JPS60222487A - ペネム誘導体 - Google Patents
ペネム誘導体Info
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- JPS60222487A JPS60222487A JP59078007A JP7800784A JPS60222487A JP S60222487 A JPS60222487 A JP S60222487A JP 59078007 A JP59078007 A JP 59078007A JP 7800784 A JP7800784 A JP 7800784A JP S60222487 A JPS60222487 A JP S60222487A
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- compound
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はペネム誘導体に関するものである。
ペニシリン、セフ、oスポリン系抗生物質は広く医療に
用いられているが、耐性菌の出現もあって抗菌スペクト
ルの点で必ずしも満足度は111702号)等のカルバ
ペネム系抗生物質が天然より発見され1強い抗菌作用を
持つことが報告されている。更にチェナマイシンと類似
の骨格を持つペネム化合物が全合成または6−アミノペ
ニシラン酸からの誘導により得られている。しかしこれ
らのカルバペネム、ペネム化合物は物理化学的な不安定
性、デヒドロペプチダーゼ等により酵素分解を受けやす
い事およびその他にも医薬として不満足な点が多く、現
在まで市販されるに至っていない。
用いられているが、耐性菌の出現もあって抗菌スペクト
ルの点で必ずしも満足度は111702号)等のカルバ
ペネム系抗生物質が天然より発見され1強い抗菌作用を
持つことが報告されている。更にチェナマイシンと類似
の骨格を持つペネム化合物が全合成または6−アミノペ
ニシラン酸からの誘導により得られている。しかしこれ
らのカルバペネム、ペネム化合物は物理化学的な不安定
性、デヒドロペプチダーゼ等により酵素分解を受けやす
い事およびその他にも医薬として不満足な点が多く、現
在まで市販されるに至っていない。
本研究者らは鋭意研究を重ねた結果、前記一般式(1)
を有する新規化合物はダラム陽性菌、緑膿菌を含むグラ
ム陰性菌更に好気性菌のみならず嫌気性菌にも強力な抗
菌活性を有し、しかも物理化学的にも生物化学的にも安
定な化合物であり、更に安全性も優れており、抗菌薬と
して有用である事を見出し本発明を完成した。
を有する新規化合物はダラム陽性菌、緑膿菌を含むグラ
ム陰性菌更に好気性菌のみならず嫌気性菌にも強力な抗
菌活性を有し、しかも物理化学的にも生物化学的にも安
定な化合物であり、更に安全性も優れており、抗菌薬と
して有用である事を見出し本発明を完成した。
すなわち1本発明は、一般式(1)
〔式中、R1は水素原子またはヒドロキシ低級アルキル
基を意味する。R2は (式中、 Q+は単結合または直鎖もしくは分校鎖状の
低級アルキレン基を意味し7mは3,4゜5または6を
、nは1,2.3または4を意味する。Rt、Rsおよ
びトは同一または異って水素原子または低級アルキル基
を意味する。)で表わされる脂環状グアニジン置換基を
意味する。
基を意味する。R2は (式中、 Q+は単結合または直鎖もしくは分校鎖状の
低級アルキレン基を意味し7mは3,4゜5または6を
、nは1,2.3または4を意味する。Rt、Rsおよ
びトは同一または異って水素原子または低級アルキル基
を意味する。)で表わされる脂環状グアニジン置換基を
意味する。
R3は水素原子またはエステル残基を表わす。〕を有す
るペネム誘導体およびそれらの薬理学的に許容される塩
に関するものである。
るペネム誘導体およびそれらの薬理学的に許容される塩
に関するものである。
本明細書において「低級」なる語は炭素数1〜6個を有
することを意味する。低級アルキル基としては直鎖また
は分校状の炭素鎖を意味し例えばメチル基、エチル基、
n−プロピル基。
することを意味する。低級アルキル基としては直鎖また
は分校状の炭素鎖を意味し例えばメチル基、エチル基、
n−プロピル基。
イソプロピル基、rL−ブチル基、イソブチル基などが
挙げられる。また直鎖の低級アルキレン基としてはメチ
レン基、エチレン基、n−プロピレン基などが挙げられ
1分校状の低級アルキレン基としてはメチルメチレン基
、エチルメチレン基、ジメチルメチレン基、メチルエチ
レン基、メチルプロピレン基などが挙げられる。
挙げられる。また直鎖の低級アルキレン基としてはメチ
レン基、エチレン基、n−プロピレン基などが挙げられ
1分校状の低級アルキレン基としてはメチルメチレン基
、エチルメチレン基、ジメチルメチレン基、メチルエチ
レン基、メチルプロピレン基などが挙げられる。
前記一般式(1)において、好適なR1,R2および亀
としては次のようなものがある。
としては次のようなものがある。
R1としては水素原子または水酸基を有することもある
メチル基、エチル基、ループロピル基。
メチル基、エチル基、ループロピル基。
イソプロピル基、ルーブチル基等の低級アルキル基があ
る。
る。
職としては1−力ルバミミドイルビロリジン(1−ca
rbamimWoylpyrrolidine )基、
1−力ルバミミドイルピペリジン基、1−力ルバミミド
イルアゼチジン基、2−アミノ−2−イミダシリン基等
の脂環状グアニジン置換基などが、またこれらの脂環状
グアニジン置換基を有するメチル、エチル、tL−プロ
ピル、イソプロピル、rL−ブチル基等の直鎖状低級ア
ルキル基またはメチルメチレン、メチルエチレン基の如
く分枝鎖状低級アルキル基が挙げられ、更に上記の脂環
状グアニジン置換基の窒素原子N、 N、 N’にメチ
ル。
rbamimWoylpyrrolidine )基、
1−力ルバミミドイルピペリジン基、1−力ルバミミド
イルアゼチジン基、2−アミノ−2−イミダシリン基等
の脂環状グアニジン置換基などが、またこれらの脂環状
グアニジン置換基を有するメチル、エチル、tL−プロ
ピル、イソプロピル、rL−ブチル基等の直鎖状低級ア
ルキル基またはメチルメチレン、メチルエチレン基の如
く分枝鎖状低級アルキル基が挙げられ、更に上記の脂環
状グアニジン置換基の窒素原子N、 N、 N’にメチ
ル。
エチル、n−プロピル、イソプロピル等の低級アルキル
基を有する低級アルキル置換脂環状グアニジン置換基等
が挙げられ、塩基性ラジカルが好ましい。
基を有する低級アルキル置換脂環状グアニジン置換基等
が挙げられ、塩基性ラジカルが好ましい。
なお1本発明において&に不斉炭素原子が存在する場合
、立体異性体が生ずる。例えば、不斉炭素原子が1個の
場合、2個の立体異性体が生ずるので、一方を「異性体
J、他方を1異性体B」と便宜上記述した。
、立体異性体が生ずる。例えば、不斉炭素原子が1個の
場合、2個の立体異性体が生ずるので、一方を「異性体
J、他方を1異性体B」と便宜上記述した。
mとしては水素原子またはメヂル、エチル。
イソブチル、第三級ブチル等の炭素数1乃至4個を有す
る直鎖状若しくは分枝鎖状低級アルキル基、メトキシメ
チル、メトキシエチル等の低級アルコキシ低級アルキル
基、ピバロイルオキシメチル基のような低級脂肪族アシ
ルオキシメチル基、フタリジル基または本発明化合物の
合成に際してカルボキシル基の保護基を兼ね、緩和な条
件下に容易に脱離出来るエステル残基として2例えば0
−ニトロベンジル、p−ニトロベンジル、ベンズヒドリ
ル等のアラルキル基またはアリル基、トリメチルシリル
基等が挙げられる。
る直鎖状若しくは分枝鎖状低級アルキル基、メトキシメ
チル、メトキシエチル等の低級アルコキシ低級アルキル
基、ピバロイルオキシメチル基のような低級脂肪族アシ
ルオキシメチル基、フタリジル基または本発明化合物の
合成に際してカルボキシル基の保護基を兼ね、緩和な条
件下に容易に脱離出来るエステル残基として2例えば0
−ニトロベンジル、p−ニトロベンジル、ベンズヒドリ
ル等のアラルキル基またはアリル基、トリメチルシリル
基等が挙げられる。
一般式(1)において、5位炭素原子の立体配位は天然
のペニシリンに対応するR配位が好適であり、また好適
なR1として水素原子および1−ヒドロキシエチル基が
挙げられる。特に好適な例としては1−ヒドロキシエチ
ル基の結合する6位炭素原子の立体配位がS配位であり
、ヒドロキシ基の置換する8位炭素原子の立体配位はR
配位のものが挙げられる。
のペニシリンに対応するR配位が好適であり、また好適
なR1として水素原子および1−ヒドロキシエチル基が
挙げられる。特に好適な例としては1−ヒドロキシエチ
ル基の結合する6位炭素原子の立体配位がS配位であり
、ヒドロキシ基の置換する8位炭素原子の立体配位はR
配位のものが挙げられる。
更に詳しく態様を示せば、好適な職として1−カルバミ
ミドイルピロリジンー8−イル基(A)。
ミドイルピロリジンー8−イル基(A)。
1−(N−メチル力ルバミミドイル)ピロリジン−8−
イル基(B)、 1−カルバミミドイルピロリジンー8
−イルメチル基(CL 2−アミノ−2−イミダシリン
−4−イルメチル基(D)(A) (B) CC> (
r)> が挙げられる。また。
イル基(B)、 1−カルバミミドイルピロリジンー8
−イルメチル基(CL 2−アミノ−2−イミダシリン
−4−イルメチル基(D)(A) (B) CC> (
r)> が挙げられる。また。
(E) CF’) (生)
のような基を例示することもできる。
好適な比としては水素原子であり9代謝されうるエステ
ル残基の好ましい例としてはピバpイルオキシメチル基
、フタリジル基が挙げられ。
ル残基の好ましい例としてはピバpイルオキシメチル基
、フタリジル基が挙げられ。
一般式(1)の化合物合成に際し、カルボキシル基の保
護基としての好適なエステル残基はp−ニトロベンジル
基、アリル基等が挙げられる。
護基としての好適なエステル残基はp−ニトロベンジル
基、アリル基等が挙げられる。
なお9本発明化合物および中間体のあるものは互変異性
体の構造をとることも考えられるが。
体の構造をとることも考えられるが。
本明細書では一種類の構造式で表わすこととし。
これは限定を意味するものではない。
前記した薬理学的に許容される塩は、カルボン酸の無毒
性塩1例えば、ナトリウム、カリウム、アルミニウム、
マグネシウム等の金属塩。
性塩1例えば、ナトリウム、カリウム、アルミニウム、
マグネシウム等の金属塩。
アンモニウム塩およびトリエチルアミン、プロ力イン、
ジベンジルアミンおよびペニシリン類。
ジベンジルアミンおよびペニシリン類。
セファロスポリン類の塩形成に用いられる他のアミン類
のような無毒性のアミン類との塩を包含する。特に好適
な塩としてはナトリウム塩。
のような無毒性のアミン類との塩を包含する。特に好適
な塩としてはナトリウム塩。
カリウム塩を挙げることが出来る。
本発明のペネム誘導体には塩基性基が存在するので、医
薬として許容される酸付加塩2例えば塩酸、臭化水素酸
、リン酸、硫酸等の鉱酸あるいは酢酸、クエン酸、コハ
ク酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸等の有機酸と
の塩類とすることも出来る。
薬として許容される酸付加塩2例えば塩酸、臭化水素酸
、リン酸、硫酸等の鉱酸あるいは酢酸、クエン酸、コハ
ク酸、アスコルビン酸、メタンスルホン酸等の有機酸と
の塩類とすることも出来る。
特に好適な塩としては、塩酸塩、硫酸塩を挙げることが
出来る。また1式(1)の化合物は種々の溶媒和したも
のでも良く1例えば水和物も本発明の範囲に含まれる。
出来る。また1式(1)の化合物は種々の溶媒和したも
のでも良く1例えば水和物も本発明の範囲に含まれる。
本発明の化合物は慣用される製剤用担体、安定化剤、賦
形剤を用いて通常の方法で製剤とすることが出来る。投
与は錠剤、丸剤、カプセル剤、顆粒剤等の経口投与ある
いは静注、筋注剤。
形剤を用いて通常の方法で製剤とすることが出来る。投
与は錠剤、丸剤、カプセル剤、顆粒剤等の経口投与ある
いは静注、筋注剤。
半開等の非経口投与のいずれであってもよい。
投与量は通常成人1日250m9〜l OOOmgであ
り、これを数回に分割投与するが1年令、性別、症状に
より適宜増減することが出来る。
り、これを数回に分割投与するが1年令、性別、症状に
より適宜増減することが出来る。
本発明化合物(1)は、下記の反応式で例示する方法に
よって製造することが出来る。
よって製造することが出来る。
公知の方法(J、A+n、C:hem、soc、、 1
04. 6188(1982))およびそれに準する方
法で合成出来る一般式(II’) (式中、R1,R3
は前記と同じ。
04. 6188(1982))およびそれに準する方
法で合成出来る一般式(II’) (式中、R1,R3
は前記と同じ。
R7は有機基9例えばアルキル基、フェニル等のアリー
ル基、ベンジル、フェネチル等のアラルキル基)で示さ
れるペネム誘導体を、適当な溶媒中酸化剤2例えば過安
息香酸1m−クロロ過安息香酸、過酢酸、過酸化水素、
二酸化セレン。
ル基、ベンジル、フェネチル等のアラルキル基)で示さ
れるペネム誘導体を、適当な溶媒中酸化剤2例えば過安
息香酸1m−クロロ過安息香酸、過酢酸、過酸化水素、
二酸化セレン。
オゾン又はメタ過ヨード酸ナトリウム等、好適にはm−
クロロ過安息香酸で酸化するとスルホキシド体(■)(
式中HS”’−)Oの波線は立体異性体の混合物を意味
する)が好収率で得られる。ここに得られるスルホキシ
ド体は立体異性体の混合物であるが1分離することンヨ
<好適に次の第2工程の反応に使用することが出来る。
クロロ過安息香酸で酸化するとスルホキシド体(■)(
式中HS”’−)Oの波線は立体異性体の混合物を意味
する)が好収率で得られる。ここに得られるスルホキシ
ド体は立体異性体の混合物であるが1分離することンヨ
<好適に次の第2工程の反応に使用することが出来る。
本反応に用いられる反応溶媒としては、ジクロロメタン
、クロロホルム、四塩化炭素等ノハロケン化炭化水素類
、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトン
、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸、ピリジン、
N、N−ジメチルホルムアミド(以下、DMFと略)、
アセトアミド、ジメチルスルホキサイド(以下、DMS
Oと略)、水およびリン酸緩衝液等の9反応原料。
、クロロホルム、四塩化炭素等ノハロケン化炭化水素類
、メタノール、エタノール等のアルコール類、アセトン
、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸、ピリジン、
N、N−ジメチルホルムアミド(以下、DMFと略)、
アセトアミド、ジメチルスルホキサイド(以下、DMS
Oと略)、水およびリン酸緩衝液等の9反応原料。
生成物に支障をきたさない溶媒(混合溶媒も含む)が好
適に用いられる。反応温度は一50°C乃至50°C9
好適には一30°C乃至室温の緩和な温度条件が有利で
ある。反応時間は5分から4時間1適常は30分〜1時
間で十分である。
適に用いられる。反応温度は一50°C乃至50°C9
好適には一30°C乃至室温の緩和な温度条件が有利で
ある。反応時間は5分から4時間1適常は30分〜1時
間で十分である。
第2工程:
上述の如く得られたスルホキシド体(…)とチオール体
(町(式中、厖は前記R2と同じか又は保護基で保護さ
れた職であり、一般式Ov)のR7とは異る基を示す)
、またはその酸付加塩若しくはその反応性誘導体との置
換反応である。R8上の保護基としてはベンジルオキシ
カルボニル基、p−ニトロベンジルオキシカルボニル基
、ベンゼンスルホニル基、トシル基、ニトロX 等が挙
げられ、好適な保醗基としてはパラニトロベンジルオキ
シカルボニル基、ニトロ基を挙げることが出来る。この
反応に用いる溶媒としてはDMF、DMSO,テトラヒ
ドロフラン(以下、 THFと略)、ヘキサメチルホス
ホトリアミド(以下、HMPAと略)等の反応原料、生
成物に支障をきたさない溶媒(混合溶媒も含む)ならい
ずれでもよ<、DMFが好適である。反応温度は通常−
50°C〜室温、特に−80℃〜0°Cが好適である。
(町(式中、厖は前記R2と同じか又は保護基で保護さ
れた職であり、一般式Ov)のR7とは異る基を示す)
、またはその酸付加塩若しくはその反応性誘導体との置
換反応である。R8上の保護基としてはベンジルオキシ
カルボニル基、p−ニトロベンジルオキシカルボニル基
、ベンゼンスルホニル基、トシル基、ニトロX 等が挙
げられ、好適な保醗基としてはパラニトロベンジルオキ
シカルボニル基、ニトロ基を挙げることが出来る。この
反応に用いる溶媒としてはDMF、DMSO,テトラヒ
ドロフラン(以下、 THFと略)、ヘキサメチルホス
ホトリアミド(以下、HMPAと略)等の反応原料、生
成物に支障をきたさない溶媒(混合溶媒も含む)ならい
ずれでもよ<、DMFが好適である。反応温度は通常−
50°C〜室温、特に−80℃〜0°Cが好適である。
反応時間は通常15分〜2時間、特に30分〜1時間が
好適である。一般式(1)のチオール体は塩基と共存さ
せると反応性に富み、良好に反応が進行するが、塩基な
しでも進行する。使用可能な塩基としてはトリエチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン等のアルキルアミン
類、1,8−ジアザビシクロ[5,4゜0]−7−ウン
デセン(以下、DBUと略)。
好適である。一般式(1)のチオール体は塩基と共存さ
せると反応性に富み、良好に反応が進行するが、塩基な
しでも進行する。使用可能な塩基としてはトリエチルア
ミン、ジイソプロピルエチルアミン等のアルキルアミン
類、1,8−ジアザビシクロ[5,4゜0]−7−ウン
デセン(以下、DBUと略)。
N−メチルモルポリン等の脂環状アミン類、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム等の無機塩基。
リウム、水酸化カリウム等の無機塩基。
カリウムt−ブトキサイド、ナトリウムメトキサイド等
の金属アルコラード類、ナトリウムアミド、水素化ナト
リウム等が挙げられ、ジイソプロピルエチルアミン、D
BUが好適に使用すれる。
の金属アルコラード類、ナトリウムアミド、水素化ナト
リウム等が挙げられ、ジイソプロピルエチルアミン、D
BUが好適に使用すれる。
一般式(II)のチオール化合物の反応性誘導体の例は
一般式M S −R8(式中9Mはアルカリ金属。
一般式M S −R8(式中9Mはアルカリ金属。
馬は前記に同じ)で表わされるチオレート化合物が挙げ
られる。この置換反応において、一般式(1)のチオー
ル化合物は通常スルホキシド体(If)の1〜8当量、
特に1〜1.5当量使用する場合が好適であり、塩基の
量はチオール化合物(1)と当量使用するのが好ましい
。但し、チオール体(1)が酸付加塩である場合は更に
付加している酸を中和するに必要な量の塩基を加えるこ
とにより良好な結果を得る事が出来る。
られる。この置換反応において、一般式(1)のチオー
ル化合物は通常スルホキシド体(If)の1〜8当量、
特に1〜1.5当量使用する場合が好適であり、塩基の
量はチオール化合物(1)と当量使用するのが好ましい
。但し、チオール体(1)が酸付加塩である場合は更に
付加している酸を中和するに必要な量の塩基を加えるこ
とにより良好な結果を得る事が出来る。
上述の反応において生成する置換成績体は通常の後処理
により単離される。
により単離される。
第3工程
上述の置換成績体に保護基のある場合には。
更に所望により保護基を脱離せしめることが出来る。脱
保護基の方法としては、酸、塩基又は酵素を用いた加水
分解若しくは水素添加による還元的分解による方法等が
挙げられる。
保護基の方法としては、酸、塩基又は酵素を用いた加水
分解若しくは水素添加による還元的分解による方法等が
挙げられる。
一般式(I)のエステル残基−がp−ニトロベンジル基
、ベンジル基、ベンズヒドリル基等のアラルキル基、t
−ブチル基、シリル基等の場合はギ酸、トリフルオロ酢
酸等の酸による加水分解、p−ニトロベンジル基、ベン
ジル基、ベンズヒドリル基等は更にパラジウム炭、酸化
白金を用いた接触還元、また、メチル、エチル基等のア
ルキル基の場合は塩基による加水分解を行うことにより
、一般式(すの穐が水素原子である化合物を得ることが
出来る。
、ベンジル基、ベンズヒドリル基等のアラルキル基、t
−ブチル基、シリル基等の場合はギ酸、トリフルオロ酢
酸等の酸による加水分解、p−ニトロベンジル基、ベン
ジル基、ベンズヒドリル基等は更にパラジウム炭、酸化
白金を用いた接触還元、また、メチル、エチル基等のア
ルキル基の場合は塩基による加水分解を行うことにより
、一般式(すの穐が水素原子である化合物を得ることが
出来る。
なお、上述第2工程におけるチオール体(1)の穐に保
護基を有する場合、生成物の2位置換基に保護基が残る
。この保護基としてベンジルオキシカルボニル基、p−
ニトロベンジルオキシカルボニル基、ニトロ基等はパラ
ジウム炭、酸化白金を用いた接触還元、ベンゼンスルホ
ニル基、トシル基等はアンモニアと金属ナトリウムを用
いた還元により脱保護する事が出来る。上述の如く生成
物の2位置換基上に保護基を有し。
護基を有する場合、生成物の2位置換基に保護基が残る
。この保護基としてベンジルオキシカルボニル基、p−
ニトロベンジルオキシカルボニル基、ニトロ基等はパラ
ジウム炭、酸化白金を用いた接触還元、ベンゼンスルホ
ニル基、トシル基等はアンモニアと金属ナトリウムを用
いた還元により脱保護する事が出来る。上述の如く生成
物の2位置換基上に保護基を有し。
しかも亀がエステル残基である場合、同一反応操作で一
般式(I)の〜が水素原子の化合物を得る事が出来る。
般式(I)の〜が水素原子の化合物を得る事が出来る。
例えば、上述のパラジウム炭、酸化白金を用いた接触還
元で脱離出来るエステル残基、RB上に保護基を持つ中
間体では両保設基を同時に接触還元で脱離し一般式(1
)のHd)i水素である化合物を得る事が出来る。
元で脱離出来るエステル残基、RB上に保護基を持つ中
間体では両保設基を同時に接触還元で脱離し一般式(1
)のHd)i水素である化合物を得る事が出来る。
上述の第2工程における置換成績体はその物性によって
は単離精製しにくいものがあり、一般式(1)の馬が水
素原子である化合物の製造を目的とした場合は、中間の
置換成績体を単離する事なく同一反応容器中で保護基を
脱離する方が良好な結果が得られる場合がある。特に大
量の製造を実施する際には、繁雑な作業も無く、収率9
品質の点でも優れた簡便な方法である。
は単離精製しにくいものがあり、一般式(1)の馬が水
素原子である化合物の製造を目的とした場合は、中間の
置換成績体を単離する事なく同一反応容器中で保護基を
脱離する方が良好な結果が得られる場合がある。特に大
量の製造を実施する際には、繁雑な作業も無く、収率9
品質の点でも優れた簡便な方法である。
体内で代謝されうるエステル類を製造するには、ペニシ
リン類やセファロスポリン類における方法に準じて、一
般式(1)の田が水素原子の化合物をエステル化すれば
よい。
リン類やセファロスポリン類における方法に準じて、一
般式(1)の田が水素原子の化合物をエステル化すれば
よい。
本発明のペネム誘導体(1)は物理化学的安定性に優れ
た化合物であると共に、ダラム陽性菌。
た化合物であると共に、ダラム陽性菌。
例えば、S、アウレウス゛、Sm1th、 S、エビデ
ルミティス、5650 Q 、str、ピオゲネス、G
−86、Str、ミチス、II D685. Str、
フェカリス、 ATcc 19438等およびグラム陰
性菌。
ルミティス、5650 Q 、str、ピオゲネス、G
−86、Str、ミチス、II D685. Str、
フェカリス、 ATcc 19438等およびグラム陰
性菌。
例えば、E、コリ、NIHJ、S、フレキシネリ。
2a 5508. Sal、エンテリチデイス、lID
604、)T、アルベイ、1D978.G、フロインデ
ィ。
604、)T、アルベイ、1D978.G、フロインデ
ィ。
11D976、Pr、ブルガリス、 08601 、
Pr、ミラビリス、IFO8849,に、ニューモニエ
。
Pr、ミラビリス、IFO8849,に、ニューモニエ
。
Type 1 、 Ent、クロアカニ、 03402
、 Ent、エロゲネス、kTc08829.Ser
、マルセッ七シス。
、 Ent、エロゲネス、kTc08829.Ser
、マルセッ七シス。
10100、Y、エンテロコリチ力、Tθ591゜A、
フェカリス、ATCG 19108.Ps、 エルギノ
ーザ、81238.等の広範囲の好気性菌に対し、更に
B、フラジリス、PA−2−11,F、ニュークリエイ
タム、IPP 148.0.ベルフリンジェシス、 2
2. C,ディフィシル、GAI−0547等の嫌気性
菌に対しても強い抗菌活性を示し。
フェカリス、ATCG 19108.Ps、 エルギノ
ーザ、81238.等の広範囲の好気性菌に対し、更に
B、フラジリス、PA−2−11,F、ニュークリエイ
タム、IPP 148.0.ベルフリンジェシス、 2
2. C,ディフィシル、GAI−0547等の嫌気性
菌に対しても強い抗菌活性を示し。
抗菌剤として有用であり9人および家畜の医薬として安
全に使用され、また魚類にも用いる事が出来る。
全に使用され、また魚類にも用いる事が出来る。
本発明の化合物は、更に飼料の防腐、医療用機器等の殺
菌剤としても使用出来る。
菌剤としても使用出来る。
参考例1
(1) (as、4R)−4−(<エチルチオ)チオカ
ルボニルチオ)−a−((R)−1−(t−ブチルジメ
チル−シリルオキシ)エチル)−2−アゼチジノン (8s、4R)−(n−1−(t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ)エチル〕−4−フェニルスルホニル−2−ア
ゼチジノン(TetrahedronI、etters
、 Vol、22.6205(1981)に従って合成
した)1.11g、ポタシウムエチルトリチオカーボネ
ー)0.68i;l、)リエチルベンジルヨーダイド0
.169をジクロロメタン30−1水30−の混合溶媒
中、室温下7時間攪拌する。
ルボニルチオ)−a−((R)−1−(t−ブチルジメ
チル−シリルオキシ)エチル)−2−アゼチジノン (8s、4R)−(n−1−(t−ブチルジメチルシリ
ルオキシ)エチル〕−4−フェニルスルホニル−2−ア
ゼチジノン(TetrahedronI、etters
、 Vol、22.6205(1981)に従って合成
した)1.11g、ポタシウムエチルトリチオカーボネ
ー)0.68i;l、)リエチルベンジルヨーダイド0
.169をジクロロメタン30−1水30−の混合溶媒
中、室温下7時間攪拌する。
有機層を分離、水洗、乾燥後、溶媒を減圧にて留去する
。残渣をシリカゲル259を用いたカラムクロマトグラ
フィー(ベンゼン:酢酸エチル−30:1)にて精製す
ると黄色結晶の標記化合物が得られる。収量0.529
゜融点109〜114℃。
。残渣をシリカゲル259を用いたカラムクロマトグラ
フィー(ベンゼン:酢酸エチル−30:1)にて精製す
ると黄色結晶の標記化合物が得られる。収量0.529
゜融点109〜114℃。
FD Mass m/e 865 (M” )(2)p
−ニトロベンジル 2−((3S、4R)−4−((エ
チルチオ)チオカルボニルチオ〕−8−((R)、−1
−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチルツー2−
オキソ−1−アゼチジニル〕−2−オキソ−アセテート (1)で得た化合物0.96g、ジイソプロピルエチル
アミン0.689を酢酸エチル80−に溶解し、水冷下
p−ニトロベンジルオギザリルクロリド1.289を加
え、同温にて1時間攪拌する。
−ニトロベンジル 2−((3S、4R)−4−((エ
チルチオ)チオカルボニルチオ〕−8−((R)、−1
−(t−ブチルジメチルシリルオキシ)エチルツー2−
オキソ−1−アゼチジニル〕−2−オキソ−アセテート (1)で得た化合物0.96g、ジイソプロピルエチル
アミン0.689を酢酸エチル80−に溶解し、水冷下
p−ニトロベンジルオギザリルクロリド1.289を加
え、同温にて1時間攪拌する。
反応液を酢酸エチルで希釈し、水、5%炭酸水素す)
IJウム水、水で順次洗浄後、有機層を無水硫酸マグネ
シウムにて乾燥し、減圧濃縮する。
IJウム水、水で順次洗浄後、有機層を無水硫酸マグネ
シウムにて乾燥し、減圧濃縮する。
残液をシリカゲル209を用いたカラムクロマトグラフ
ィー(ベンゼン:酢酸エチル−50:1)にて精製する
と黄色油状の標記化合物が得られる。収量1.30り。
ィー(ベンゼン:酢酸エチル−50:1)にて精製する
と黄色油状の標記化合物が得られる。収量1.30り。
NMRδ
−0,09(6H,s )
0.75(9H,s)
1+15 (8H,d、 J−7Hz )1.28 (
8H,t、 J−7Hz )8.81 (2H,q、
J−7Hz )8.50 (IH,ad、 J−5H2
,4Hz )4、IN4.8 (LH,m ) 5.80’ (2H,s ) 6.65 (IH,d、 J−4Hz )7.45 (
2H,cl、 J−9Hz )8.17 (2H,d、
J−9Hz )(3)p−=トロベンジル (5R,
6S、 8R)−2−エチルチオ−6−(1−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル)ペネム−3−カルボキ
シレート (2)で得た化合物1.28gをベンゼン200gnt
に溶解し、還流下トリエチルホスファイト148gを8
.5時間を要して滴下する。更に8.5時間還流し、冷
後反応液を水、0.5N塩酸。
8H,t、 J−7Hz )8.81 (2H,q、
J−7Hz )8.50 (IH,ad、 J−5H2
,4Hz )4、IN4.8 (LH,m ) 5.80’ (2H,s ) 6.65 (IH,d、 J−4Hz )7.45 (
2H,cl、 J−9Hz )8.17 (2H,d、
J−9Hz )(3)p−=トロベンジル (5R,
6S、 8R)−2−エチルチオ−6−(1−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシエチル)ペネム−3−カルボキ
シレート (2)で得た化合物1.28gをベンゼン200gnt
に溶解し、還流下トリエチルホスファイト148gを8
.5時間を要して滴下する。更に8.5時間還流し、冷
後反応液を水、0.5N塩酸。
水、5%炭酸水素ナトリウム水、水で順次洗浄する。無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧にて留去する
。残渣をシリカゲル70gを用いたカラムクロマトグラ
フィー(ベンゼン:酢酸エステル−60: 1 )にて
精製すると淡黄色油状の標記化合物が得られる。収量0
.68g。
水硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を減圧にて留去する
。残渣をシリカゲル70gを用いたカラムクロマトグラ
フィー(ベンゼン:酢酸エステル−60: 1 )にて
精製すると淡黄色油状の標記化合物が得られる。収量0
.68g。
NMRδ(GDOIs) :
0.04 (3H,S )
0.06 (8H,s )
0.78 (9H,s )
1.26 (8H,t5. J−7Hz )1.38
(3H,t、 J−7Hz )2.99 (2H,dq
、 J−7Hz )8.72 (IH,da、 J−4
Hz、 2Hz )4.25 (IH,m ) 5.80 (2H,ABq、 J−14Hz )5.6
4 (LH,a、 J−2Hz )7.60 (2H,
cl、 J−9Hz )8.20 (2H,d、 J−
9Hz )FDMass m/e 524(M”)(4
) p−ニトロベンジル (5R,68,8R)−2−
エチルチオ−6−(1−ヒドロキシエチル)ペネム−8
−カルボキシレート (3)で得た化合物285W’9.酢酸827m9゜1
Mテトラ−ルーブチルアンモニウムフルオライドテトラ
ヒドロフラン溶液1.133+al、テトラヒドロフラ
ン10wl7!の混合物を室温下40時間攪拌する。反
応液を酢酸エチルで希釈し、水。
(3H,t、 J−7Hz )2.99 (2H,dq
、 J−7Hz )8.72 (IH,da、 J−4
Hz、 2Hz )4.25 (IH,m ) 5.80 (2H,ABq、 J−14Hz )5.6
4 (LH,a、 J−2Hz )7.60 (2H,
cl、 J−9Hz )8.20 (2H,d、 J−
9Hz )FDMass m/e 524(M”)(4
) p−ニトロベンジル (5R,68,8R)−2−
エチルチオ−6−(1−ヒドロキシエチル)ペネム−8
−カルボキシレート (3)で得た化合物285W’9.酢酸827m9゜1
Mテトラ−ルーブチルアンモニウムフルオライドテトラ
ヒドロフラン溶液1.133+al、テトラヒドロフラ
ン10wl7!の混合物を室温下40時間攪拌する。反
応液を酢酸エチルで希釈し、水。
5%炭酸水素ナトリウム水溶液、水で順次洗浄後、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を減圧で留去する。析出
した結晶をエーテルで洗浄すると淡黄色結晶の標記化合
物が得られる。収量204 m9゜融点166〜167
°C8NMRδ(CDC13): 1.86 (8H,cl、 、J−7Hz )1.87
(3H,t、 J−7H2)2.99 (2H,(I
Q、 J−7Hz、 24(z )8.78 (IH,
ad、 J−7Hz、 2Hz )4.25 (IH,
q、 J−7Hz )5.88 (2H,ABq、 J
−14Hz )5.66 (IH,d、 J−2Hz
)7.60 (fiH,d、 J−9Hz )8.20
(2H,d、 J−9Hz )参考例2 3−メルカプト−1−p−ニトロベンジルオキシ力ルポ
ニル力ルバミミドイルピロリジンCH30分鳴8)−臓
→C1卯伽、Sズ)H(1)1−t−ブトキシカルボニ
ル−3−ヒドロキシピロリジン 3−ヒドロキシピロリジン2.00gをジオキサン50
trLtに溶解し、2−t−ブチルオキシカルボニルオ
キシイミノ−2−フェニルアセトニトリル(以下、Bo
c−ONと略)6.22gを加え。
硫酸マグネシウムで乾燥し溶媒を減圧で留去する。析出
した結晶をエーテルで洗浄すると淡黄色結晶の標記化合
物が得られる。収量204 m9゜融点166〜167
°C8NMRδ(CDC13): 1.86 (8H,cl、 、J−7Hz )1.87
(3H,t、 J−7H2)2.99 (2H,(I
Q、 J−7Hz、 24(z )8.78 (IH,
ad、 J−7Hz、 2Hz )4.25 (IH,
q、 J−7Hz )5.88 (2H,ABq、 J
−14Hz )5.66 (IH,d、 J−2Hz
)7.60 (fiH,d、 J−9Hz )8.20
(2H,d、 J−9Hz )参考例2 3−メルカプト−1−p−ニトロベンジルオキシ力ルポ
ニル力ルバミミドイルピロリジンCH30分鳴8)−臓
→C1卯伽、Sズ)H(1)1−t−ブトキシカルボニ
ル−3−ヒドロキシピロリジン 3−ヒドロキシピロリジン2.00gをジオキサン50
trLtに溶解し、2−t−ブチルオキシカルボニルオ
キシイミノ−2−フェニルアセトニトリル(以下、Bo
c−ONと略)6.22gを加え。
室温下30分攪拌する。反応液を減圧にて濃縮乾固し、
残渣をシリカゲル(901を用いたカラムクロマト(ベ
ンゼン:酢酸エチル−1:1から次第に酢酸エチルの混
合比を増量した混液および酢酸エチルで溶出)にて精製
し、標記化合物を無色透明油状物として定量的に得る。
残渣をシリカゲル(901を用いたカラムクロマト(ベ
ンゼン:酢酸エチル−1:1から次第に酢酸エチルの混
合比を増量した混液および酢酸エチルで溶出)にて精製
し、標記化合物を無色透明油状物として定量的に得る。
収量4.279゜
NMRδ(cDats ) :
1.48 (9H,8,CH3)
1.8〜2.2 (2H,m、 04− H2)8.2
〜8.6 (4H,m、 02 H2および05−H2
)4.42 (IH,m、 C3−H) IR(neat)cm−’:8400,1655(Z)
1−t−ブトキシカルボニル−8−p−トルエンスル
ホニルオキシピロリジン 上記(1)で得た化合物1.80gをピリジン6−に溶
解し、p−トルエンスルホニルオキシクロリド1.60
gを加え、室温下2日間攪拌する。
〜8.6 (4H,m、 02 H2および05−H2
)4.42 (IH,m、 C3−H) IR(neat)cm−’:8400,1655(Z)
1−t−ブトキシカルボニル−8−p−トルエンスル
ホニルオキシピロリジン 上記(1)で得た化合物1.80gをピリジン6−に溶
解し、p−トルエンスルホニルオキシクロリド1.60
gを加え、室温下2日間攪拌する。
反応液を濃縮し、残渣を水とベンゼンに分配。
ベンゼン層を水、0.5N塩酸、水で順次洗浄。
硫酸マグネシウムで乾燥後減圧にて濃縮する。
残渣をシリカゲル40りを用いたカラムクロマト(ベン
ゼン:酢酸エチル−1O:1溶出)にて精製し、無色結
晶の標記化合物を得る。収量1.80g。融点79°C
9 I R(KBr disk ) Cm−’ : 167
ONMRδ(CDCl3 ) : 1.44 (9H,S、 OH3) 2.0〜2.3 (2H,m、 04−H2)2.45
(3H,s、 OH3) 3.4〜3.6 (4H,m、 02−H2およびC5
−H2)5.04’(LH,m、 0s−H) 7.40 (2H,d、 J−9Hz、 Ar−H)7
.80 (2H,d、 J−9Hz、 Ar−H)元素
分析 Ci++J(z3NO5sに対して計算値 C5
6,2B、H6,79,N 4.10実測値 G 56
.50. H6,9B、N 4.17(a)1−t−ブ
トキシカルボニル−8−ベンゾイルチオピロリジン 上記(2)で得た化合物1.00gとチオ安息香酸o、
s1gをベンゼン50−に溶解し、DBUo、9Ogを
加え3.5時間加熱還流する。冷後反応液を水、5%重
曹水、水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒
を減圧留去する。残渣をシリカゲル40りを用いたカラ
ムクロマト(ベンゼン:酢酸エチル−10:1溶出)に
て精製し、無色結晶の標記化合物を得る。収量0.75
g。融点56°C9 IR(KBr disk)cffl−1: 16B5.
1655NMRδ(cDcJ3) : 1.47 (9H,ε1CH3) 1.8〜2.5 (2H,m、 04−H2)8.2〜
4.0 (4H,m、 (Ex H2およびas−H2
)4.18 (IH,quinte4 C3−H)7.
8〜7.7 (3H,m、 Ar−H)7.8〜8.0
(2H,m、’Ar−H)元素分析 0+6H21N
O3Sに対して計算値 062.51. H6,89,
N 4.56実測値 G 62.29. H6,77、
N ’4.58(4)1−t−ブトキシカルボニル−a
−p−メトキシベンジルチオピロリジン 上記(3)で得た化合物0.9q9をメタノール20−
に溶かし、28%アンモニア水6 i ヲ加え、アルゴ
ン雰囲気中4.5時間攪拌する。反応液を減圧にて濃縮
乾固し、残液を水とクロロホルムに分配する。クロロホ
ルム層を硫酸マグネシウムで乾燥後減圧にて溶媒を留去
する。残液をベンゼン30−に溶解し、p−メトキシベ
ン法 ジルクロリド0.49M D B U 0.48りを加
え室温下80分攪拌する。反応液を水洗、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後溶媒を減圧にて留去する。残渣をシリカゲ
ル20gを用いたカラムクロマト(ベンゼン:酢酸エチ
ル−20:lで溶出)にて精製し、無色透明油状の標記
化合物を得る。
ゼン:酢酸エチル−1O:1溶出)にて精製し、無色結
晶の標記化合物を得る。収量1.80g。融点79°C
9 I R(KBr disk ) Cm−’ : 167
ONMRδ(CDCl3 ) : 1.44 (9H,S、 OH3) 2.0〜2.3 (2H,m、 04−H2)2.45
(3H,s、 OH3) 3.4〜3.6 (4H,m、 02−H2およびC5
−H2)5.04’(LH,m、 0s−H) 7.40 (2H,d、 J−9Hz、 Ar−H)7
.80 (2H,d、 J−9Hz、 Ar−H)元素
分析 Ci++J(z3NO5sに対して計算値 C5
6,2B、H6,79,N 4.10実測値 G 56
.50. H6,9B、N 4.17(a)1−t−ブ
トキシカルボニル−8−ベンゾイルチオピロリジン 上記(2)で得た化合物1.00gとチオ安息香酸o、
s1gをベンゼン50−に溶解し、DBUo、9Ogを
加え3.5時間加熱還流する。冷後反応液を水、5%重
曹水、水で順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後溶媒
を減圧留去する。残渣をシリカゲル40りを用いたカラ
ムクロマト(ベンゼン:酢酸エチル−10:1溶出)に
て精製し、無色結晶の標記化合物を得る。収量0.75
g。融点56°C9 IR(KBr disk)cffl−1: 16B5.
1655NMRδ(cDcJ3) : 1.47 (9H,ε1CH3) 1.8〜2.5 (2H,m、 04−H2)8.2〜
4.0 (4H,m、 (Ex H2およびas−H2
)4.18 (IH,quinte4 C3−H)7.
8〜7.7 (3H,m、 Ar−H)7.8〜8.0
(2H,m、’Ar−H)元素分析 0+6H21N
O3Sに対して計算値 062.51. H6,89,
N 4.56実測値 G 62.29. H6,77、
N ’4.58(4)1−t−ブトキシカルボニル−a
−p−メトキシベンジルチオピロリジン 上記(3)で得た化合物0.9q9をメタノール20−
に溶かし、28%アンモニア水6 i ヲ加え、アルゴ
ン雰囲気中4.5時間攪拌する。反応液を減圧にて濃縮
乾固し、残液を水とクロロホルムに分配する。クロロホ
ルム層を硫酸マグネシウムで乾燥後減圧にて溶媒を留去
する。残液をベンゼン30−に溶解し、p−メトキシベ
ン法 ジルクロリド0.49M D B U 0.48りを加
え室温下80分攪拌する。反応液を水洗、硫酸マグネシ
ウムで乾燥後溶媒を減圧にて留去する。残渣をシリカゲ
ル20gを用いたカラムクロマト(ベンゼン:酢酸エチ
ル−20:lで溶出)にて精製し、無色透明油状の標記
化合物を得る。
収量0.71り。
I R(neat ) cm : 1685HMRδ(
0DC13) : 1.45 (9H,s、 GHs ) 1.7〜2.3 (2H,m、 04−I2 )8.0
〜8.7 (5H,m、 C2−I2.0g−Hおよび
as−I2 )3.72 (2H,s、 S−43H2
−)3.80 (8H,s、 0OH3) 6.85 (2H,d、 J−9H2,Ar−H)7.
24 (2H,d、 J−9Hz、 Ar−H)F D
Mass m/e :328 (M+)(5)8−p
−メトキシベンジルチオピルリジン上記(4)で得た化
合物2.42gとアニソール4.059に水冷下トリフ
ルオロ酢酸10−を加え、同温にて1時間攪拌する。反
応液を減圧にて濃縮乾固し、残渣を水とベンゼンに分配
、水層を苛性ソーダ水溶液でアルカリ性とした後クロロ
ホルムで抽出する。クロロホルム層ヲ水洗乾燥後溶媒を
減圧にて留去し、無色透明油状の標記化合物を得る。収
量1.88g。
0DC13) : 1.45 (9H,s、 GHs ) 1.7〜2.3 (2H,m、 04−I2 )8.0
〜8.7 (5H,m、 C2−I2.0g−Hおよび
as−I2 )3.72 (2H,s、 S−43H2
−)3.80 (8H,s、 0OH3) 6.85 (2H,d、 J−9H2,Ar−H)7.
24 (2H,d、 J−9Hz、 Ar−H)F D
Mass m/e :328 (M+)(5)8−p
−メトキシベンジルチオピルリジン上記(4)で得た化
合物2.42gとアニソール4.059に水冷下トリフ
ルオロ酢酸10−を加え、同温にて1時間攪拌する。反
応液を減圧にて濃縮乾固し、残渣を水とベンゼンに分配
、水層を苛性ソーダ水溶液でアルカリ性とした後クロロ
ホルムで抽出する。クロロホルム層ヲ水洗乾燥後溶媒を
減圧にて留去し、無色透明油状の標記化合物を得る。収
量1.88g。
I R(neat ) Cm= : 3290 、16
1ONMRδ(cncl、 ) : 1.5〜2J (2H,m、 04−I2 )2.6〜
8.2 (5H,m、 Cz−I2. Cs−Hおよび
0s−I2)8.70 (2H,s、 CjH2S )
8.80 (8H,s、 QC)r3 )e、s e
(2H,d、 J−9H2,^r−H)7.24 (2
H,(1,J−9Hz、 Ar−H)F D Mass
m/e 228 (M”)(6)8−p−メトキシベ
ンジルチオ−1−9−二トロベンジルオキシ力ルポニル
力ルバミミドイルビロリジン 上記(5)で得た化合物248■およびN −p −ニ
トロベンジルオキシカルボニルシアナミド(参考例8の
方法で合成) 241119をDMFlo−に溶解し、
100°C7時間加熱、攪拌する。冷後反応液を酢酸エ
チルで希釈し、水。
1ONMRδ(cncl、 ) : 1.5〜2J (2H,m、 04−I2 )2.6〜
8.2 (5H,m、 Cz−I2. Cs−Hおよび
0s−I2)8.70 (2H,s、 CjH2S )
8.80 (8H,s、 QC)r3 )e、s e
(2H,d、 J−9H2,^r−H)7.24 (2
H,(1,J−9Hz、 Ar−H)F D Mass
m/e 228 (M”)(6)8−p−メトキシベ
ンジルチオ−1−9−二トロベンジルオキシ力ルポニル
力ルバミミドイルビロリジン 上記(5)で得た化合物248■およびN −p −ニ
トロベンジルオキシカルボニルシアナミド(参考例8の
方法で合成) 241119をDMFlo−に溶解し、
100°C7時間加熱、攪拌する。冷後反応液を酢酸エ
チルで希釈し、水。
0.5N塩酸、水で順次洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥
後溶媒を減圧にて留去する。残渣をシリカゲル20gを
用いたカラムクロマト(酢酸エチルで溶出)にて精製し
、無色油状の標記化合物を得る。収量104 ”9゜ IR(neat)cm−’:1640(br、)NMR
δCcDats ) : 1.8〜2.4 (2H,m、 04−)h )84〜
8.8 (5H,In、 C2−I2. C3−Hおよ
び(−、−)b)8.75 (2H,s、 Ar−0H
2−8)3.80 (8H,s、 0OH3) 4.20 (2H,s、 Ar−0%−000−)6.
85 (2H,cl、 J−9Hz、 Ar−H)7.
25 (2H,ei、 J−9Hz、 Ar −H)7
.55 (2H,a、 J−9H2,Ar−)1 )8
.20 (2H,d、 J−9Hz、 Ar−H)Ma
ss m/e 444(M”) (7)8−メルカプト−1−p−二トロベンジルオキシ
力ルポニル力ルバミミドイルピロリジン上記(6)で得
た化合物220mg、アニソール270■を水冷下トリ
フルオル酢酸2−に溶解し、トリフルオロメタンスルホ
ン酸を20滴加え水冷下45分攪拌する。反応液を減圧
にて濃縮し、残渣を水と酢酸エチルに分配し、酢酸エチ
ル層を水、5%重曹水、水で洗浄、硫酸マグネシウムに
て乾燥後溶媒を減圧にて留去する。
後溶媒を減圧にて留去する。残渣をシリカゲル20gを
用いたカラムクロマト(酢酸エチルで溶出)にて精製し
、無色油状の標記化合物を得る。収量104 ”9゜ IR(neat)cm−’:1640(br、)NMR
δCcDats ) : 1.8〜2.4 (2H,m、 04−)h )84〜
8.8 (5H,In、 C2−I2. C3−Hおよ
び(−、−)b)8.75 (2H,s、 Ar−0H
2−8)3.80 (8H,s、 0OH3) 4.20 (2H,s、 Ar−0%−000−)6.
85 (2H,cl、 J−9Hz、 Ar−H)7.
25 (2H,ei、 J−9Hz、 Ar −H)7
.55 (2H,a、 J−9H2,Ar−)1 )8
.20 (2H,d、 J−9Hz、 Ar−H)Ma
ss m/e 444(M”) (7)8−メルカプト−1−p−二トロベンジルオキシ
力ルポニル力ルバミミドイルピロリジン上記(6)で得
た化合物220mg、アニソール270■を水冷下トリ
フルオル酢酸2−に溶解し、トリフルオロメタンスルホ
ン酸を20滴加え水冷下45分攪拌する。反応液を減圧
にて濃縮し、残渣を水と酢酸エチルに分配し、酢酸エチ
ル層を水、5%重曹水、水で洗浄、硫酸マグネシウムに
て乾燥後溶媒を減圧にて留去する。
残渣ヲシリカゲル10gを用いたカラムクロマト(酢酸
エチルで溶出)にて精製し、標記化合物を得る。収量1
18119゜ I R(neat ) Cm−’ : 168 ONM
Ra(cDats): 1.76 (IH,d、 J−7Hz、 SH)1.8
〜2.6 (2H,m、 C4I2 )8.8〜4.0
(5H,m、 02−)I2. Ca−HおよびC5
−I2)5.20 (2H,s、 Ar−012−00
0−)6.8 (2H,br、 S、 NH)7.56
(2H,d、 J−9Hz、 Ar−H)8.20
(2H,d、 J−9Hz、 Ar−H)Mass m
/e 825 (M”+1 )参考例3 N−p−二トロベンジルオキシ力ルポニルシアナミド (1) N−p−ニトロベンジルオキシ力ルポニルオキ
シサクシンイミド p−ニトロベンジルオキシクロリド2.40gとN−ヒ
ドロキシサクシンイミドi、ao9をTHF50−に溶
かし、トリエチルアミン1.149を加え、室温にて1
時間攪拌する。不溶物を濾去し、濾液を減圧にて濃縮す
る。残渣を酢酸エチルと水に分配し、酢酸エチル層を硫
酸マグネシウムで乾燥後減圧にて濃縮する。析出晶をエ
ーテルで洗浄し、淡黄色結晶の標記化合物を得る。収量
2.679゜融点124〜125°C0I R(KBr
disk)Cm−’ : 1810.1780.178
5NMRδ(CDC/3) : 2.85 (4H; s、 NCH2CH2N )5.
41 (2H,s、 ArCHz )7.58 (2H
,(1,J−9Hz、 Ar−H)8.28 (28,
a、 J−9Hz、 Ar−H)元素分析 Or 2
H+ o N20yに対して計算値 C48,98,H
148,N 9.52実測値 C49,04,H3,4
6,N 9.19(2)N−p−二トpベンジルオキシ
カルボニルシアナミド シアナミド1.10りを水2o−とジオキサン20−の
混合液にとかし、氷冷下DBU8.96りを加える。次
にジオキサン2o−に溶カしたN−p−二トロベンジル
オキシ力ルポニルオキシサクシンイミド2.009を2
0分を要して加える。加え終った後反応液を濃塩酸で中
和し溶媒を減圧下留去する。残渣を酢酸エチルと水に分
配し酢酸エチル層を水で2回洗浄後5%重曹水で抽出す
る。水層を酢酸エチルで2回洗浄後水層を濃塩酸で中和
し酢酸エチルで抽出する。
エチルで溶出)にて精製し、標記化合物を得る。収量1
18119゜ I R(neat ) Cm−’ : 168 ONM
Ra(cDats): 1.76 (IH,d、 J−7Hz、 SH)1.8
〜2.6 (2H,m、 C4I2 )8.8〜4.0
(5H,m、 02−)I2. Ca−HおよびC5
−I2)5.20 (2H,s、 Ar−012−00
0−)6.8 (2H,br、 S、 NH)7.56
(2H,d、 J−9Hz、 Ar−H)8.20
(2H,d、 J−9Hz、 Ar−H)Mass m
/e 825 (M”+1 )参考例3 N−p−二トロベンジルオキシ力ルポニルシアナミド (1) N−p−ニトロベンジルオキシ力ルポニルオキ
シサクシンイミド p−ニトロベンジルオキシクロリド2.40gとN−ヒ
ドロキシサクシンイミドi、ao9をTHF50−に溶
かし、トリエチルアミン1.149を加え、室温にて1
時間攪拌する。不溶物を濾去し、濾液を減圧にて濃縮す
る。残渣を酢酸エチルと水に分配し、酢酸エチル層を硫
酸マグネシウムで乾燥後減圧にて濃縮する。析出晶をエ
ーテルで洗浄し、淡黄色結晶の標記化合物を得る。収量
2.679゜融点124〜125°C0I R(KBr
disk)Cm−’ : 1810.1780.178
5NMRδ(CDC/3) : 2.85 (4H; s、 NCH2CH2N )5.
41 (2H,s、 ArCHz )7.58 (2H
,(1,J−9Hz、 Ar−H)8.28 (28,
a、 J−9Hz、 Ar−H)元素分析 Or 2
H+ o N20yに対して計算値 C48,98,H
148,N 9.52実測値 C49,04,H3,4
6,N 9.19(2)N−p−二トpベンジルオキシ
カルボニルシアナミド シアナミド1.10りを水2o−とジオキサン20−の
混合液にとかし、氷冷下DBU8.96りを加える。次
にジオキサン2o−に溶カしたN−p−二トロベンジル
オキシ力ルポニルオキシサクシンイミド2.009を2
0分を要して加える。加え終った後反応液を濃塩酸で中
和し溶媒を減圧下留去する。残渣を酢酸エチルと水に分
配し酢酸エチル層を水で2回洗浄後5%重曹水で抽出す
る。水層を酢酸エチルで2回洗浄後水層を濃塩酸で中和
し酢酸エチルで抽出する。
酢酸エチル層を8回水洗、硫酸マグネシウムで乾燥後溶
媒を減圧下留去する。残渣にエーテルを加え不溶物を濾
去し、濾液を減圧にて濃縮し淡黄色結晶の標記化合物を
得る。収量0.75g。
媒を減圧下留去する。残渣にエーテルを加え不溶物を濾
去し、濾液を減圧にて濃縮し淡黄色結晶の標記化合物を
得る。収量0.75g。
融点85〜97°C0
IR(KBraisk)cm :2270,1755N
MRδ(CDI:j/3) : 5.37 (2H,s、 ArCHz )7、56 (
2H,6,J−9Hz、 Ar−H)8.28 (2H
,d、 J−9Hz、 Ar−H)元素分析 Qg N
7 N304に対して計算値 C48,87,H8,1
9,N 19.00実測値 048.76、H3,26
,N 18.68参考例4 z−p−ニトロベンジルオキシカルボニルイミノイミダ
ゾリジン−4−イル−メチルメルカプタン (1)2.8−(ヒス−p−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル)アミノプロピオン酸 2.8−ジアミノプロピオン酸二臭化水素酸塩2.5g
をジオキサン40−2水201ntの混液に溶かし、0
〜5℃に冷却攪拌下、トリエチルア、ミン6.8−を滴
下し、p−メトキシベンジル会’>−4,6−シメチル
ピリミジンー2−イルチオールカーボネート(PMZ−
8)9.1gを加え。
MRδ(CDI:j/3) : 5.37 (2H,s、 ArCHz )7、56 (
2H,6,J−9Hz、 Ar−H)8.28 (2H
,d、 J−9Hz、 Ar−H)元素分析 Qg N
7 N304に対して計算値 C48,87,H8,1
9,N 19.00実測値 048.76、H3,26
,N 18.68参考例4 z−p−ニトロベンジルオキシカルボニルイミノイミダ
ゾリジン−4−イル−メチルメルカプタン (1)2.8−(ヒス−p−メトキシベンジルオキシカ
ルボニル)アミノプロピオン酸 2.8−ジアミノプロピオン酸二臭化水素酸塩2.5g
をジオキサン40−2水201ntの混液に溶かし、0
〜5℃に冷却攪拌下、トリエチルア、ミン6.8−を滴
下し、p−メトキシベンジル会’>−4,6−シメチル
ピリミジンー2−イルチオールカーボネート(PMZ−
8)9.1gを加え。
室温にて2時間攪拌する。反応混合物にエーテルおよび
水を加え有機層を分離し、水層をクエン酸酸性とし酢酸
エチルにて抽出する。飽和食塩水にて洗浄後硫酸す)
IJウムにて乾燥し、溶媒を減圧留去し、残留物をシリ
カゲル757のカラムクロマト(クロロホルム−メタノ
ール−99:1溶出)にて精製し、標記化合物を無色粉
末として得る。収量4.7g。
水を加え有機層を分離し、水層をクエン酸酸性とし酢酸
エチルにて抽出する。飽和食塩水にて洗浄後硫酸す)
IJウムにて乾燥し、溶媒を減圧留去し、残留物をシリ
カゲル757のカラムクロマト(クロロホルム−メタノ
ール−99:1溶出)にて精製し、標記化合物を無色粉
末として得る。収量4.7g。
NMRδ(0DO7a ) ’
8.4 (1〜8.70 (2H,m、 −CH2)3
.78 (6H,s、 2xOOH3)4.20〜4.
50 (IH,m、 −cH)4.95 (2H,8,
0CH2Ar )4.97 (2H,s、 0GH2A
r )6.78 (4H,d、 J−9Hz、 4xA
r−H)7.20 (4H,cl、 J−9Hz、 4
xAr−H)9.85 (IH,br s、 C02H
)(z)2.a−(ヒス−p−メトキシベンジルオキシ
カルボニル)アミノプロパツール 上記(1)で得た化合物4.79をテトラヒドロ7ラン
50rn1.にとかし、−10°Cに冷却攪拌下クロル
炭酸メチル1.249およびトリエチルアミン1.84
4を加え、同温で30分間攪拌したのち、50〜60°
Cで1時間攪拌する。溶媒を減圧留去し、残留物をメタ
ノール30−に溶解し水素化ホウ素す) IJウム1g
を室温攪拌下少量ずつ加える。反応混合物に酢酸エチル
を加え。
.78 (6H,s、 2xOOH3)4.20〜4.
50 (IH,m、 −cH)4.95 (2H,8,
0CH2Ar )4.97 (2H,s、 0GH2A
r )6.78 (4H,d、 J−9Hz、 4xA
r−H)7.20 (4H,cl、 J−9Hz、 4
xAr−H)9.85 (IH,br s、 C02H
)(z)2.a−(ヒス−p−メトキシベンジルオキシ
カルボニル)アミノプロパツール 上記(1)で得た化合物4.79をテトラヒドロ7ラン
50rn1.にとかし、−10°Cに冷却攪拌下クロル
炭酸メチル1.249およびトリエチルアミン1.84
4を加え、同温で30分間攪拌したのち、50〜60°
Cで1時間攪拌する。溶媒を減圧留去し、残留物をメタ
ノール30−に溶解し水素化ホウ素す) IJウム1g
を室温攪拌下少量ずつ加える。反応混合物に酢酸エチル
を加え。
塩化アンモニウム水1食塩水にて洗浄する。硫酸す)
IJウムにて乾燥後、溶媒を減圧留去し。
IJウムにて乾燥後、溶媒を減圧留去し。
残留物をシリカゲル50gのカラムクロマト(クロロホ
ルム溶出)にて精製し、標記化合物を無色油状物として
得る。収量2.15g。
ルム溶出)にて精製し、標記化合物を無色油状物として
得る。収量2.15g。
NMRδ(GDC13) :
8.20〜3.70 (5H,m )
8.76 (6H,s、 2xocH3)4.99 (
4H,s、 2xOCH2Ar )5.80〜5.55
(2H,m、 2XNH)6.84 (4H,d、
J−9Hz、 4xAr−H)7.24 (4H,a、
J−9Hz、 4xAr−H)(8)2.3−(ビス
−p−メトキシベンジルオキシカルボニル)アミノプロ
パンp−)ルエンスルホネート 上記(2)で得た化合物2.15りをピリジン8〇−に
溶解し、室温攪拌下p−)ルエンスルホニルクロリド1
.4’lを加え17時間攪拌する。
4H,s、 2xOCH2Ar )5.80〜5.55
(2H,m、 2XNH)6.84 (4H,d、
J−9Hz、 4xAr−H)7.24 (4H,a、
J−9Hz、 4xAr−H)(8)2.3−(ビス
−p−メトキシベンジルオキシカルボニル)アミノプロ
パンp−)ルエンスルホネート 上記(2)で得た化合物2.15りをピリジン8〇−に
溶解し、室温攪拌下p−)ルエンスルホニルクロリド1
.4’lを加え17時間攪拌する。
溶媒を減圧留去し、残留物に酢酸エチルおよび水を加え
分配する。有機層を硫酸ナトリウムにて乾燥後溶媒を減
圧留去し、残留物をシリカゲル80りのカラムクロマト
(クロロホルム溶出)にて精製し標記化合物を無色油状
物として得る。
分配する。有機層を硫酸ナトリウムにて乾燥後溶媒を減
圧留去し、残留物をシリカゲル80りのカラムクロマト
(クロロホルム溶出)にて精製し標記化合物を無色油状
物として得る。
収量2.1り。
NMRδ(GDOb ) ’
2.28 (8H,s、 cH3)
3.24〜3.50 (2H,m、 −NCH2−)8
.80 (6H,s、 2XOOHa )4.00〜4
.16 (2H,m、 −CHzOTs )4.96
(2H,s、 0(lJlzAr )5.00 (2H
,s、 Ol:H2Ar )6.86 (4H,t5.
J−9Hz、 4XAr−H)7.20〜7.50
(6H,m、 6xArH)7.75 (2H,6,J
−9Hz、 2xArH)(4)2.8−(ビス−p−
メトキシベンジルオキシカルボニル)アミノプロパンチ
オベンゾエート 上記(3)で得た化合物2.1gをベンゼン2〇−に溶
解し、チオ安息香酸0.79gおよびDBUo、889
を加え70〜80℃にて1時間攪拌する。反応混合物に
酢酸エチルおよび水を加え分配する。有機層を硫酸ナト
リウムにて乾燥後溶媒を減圧留去し、残留物をシリカゲ
ル209のカラムクロマト(クロロホルム溶出)にて精
製し、標記化合物を無色油状物として得る。収量1.5
7g。
.80 (6H,s、 2XOOHa )4.00〜4
.16 (2H,m、 −CHzOTs )4.96
(2H,s、 0(lJlzAr )5.00 (2H
,s、 Ol:H2Ar )6.86 (4H,t5.
J−9Hz、 4XAr−H)7.20〜7.50
(6H,m、 6xArH)7.75 (2H,6,J
−9Hz、 2xArH)(4)2.8−(ビス−p−
メトキシベンジルオキシカルボニル)アミノプロパンチ
オベンゾエート 上記(3)で得た化合物2.1gをベンゼン2〇−に溶
解し、チオ安息香酸0.79gおよびDBUo、889
を加え70〜80℃にて1時間攪拌する。反応混合物に
酢酸エチルおよび水を加え分配する。有機層を硫酸ナト
リウムにて乾燥後溶媒を減圧留去し、残留物をシリカゲ
ル209のカラムクロマト(クロロホルム溶出)にて精
製し、標記化合物を無色油状物として得る。収量1.5
7g。
NMRδ(GDCh ) :
8.20〜3.50 (4H,m )
8.79 (6H,s、 2xOCH3)5.01 (
2H,s、 0OH2Ar )5.03(2H,s、
0O)(2Ar )6.83 (2H,d、 J−9H
z、 2xAr(()6.85 (2H,d、 J−9
Hz、 2xAr−H)7.20〜7.68 (7H,
m、 7xArH)7.95 (2H,ad、 J−2
,9Hz、 2xAr−H)(5)2,1−(ビス−p
−メトキシベンジルオキシカルボニル)アミノ−1−p
−メトキシベンジルチオプロパン 前記(4)で得た化合物1.579をテトラヒドロフラ
ン85−に溶解し、水素化ホウ素リチウム0.27を加
えアルゴン気流中、室温にて2時間攪拌する。塩化アン
モニウム水を加えクロロホルム抽出し、有機層を硫酸ナ
トリウムにて乾燥後、溶媒を減圧留去する。残留物を酢
酸エチル20−に溶解し、p−メトキシベンジルクロリ
ド0.499を加え、水冷攪拌下DBU0.489を滴
下し、室温にて1時間攪拌後反応混合物を水洗し、有機
層を硫酸す) IJウムにて乾燥後溶媒を減圧留去する
。残留物をシリカゲル15g−のカラムクロマト(クロ
ロホルム溶出)にて精製し、無色油状物として標記化合
物を得る。収量1.3g。
2H,s、 0OH2Ar )5.03(2H,s、
0O)(2Ar )6.83 (2H,d、 J−9H
z、 2xAr(()6.85 (2H,d、 J−9
Hz、 2xAr−H)7.20〜7.68 (7H,
m、 7xArH)7.95 (2H,ad、 J−2
,9Hz、 2xAr−H)(5)2,1−(ビス−p
−メトキシベンジルオキシカルボニル)アミノ−1−p
−メトキシベンジルチオプロパン 前記(4)で得た化合物1.579をテトラヒドロフラ
ン85−に溶解し、水素化ホウ素リチウム0.27を加
えアルゴン気流中、室温にて2時間攪拌する。塩化アン
モニウム水を加えクロロホルム抽出し、有機層を硫酸ナ
トリウムにて乾燥後、溶媒を減圧留去する。残留物を酢
酸エチル20−に溶解し、p−メトキシベンジルクロリ
ド0.499を加え、水冷攪拌下DBU0.489を滴
下し、室温にて1時間攪拌後反応混合物を水洗し、有機
層を硫酸す) IJウムにて乾燥後溶媒を減圧留去する
。残留物をシリカゲル15g−のカラムクロマト(クロ
ロホルム溶出)にて精製し、無色油状物として標記化合
物を得る。収量1.3g。
NMRδ(GDCIs ) ’
2.46〜2.65 (2H,m、 −0H2S−)8
.2 (1〜3.46 (2H,m、−CH2N−)8
.64 (2H,s、 −8GH2Ar )8.76
(8H,s、 QC)13 )3.80 (6H,s、
2xOCH3)5.00 (4H,s、 2XOC)
L+Ar )6.82 (2H,d、 J−9Hz、
2xAr−H)6.86 (4H,6,J−9Hz、
4xAr−H)7.20〜7.44 (6H,m、 6
xAr−H)(6)4−(p−メトキシベンジルチオメ
チル)−2−p−ニトロベンジルオキシカルボニルイミ
ノイミダゾリジン 前記(5)で得た化合物0.48り、アニソール0.7
艷の混合物に0〜5°Cにてトリフルオロ酢酸4−を加
え、1時間攪拌する。溶媒を減圧留去し、残留物に石油
エーテルを加え上清を除去シ、残留物をテトラヒドロフ
ラン10−に溶解し、0〜5°Cに冷却攪拌下、p−ニ
トロベンジルN−(メトキシ(メチルチオ)メチレン〕
カルバメート0.299を加え、トリエチルアミン0.
29−を滴下する。反応混合物を50〜60°Cにて3
時間攪拌後、ジクロルメタンを加え水洗する。硫酸す)
IJウムにて乾燥後溶媒を減圧留去スる。残留物をシ
リカゲル5gのカラムクロマト(クロロホルム−メタノ
ール−95=5溶出)にて精製し、粉末として標記化合
物を得る。
.2 (1〜3.46 (2H,m、−CH2N−)8
.64 (2H,s、 −8GH2Ar )8.76
(8H,s、 QC)13 )3.80 (6H,s、
2xOCH3)5.00 (4H,s、 2XOC)
L+Ar )6.82 (2H,d、 J−9Hz、
2xAr−H)6.86 (4H,6,J−9Hz、
4xAr−H)7.20〜7.44 (6H,m、 6
xAr−H)(6)4−(p−メトキシベンジルチオメ
チル)−2−p−ニトロベンジルオキシカルボニルイミ
ノイミダゾリジン 前記(5)で得た化合物0.48り、アニソール0.7
艷の混合物に0〜5°Cにてトリフルオロ酢酸4−を加
え、1時間攪拌する。溶媒を減圧留去し、残留物に石油
エーテルを加え上清を除去シ、残留物をテトラヒドロフ
ラン10−に溶解し、0〜5°Cに冷却攪拌下、p−ニ
トロベンジルN−(メトキシ(メチルチオ)メチレン〕
カルバメート0.299を加え、トリエチルアミン0.
29−を滴下する。反応混合物を50〜60°Cにて3
時間攪拌後、ジクロルメタンを加え水洗する。硫酸す)
IJウムにて乾燥後溶媒を減圧留去スる。残留物をシ
リカゲル5gのカラムクロマト(クロロホルム−メタノ
ール−95=5溶出)にて精製し、粉末として標記化合
物を得る。
収量0.289゜
NMRδ(CDC13):
2.57 (2H,d、 J−6Hz、 −3OH2)
8.20〜3.50 (IH,m ) 8.68 (2H,s、 −8OH2Ar )8.80
(8H,s、 OCH3) 5.19 (2H,s、 0CH2Ar )6.84
(2H,cl、 J−9Hz、 2XAr−H)7.2
0 (2H,d、 J−9Hz、 2xAr−H)7.
53 (2H,d、 J−9Hz、 2xAr−H)8
.20 (2H,d、 J−9Hz、 2xAr−H)
(7)2−p−ニトロベンジルオキシカルボニルイミノ
イミダゾリジン−4−イルメチルメルカプタン 上記(6)にて得た化合物0.599にアニソール1r
nlを加え、0〜5℃に冷却攪拌下トリフルオロ酢酸o
mlおよびトリフルオルメタンスルホン酸10滴を加え
、1時間攪拌する。溶媒を減圧留去し、残留物に石油エ
ーテルを加え上清を除去する。残留物を減圧乾燥し、標
記化合物をトリフルオロメタンスルホン酸塩として定量
的に得る。
8.20〜3.50 (IH,m ) 8.68 (2H,s、 −8OH2Ar )8.80
(8H,s、 OCH3) 5.19 (2H,s、 0CH2Ar )6.84
(2H,cl、 J−9Hz、 2XAr−H)7.2
0 (2H,d、 J−9Hz、 2xAr−H)7.
53 (2H,d、 J−9Hz、 2xAr−H)8
.20 (2H,d、 J−9Hz、 2xAr−H)
(7)2−p−ニトロベンジルオキシカルボニルイミノ
イミダゾリジン−4−イルメチルメルカプタン 上記(6)にて得た化合物0.599にアニソール1r
nlを加え、0〜5℃に冷却攪拌下トリフルオロ酢酸o
mlおよびトリフルオルメタンスルホン酸10滴を加え
、1時間攪拌する。溶媒を減圧留去し、残留物に石油エ
ーテルを加え上清を除去する。残留物を減圧乾燥し、標
記化合物をトリフルオロメタンスルホン酸塩として定量
的に得る。
NMRδ(CDOIs−DMSO(16) :1.68
(IH,t、 J−8Hz、 −8H)2.70〜2
.95 (2H,m、 −CH2S )8.50〜4.
50 (8H,m、 −0H20H)5.86 (2H
,s、 0CHzAr )7.58 (2H,ti、
J−9Hz、 2xArH)8.22 (2H,6,J
−9Hz、 2xArH)実施例1 (5R,68,8R)−2−(1−カルバミミドイルビ
ロリジンー3−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチ
ル)ペネム−8−カルボン酸(異性体Aおよび異性体B
) p−ニトロベンジル (5R,68,8R)−2−エチ
ルスルフィニル−6−(1−ヒドロキシエチル)ペネム
−8−カルボキシレート1−p−ニトロベンジルオキシ
力ルポニル力ルバミミドイルピロリジン115mgをl
) 34 F 3sa/に溶解し、−40°Cに冷却下
、ジイソプロピルエチルアミン451ngを加え、−8
0〜−40°Cにて80分攪拌する。反応液をruFi
owtj。
(IH,t、 J−8Hz、 −8H)2.70〜2
.95 (2H,m、 −CH2S )8.50〜4.
50 (8H,m、 −0H20H)5.86 (2H
,s、 0CHzAr )7.58 (2H,ti、
J−9Hz、 2xArH)8.22 (2H,6,J
−9Hz、 2xArH)実施例1 (5R,68,8R)−2−(1−カルバミミドイルビ
ロリジンー3−イルチオ)−6−(1−ヒドロキシエチ
ル)ペネム−8−カルボン酸(異性体Aおよび異性体B
) p−ニトロベンジル (5R,68,8R)−2−エチ
ルスルフィニル−6−(1−ヒドロキシエチル)ペネム
−8−カルボキシレート1−p−ニトロベンジルオキシ
力ルポニル力ルバミミドイルピロリジン115mgをl
) 34 F 3sa/に溶解し、−40°Cに冷却下
、ジイソプロピルエチルアミン451ngを加え、−8
0〜−40°Cにて80分攪拌する。反応液をruFi
owtj。
0.1Mリン酸緩衝液(pi(6,0)10−の混液に
溶解し、酸化白金100■を加え、4.2気圧の水素下
、室温で5時間接触還元を行う。触媒を濾去し、濾液を
減圧にて濃縮し、濃縮液をクロロホルムで4回洗浄する
。水層を減圧にて濃縮し、残渣をダイヤイオンHp−2
0(t、scmx、jQcm)のカラムクロマトグラフ
ィーにて精製する。水で溶出する7ラクシヨン(213
0tt/)を除き、5%テトラヒドロフラン水で溶出す
るフラクションを集め濃縮する。濃縮液を再度高速液体
クロマトグラフィー(HPLC)(担体:マイクロボン
ダパ、り自8.7.8111+lX 3 Q龍。
溶解し、酸化白金100■を加え、4.2気圧の水素下
、室温で5時間接触還元を行う。触媒を濾去し、濾液を
減圧にて濃縮し、濃縮液をクロロホルムで4回洗浄する
。水層を減圧にて濃縮し、残渣をダイヤイオンHp−2
0(t、scmx、jQcm)のカラムクロマトグラフ
ィーにて精製する。水で溶出する7ラクシヨン(213
0tt/)を除き、5%テトラヒドロフラン水で溶出す
るフラクションを集め濃縮する。濃縮液を再度高速液体
クロマトグラフィー(HPLC)(担体:マイクロボン
ダパ、り自8.7.8111+lX 3 Q龍。
溶媒ニア%アセトニトリル水、流速:3.(15d/騙
)に付し、目的物の異性体Aおよび異性体Bを含む各々
のフラクションを集め凍結乾燥し無色粉末の標記化合物
を得た。
)に付し、目的物の異性体Aおよび異性体Bを含む各々
のフラクションを集め凍結乾燥し無色粉末の標記化合物
を得た。
異性体A:
収量 18mg
IR(KBrdisk)am−’: 1760,165
0゜1610.157O NMRδ(D20 ) : 1.37 (8H,d、 J−611z、 OH3)2
.2〜2.8 (2H,m、ピロリジン04−)I2)
8.6〜4.6 (6H,m、ピロリジン02 H2+
C’3 HrOs−Hおよび偽−H) 4.00 (IH,da、 J−7Hz、 2Hz、
0s−H)4.80 (HOD ) 5.76 (LH,+1. J−2Hz、 G5−H)
uv λm、x(I20 )3++1 : 254.7
328HPLC保持時間:10.7分 異性体B: 収量 18■ IR(KBrdisk):1760,1640,161
0゜ 57O NMRδ(D20 ) : L、S 6 (8H,d、 J−6Hz、 CH3)2
.2〜L9 (2H,m、ピロリジン0.−I2)8.
6〜4.6 (7H,m、ピロリジン02 Pa、 0
3− H。
0゜1610.157O NMRδ(D20 ) : 1.37 (8H,d、 J−611z、 OH3)2
.2〜2.8 (2H,m、ピロリジン04−)I2)
8.6〜4.6 (6H,m、ピロリジン02 H2+
C’3 HrOs−Hおよび偽−H) 4.00 (IH,da、 J−7Hz、 2Hz、
0s−H)4.80 (HOD ) 5.76 (LH,+1. J−2Hz、 G5−H)
uv λm、x(I20 )3++1 : 254.7
328HPLC保持時間:10.7分 異性体B: 収量 18■ IR(KBrdisk):1760,1640,161
0゜ 57O NMRδ(D20 ) : L、S 6 (8H,d、 J−6Hz、 CH3)2
.2〜L9 (2H,m、ピロリジン0.−I2)8.
6〜4.6 (7H,m、ピロリジン02 Pa、 0
3− H。
ら−H+ Cs HおよびC3@−H)4.80 (H
OD ) 5.76 (IH,el、 J−2Hz、 0s−H)
uv λtIlaz(HtO)nm : 255 、
828HPLCi保持時間:15.6分 実施例2 (1)p−ニトロベンジル (5R,68,8R)−6
−(1−ヒドロキシエチル)−2−(2−p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルイミノイミダゾリジン−4−イ
ル)メチルチオ−2−ペネム−8−カルボキシレート(
IA性体Aおよび異性体Bの混合物) p−ニトロベンジル (5R,68,8R)−2−エチ
ルスルフィニル−6−(1−ヒドロキジエチル)ベネム
−3−カルボキシレート218+n9おJ:び2−p−
ニトロベンジルオキシカルボニルイミノイミダゾリジン
−4−イルメチルメルカプタンのトリフルオロメタンス
ルホン酸塩350rn9をDMF4−に溶解し、−40
〜−50℃に冷却攪拌下pBt+230mgを滴下する
。同温で80分攪拌したのち酢酸エチルを加え水洗する
。有機層を硫酸ナトリウムにて乾燥後溶媒を減圧留去し
、残留物をシリカゲル10gのカラムクロマト(クロロ
ホルム−メタノール−98:2溶出)にて精製し、無色
油状物として標記化合物を得る。収量280 ’9゜N
MRδ(cDcts ) : 1.88 (8H,d、 J−6Hz、 GH3)2.
85〜8.20 (2H,m ) 8、:30〜,1.60 (LH,m )8.60〜8
.90 (21(、m )4.00〜4.40 (2H
,m ) 5.16 (2H,s、 0CH2Ar )5.17
、5.48 (2H,ABq、 J−16Hz、 0O
HzAr )5、(3j (IH,d、 J−2Hz、
0s−H)7.50 (2H,a、 J”9Hz、
2xAr−H)7.60 (2H,d、 J−9H2,
2XAr−H)s、2o (4H,a、 J−9H2,
+xAr−H)(2) (5R,6S、8n)−e−(
x−ヒドロキシエチル)−2−(2−イミノイミダゾリ
ジン)−4−イル−メチルチオ−2−ペネム−3−カル
ボン酸←異性体Aおよび異性体B)上記(1)により得
た化合物280m9をテトラヒドロ7ラン80−に溶解
し、1/15Mリン酸緩衝液(1)H7,0)aogn
lの混液に溶かし、10%パラジウム−炭素400mg
を加え水素気流中室温にて2時間攪拌する。触媒を濾去
し、濾液および洗液を酢酸エチルで2回洗浄する。水層
を減圧濃縮し、ダイヤイオンHp−2o(20x 2
g r−m )のカラムクロマトにて精製する。水で溶
出するフラクションな除き、5%テトラヒドロ7ランー
水で溶出する7ラクシヨンを集め濃縮し、濃縮液を高速
液体クロマトグラフィー(HPLO)(担体:ヌクレオ
シルQa、 10 X3Q(lus、溶媒=10%アセ
トニトリル水、流速8 vd /min )に付し、目
的物の異性体Aおよび異性体Bを含む各々の7ラクシヨ
ンを集め凍結乾燥し、無色粉末の標記化合物を得た。
OD ) 5.76 (IH,el、 J−2Hz、 0s−H)
uv λtIlaz(HtO)nm : 255 、
828HPLCi保持時間:15.6分 実施例2 (1)p−ニトロベンジル (5R,68,8R)−6
−(1−ヒドロキシエチル)−2−(2−p−ニトロベ
ンジルオキシカルボニルイミノイミダゾリジン−4−イ
ル)メチルチオ−2−ペネム−8−カルボキシレート(
IA性体Aおよび異性体Bの混合物) p−ニトロベンジル (5R,68,8R)−2−エチ
ルスルフィニル−6−(1−ヒドロキジエチル)ベネム
−3−カルボキシレート218+n9おJ:び2−p−
ニトロベンジルオキシカルボニルイミノイミダゾリジン
−4−イルメチルメルカプタンのトリフルオロメタンス
ルホン酸塩350rn9をDMF4−に溶解し、−40
〜−50℃に冷却攪拌下pBt+230mgを滴下する
。同温で80分攪拌したのち酢酸エチルを加え水洗する
。有機層を硫酸ナトリウムにて乾燥後溶媒を減圧留去し
、残留物をシリカゲル10gのカラムクロマト(クロロ
ホルム−メタノール−98:2溶出)にて精製し、無色
油状物として標記化合物を得る。収量280 ’9゜N
MRδ(cDcts ) : 1.88 (8H,d、 J−6Hz、 GH3)2.
85〜8.20 (2H,m ) 8、:30〜,1.60 (LH,m )8.60〜8
.90 (21(、m )4.00〜4.40 (2H
,m ) 5.16 (2H,s、 0CH2Ar )5.17
、5.48 (2H,ABq、 J−16Hz、 0O
HzAr )5、(3j (IH,d、 J−2Hz、
0s−H)7.50 (2H,a、 J”9Hz、
2xAr−H)7.60 (2H,d、 J−9H2,
2XAr−H)s、2o (4H,a、 J−9H2,
+xAr−H)(2) (5R,6S、8n)−e−(
x−ヒドロキシエチル)−2−(2−イミノイミダゾリ
ジン)−4−イル−メチルチオ−2−ペネム−3−カル
ボン酸←異性体Aおよび異性体B)上記(1)により得
た化合物280m9をテトラヒドロ7ラン80−に溶解
し、1/15Mリン酸緩衝液(1)H7,0)aogn
lの混液に溶かし、10%パラジウム−炭素400mg
を加え水素気流中室温にて2時間攪拌する。触媒を濾去
し、濾液および洗液を酢酸エチルで2回洗浄する。水層
を減圧濃縮し、ダイヤイオンHp−2o(20x 2
g r−m )のカラムクロマトにて精製する。水で溶
出するフラクションな除き、5%テトラヒドロ7ランー
水で溶出する7ラクシヨンを集め濃縮し、濃縮液を高速
液体クロマトグラフィー(HPLO)(担体:ヌクレオ
シルQa、 10 X3Q(lus、溶媒=10%アセ
トニトリル水、流速8 vd /min )に付し、目
的物の異性体Aおよび異性体Bを含む各々の7ラクシヨ
ンを集め凍結乾燥し、無色粉末の標記化合物を得た。
異性体A:
収量 29m9(24,2%)
I R(KBrdisk )cm”: 1765.16
80. i57ONMRδ(珈O): 1.36 (8H,d、 J−6Hz、 G)L+)8
.15〜8.80 (2H,m ) 3.50〜4.08 (3H,m ) 4.10〜4.60 (2H,m ) 4.80 (HOD ) 5.78 (IH,ci、 J−2Hz、 0s−H)
uv λmax(H2O)yLm : 256 、 8
25HPLO保持時間=8.8分 関性体B: 収量 27■(22,5%) I R(KBr disk)cm7’ :1765.1
680.175ONMRδ(D20): 1.85 (8H,d、 J−6Hz、 CjHs )
2.90〜4.04 (5H,m ) 4.20〜4.65 (2H,m ) 4.80 (HOD ) 5.78 (LH,6,J−2)1z、 Cs−H)u
vλInax()bo)Wm : 256 、824H
PLC保持時間:9.6分 参考例5 (1)p−ニトロベンジル (5R,68,8R)−2
−エチルスルフィニル−6−(1−ヒドロキシエチル)
ペネム−3−カルボキシレートp−ニトロベンジル (
5R,68,8R)−2−エチルチオ−6−(1−ヒド
ロキシエチル)ペネム−8−カルボキシレー)185m
gをジクロロメタン30−に溶解し一80°C〜=20
°Cにてm−りop過安息香酸110mgを加え同温に
て30分攪拌、更にm−クロロ過安息香酸40mgを加
え同温にて15分攪拌する。
80. i57ONMRδ(珈O): 1.36 (8H,d、 J−6Hz、 G)L+)8
.15〜8.80 (2H,m ) 3.50〜4.08 (3H,m ) 4.10〜4.60 (2H,m ) 4.80 (HOD ) 5.78 (IH,ci、 J−2Hz、 0s−H)
uv λmax(H2O)yLm : 256 、 8
25HPLO保持時間=8.8分 関性体B: 収量 27■(22,5%) I R(KBr disk)cm7’ :1765.1
680.175ONMRδ(D20): 1.85 (8H,d、 J−6Hz、 CjHs )
2.90〜4.04 (5H,m ) 4.20〜4.65 (2H,m ) 4.80 (HOD ) 5.78 (LH,6,J−2)1z、 Cs−H)u
vλInax()bo)Wm : 256 、824H
PLC保持時間:9.6分 参考例5 (1)p−ニトロベンジル (5R,68,8R)−2
−エチルスルフィニル−6−(1−ヒドロキシエチル)
ペネム−3−カルボキシレートp−ニトロベンジル (
5R,68,8R)−2−エチルチオ−6−(1−ヒド
ロキシエチル)ペネム−8−カルボキシレー)185m
gをジクロロメタン30−に溶解し一80°C〜=20
°Cにてm−りop過安息香酸110mgを加え同温に
て30分攪拌、更にm−クロロ過安息香酸40mgを加
え同温にて15分攪拌する。
反応液をジクロロメタンで希釈し5%炭酸水素す) I
Jウム水で2回、更に水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧にて留去する。残渣をンリカゲ
ル12!7を用いたカラムクロマトグラフィー(ベンゼ
ン:酢酸エチル−1:2)で精製すると無色油状の標記
化合物が得られる。収量95■O I R(neat ) cm−’ : 1780 、1
685HMRδ(GDGh ) : 1.87 (8H,a、 J−7Hz )1.40 (
8H,t、 J−7Hz )3.08 (LH,q、
J−7Hz )8.11 (18,Q、 J−7H2)
8.8〜4.0 (IH,m ) 4.28 (IH,clq、 J−7H2)5.85
(2H,ABq、 J−14Hz )5.75 (0,
5H,cl、 J−2Hz )5.87 (0,5H,
d、 J−2Hz )7.59 (IH,d、 J−9
H2)7.61 (IH,d、 J−9Hz )8.2
4 (2H,d、 J−9Hz )UV λmax (
ジオキサン)nm:851出願人 第一製薬株式会社
Jウム水で2回、更に水で洗浄し、無水硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、溶媒を減圧にて留去する。残渣をンリカゲ
ル12!7を用いたカラムクロマトグラフィー(ベンゼ
ン:酢酸エチル−1:2)で精製すると無色油状の標記
化合物が得られる。収量95■O I R(neat ) cm−’ : 1780 、1
685HMRδ(GDGh ) : 1.87 (8H,a、 J−7Hz )1.40 (
8H,t、 J−7Hz )3.08 (LH,q、
J−7Hz )8.11 (18,Q、 J−7H2)
8.8〜4.0 (IH,m ) 4.28 (IH,clq、 J−7H2)5.85
(2H,ABq、 J−14Hz )5.75 (0,
5H,cl、 J−2Hz )5.87 (0,5H,
d、 J−2Hz )7.59 (IH,d、 J−9
H2)7.61 (IH,d、 J−9Hz )8.2
4 (2H,d、 J−9Hz )UV λmax (
ジオキサン)nm:851出願人 第一製薬株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 (1)一般式 〔式中+ R1は水素原子または水酸基を有することも
ある低級アルキル基を意味する。職は(式中r Qiは
単結合または直鎖もしくは分校鎖状の低級アルキレン基
を意味し、=は8゜4.5または6を、Sは1,2.8
または4を意味する。&、R5および烏は同一または異
って水素原子または低級アルキル基を意味する。)で表
わされる脂環状グアニジン置換基を意味し、R3は水素
原子またはエステル残基を意味する。〕またはその互変
異性体とじて表わされるペネム誘導体およびその塩 (2) (5R,68)ペネム誘導体である特許請求の
範囲第1項記載の化合物 (8) (5R,68,8R)−6−(1−ヒドロキシ
エチル)ペネム誘導体である特許請求の範囲第1項記載
の化合物
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59078007A JPS60222487A (ja) | 1984-04-18 | 1984-04-18 | ペネム誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59078007A JPS60222487A (ja) | 1984-04-18 | 1984-04-18 | ペネム誘導体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60222487A true JPS60222487A (ja) | 1985-11-07 |
Family
ID=13649726
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59078007A Pending JPS60222487A (ja) | 1984-04-18 | 1984-04-18 | ペネム誘導体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60222487A (ja) |
-
1984
- 1984-04-18 JP JP59078007A patent/JPS60222487A/ja active Pending
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