JPS5896084A - 2−フエニル−4−イソプロピル−5,5−ジメチル−1,3−ジオキサンおよびその2−メチル置換体およびその製法 - Google Patents
2−フエニル−4−イソプロピル−5,5−ジメチル−1,3−ジオキサンおよびその2−メチル置換体およびその製法Info
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- JPS5896084A JPS5896084A JP19322781A JP19322781A JPS5896084A JP S5896084 A JPS5896084 A JP S5896084A JP 19322781 A JP19322781 A JP 19322781A JP 19322781 A JP19322781 A JP 19322781A JP S5896084 A JPS5896084 A JP S5896084A
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- Lubricants (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は以下の一般式で示される2−フェニル−4−イ
ソプロピル−5,5−ジメチル−1,3−ジオキサンお
よび2−メチル−2−フェニル−4−イソプロピル−5
,5−ジメチル−1,3−ジオキサンおよびその製造法
に関する。
ソプロピル−5,5−ジメチル−1,3−ジオキサンお
よび2−メチル−2−フェニル−4−イソプロピル−5
,5−ジメチル−1,3−ジオキサンおよびその製造法
に関する。
」1記、本発明化合物は、一般式:
〔式中、kは水素またはメチツムを表わす〕で示される
新規化合物であり、凝固、壱が低く、沸点が高く、広い
温度範囲で高い流動性(低粘性)を保持l−得る安定な
液状物質であり、かつ、水に不溶性で、比重がほぼ1で
あるので、安定なエマ(3) に高速記録インキジェット等の特殊インキ用添加剤、反
応溶媒1分散系の溶媒、潤?′1)油、作動油、その他
の機能館5体用ベース、合成中間体等種々の分野に使用
できる。
新規化合物であり、凝固、壱が低く、沸点が高く、広い
温度範囲で高い流動性(低粘性)を保持l−得る安定な
液状物質であり、かつ、水に不溶性で、比重がほぼ1で
あるので、安定なエマ(3) に高速記録インキジェット等の特殊インキ用添加剤、反
応溶媒1分散系の溶媒、潤?′1)油、作動油、その他
の機能館5体用ベース、合成中間体等種々の分野に使用
できる。
本発明化合物は2,2.4−)ジメチル−1,3−ベン
タンジオールを原料とし、これにベンズアルデヒド壕タ
ハアセトフエノンを加え、通常用いられるエステル化角
11シ媒の存在下に脱水反応させることにより容易に仕
ることができる。
タンジオールを原料とし、これにベンズアルデヒド壕タ
ハアセトフエノンを加え、通常用いられるエステル化角
11シ媒の存在下に脱水反応させることにより容易に仕
ることができる。
原料となる2、2.41リメチル−1,8−ベンタンジ
オールは、立体構造的にシで二つの水酸基が環状カーボ
ネートを形成するのに適した位置にあり、本発明化合物
を高収率で得ることができ、かつ、この構造上の特徴か
ら生成した環状カーボネートは特徴的なヒンダード構造
を六員環にもたらずため、安定な化合物が得られるもの
と考えられる。
オールは、立体構造的にシで二つの水酸基が環状カーボ
ネートを形成するのに適した位置にあり、本発明化合物
を高収率で得ることができ、かつ、この構造上の特徴か
ら生成した環状カーボネートは特徴的なヒンダード構造
を六員環にもたらずため、安定な化合物が得られるもの
と考えられる。
2.2,4.−)ジメチル−1,3−ベンタンジオール
とベンズアルデヒド育たはアセトフェノンとの脱(4) 水反応は、両者はぼ当i用い、適当な共%li脱水脱水
浴剤、例えばベンセン等の芳香族溶剤を用いて通常のエ
ステル化触媒、例えばp−)ルエンスルホン酸の存在下
に加熱条件で反応させ、生成水を系外に取り出すことに
よって行なうのが好捷しい。
とベンズアルデヒド育たはアセトフェノンとの脱(4) 水反応は、両者はぼ当i用い、適当な共%li脱水脱水
浴剤、例えばベンセン等の芳香族溶剤を用いて通常のエ
ステル化触媒、例えばp−)ルエンスルホン酸の存在下
に加熱条件で反応させ、生成水を系外に取り出すことに
よって行なうのが好捷しい。
芳香族系溶剤を用いて行なうときは還流条件、例えばベ
ンセンの場合は80℃以上で行なうのが好ましく、反応
時間1〜2時間で約90%以上の収率で目的化合物を得
ることができる。
ンセンの場合は80℃以上で行なうのが好ましく、反応
時間1〜2時間で約90%以上の収率で目的化合物を得
ることができる。
この脱水反応は、無溶媒で実施できるが芳香族溶剤を用
いた共沸脱水反応は反応条件が穏和でコントロールが容
易であシ、しかも収率が極めて亮いため工業的に生産性
に非常に優れている。
いた共沸脱水反応は反応条件が穏和でコントロールが容
易であシ、しかも収率が極めて亮いため工業的に生産性
に非常に優れている。
本発明化合物の物理的緒特性を表−1に示す。
表−1
(1)レファランス:TMS、溶剤:CC)14、濃度
20% 以下実施例をあげて本発明を説明する 実施例1 2.2.4−)リフチル−1,3−ベンタンジオール2
.0モル(2924g)にベンズアルデヒド2.0モル
(212,8Fl、p−)ルエンスルホン酸5gおよび
ベンゼン600 mlをディーン・スタークの蒸溜器を
付した攪拌機付きフラスコに仕込み、生成する水を共沸
により糸外に除きながら100℃で2時間攪拌した。生
成物を重伏酸ソーダ3裂水溶液11に加え中和後、水洗
を繰返しfCT&、ベンゼン相を分離採取し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。ベンゼン層を蒸溜し、Q、 8m
jTノHgマー103〜106℃の溜升430g(収率
92%)を得た。
20% 以下実施例をあげて本発明を説明する 実施例1 2.2.4−)リフチル−1,3−ベンタンジオール2
.0モル(2924g)にベンズアルデヒド2.0モル
(212,8Fl、p−)ルエンスルホン酸5gおよび
ベンゼン600 mlをディーン・スタークの蒸溜器を
付した攪拌機付きフラスコに仕込み、生成する水を共沸
により糸外に除きながら100℃で2時間攪拌した。生
成物を重伏酸ソーダ3裂水溶液11に加え中和後、水洗
を繰返しfCT&、ベンゼン相を分離採取し、硫酸マグ
ネシウムで乾燥した。ベンゼン層を蒸溜し、Q、 8m
jTノHgマー103〜106℃の溜升430g(収率
92%)を得た。
生盾物の物理特性を表−1に示す。
生成物を以下の条件でガスクロマトグラフィーにかけた
ところ第3図に示すごとき単一のピークを示した。
ところ第3図に示すごとき単一のピークを示した。
ガスクロマトグラフィー条件
検出器 :FID
カラム(ステンレス製):長す1m
充填材 5E−30
キャリヤーガス:賢素ガス0.8kg/cm2インジェ
クション’lFn度: 210℃展展開度
= 160℃ チャート送り速度 : 5myrノ/分実施、例2 2.2.4−)リフチル−1,3−ベンタンジオール(
7) 2.0モル(292,4g)にアセトフェノン2,0モ
ル(240,Of+ 、 p−トルエンスルホン酸5
gおよびベンゼン600−を実施例1と同様にして反応
精製し、2−メチル−2−フェニル−4−イソプロピル
−5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン4.469(
収率90%)を得た。但し、溜升は0゜45 mT、Q
Hgで82〜84℃を採取した。
クション’lFn度: 210℃展展開度
= 160℃ チャート送り速度 : 5myrノ/分実施、例2 2.2.4−)リフチル−1,3−ベンタンジオール(
7) 2.0モル(292,4g)にアセトフェノン2,0モ
ル(240,Of+ 、 p−トルエンスルホン酸5
gおよびベンゼン600−を実施例1と同様にして反応
精製し、2−メチル−2−フェニル−4−イソプロピル
−5,5−ジメチル−1,3−ジオキサン4.469(
収率90%)を得た。但し、溜升は0゜45 mT、Q
Hgで82〜84℃を採取した。
生成物のガスクロマトグラムを第6図に示す。
ガスクロマトグラフィーの測定条件は実施例】と同じで
ある。生成物の物理特性は表−1に示す。
ある。生成物の物理特性は表−1に示す。
第1図は2−フェニル−4−イソプロピル−5゜5−ジ
メチル−1,8−ジオキサンのIRチャート、第2図は
同NMRチャート、第3図に同ガスクロマトグラム、第
4図は2−メチル−2−フェニル−4−イソプロピル−
5,5−ジメチル−1,3−ジオキサンのIRチャー1
・、゛第5図は同NMI?−チャート、第6図は同ガス
クロマトグラムを示す。
メチル−1,8−ジオキサンのIRチャート、第2図は
同NMRチャート、第3図に同ガスクロマトグラム、第
4図は2−メチル−2−フェニル−4−イソプロピル−
5,5−ジメチル−1,3−ジオキサンのIRチャー1
・、゛第5図は同NMI?−チャート、第6図は同ガス
クロマトグラムを示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式: %式% 〔式中、kは水素tXはメチル基を示す〕で示される化
合物。 2、 2,2.41リメチル−1,3−ベンタンジオー
ルとベンズアルデヒドまタハアセトフェノンを反応させ
ることを特徴とする一般式: 〔式中、kは水素またはメチル基を表わす〕で示される
化合物の製造方法。 8、 2,2.4−)ジメチル−1,8−ベンタンジオ
ールとベンズアルデヒドまたはアセトフェノンの反応を
有機溶剤の存在下に共沸脱水させる第2項記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19322781A JPS5896084A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 2−フエニル−4−イソプロピル−5,5−ジメチル−1,3−ジオキサンおよびその2−メチル置換体およびその製法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19322781A JPS5896084A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 2−フエニル−4−イソプロピル−5,5−ジメチル−1,3−ジオキサンおよびその2−メチル置換体およびその製法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5896084A true JPS5896084A (ja) | 1983-06-07 |
Family
ID=16304429
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19322781A Pending JPS5896084A (ja) | 1981-11-30 | 1981-11-30 | 2−フエニル−4−イソプロピル−5,5−ジメチル−1,3−ジオキサンおよびその2−メチル置換体およびその製法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5896084A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS624280A (ja) * | 1985-07-01 | 1987-01-10 | Neos Co Ltd | 環状アセタ−ル |
| JPS624281A (ja) * | 1985-07-01 | 1987-01-10 | Neos Co Ltd | 環状アセタ−ルの製造法 |
-
1981
- 1981-11-30 JP JP19322781A patent/JPS5896084A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS624280A (ja) * | 1985-07-01 | 1987-01-10 | Neos Co Ltd | 環状アセタ−ル |
| JPS624281A (ja) * | 1985-07-01 | 1987-01-10 | Neos Co Ltd | 環状アセタ−ルの製造法 |
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