JPS60202471A - 薄膜el素子 - Google Patents

薄膜el素子

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JPS60202471A
JPS60202471A JP59059759A JP5975984A JPS60202471A JP S60202471 A JPS60202471 A JP S60202471A JP 59059759 A JP59059759 A JP 59059759A JP 5975984 A JP5975984 A JP 5975984A JP S60202471 A JPS60202471 A JP S60202471A
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JP
Japan
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light
pixel
voltage
thin film
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JP59059759A
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JPH0473880B2 (ja
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小西 庸雄
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Kansai Nippon Electric Co Ltd
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Kansai Nippon Electric Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 この発明は薄膜1nL素子に関し、より計しくは画業占
有率全変化させて階調表示を行なうマトリックス型の薄
膜KLディスプレイパネルに関する。
従来技術 従来、交流動作の薄膜EL素子に関して・発光 1一 層に規則的に尚い電界(10’V/cm程度)全印加し
、絶縁耐圧、発光効率及び動作の安定性等全局めるため
に、0.1〜]、、OWT%のMn (あるいはOu。
A見、13r等)全ドープしたZ n S s Z n
 S e等の半導体発光階音YtOs、’ra・0・等
σ)誌寛体薄膜でサンドインチした三層構造ZnS:M
n(又はZn 5e 二Mn)KL素子が開発され、発
yt、間特性の向上が碓かめられている。この薄膜EL
素子は数KH2の交流電界印加によって市輝度兄元し、
しかも長寿命であるという特徴全有している。
薄膜11CL素子の1抄りとして7.n S : Mn
薄膜FiL素子Q)基不的構造全第1図に示す。
第1図に基づいて薄11jJmL累子の構造全具体的に
説明すると、ガラス基板〕上にIr+20s 、5nO
t等の透明IN!4!ll12、更にその上に積層して
YtOszTaxes、A見、03.5isN4、S1
0!等からなる第1の誘電体層3かスパッタあるいは電
子ビーム蒸着法等により重畳形成されている。第1(1
)誘電体層3上にはzn s : !An焼結ペレット
+N子ビーム蒸看することにより得られるZn5i光層
4か形成されている。この時蒸宥用のZn S : M
n焼結ベレットには活性物質となるMn力川用1旧に1
ノロじた両度に設定されたベレットカ用史用される。Z
n S 発光層4上にtま第1の誘電体層3と同様σJ
 A’A′eノから成る第2の誘電体層5か積層され、
史e(その[−1/(A L等から成る背向電極6が蒸
宥形成さfしている。透明電極2と背面電極6は第2図
に示すように帯状に形成され、17.いに11交するu
[1<俵数不配列されたマトリックス電極h゛4造か採
用されており、透明電極2と背向電極6が乎面図的に見
て交叉した位置(斜線部分)かパネルの]画素7VC相
当する。
透明電極2と背向電極6はそれぞれスイッチ8゜9全介
して交流電w、 ]、 Oに按幌されている。
スイッチ8,9ケ閉じて、電極2,6間にAC電圧金印
加すると、Zr+S光元層40両側の誘電体層3.5間
に上記AOt圧か誘起式れることになり、従ってZn 
S 光70層4内に発生じた電界によって伝導体に励起
され、かつ加速されて充分なエネルギー′に得た電子か
、直接Mn光元センターを励起し、励起されたMrli
j元センターか基底状態に戻る際に橙黄色の発光全行う
。即ち高電界で加速された電子かzn s 発光層4中
の発光センターであるZnサイトに入ったMn原子の電
子k 励起し、基底状態に落ちる時、略々5850A全
ピークに幅広い波長領域で強い発光全量する。
上記の如き構造を有するN膜EiL禦子はスペースファ
クタの利点に生かした平面薄型ディスプレイ・デバイス
として、文字及び図形全台むコンピューターの出力表示
端末機器その他種々の表示装置に文字、記号、静止画像
、動画像等の表示手段として利用することができ非常に
有効なものである。
しかしながら、上記Q〕薄膜EL素子は、各画素7か発
光又は非発光の2段階にしか変化せず、中間階調の表示
を行なうことはできない。これは薄++奨E II累子
が、第3図に示すような急峻な印加電圧−輝度特性を有
するために、印加電圧全変化させて中間階調の表示を行
なうことが困難なことによる。
そこで、階調表示かり能な薄膜KL素子とじていくつか
の提案があり、主なものとして次のものがある。 ・ ■ 基板上に複数のKL素素子全層層形成、発光させる
EL素子の層Ili′に変化させる方法(実開昭56−
139126号公報、実開昭58−1130’78号公
報等)。
■ I II+紫の中で誘電体層の層厚′に部分的に異
ならしめて、その層1vに対J6 L、た発光りきい電
圧の複数領域全杉成し、目J加電圧K lノ[jiじて
1円素中の発光面11!1’に段階的に変化させる方法
(特開昭57−100468号公報等)。
しかしながら、■の方法は、各画素全率さくできるので
、高解像度化には有利であるか、電極数が多く、駆動回
路も複雑になるし、KL素子の層数が多くなると、下方
のIIL素子の発光が上方のKL素子で吸収される。■
の方法は、電極数が少なく、駆動回路か簡単になるが、
各画素の耐電圧が最も層厚の小さい誘電体層によって決
まるσ〕で、印加電圧の変化範囲音大きくとることかで
きず、階調の変化範囲に限度かあるという間顯点かあっ
た。
発明の目的 そこで、この発明は、電極数が少なく、駆動回路か容易
で、しかも階調の変化範囲の大きい薄膜liL素子を提
供すること全目的とする。
発明の構成 この発明は、1画素中の発光層の層厚を部分的に異なら
せたこと全特徴とするものである。
すなわち、上記の構成によれば、発光層の層厚の小さい
部分はど発光しきい電圧が小さいので、印加電圧を段階
的に増大していくと、層厚の小さい部分から段階的に発
光して、発光面積が順次増大して中間階調が得られる。
又、誘電体層全同一の層厚にできるので、最も発光しき
い電圧の小さい部分の耐電圧全般も商い発光しきい電圧
σ)大きい部分の耐電圧と同程度に設定することが容易
であり、かつ・光ツC層の胎厚全変化させているので各
部分の飽和輝度が異なるため、階調の変化範囲音大きく
できる。
実施例 以下)この発明の一実施例全図面を参照して説明する。
第4図は薄膜KL素子の部分平面図、第5図は第4図の
1画素分全11ム大した要部拡大平面図、第6図は第5
図(1) M −M &l VC沿う113r血図、第
7図は第5図の■−■線に沿う断面図である。図におい
て、次の点全除いては第1図および第2図と同様である
ので、同一参照符号を付してその説明?省略する。この
実施例では、1luri素7中の発光j曽4の層厚がa
 −b (1) 449階に異ならしめてあり、それに
よって発光層が4a〜4bに4分割キれている。第1の
誘電体層3と第2の誘電体層5とは同一の層厚である。
上記の構成によれば、各1lIf1素7甲の発光層4が
層厚a〜bU)%光層4a〜4dによって形成されてい
るので、各発光l曽4a〜4dに対1+j、iする画素
領域7a〜7bは、発光層4a〜4dの層厚に1ノロじ
て発光しきい電圧及び輝度レベルが異なる。すなわち、
最も薄い層厚aの発光層4a’ji7言む画素領域7a
は、第8図のvaの発光しきい電圧全方し、BELの輝
度全有する。2布Hに薄い層厚すの発光層4b′?を含
む画素領域7bは、前記■8の電圧の閉力11によって
は発光せず、第8図のVbの発光しきい電圧全方し、B
bの輝度全有する。3番目に薄い層厚Cの発光層4c全
含む画素領域7cは、itJ記vbの電圧印加によって
は発光せず、第8図のV。の発光しきい電圧全方し、B
oI/)輝度全有する。最も厚い層厚dの発光層4d全
含む画素領域7dは、前記■。の電圧印加によっては発
yCせず、第8図のvdの発光しきい電圧全方し、輝度
Bd全有する。
このように各画素7中の発光層4の層厚全部分的に異な
らしめることにより、画素領域7a〜7dの発光しきい
電圧Bva−v6に変えることができる。したかつて、
透明電極2と背面電極6との間に電圧Va全印加すると
、画素領域7aのみが輝度Baで発光する0次に印加電
圧全vbにすると、画素領域7a及び7bが輝度Ba−
1−B1)で発光する。
又、印加電圧kvoに増大すると、画素領域7a〜7C
が、輝度Ba+Bb十B。で発光する。更に、印加電圧
′kvdにすると、画素領域7a〜7d、すなわち画素
7かBa+Bb+B。+Bdの輝度で発光する。かくし
て、透明電極2と背向電極6間の印加電圧全変化するこ
とにより、各画素7の光九面檀全変えて、非発yC時全
含めて5段階の階調表示か可能になる。
尚、各画素7中の発光層4a〜4dの層厚a〜dの設定
により、各段階間の輝度差を任慧irc設定できる〇 又、上記実施例は、各−累7が4分割された場合につい
て説明したが、それに限らず、それ以外の数に分割する
ことも可能である。
発明の効果 Cの発明は以」二のように、各1…1素甲σ)発光層の
層厚を部分的に異ならしめたので、印加電圧によって、
各画素の発光曲柚かつしたがって輝度を変えることが可
能になり11i11像等の階調表示か可能になる。そし
て、前述した従来σ】■σJEL素子金多素子金石層化
に比較して、電極数が少なく、駆動回路が簡単になり、
従来の駆動方式のま\で駆動電圧全変化するのみで階調
表示が可能になるし、 9− 階調数全増大しても、下層の発光が上方のKL素子によ
って吸収されることもない。又、■の誘電体層UJ層厚
全部分的に異ならしめる方法に比較して、あ亀体層の厚
さが一定であるため、局部的に耐電圧か小さくなること
がなく、この点においてより信頼性の高いパネルが得ら
れ、又同−の階調数であっても輝度の階調の変化範囲音
大きくとれる。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の薄膜KL素子の断面図、第2図は第1図
の対向11.極の平面図、第3図1−!電圧−輝度特性
図である。 第4図はこの発明の一実施例の薄膜11L素子の平面図
1第5図は第4図の1画素分の要部拡大平面図、第6図
は第5図のM−M線に沿う断面図、第7図は第5図の■
−■線に沿う断面図、第8図は電圧−輝度特性図である
。 1・・・・・ 方ラス基板、 2・・・・透町%極、 3.5・・・ 誘電体層、 4,4a〜4d ・ 発光層、 7・・−1同素、 7a〜7d・ 1四累領域。 特許出願人 関西1]本電気株式会社

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 少なくとも一方が透1ull Tある対同電極間に6電
    体層と発光層と全挾持してなり各I…1素か複数個に分
    割されてなるマトリックス型σ)薄膜EL素子において
    、 前記各画素の発光層U)脂厚に部分的に異ならしめたこ
    とを特徴とする薄膜KL累−F’Q
JP59059759A 1984-03-27 1984-03-27 薄膜el素子 Granted JPS60202471A (ja)

Priority Applications (1)

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JP59059759A JPS60202471A (ja) 1984-03-27 1984-03-27 薄膜el素子

Applications Claiming Priority (1)

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JP59059759A JPS60202471A (ja) 1984-03-27 1984-03-27 薄膜el素子

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60202471A true JPS60202471A (ja) 1985-10-12
JPH0473880B2 JPH0473880B2 (ja) 1992-11-24

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JP59059759A Granted JPS60202471A (ja) 1984-03-27 1984-03-27 薄膜el素子

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6381497A (ja) * 1986-09-26 1988-04-12 松下電器産業株式会社 エレクトロルミネセンス表示装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56100891U (ja) * 1979-12-28 1981-08-08

Patent Citations (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56100891U (ja) * 1979-12-28 1981-08-08

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6381497A (ja) * 1986-09-26 1988-04-12 松下電器産業株式会社 エレクトロルミネセンス表示装置

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JPH0473880B2 (ja) 1992-11-24

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