JPS60215655A - ビス（アミノメチル）ビシクロ〔２．２．１〕ヘプタン誘導体とその用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ノルボルナンは軽質炭化水素製造設備ておける蒸留塔の
底部の残留重質炭化水素中に存在しまたはそれから誘導
される環式化合物である。ノルボルナンのいろいろな透
導体、とりわけ、ビス（メチルアミン）　：’Ｉ’　ｄ
　造されている。本発明の主順はホスホノメチル化した
この化合物である。

エチレンジアミンおよびジエチレントリアミンのような
アミンはホルムアルデヒドおよび亜リン９　（ｐｈｏｓ
ｐｈｏｒｕｓ　ａｃｉｄ）と反（，５して、メチレンホ
スホネート基 Ｈ ／ がアミン水素を置喚したアミンのメチレンホスホネート
誘導本を得ることが可能であることはよく知られている
（米国特許第３，２８８，８４６号参照）。

メチレンホスホン酸基で置換したアルキレンポリアミン
を金属イオンのコントロールに化学量論的触未満の量で
用いることが１９５２年に発行された特許（米国特許第
２ｉ０９，３９０号）に記載されている。その後、アル
キレンホスホネート誘導体を含む水分散性重合体アミン
キレート化剤はスケール抑制（５ｃａｌｅ　１ｎｈｉｂ
ｉｔｉｏｎ　）適用において「１泪値」効果（”　ｔｈ
ｒｅｓｈｏｌｄ　”　ｅｆｆｅｃｔｓ　）を有すること
が示され（米国特許第３，３３１，７７３号参照）、こ
の用語は化学量論的量より小ない量における助剤の使用
を記載するために用いられた。

ジアミンおよびポリアミンメチレンホスホネート誘導体
は米国特許第３，３３６，２２１号および同第３．４３
４，９６９号においてそれぞれ教示され、かつクレーム
にｉｉ’！　ｉ？ｉ１！されている。これら２つの特許
に開示された製品のいくつかは商業的に入手可能であり
、閾値量で適用する場合スケール抑制剤として推薦され
ている。

キレート化剤として有用でありかつ１欄値量で用いるこ
とができる複素環式窒素含有化合物を開示しているその
他の特許として米国特許第３．６７４，８０４号、同第
３，７２０，４９８号、同車３．７４３．６０　：う号
、同第３，８５９，２１１号および同第３，９５４，７
６１号がある。

これらに含まれる化合物のいくつがば下記式を有する複
素環化合物である。

〔式中、Ｒは水素またはアルキル基、■は水素、アルカッ金属、アンモニウム基、またはノエタノールアミン基もしくはトリエタノールアミン基である。〕

および ０ 脂肪族の特定のホスホン酸４ｊｖ心体は亜リン酸を酸無
水物または酸塩素化物、例えば、酢酸、７０ロビオン酸
およびバレリアン酸の無水物まだは塩素化物と反応させ
て製造することが可能である。製造される化合物は下肥
式を有する。

ＲＯ ＩＩ　Ｉ　ＩＩ （ＨＯ）２Ｐ−Ｃ−ｐ（ＯＨ）２ ＯＨ 〔式中、Ｒは炭素原子１〜５個の低級アルキル基である
。〕これらの羨品の製法および用途が米国特許第３，２
１４，４５４号に記載されている。それには閾値量の使
用によりカルシウムの沈澱を防止することが開示されか
つクレームに記載されて゛いる。

金属イオンの沈澱を抑制する新規なキレート化閾値剤を
ノルぎルナンのビス（メチルアミン）誘導体から作成す
ることが可能であることがここに見い出された。この化
合物は下記構造式を有する。

この化合物は２　（３）　、　５　（６）−ビス〔アミ
ノメチル〕ビシクロ（２，２，１）Ｊブタンというより
一般的な各称でも知られている。その誘導体は＄１アミ
ン水素を置換するいろいろな置換基を有するものである
。

ノルぎルナンビス（メチルアミン）ｆ：％定の化合物と
反応させると新規な部類の化合物が生成する。例えば、
ホルムアルデヒドおよび亜リン酸でメチレンホスホン酸
誘導体が生成する。これらの新規な化合物は下記構造式
を有する。

〔式中、置換基Ａ、Ｂ、Ｘ、Ｙはそれぞれ独立に、水素
、ヒドロキシアルキル基（ここにアルキル基は２〜６個
の炭素原子を含む。）、メチレンホスホン酸基、メーｙ
−レンスルホン酸基、エチレンスルホン酸基およびゾロ
ピレンスルホン酸基、カルボン！駿基（２〜４個の炭素
原子を有する。）、ならびに前記ホスホン酸誘導体、ス
ルホン酸誘導体または・カルボン酸誘導体のいずれかの
アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニア塩お
よびアミン塩からなる群から選ぶ。〕置換基のうち少な
くとも１つは水素以外、例えば、メチレンホスホン酸基
でなければならない。

式Ｉの化合物のヒドロキシアルキル誘導体、スルホン酸
誘導体またはカルボン酸誘導体を得る方法は業界におい
てよく知られている。

エポキシド、例えば、エチレンまたはプロピレンオキシ
ドと反応させることによってアミンの水素ヲとドロキシ
アルキル基で置換する方法が米国特許第３．３９８．１
９８号に教示されている。

アミンを重亜硫ｉｔナトリウムおよびホルムアルデヒド
と反応させることによってスルホン基でアミン水素を置
換して、アミン化合物の窒素原子にメチレンスルホン峡
置換基金得ることが可能である。この反応は「アミノメ
チレンスルホン酸の製造と性質」（ジャーナル・オプ・
ザ・アメリカン・ケミカル噛ソサエティ（Ｊ、Ａｍ、Ｃ
ｈｅｍ、Ｓｏｃ、　）　＋７７．５５１２〜５５１５頁
、１９５５年）に教示されている。その他のアルキルス
ルホン酸誘導体はアミンをクロロアルキルスルホン酸と
反応させることによって作成し得る。

水溶液中で苛性アルカＩＪ　’　（ＮａＯＨ）の存在に
おいてアミン’１３−１０ロー２−ヒドロキシ１−プロ
ークンスルホン酸と反応させることによって、アミンの
水素を２−ヒドロキシプロピルスルホン酸基でＭＥＡす
ることができる。ヒドロキシプロピルスルホン酸す）　
ＩＪウム基は窒素置換基である。酸が望ましい場合には
、強酸、例えばＨｃｔで酸性化すればナトリウム塩を酸
にするのに充分である。この反応は米国特許第３，０９
１，５２２号に教示されている。

水溶液中で週剰の苛性アルカ＋）　（Ｎａ０Ｆ（）の存
在においてアミンをグリコロニトリルおよびアクリロニ
トリルのような］の当なニトリルと反応させ、次いで公
知の千１！ｈ′で従って塩の形の酸基を遊離のカルボン
酸基に変換することによって、アミンの水素をカルダン
酸基で置換することができる。

酸基のアミン塩の製造に関する反応はよく知られている
。リヒタ〜（Ｒｊｅｈｔｅｒ　）ｔＦＩｒ有機化学教科
書（Ｔｅｘｔｂｏｏｋ　ｏｆ　Ｏｒｇａｎｉｃ　Ｃｈｅ
ｍｉＲｔｒｙ　）　ｊ（第３版）の２４６頁に［すべて
の部類のアミンは、アンモニアのように、塩基性の物質
であり、容易に酸と反応してイオン化可能な塩を生成す
る。」と記載されている。

本発明は、同様に、式■のビス（アミノメチル）ビシク
ロ［２，２，１］へブタンの、動物の骨格の１象形成の
だめの放射性核種用錯化剤としての用途にも係る。

前走査用に広く用いられている第１の放射性核種はＳｒ
　−８５である。ストロンチウム−８５は静脈投与後置
に急速に集まり、骨格系の像形成が可能である。しかし
ながら、５ｉ−８５は長い物理的半減期（６５日）と長
い生理学的半減期（約８００日）を有するので、投与し
得る牡に制約がある。

また、放出される高エネルギーのがンマフォトン（５１
４ｋｅｖ）はコリメートすることが雌しい。

フッ素−１８も骨格系の像形成に用いられている。それ
は半減期１．８５時間の陽電子放出体である。Ｆ−１８
は良好な像形成特性を有するけれどもいくつかの重大な
欠点がある。フッ素−１８はサイクロトロンで生成され
るので高価である。また、それは半減期が短かいので分
布に限シがある。

骨格系用を含めて多くの器官走査剤がテクネチウム−９
９ｍの錯体で置き換えられつつある。この核種は像形成
にとって理想的な物理的特性（’ｒ＋＋＝６時間、１４
１　ｋｅＶのガンマフォトン）を有している。さらに、
Ｍｏ　−９９／Ｔｃ　−９９ｍｍジェネレータよって容
易に入手可能である。従って、像形成の大部分が現在Ｔ
ｃ−９９ｍを用いて行なわれている。

テクネチウム−９９ｍはジェネレータから過テクネチウ
ム酸イオン（Ｔｃ０４−　）として＋７の酸化状態で得
られる。錯体を生成するためにはＴｃはより低い酸化状
態、すなわち、＋３、＋４またけ＋５でなけらばならな
い。他の還元剤も用いることが可能であるがＳｎ２＋が
最も多く使用されている。こうして、Ｔｃ−９９ｍ錯体
は錯化剤の存在において８ｎ　ｆ用いてＴａＯ２−を還
元することによって生成することが可能である。通常、
これは静脈投与に適当である塩の水溶液中で行なう。

商業的錯化剤は「放射性医薬キット」として叡Ｔｃ−９
９ｍ錯体を調製するために、塩水中の過テクネチウム酸
ナトリウム溶液数ミリリットルをバイアルに注入する。

得られる溶液の適当な量を像形成用に用いる。

サブラマニオン（８ｕｂｒａｍａｎｉｏｎ　）等（ラジ
オロジー（Ｒａｄｉｏｌｏｇｙ　）、Ｖｏｌ、９９．１
９２〜】９６頁、１９°７１年）がＴｃ−９９ｒｎの錯
体と無機ポリホスフェートを用いた骨格像形成について
報告している。その他の数名が無のポリホスフェートが
この目的に有用であると報告している（米国特許第３，
８５２．４１４号、同第４，０１６．２４９号、同第４
，０８２，８４０号参照）。ピロホスフェート（ＰＹＰ
　）を用いた骨の１象形成も教示されている（米国特許
第３，８５１，０４４号、同第３．９３１．．３９６号
、同第４．０７５．３１４号）。Ｔｃ−ボスフェートは
かなり成功したが、Ｔｃ−ホスホネートで置き換えられ
た。

Ｔｅ−９９ｍとホスホン酸の錯体はＴｃ−９９ｍ／ホス
フェートよりも、より多く骨に取り込まれ、またより速
く血が清浄化される。Ｔｅ−９９ｍと銘化した場合に最
良の骨走査剤と考えられるホスホン酸にはヒドロキシエ
タンジホスホネー）（Ｉｉ；ＨＤＰ）、メチレンツホス
ホネート（ＭＤＰ）およびヒドロキシメチレンジホスホ
ネートがある（米国特許第：う、９８３，２２７号；同
第３，９８９，７３０号；同第４．０３２１２５号；ジ
ャーナル・オブ１ヌクレア脅メゾ４　ン７（Ｊ、Ｎｕｃ
ｌ、　Ｍｅｄ、　）％　２１　、　７６７頁；ラジオロ
ゾー１３６．２０９頁；ツヤ−ナル・オブ・ヌクレア−
メディシン、２１．９６１ｆｆ：ラノオロジ−１３６，
７４７頁滲照）。

ビンクロ［２，２，１］へブタンビス（メチルアミン）
の誘導体である新規で安定なＴｃ−９９ｒｎ用錯化剤は
動物の骨格の像を形成するのに有用であることが見い出
された。これらの新規な錯化剤　″は前出の式Ｉで表わ
される。錯体は骨に大量に取り込才れると共に腎臓を容
易かつ効率的に通る。

骨に取り込まれる−）寸の柔軟組織に取り込唸れる量に
対する比率は高い。

新規錯化剤は、錯化剤を含む塩水溶液にＳｎ２＋を添加
すると安定なＴｃ−９９ｍ錯体を生成することが見い出
された。錯体は骨格に大量に取り込まれると共に腎臓を
容易に通過し、血液中および柔軟組織には殆んど残らな
い。

従って、骨に取り込まれる量と周囲柔軟組織へ取り込才
れる量との比率は高いので、像は餌明である。骨／柔軟
組織および骨／血液・ておける放射能の比率は市政のＴ
ｃ−骨枚射性医４品に好ましく匹敵する。

本光明の新規化合物の製造および使用について以下の例
で説明する。化合物の特定は前出の式Ｉを参照して行な
う。

例１ 水冷凝縮器、温度計、ｖＨ拌棒および（ｌ加漏斗を具備
した５０ｍ１丸底フラスコに蒸留水（１０Ｆ）と）Ｉ３
ＰＯ３（９，９＆　）を計量して入れた。次いで、恭Ｈ
Ｃ１（１１，８ｇ）を添加し、攪拌しなから２（３）、
５（６）−ビス〔アミノメチル〕ビンクロ（２，２゜１
〕ヘプタン３．９ｇをゆっくり添加した。溶液を還流し
て約１時間加熱し、３７チのホルムアルデヒド水浴液８
５１１を２５時間かけて添加した。

溶液を還流して更に３時間加熱した。生ｒ戊した化合物
は完全なホスホノメチル化ノルざルナン誘導木（前出式
■中、Ａ、Ｂ、Ｘ、Ｙのそれぞれがメチレンホスホン酸
基、−ＣＨ２Ｐ０５Ｈ２である）であった。

例２ 例】の手順に従って１モル等量の：２ｔ３）、５（６）
−ビス〔アミノメチル〕ビシクロ〔２，２，１〕へブタ
ン（１，５，２Ｊ？）に３モル等量のホルムアルデヒド
に３７％溶液２４．３Ｆ）と正リン酸（２５１１１）？
：添加した。得られる溶液をＮａ（ＯＨ）水溶液で中和
し、１モル等肝のグリコロニトリル（３８チ溶１１１４
．７＆）とＮａＯＨ（３３，３％ｍＫＩｊ、　１３．８
　ｇ）を添加した。生成した化合物はＡ、Ｂ、Ｘ、Ｙ置
換基として平均で３つのメチレンホスホン酸基と１つの
カルボキシメチル基を有するビシクロへブタン誘導体の
ナトリウム塩であった。

災ｌ ある量（１５，２ｇ、０１モル）の１（２）、４　（５
）　−ビス〔アミノメチル〕ビシクロ（２，２，１３へ
ブタンをステンレス鋼製ビーカーに入れ、蒸留水５０ｍ
１ｒ添加し、それから５０％−ＮａＯＨ３７ｍｒを添加
した。この溶液を攪拌しながら約７０℃に加熱し、加熱
を続けながら３８ｑｒｊグリコロニトリル５８９ｇを１
時間半にわたって滴下して添加することによってカルブ
キンメチル化を行なった。

この添加９約１５分後、γ品度を眞流温度にし、ＮＨ６
を放出した。蒸留水を周期的に添加して蒸発した水の代
りにした。グリコロニ）　ＩＪルの添加が完了後、攪拌
とＮ　２　／ｅ−ジを行ないながら更に１時間加熱した
。生成化合物はＡ、Ｂ、Ｘ、ＹがＣＦ（２−ＣＯＯＮａ
であるテトラカルボキシメチルの誘導体であった。

本発明の化合物の有用性を、ナショナル・アソシエーシ
ョン・オプ・コロージョンーエンノニア（Ｎａｔｉｏｎ
ａｌ　Ａｓ５ｏｃｉａｔｉｏｎ　ｏｆ　Ｃａｒｒｏｓｉ
ｏｎＦｎｇｉｎｅｅｒｓ　（ＮＡＣＡ　）　）の試験法
ＴＭ−Ｑ：う−７４ニ従ってスケール抑制試験を行なう
こと知よって確認した。

炭酸カルシウムスケール抑制の結果を第１表に示し、市
販のスケール抑制剤アミノトリ（メチレンホスホン酸）
と比較している。硫酸カルシウムスチール抑制も試験し
た。その結果を第２表に示すＯ 以下余白 本発明の化合物のキレート化剤としての有用性はクロム
アズロール−８指示薬の存在において化合物を漂準銅溶
静で滴定することによって示される。例１の化合物を滴
定したところ、配位子のモル当り約１．５モルの銅を錯
化することが見い出された。この化合物は１間値化合物
としてもキレート化剤としても機能する。

本箔明の化合物は同じ分子のＡ、Ｂ、Ｘ、Ｙ置換基とし
ていくつかの異なる基を有することが可能であるが、混
合された誘導体が得られる場合、どのアミンの水素が瞳
換されるか全指定したり予見することは通常不可能であ
ることが認められるべきである。生成物はたぶん異性化
合物の混合物を含む。

すべての化合物は金属イオンをキレート化するが少々く
とも１つのメチレンホスホン酸基またはその塩を含むも
のだけが閾値効果を示すであろう。

例４ 例１で作成した浴液百μｔをバイアルに々れ、０．９係
塩水（ａｑＮプを添加した。溶液のＰＨを希Ｎａ０Ｔ（
および希Ｈｃｔを用いて３５に調整し、新たに溶離した
Ｔｃ０４−溶液０．１　ｍｌを添加した。次いで喰準酒
石酸第１錫溶液１００μｔを添加した。

上記のＴｃ−錯体（５０Ａｔ、〜１＋１（ｊ）をラット
の尾部静脈に注射した。注射後街回か間隔をおいて麻酔
したラットのシンチレーション走査ヲ行なった。骨走査
は高品質であり、これが人間の患者用の手段として用い
うろことを指示していた。

例５ 例４で作成したＴｃ−錯体（５０μｔ、〜１ｍＣ１）を
マウスの尾部静脈に注射した。注射後の異なる時間にマ
ウスを犠牲にして、器官と組織を除去し、Ｎａｌカウン
タで放射線を測定した。放射能は主に骨および膀胱に見
い出され、その他の器官は錯体に高い親和性を示さなか
った。注射後１２０分において、骨、筋肉および肝臓は
それぞれ５．１％線量／Ｉ、（０，０４％線量／Ｉおよ
び０，２４チ線Ｖｇの放射能を有していた。

例６ 例４のＴｃ−錯体Ｃ３０ｐｔ、〜１ｍＣ１）を１群のラ
ットの尾部静脈（で注射した。２時間後ラットを犠牲１
（シて、いくつかの組織からの放射能をＮａｌシンチレ
ーションカウンタで定量した。第３表に、その結果を、
Ｔｃ　−ＭＤＰ　（メチレンツホスホネート）〔市販の
Ｔｃ−膏剤〕について同じ仕方で評価した結果と比較し
て示す。

第３表 ラットのいくつかのネ目織の％釈量／器官器　官　例４
のａ体　市販剤（Ｔｃ−ＭＤＰ）骨格　４１゜７　３９
．４ 血液　０．２３　０．２７ 尿　６３．１’　５０．９ 比率 骨／血液　１８１　１４６ 骨／筋肉　３８４　１５０ 例７ 例４の錯体を１群のうさぎの耳静脈に注射した。

注射後３時間でうさぎを犠牲にした。いくつかの組織の
放射能をＮａｌシンチレーションカウンタでカウントし
て定量した。第４表に、市販のＴｃ−膏剤ＭＤＰの結果
と比較して結果を示す。

第４表 うさぎのいくつかの組織のチ線量×チ体重／グラム大腿
骨　５．３　５．７ 肝臓　０．０？　０．１１ 筋肉　０．０３　０．０５ 血液　０．１０　０．０５ 比率 大腿骨／血液　５３　４４ 大腿骨／筋肉　１７７　１１４ 例４の錯体を注射後２時間の上記のうさぎのシ特許出願
人 ｆ’　！ウ　ケミカル　カンパニー 特許出願代理人 弁理士　青　木　朗 弁理士西舘和之 弁理士古賀哲次 弁理士　山　口　昭　之 弁理士西山雅也

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、　下記構造式を有する化合物 〔式中、置換基Ａ、Ｂ、Ｘ、Ｙは、それぞれ独立に、水
   素、ヒドロキシアルキル基（ここにアルキル基は２〜６
   個の炭素原子を含む。）、メチレンホスホン酸基、メチ
   レンスルホン酸基、エチレンスルホン酸基およびプロピ
   レンスルホン酸基；アルキルカルボン酸基（２〜４個の
   炭素原子を有する）：ならびに前記のホスホン酸誘導体
   、スルホン酸誘導体およびカルボン酸誘導体のいずれか
   のアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム
   塩およびアミン塩からなる群から、寮択され、かつ前記
   置換基のうち少なくとも１つが水素以外である。〕 ２、前記着椀基Ａ、Ｂ、ＸおよびＹのそれぞれがメチレ
   ンホスホン酸基である肋許請求のΦ１１囲第１項記載の
   化合物。 ３　前記置換基Ａ、Ｂ、ＸおよびＹのうち２つがメチレ
   ンホスホン酸基であり、残りの２つが水素である特許請
   求の範囲第１項記載の化合物。 ４、前記置換基Ａ、Ｂ、ＸおよびＹのうち少なくとも１
   つがメチレンホスホン・俊基である特許請求の範囲第１
   項記載の化合物。 ５、前記置換基Ａ、Ｂ、ＸおよびＹのうち１つがカルボ
   キシメチル基であり、りｙすの３つがメチレンホスホン
   酸基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ６、Ａ、Ｂ、ＸおよびＹのそれぞ九がナトリウムアセテ
   ート基である特許請求の範囲第１項記載の化合物。 ７、金属イオンの水溶液から沈澱を抑制する方法であっ
   て、該水溶液に下肥式を有する化合物を、存在する金属
   イオンを基準に化学量論的量より少ない量１でおいて添
   加する方法。 〔式中、置換基Ａ、Ｂ　、Ｘ、Ｙは、それぞれ独立に、
   水素、ヒドロキシアルキル基（ここにアルキル基は２〜
   ６個の炭素原子を含む。）、メチレンホスホン酸基、メ
   チレンスルホン酸基、エチレンスルホン酸基およびプロ
   ピレンスルホン酸基；アルキルカルぎン酸基（２〜４個
   の炭素原子を有する）；ならびにそれらのアルカリ金属
   塩、アルカリ土類金ｆｆ塩、アンモニウム塩およびアミ
   ン塩からなる群から選択され、かつ前記置換基のうち少
   なくとも１つがメチレンホスホン酸基またはその塩であ
   る。〕 ８、前記置換基のメチレンホスホン酸基の塩がアルカリ
   金属塩である特許請求の範囲第７．「口記載の方法。 ９　水溶液中の金属イオンをキレート化する方法であっ
   て、該水溶液中に下記式を有する化合物を、存在する金
   属イオン基準で少なくとも化学量論的量において添加す
   る方法。 〔式中、置換基Ａ、Ｂ、Ｘ、Ｙは、それぞれ独立に、水
   素、ヒドロキシアルキル基（ここにアルキル基は２〜６
   個の炭素原子を含む。）、メチレンホスホン酸基、メチ
   レンスルホン酸基１基、エチレンスルホン酸基およびゾ
   ロピレンスルホン酸基；アルキルカルボン酸基（２〜４
   個の炭素原子を有する）；ならびにそれらのアルカリ金
   属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩およびアミ
   ン塩からなる群から選択され、かつ前記置換基のうち少
   なくとも１つが水素以外である。〕 １０　前記置換基Ａ、Ｂ、ＸおよびＹがそれぞれメチレ
   ンホスホン、唆基またはその塩である特許請求の範囲第
   ９項記載の方法。 １１、前記置換基Ａ、Ｂ、ＸおよびＹのそれぞれがカル
   ブキシメチル基またはその塩である特許請求の範囲第９
   項記載の方法。 １２　前記塩がナトリウム塩である特許請求の範囲第】
   】項記載の方法。 １３　放射性核種と下記構造式を有する化合物との木骨
   （ｂｏｎｅ　５ｅｅｋｉｎＦＣ）錯体〇〔式中、置換基
   Ａ、Ｂ、Ｘ、Ｙは、それぞれ独立に、水素、ヒドロキシ
   アルキル基（ここにアルキル基（・１２〜６個の炭素原
   子を含む。）、メチレンホスホン酸基、メチレンスルホ
   ン酸基、エチレンスルホン酸基およびプロピレンスルホ
   ン酸基；アルキルカルボン酸基（２〜４個の炭素原子ヲ
   有する）；ならびて前昔己のホスホン酸透２尊ｒ本、ス
   ルホン酸誘導体およびカルボン酸４導体のいずれかのア
   ルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニウム塩お
   よびアミン塩からなるＩ洋がら選択され、かつ前記置換
   基のうち少なくとも１つが水素以外である。〕 １４　前記置換基Ａ、Ｂ、ＸおよびＹがそれぞれメチレ
   ンホスホン酸基またはその塩である特許請求の範囲第１
   ３項記載の錯体。 １５、前記放射性核種がテクネチウム−９９ｍである特
   許請求の範囲第１３項記載の錯体。 １６、前記放射性核種がテクネチウム−９９ｍである特
   許請求の範囲第１４項薯已載の錯体。 １７、塩水中に、放射性核種と下記構造式を有する化合
   物との木骨錯体ならびに還元剤を含む用我物。 〔式中、置楡基Ａ、Ｂ、Ｘ、Ｙは、それぞれ独立に、水
   素、ヒドロキシアルキル基（ここ【アルキル基は２〜６
   個の炭素原子を含む。）、メチレンホスホン酸基、メチ
   レンスルホン酸基、エチレンスルホン酸基およびプロピ
   レンスルホン酸基；アルキルカルボン酸基（２〜４個の
   炭素原子を有する）；ならびに前記のホスホン！３ｗ誘
   導体、スルホン酸誘導体およびカルボン酸誘導体のいず
   れかのアルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩、アンモニ
   ウム塩およびアミン塩からなる群から選択され、かつ前
   記置換基のうち少なくとも１つが水素以外である。〕 １８　前記放射性核がテクネチウム−９９ｍである特許
   請求の範囲第１７項記載の組成物。 １９　前記置換基Ａ、Ｒ，ＸおよびＹがそれぞれメチレ
   ンホスホン酸基またはその塩である特許請求の範囲第１
   ８項記載の組成物。 ２０、前記還元剤がＳｎ　である特許請求の範囲第１８
   項記載の組成物。 ２１　前記還元剤がＳｎ２＋である特許請求の範囲第１
   ９項記載の組成物。