面分を以下の条件のガスクロマド
クラフィーにかけ、単一ピークを示すことを確言忍した
ガスクロマトグラフィー条件 検出器: FID カラム(ステンレス製):長さ1m、充填材E−3Q キャリアーガス二N2 インジェクション温度:280°C 展開温度=230°C チャート送シ速度=10朋/ m i n得られた生成
物の物理的特性を表−1に示す。
実施例2 α−アセチルナフタレンの代わりに、試薬特級β−アセ
チルナフタレン4.6g(0,027モル)を用いる以
外、実施例1と同様にして生成物を得た。
得られた生成物のガスクロマトグラム(実施例1と同じ
条件)は単一ピークを示した。生成物の物理的諸性質を
表−1に示す。
実施例3 とBの混合物)の合成 ナフタレン180y(1,4モル)、塩化アルミニウム
190gC1,43モ/I/)および塩化アセチ/VJ
、 10 fl (1,43モ/l/)を二硫化炭素と
共に還流温度(浴温70°C)で加熱し、生成物を12
1〜125”C(0,2朋Hy)で減圧蒸溜し、溜升1
86゜4gを得た。
一惑一 α−アセチルナフタレンに代えて、上で得たアセチルナ
フタレン(α−5β−混合物) 120 f (0゜7
モル)、2.2.4−トリメチル−1,3−ベンタンジ
オールを102g(0,7モ/I/)、P−)ルエンヌ
ルホン酸780〜およびベンゼン780−を用いる以外
は実施例1と同様にして、生成物を得た。得られた生成
物を分溜し、130°C/ 0.2 rtttnHgの
溜升を得た。この溜升は、そのガスクロマトグラム(実
施例1と同じ条件)から、化合物Aと化合物Bとの異性
体の混合物であることを確認した。生成物の物理的性質
を表−1に示す。
実施例4 物C)の合成 α−アセチルナフタレンに代えて、試薬特級α−プロピ
オニルナフタレン5M0.027モ/I/)ヲ用いる以
外、実施例1と同様にして生成物を得た。得られた生成
物の86〜90°C/ 0.1 m*H!iI溜分のガ
ス溜升マトグラム(実施例1と同じ条件)は単一ピーク
を示した。生成物の物理的諸性質を表−1に示す。
実施例5 物D)の合成 α−アセチルナフタレンに代えて、試薬特級β−プロピ
オニルナフタレン20g(0,11モル)、および2.
2.4−トリメチル−1,3−ベンタンジオールを16
f(0,11モル)、P−トルエンスルホン酸120W
gおよびベンゼン120./を用いる以外、実施例1と
同様に行ない生成物を得た。
得られた生成物の119〜125°C10,09朋Hg
の溜升を採り、該溜升をガスクロマトグラフィー(実施
例1と同じ条件)にかけたところ単一ピークを示した。
生成物の物理的性質を表−1に示す。
実施例6 2−ナフチル−2−エチ)v−4−イソプロピル−ナフ
タレン180FI(1,4モル)、塩化アルミニウム2
201i+(1,65モル)および塩化フロヒオニ/L
/130g(1,4モル)を用い実施例3と同様にして
フリーデルクラフッ反応を行ない、プロピオニルナフタ
レン230fを得た。
α−アセチルナフタレンに代えて、上で得たプロピオニ
ルナフタレン(α−1β−a合物) 1309(0,7
モル)を用いる以外は実施例3と同様にして、生成物を
得た。得られた生成物の132〜135’C/ 0.1
5 yttmH9溜分を採り溜升の溜升のガスクロマト
グラム(実施例1と同じ条件)から、この溜升は化合物
CとDとの混合物であることを確認した。生成物の物理
的性質を表−1に示す。
実施例7 α−アセチルナフタレンに代えて、フリーゾルタラフッ
反応によって合成したn−ブチリルナフタレン1001
0.5モル)、と2.2.4−)リメチルー1.3−ペ
ンタンジオ−ルア3gを実施例1に準じて反応させ得ら
れた生成物の132〜137°C10,12tttmH
fの溜升を採取した。その溜升のガスクロマトグラム(
実施例1と同条件)から、化合物Eはα型とβ型の異性
体混合物であることを確認した。生成物の物理的性質を
表−1に示す。
実施例8 F)の合成 n−ブチリルナフタレンに代えて、試薬特級Is□−ブ
チリルナフタレン559(0,28モル)と2.2゜4
−トリメチル−1,3−ベンタンジオール41g(0,
28モル)を実施例7に準じて反応させた。反応生成物
を分別蒸溜にかけ、130〜142°C10,2朋Hp
の溜升を採取した。この溜升の物理的性質を表−1に示
す。
実施例9 α−アセチルナフタレンに代えて、β−ナツトアルデヒ
ド 109f(0,7モル)を用いる以外、実施例3と
同様に行ない、生成物を得、その152°C/ 0.3
 tttxHg溜升を採取した。溜升の物理的性質を表
−1に示す。
実施例10 α−アセチルナフタレンに代えて、フリーデルクラフッ
反応によって合成したアセチルテトラリン69.4g(
0,4モ)v )、および2,2.4−)リメチルー1
.3−ペンタンジオ−/1158.5 g (0,4モ
/I/)を実施例1に準じて反応させ、反応生成物を得
た。得られた生成物の130°C/ 0.1 **I4
 gの溜升を採取した。
この溜升の物理的性質を表−1に示す。
【図面の簡単な説明】
第1図から第10図は本発明化合物のNMRチャートを
示す。 手続補正書動式) 1.事件の表示 昭和59年特許願第 87397 号 2発明の名称 新規1,3−ジオキサン類およびその製法3、補正をす
る者 事件との関係 特許出願人 住所 兵庫県神戸市中央区加納町6丁目2番1号4、代
理人

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式: 〔式中、Xはナフチル基またはテトラヒドロナフチル基
    、Rは水素またはアルキル基を示す〕で示される1、3
    −ジオキサン類。 2、Rが水素または炭素数1〜3のアルキル基である第
    1項記載の1.3−ジオキサン類。 3、一般式: %式%[ 〔式中、Xはナフチル基またはテトラヒドロナフチル基
    、kは水素またはアルキル基を示す〕で示されるカルボ
    ニル化合物と2.2.4−トリメチル−1,3−ベンタ
    ンジオールを反応させることを特徴とする、一般式: 〔式中、Xおよびkは前記と同意義〕で示される1、3
    −ジオキサン類の製造法。 4、Rが水素または炭素数1〜3のアルキル基である第
    3項記載の製造法。 5、カルボニル化合物と2.2.4−)リメチルペンタ
    ンジオールとの反応をエステル化触媒を用い、有機溶剤
    の存在下に共沸脱水しながら行なう第3項記載の製造法
JP59087397A 1984-04-27 1984-04-27 新規1,3−ジオキサン類およびその製法 Granted JPS60228475A (ja)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002069472A (ja) * 2000-06-15 2002-03-08 Fuji Photo Film Co Ltd 潤滑剤組成物

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5987394A (ja) * 1982-11-11 1984-05-19 三菱原子力工業株式会社 原子炉容器内オ−バフロ−構造

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JP2002069472A (ja) * 2000-06-15 2002-03-08 Fuji Photo Film Co Ltd 潤滑剤組成物
JP4548761B2 (ja) * 2000-06-15 2010-09-22 富士フイルムホールディングス株式会社 潤滑剤組成物

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