JPS60215757A - ゲツタ−チヤンバ− - Google Patents
ゲツタ−チヤンバ−Info
- Publication number
- JPS60215757A JPS60215757A JP7083484A JP7083484A JPS60215757A JP S60215757 A JPS60215757 A JP S60215757A JP 7083484 A JP7083484 A JP 7083484A JP 7083484 A JP7083484 A JP 7083484A JP S60215757 A JPS60215757 A JP S60215757A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- getter
- shroud
- chamber
- pump
- conductance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/564—Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F04—POSITIVE - DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS FOR LIQUIDS OR ELASTIC FLUIDS
- F04B—POSITIVE-DISPLACEMENT MACHINES FOR LIQUIDS; PUMPS
- F04B37/00—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00
- F04B37/02—Pumps having pertinent characteristics not provided for in, or of interest apart from, groups F04B25/00 - F04B35/00 for evacuating by absorption or adsorption
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は、ゲッター材を蒸発させ、シュラウド面に蒸着
させて、該蒸着膜に気体を吸着させるゲッターチャンバ
ーに関する。
させて、該蒸着膜に気体を吸着させるゲッターチャンバ
ーに関する。
ゲッターポンプは大量の活性な金属膜を作り、それに気
体を吸着させる真空ポンプであるが、蒸発したゲッター
材が付着し蒸着膜を作るシュラウドは、水冷あるいは液
体窒素冷却を行うことにより、空間中の気体を収着する
能力が大幅に向上する。この効率向上を目脂したものが
、ゲッターポンプ、シュラウド、ケースからなるゲッタ
ーチャンバーである。このゲッターチャンバーを被排気
室に取り付は真空ポンプとして作動させる。従来より用
いられているゲッターチャンバーの外観図を第１図に示
す。１はケースで、ポート５ヘゲツタ−ポンプを取り付
け、フランジ２を被排気室へ取り付けて真空ポンプとし
て用いる。この際、水又は液体窒素を入口孔３から入れ
て吸着効率を高める。出口孔４は気化したガスの出口で
ある。このゲッターチャンバーの断面図を第２図に示す
。
体を吸着させる真空ポンプであるが、蒸発したゲッター
材が付着し蒸着膜を作るシュラウドは、水冷あるいは液
体窒素冷却を行うことにより、空間中の気体を収着する
能力が大幅に向上する。この効率向上を目脂したものが
、ゲッターポンプ、シュラウド、ケースからなるゲッタ
ーチャンバーである。このゲッターチャンバーを被排気
室に取り付は真空ポンプとして作動させる。従来より用
いられているゲッターチャンバーの外観図を第１図に示
す。１はケースで、ポート５ヘゲツタ−ポンプを取り付
け、フランジ２を被排気室へ取り付けて真空ポンプとし
て用いる。この際、水又は液体窒素を入口孔３から入れ
て吸着効率を高める。出口孔４は気化したガスの出口で
ある。このゲッターチャンバーの断面図を第２図に示す
。
ポート５ヘゲツタ−ポンプ１１が取り付けられていて、
ゲッターポンプの先端にはゲッター材１０が付いている
。ゲッター材としては通常チタンが用いられるが、この
ゲッター材の内部にはフィラメントが組み込まれており
、電源６によりフイラメントヘ電流を流すことによって
ゲッター材が蒸発しシュラウド９の内面へ蒸着する。ゲ
ッターポンプとしては第３図に示すようなフィラメント
タイプのものもある。フィラメント１２はゲッター材の
より線の上にタングステン線等を巻きつけてできている
。これが蒸発源となる。ゲッター材を蒸発させる際に、
フランジ２で接続された被排気室をゲッター材で汚染し
ないように遮蔽する必要がある。その為にシュラウド９
の入口に棒８で支持された遮蔽板７を設けている。従来
のゲッターチャンバーのシュラウドに用いられている遮
蔽板の取り付は様子を第４図に示す。遮蔽板７はポンプ
作用をするシュラウド９の前面、すなわち被排気室側へ
付いている。これはポンプの実効排気速度を考えた場合
、管路のコンダクタンスを減少させるような欠点があっ
た。真空ポンプにおいて、真の排気速度、すなわち実効
排気速度は、ポンプの排気速度ばかりでなくポンプ作用
を行う場所と被排気室からそこまでの管路のコンダクタ
ンスとポンプの排気速度との合成によりまる。コンダク
タンスは次式で定義される。
ゲッターポンプの先端にはゲッター材１０が付いている
。ゲッター材としては通常チタンが用いられるが、この
ゲッター材の内部にはフィラメントが組み込まれており
、電源６によりフイラメントヘ電流を流すことによって
ゲッター材が蒸発しシュラウド９の内面へ蒸着する。ゲ
ッターポンプとしては第３図に示すようなフィラメント
タイプのものもある。フィラメント１２はゲッター材の
より線の上にタングステン線等を巻きつけてできている
。これが蒸発源となる。ゲッター材を蒸発させる際に、
フランジ２で接続された被排気室をゲッター材で汚染し
ないように遮蔽する必要がある。その為にシュラウド９
の入口に棒８で支持された遮蔽板７を設けている。従来
のゲッターチャンバーのシュラウドに用いられている遮
蔽板の取り付は様子を第４図に示す。遮蔽板７はポンプ
作用をするシュラウド９の前面、すなわち被排気室側へ
付いている。これはポンプの実効排気速度を考えた場合
、管路のコンダクタンスを減少させるような欠点があっ
た。真空ポンプにおいて、真の排気速度、すなわち実効
排気速度は、ポンプの排気速度ばかりでなくポンプ作用
を行う場所と被排気室からそこまでの管路のコンダクタ
ンスとポンプの排気速度との合成によりまる。コンダク
タンスは次式で定義される。
Ｑ＝Ｃ（Ｐ２−Ｐ、） ・・・（１）
ここに、Ｑ （Ｔｏｒｒ Ｑ ／ ｓ ）は流量、ｐ、
。
。
Ｐ、（Ｔｏｒｒ）は圧力、Ｃ（Ｑ／ｓ）はＰ２とＰ。
の圧力差を有する区間のコンダクタンスである。
（１）式かられかるように流量ＱはコンダクタンスＣに
比例し、コンダクタンスが大きい程ポンプの排気には有
利であることがわかる。例えば第４図に示したシュラウ
ドの入口コンダクタンスを考えてみる。−例としてシュ
ラウド内径２００ｍ、遮蔽板径６０ｍｎとした場合入口
コンダクタンスＣ８は、Ｃ、＝３３１２ Ｑ ／ ｓで
あるが、遮蔽板がない場合のコンダクタンスＣ２は、Ｃ
，＝３６４０Ｑ／Ｂと３２８ Ｑ ／ ｓの違いがあり
、遮蔽板によって入口コンダクタンスだけでも約１割の
減少のあることがわかる。実効排気速度をＳ。、ポンプ
自体の排気速度をＳ、管路各部のコンダクタンスをＣ２
（全て単位はＱ ／ ｓ ）とすれば となる、ここでｎは管路内のコンダクタンスを有する要
素の数である。（２）式かられかるように、ポンプ自体
の排気速度Ｓが決まったら、Ｃ，をできる限り大きくす
ることが、Ｓ１１を大きくするためには必要である。特
にゲッターポンプの場合、Ｓはかなり大きく取れるので
コンダクタンスが重要になってくる。
比例し、コンダクタンスが大きい程ポンプの排気には有
利であることがわかる。例えば第４図に示したシュラウ
ドの入口コンダクタンスを考えてみる。−例としてシュ
ラウド内径２００ｍ、遮蔽板径６０ｍｎとした場合入口
コンダクタンスＣ８は、Ｃ、＝３３１２ Ｑ ／ ｓで
あるが、遮蔽板がない場合のコンダクタンスＣ２は、Ｃ
，＝３６４０Ｑ／Ｂと３２８ Ｑ ／ ｓの違いがあり
、遮蔽板によって入口コンダクタンスだけでも約１割の
減少のあることがわかる。実効排気速度をＳ。、ポンプ
自体の排気速度をＳ、管路各部のコンダクタンスをＣ２
（全て単位はＱ ／ ｓ ）とすれば となる、ここでｎは管路内のコンダクタンスを有する要
素の数である。（２）式かられかるように、ポンプ自体
の排気速度Ｓが決まったら、Ｃ，をできる限り大きくす
ることが、Ｓ１１を大きくするためには必要である。特
にゲッターポンプの場合、Ｓはかなり大きく取れるので
コンダクタンスが重要になってくる。
本発明の目的は、ゲッター材を蒸発させ、シュラウド面
に蒸着させ、該蒸着膜に気体を吸着させるゲッターチャ
ンバーにおいて、チャンバー内のコンダクタンスを増加
させ、従来のものより実効排気速度の大きなゲッターチ
ャンバーを提供することにある。
に蒸着させ、該蒸着膜に気体を吸着させるゲッターチャ
ンバーにおいて、チャンバー内のコンダクタンスを増加
させ、従来のものより実効排気速度の大きなゲッターチ
ャンバーを提供することにある。
上記目的を達成するために、ゲッターチャンバーにおい
て、ゲッター材が蒸発して飛ぶ際に、被排気室へ飛ばな
いように設ける遮蔽板をシュラウド内部へ設けたもので
ある。
て、ゲッター材が蒸発して飛ぶ際に、被排気室へ飛ばな
いように設ける遮蔽板をシュラウド内部へ設けたもので
ある。
以下、本発明の一実施例を第５図により説明する。部品
番号は従来例の第２図と同じである。第５図に示したゲ
ッターチャンバーが真空ポンプとして作用する原理も従
来のゲッターチャンバーに同じである。しかし、フィラ
メントを熱してゲッター材を蒸発させる際、ゲッター材
が被排気系側へ飛ばないように設けられた遮蔽板７の位
置を、従来のシュラウド９人口ではなく、シュラウド９
の内部に設けである。このような構造となってもゲッタ
ー材は全ての方向に飛ぶので、シュラウド入口から遮蔽
板までのシュラウド内面にもゲッター材は蒸着し、十分
なポンプ作用を持つ。このような構造とした場合、ゲッ
ターチャンバーの実効排気速度を大きくできる理由につ
いて第６図を用い説明する。ゲッター材が蒸着しポンプ
作用を行うシュラウド自体も管路であり、有限なコンダ
クタンスを有する。そこでシュラウド自体のコンダクタ
ンスも大きくすることは実効排気速度の増加につながる
。第６図の横軸Ｘは第５図におけるシュラウド９の入口
からシュラウド後端までの距離である、縦軸はｘ＝０か
らｘ＝Ｌまでのシュラウド内のコンダクタンス変化であ
る。■のコンダクタンスはシュラウドのみで、遮蔽板の
無い場合、■は第５図に示す本発明の実施例の場合のコ
ンダクタンス変化で、ｘ＝Ｑの位置に遮蔽板が付いてい
る場合、■は従来のゲッターチャンバーで、シュラウド
のＸ＝Ｏの位置に遮蔽板が付いている場合のコンダクタ
ンス変化である。本図かられかるように、遮蔽板をシュ
ラウド内部へ設けることにより従来よりも０５１５塁の
範囲で大きなコンダクタンスの得られることがわかる。
番号は従来例の第２図と同じである。第５図に示したゲ
ッターチャンバーが真空ポンプとして作用する原理も従
来のゲッターチャンバーに同じである。しかし、フィラ
メントを熱してゲッター材を蒸発させる際、ゲッター材
が被排気系側へ飛ばないように設けられた遮蔽板７の位
置を、従来のシュラウド９人口ではなく、シュラウド９
の内部に設けである。このような構造となってもゲッタ
ー材は全ての方向に飛ぶので、シュラウド入口から遮蔽
板までのシュラウド内面にもゲッター材は蒸着し、十分
なポンプ作用を持つ。このような構造とした場合、ゲッ
ターチャンバーの実効排気速度を大きくできる理由につ
いて第６図を用い説明する。ゲッター材が蒸着しポンプ
作用を行うシュラウド自体も管路であり、有限なコンダ
クタンスを有する。そこでシュラウド自体のコンダクタ
ンスも大きくすることは実効排気速度の増加につながる
。第６図の横軸Ｘは第５図におけるシュラウド９の入口
からシュラウド後端までの距離である、縦軸はｘ＝０か
らｘ＝Ｌまでのシュラウド内のコンダクタンス変化であ
る。■のコンダクタンスはシュラウドのみで、遮蔽板の
無い場合、■は第５図に示す本発明の実施例の場合のコ
ンダクタンス変化で、ｘ＝Ｑの位置に遮蔽板が付いてい
る場合、■は従来のゲッターチャンバーで、シュラウド
のＸ＝Ｏの位置に遮蔽板が付いている場合のコンダクタ
ンス変化である。本図かられかるように、遮蔽板をシュ
ラウド内部へ設けることにより従来よりも０５１５塁の
範囲で大きなコンダクタンスの得られることがわかる。
第６図に斜線で示した部分がコンダクタンスの増加分で
ある。
ある。
ゲッター材が蒸着したシュラウド面の排気速度は、ゲッ
ター材があらゆる方向に飛ぶことから、遮蔽板による若
干の障壁があったとしても、遮蔽板のない曲線■、入口
にある曲線■、内部にある曲線■のいずれの場合もほぼ
等しいと考えられる。被排気室側ヘゲツタ−材が飛ばな
いようにするための遮蔽板は不可欠である。この場合、
従来よりも、シュラウド内部特に入口でのコンダクタン
スを大きくできる本発明のゲッターチャンバーは、その
実効排気速度を従来よりも大きくできる。また、ゲッタ
ーチャンバーは、液体窒素で冷却することにより、気体
分子を凝縮して吸着するポンプ作用を持つので、遮蔽板
をゲッターチャンバー内部に入れることは、気体分子が
ゲッターチャンバー内部へ飛び込む確立を大きく増加さ
せることになり、ポンプとしての作用、すなわち実効排
気速度を大幅に向上させることができる。
ター材があらゆる方向に飛ぶことから、遮蔽板による若
干の障壁があったとしても、遮蔽板のない曲線■、入口
にある曲線■、内部にある曲線■のいずれの場合もほぼ
等しいと考えられる。被排気室側ヘゲツタ−材が飛ばな
いようにするための遮蔽板は不可欠である。この場合、
従来よりも、シュラウド内部特に入口でのコンダクタン
スを大きくできる本発明のゲッターチャンバーは、その
実効排気速度を従来よりも大きくできる。また、ゲッタ
ーチャンバーは、液体窒素で冷却することにより、気体
分子を凝縮して吸着するポンプ作用を持つので、遮蔽板
をゲッターチャンバー内部に入れることは、気体分子が
ゲッターチャンバー内部へ飛び込む確立を大きく増加さ
せることになり、ポンプとしての作用、すなわち実効排
気速度を大幅に向上させることができる。
例えば第７図、（ａ）、（ｂ）、２つのシュラウドにつ
いてその実効排気速度をめてみる。ここに、（ａ）は従
来例のシュラウド、（ｂ）は本発明によるシュラウドの
実施例である。計算に当っては次の仮定を設ける。
いてその実効排気速度をめてみる。ここに、（ａ）は従
来例のシュラウド、（ｂ）は本発明によるシュラウドの
実施例である。計算に当っては次の仮定を設ける。
（１）チタンが蒸着したシュラウド面の管内コンダクタ
ンスは無視する（どの部分に蒸着したチタンでも吸気口
では同じ排気速度を有する・） （ｎ ） 本発明（ｂ）のシュラウドは、遮蔽板を境に
２つの部分に分けて考え、遮蔽板より右側のシュラウド
面の実効排気速度をめる際には、吸気口から遮蔽板まで
の管路（長さＱ）のコンダクタンスを考慮する。更に、
遮蔽板によって吸気口から遮蔽板までのシュラウド面に
チタンが蒸着する割合が減少する場合についても考慮す
る。
ンスは無視する（どの部分に蒸着したチタンでも吸気口
では同じ排気速度を有する・） （ｎ ） 本発明（ｂ）のシュラウドは、遮蔽板を境に
２つの部分に分けて考え、遮蔽板より右側のシュラウド
面の実効排気速度をめる際には、吸気口から遮蔽板まで
の管路（長さＱ）のコンダクタンスを考慮する。更に、
遮蔽板によって吸気口から遮蔽板までのシュラウド面に
チタンが蒸着する割合が減少する場合についても考慮す
る。
以上の仮定では、本発明の遮蔽板をシュラウド内部に設
けた場合、シュラウド吸気口から遮蔽板までの管路コン
ダクタンスを考慮しているので、従来例のシュラウドの
実効排気速度よりも過少に見積もることに゛なる。第７
図に示した記号を用い実効排気速度をめる。
けた場合、シュラウド吸気口から遮蔽板までの管路コン
ダクタンスを考慮しているので、従来例のシュラウドの
実効排気速度よりも過少に見積もることに゛なる。第７
図に示した記号を用い実効排気速度をめる。
（Ｉ） 従来例（遮蔽板がシュラウド入口にある場合）
入口コンダクタンス Ｃ。
ＣＩ ＝９．１（Ｄ” −ｄ” ）ＣＱ／Ｂ＞ ・・・
（３）ゲッター面排気速度 ＳＩ Ｓ、＝πＤＬＳ、（嚢／ ｔｓ ） ・・・（４）ここ
に、Ｓｏは、チタン蒸着面の単位面積当りの排気速度で
ある。
（３）ゲッター面排気速度 ＳＩ Ｓ、＝πＤＬＳ、（嚢／ ｔｓ ） ・・・（４）ここ
に、Ｓｏは、チタン蒸着面の単位面積当りの排気速度で
ある。
実効排気速度５ＩＩｌ
ｓ ａ １＝＝Ｃ，ｓ ｌ ／（ＣＩ ＋ Ｓ ｌ ）
（ｎ ／ ｓ）・・・（ｓ）（ＩＩ） 本発明の例（
シュラウド内部に遮蔽板を設けた場合） 入口コンダクタンス Ｃ３ Ｃ，＝９．ＩＤ” （Ｑ／ｓ） −（６）吸気口から遮
蔽板まで（０≦Ｘ≦Ω）におけるチタン蒸着面排気速度
Ｓ。
（ｎ ／ ｓ）・・・（ｓ）（ＩＩ） 本発明の例（
シュラウド内部に遮蔽板を設けた場合） 入口コンダクタンス Ｃ３ Ｃ，＝９．ＩＤ” （Ｑ／ｓ） −（６）吸気口から遮
蔽板まで（０≦Ｘ≦Ω）におけるチタン蒸着面排気速度
Ｓ。
Ｓ２＝πＤＱＳ０α ・・・（７）
ここ番；、αはチタンの吸着確率である。（α≦１）Ｓ
、による吸気口での実効排気速度５０１Ｓ ａｘ ＝Ｃ
２Ｓ、 ／（ｃｔ ＋ｓｔ ） （ｎ／ ｍ）・・・（
８）管長Ωのコンダクタンス Ｃ３ Ｃ，＝１２．１Ｄ” ／Ｑ ・・・（９）ｘ＝ｆｉにお
けるコンダクタンス Ｃ４（＝ｃ＋ ）Ｃａ ＝９．１
（Ｄ” −ｄ” ） ・・・（１０）Ｘ≧Ωのチタン
蒸着面排気速度 Ｓ。
、による吸気口での実効排気速度５０１Ｓ ａｘ ＝Ｃ
２Ｓ、 ／（ｃｔ ＋ｓｔ ） （ｎ／ ｍ）・・・（
８）管長Ωのコンダクタンス Ｃ３ Ｃ，＝１２．１Ｄ” ／Ｑ ・・・（９）ｘ＝ｆｉにお
けるコンダクタンス Ｃ４（＝ｃ＋ ）Ｃａ ＝９．１
（Ｄ” −ｄ” ） ・・・（１０）Ｘ≧Ωのチタン
蒸着面排気速度 Ｓ。
Ｓ、 ＝πＤ（Ｌ−ｆｌ）Ｓ、 −（１１）Ｓｓによる
吸気口での実効排気速度 ｓ＠４Ｓｅａ ＝Ｃｚ Ｃａ
Ｃａ Ｓａ ／（Ｃ２ＣＩ Ｃ４＋Ｃｌ１Ｃ４Ｃｘ＋
Ｃ４Ｃ３Ｃ，＋Ｓ３Ｃ，Ｃ３） ・・・（１２）本発明
のシュラウドの実効排気速度 Ｎ８゜Ｓｅａ ＝Ｓ−ｍ
＋８ ＠４ ・・・（１３）上述した通り、仮定（＋
）、ｌ）の基での実効排気速度がまる。これらの式によ
ってめられた、従来例、及び本発明の一実施例の実効排
気速度、Ｓａ１，８１１２を、第１表に示す。なお、チ
タン蒸着面単位面積当りの排気速度Ｓ０は、液体窒素温
度、−１９５℃における窒素（Ｎ２）に対する値、８．
３ （Ｑ／５ｃｎｆｆ）を用いた。
吸気口での実効排気速度 ｓ＠４Ｓｅａ ＝Ｃｚ Ｃａ
Ｃａ Ｓａ ／（Ｃ２ＣＩ Ｃ４＋Ｃｌ１Ｃ４Ｃｘ＋
Ｃ４Ｃ３Ｃ，＋Ｓ３Ｃ，Ｃ３） ・・・（１２）本発明
のシュラウドの実効排気速度 Ｎ８゜Ｓｅａ ＝Ｓ−ｍ
＋８ ＠４ ・・・（１３）上述した通り、仮定（＋
）、ｌ）の基での実効排気速度がまる。これらの式によ
ってめられた、従来例、及び本発明の一実施例の実効排
気速度、Ｓａ１，８１１２を、第１表に示す。なお、チ
タン蒸着面単位面積当りの排気速度Ｓ０は、液体窒素温
度、−１９５℃における窒素（Ｎ２）に対する値、８．
３ （Ｑ／５ｃｎｆｆ）を用いた。
表かられかるように、本発明によるゲッターチャンバー
の実効排気速度Ｓｅ２は、吸気口から遮蔽板までの管路
コンダクタンスを考慮し、排気速度を過少に見積ってい
るのもかかわらず、従来の、吸気口に遮蔽板を設けた時
の実効排気速度Ｓ＠。
の実効排気速度Ｓｅ２は、吸気口から遮蔽板までの管路
コンダクタンスを考慮し、排気速度を過少に見積ってい
るのもかかわらず、従来の、吸気口に遮蔽板を設けた時
の実効排気速度Ｓ＠。
より大きな値をとることができる。
以上のように１本・発明によれば、超高真空ポンプにと
って１番のキーポイントとなる。ポンプ内部へ飛び込む
気体分子数を増大させるという太きな効果が得られ、従
来より優れたゲッターチャンバーを提供することができ
る。
って１番のキーポイントとなる。ポンプ内部へ飛び込む
気体分子数を増大させるという太きな効果が得られ、従
来より優れたゲッターチャンバーを提供することができ
る。
本発明によれば、真空ポンプとして作用するゲッターチ
ャンバー内のシュラウド内部のコンダクタンスを大きく
できるのでゲッターチャンバーの実効排気速度が大きく
なり、性能向上の効果がある。
ャンバー内のシュラウド内部のコンダクタンスを大きく
できるのでゲッターチャンバーの実効排気速度が大きく
なり、性能向上の効果がある。
第１図〜第４図は従来のゲッターチャンバーの説明図で
、第１図はゲッターチャンバーの外観図、第２図はゲッ
ターチャンバーの断面図で、ゲッターポンプの作動原理
を説明する図、第３図はフィラメントタイプのゲッター
ポンプ、第４図はシュラウドの外観図、第５図は本発明
のゲッターチャンバー断面図、第６図は効果を説明する
ための図で、シュラウド内部のコンダクタンス変化、第
７図は（ａ）が従来例、（ｂ）が本発明のシュラウドで
ある。 １・・・ケース、２・・・フランジ、３・・・冷媒入口
、４・・・ガス出口孔、５・・・ボート、６・・・電源
、７・・・遮蔽板、８・・・棒、９・・・シュラウド、
１０・・・ゲッター材、１１・・・ゲッターポンプ、１
２・・・フィラメント。 代理人 弁理士 高橋明夫 第 １ （！］ ｌ 第２（２） ＄３（：ｊ３ 箒４０ 竿Ｓω
、第１図はゲッターチャンバーの外観図、第２図はゲッ
ターチャンバーの断面図で、ゲッターポンプの作動原理
を説明する図、第３図はフィラメントタイプのゲッター
ポンプ、第４図はシュラウドの外観図、第５図は本発明
のゲッターチャンバー断面図、第６図は効果を説明する
ための図で、シュラウド内部のコンダクタンス変化、第
７図は（ａ）が従来例、（ｂ）が本発明のシュラウドで
ある。 １・・・ケース、２・・・フランジ、３・・・冷媒入口
、４・・・ガス出口孔、５・・・ボート、６・・・電源
、７・・・遮蔽板、８・・・棒、９・・・シュラウド、
１０・・・ゲッター材、１１・・・ゲッターポンプ、１
２・・・フィラメント。 代理人 弁理士 高橋明夫 第 １ （！］ ｌ 第２（２） ＄３（：ｊ３ 箒４０ 竿Ｓω
Claims (1)
- １、水冷却あるいは液体窒素冷却を行うための冷媒を入
れるシュラウドとゲッター材を蒸発させ、冷却されたシ
ュラウド面にゲッター材の蒸着膜を作るゲッターポンプ
と該シュラウド面ゲッターポンプを収納するケースから
なり、真空ポンプとして作用するゲッターチャンバーに
おいて、蒸発したゲッター材が排気したい真空装置側へ
飛ばないように遮蔽する遮蔽板をシュラウドの内部に設
けたことを特徴とするゲッターチャンバー。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7083484A JPS60215757A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | ゲツタ−チヤンバ− |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7083484A JPS60215757A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | ゲツタ−チヤンバ− |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60215757A true JPS60215757A (ja) | 1985-10-29 |
Family
ID=13442992
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7083484A Pending JPS60215757A (ja) | 1984-04-11 | 1984-04-11 | ゲツタ−チヤンバ− |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60215757A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0499268A (ja) * | 1990-08-09 | 1992-03-31 | Anelva Corp | スパッタリング装置 |
| JPH08958U (ja) * | 1995-12-21 | 1996-06-11 | アネルバ株式会社 | スパッタリング装置 |
-
1984
- 1984-04-11 JP JP7083484A patent/JPS60215757A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0499268A (ja) * | 1990-08-09 | 1992-03-31 | Anelva Corp | スパッタリング装置 |
| JPH08958U (ja) * | 1995-12-21 | 1996-06-11 | アネルバ株式会社 | スパッタリング装置 |
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