JPS60193986A - スワインソニン異性体およびその製造方法、並びに免疫調整剤 - Google Patents
スワインソニン異性体およびその製造方法、並びに免疫調整剤Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
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Description
【発明の詳細な説明】
この発明は、免疫調整作用を有する物質として有用な式
、 〔式中、2位および8位の−OHはαまたはβ配位のど
ちらかの配位のヒドロキシ基を、1位の−IIIIIO
Hはα配位のヒドロキシ基を、 13a位の鴫Hはβ6
d位の水素をそれぞれ意味し、8位のヒドロキシ基がβ
配位にある場合は、2位のヒドロキシ基はβ配位にある
ものとする。〕 で示されるスワインソニン異性体、その塩類およびその
製造方法、並びに免疫調整剤に関するものである。
、 〔式中、2位および8位の−OHはαまたはβ配位のど
ちらかの配位のヒドロキシ基を、1位の−IIIIIO
Hはα配位のヒドロキシ基を、 13a位の鴫Hはβ6
d位の水素をそれぞれ意味し、8位のヒドロキシ基がβ
配位にある場合は、2位のヒドロキシ基はβ配位にある
ものとする。〕 で示されるスワインソニン異性体、その塩類およびその
製造方法、並びに免疫調整剤に関するものである。
目的化合物CI+の好適な塩類としては、慣用の無毒性
塩であり、その例としては、メタンスルホン酸塩、塩酸
塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩等の有機酸もしくは無機
酸との酸付加塩が挙げられる。
塩であり、その例としては、メタンスルホン酸塩、塩酸
塩、硫酸塩、硝酸塩、リン酸塩等の有機酸もしくは無機
酸との酸付加塩が挙げられる。
本発明によれば、スワインソニン異性体α)は例えば下
記反応式で示される方法によシ製造することができる。
記反応式で示される方法によシ製造することができる。
方法1
([1(Ia)
またはその塩類 またはその塩類
方法2
aID(Ib)
またはその塩類 またはその塩類
方法3
flVl (V)
まだはその塩類 またはその塩類
帽
またはその塩類
(Ib)
−h−#flr+−μa)佑来百
方法4
@ (2)
またはその塩類 またはその塩類
’(Xl
またげその塩類
(Xll
またはその塩類
(Ib)
またはその塩類
〔式中、R1、R2、R3及びR4は夫々、同じか又は
異ったヒドロキシ保護基、R,は脱離基を意味する。〕 本明細書記載の化学構造式中、イントリジジン環の1位
、2位、8位及び8a位の不斉MJ素に係る立体異性に
関し、媚はβ配位、“鴫はα配位、−(実線)はαまた
はβ配位のどちらかを夫々意味する・ 上記化合物(m−(2)における定義の例示を以下に述
べるが、この明細書において「低級」とは別設の指示が
ない限り炭素原子数1〜6を意味する。
異ったヒドロキシ保護基、R,は脱離基を意味する。〕 本明細書記載の化学構造式中、イントリジジン環の1位
、2位、8位及び8a位の不斉MJ素に係る立体異性に
関し、媚はβ配位、“鴫はα配位、−(実線)はαまた
はβ配位のどちらかを夫々意味する・ 上記化合物(m−(2)における定義の例示を以下に述
べるが、この明細書において「低級」とは別設の指示が
ない限り炭素原子数1〜6を意味する。
R1、R2及びR3における「ヒドロキシ保護基」とし
ては、低級アルカノイル基(例えば、アセチル、トリフ
ルオロアセチル、プロピオニル、t−ブチリル等)、低
級アルカンスルホニル基(例エバ、メシル、エタンスル
ホニル、プロパンスルホニル、トリフルオロメタンスル
ホニル等)、アロイル基(例えば、ベンゾイル、トルオ
イル等)、アル(低級)アルカノイル基(例えば、フェ
ニルアセチル等)、アレンスルホニルfC例、tば、ベ
ンゼンスルホニル、トシル等)等のアシル基;シリル基
(例えば、トリメチルシリル等)等の慣用される保護基
が挙げられる。
ては、低級アルカノイル基(例えば、アセチル、トリフ
ルオロアセチル、プロピオニル、t−ブチリル等)、低
級アルカンスルホニル基(例エバ、メシル、エタンスル
ホニル、プロパンスルホニル、トリフルオロメタンスル
ホニル等)、アロイル基(例えば、ベンゾイル、トルオ
イル等)、アル(低級)アルカノイル基(例えば、フェ
ニルアセチル等)、アレンスルホニルfC例、tば、ベ
ンゼンスルホニル、トシル等)等のアシル基;シリル基
(例えば、トリメチルシリル等)等の慣用される保護基
が挙げられる。
R4における「ヒドロキシ保護基」としては、隣接する
ヒドロキシ基を保護するのに慣用される基が挙げられ、
そのようなヒドロキシ保護基としては例えば、イソフ”
ロビリデン、ベンジリデン等が挙げられる。
ヒドロキシ基を保護するのに慣用される基が挙げられ、
そのようなヒドロキシ保護基としては例えば、イソフ”
ロビリデン、ベンジリデン等が挙げられる。
R5における「脱離基」としては、例えばアシル基が挙
げられ、その好適な例としては、前記の低級アルカンス
ルホニル、前記のアレンスルホニル、5〜6員複素環式
カルボニル又はチオカルボニル(例えば、イミダゾリル
カルボニル、イミダゾリルチオカルボニル等)などが挙
げられる。
げられ、その好適な例としては、前記の低級アルカンス
ルホニル、前記のアレンスルホニル、5〜6員複素環式
カルボニル又はチオカルボニル(例えば、イミダゾリル
カルボニル、イミダゾリルチオカルボニル等)などが挙
げられる。
化合物田)〜頭)の塩類としては、化合物(Ilの塩類
として例示したものが挙げられる。
として例示したものが挙げられる。
この発明の目的化合物[11の製造法を以下に詳細に説
明する。
明する。
方法1
化合物(Ia)またはその塩類は化合物(ロ)またはそ
の塩類をヒドロキシ保護基の脱離反応に伺すことにより
製造される。
の塩類をヒドロキシ保護基の脱離反応に伺すことにより
製造される。
この脱離反応においては、ヒドロキシ保護基の脱離反応
として慣用の方法、例えば加水分解、還元、ルイス酸を
用いた方法等が用いられ、これらの方法は脱離される保
護基の種類により適宜選択される。
として慣用の方法、例えば加水分解、還元、ルイス酸を
用いた方法等が用いられ、これらの方法は脱離される保
護基の種類により適宜選択される。
加水分解は好ましくは塩基または酸の存在下行なわれる
。適当な塩基としては、アルカリ5・アルカリ土類金属
水酸化物(例えば、水酸化プリラム、水酸化カリウム等
)、アルカリ又はアルカリ土類金属アルコキサイド(例
えば、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキサイ
ド等)、アミン類(トリエチルアミン等)などの通常の
有機塩基および無機塩基が挙げられる。また、適当な酸
としては、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸等の通常の有
機酸および無機酸が挙げられる。
。適当な塩基としては、アルカリ5・アルカリ土類金属
水酸化物(例えば、水酸化プリラム、水酸化カリウム等
)、アルカリ又はアルカリ土類金属アルコキサイド(例
えば、ナトリウムメトキサイド、ナトリウムエトキサイ
ド等)、アミン類(トリエチルアミン等)などの通常の
有機塩基および無機塩基が挙げられる。また、適当な酸
としては、塩酸、硫酸、トリフルオロ酢酸等の通常の有
機酸および無機酸が挙げられる。
還元による脱離方法としては例えば亜鉛、亜鉛アマルガ
ム等の金属または塩化第1クロム、酢酸第1クロム等の
クロム化合物の塩類と酢酸、塩酸等の有機酸または無機
酸とを組み合わせて用いる還元、および慣用の金属触媒
の存在下に行う接触還元等の方法が挙げられる。
ム等の金属または塩化第1クロム、酢酸第1クロム等の
クロム化合物の塩類と酢酸、塩酸等の有機酸または無機
酸とを組み合わせて用いる還元、および慣用の金属触媒
の存在下に行う接触還元等の方法が挙げられる。
ルイス酸を用いる脱離方法における適当なルイス酸とし
ては、三ハロゲン化はう素(例えば、三塩化はう素、三
潴化はう素等)、四ハロゲン化チタン(例えば、四塩化
チタン等)、四ハロゲン化錫(例えば、四臭化錫等)、
ハロゲン化アルミニウム(例えば、塩化アルミニウム等
)が挙げられる。この脱離反応はアニソール、フェノー
ル等の陽イオン・トラッピング剤の存在下に行ってもよ
い。
ては、三ハロゲン化はう素(例えば、三塩化はう素、三
潴化はう素等)、四ハロゲン化チタン(例えば、四塩化
チタン等)、四ハロゲン化錫(例えば、四臭化錫等)、
ハロゲン化アルミニウム(例えば、塩化アルミニウム等
)が挙げられる。この脱離反応はアニソール、フェノー
ル等の陽イオン・トラッピング剤の存在下に行ってもよ
い。
本脱離反応は、通常、溶媒中で行われる。溶媒としては
、水、塩化メチレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ニトロメタン、メタノール、アセトンその他こ
の反応に悪影響を及ぼさない溶媒が使用され得る。反応
温度は特に限定されないが、通常、冷却下、室温ないし
は加熱下に反応が行われる。
、水、塩化メチレン、ジエチルエーテル、テトラヒドロ
フラン、ニトロメタン、メタノール、アセトンその他こ
の反応に悪影響を及ぼさない溶媒が使用され得る。反応
温度は特に限定されないが、通常、冷却下、室温ないし
は加熱下に反応が行われる。
方法2
化合物(Ib)またはその塩類は化合物@)またはその
塩類をヒドロキシ保護基の脱離反応に付すことにより製
造される。
塩類をヒドロキシ保護基の脱離反応に付すことにより製
造される。
この反応は前記の方法1と同様の方法によって行われる
。
。
方法3
3−1):
化合物tv+またはその塩類は化合物+ff+またはそ
の塩類をヒドロキシ保護基の導入反応に付すことにより
製造される。
の塩類をヒドロキシ保護基の導入反応に付すことにより
製造される。
ヒドロキシ保護基の導入方法は常法により行われ、ヒド
ロキシ基に導入される保護基の種類によって種々の方法
が適用される。
ロキシ基に導入される保護基の種類によって種々の方法
が適用される。
ヒドロキシ保護基としてアシル基を導入する場合には、
化合物(mに、式:R6−0H(式中、R6はアシ)し
基を意味する)そ示される化合物またはその反応性誘導
体を反応させる。ここで反応性誘導体の好適な例として
は、酸ハライド、酸無水物活性アミド、活性エステル等
が挙げられる。
化合物(mに、式:R6−0H(式中、R6はアシ)し
基を意味する)そ示される化合物またはその反応性誘導
体を反応させる。ここで反応性誘導体の好適な例として
は、酸ハライド、酸無水物活性アミド、活性エステル等
が挙げられる。
反応は通常、ジメチルホルムアミド、塩化メチレン等の
一般的な溶媒中もしくは反応に悪影響を及はさないその
他の有機溶媒中で行われる。反応温度は特に限定されな
いが、通常冷却下、室温ないしは加温下に反応が行われ
る。
一般的な溶媒中もしくは反応に悪影響を及はさないその
他の有機溶媒中で行われる。反応温度は特に限定されな
いが、通常冷却下、室温ないしは加温下に反応が行われ
る。
捷だヒドロキシ保護基としてシリル基を導入する場合に
は、化合物(5)にシリル化剤を反応させる。
は、化合物(5)にシリル化剤を反応させる。
ここで、シリル化剤の好適な例としては、塩化トリメチ
ルシリル、トリメチル−シリルアセトアミド。
ルシリル、トリメチル−シリルアセトアミド。
ビス(トリメチルシリル)アセトアミド、l、 1.1
゜3、3.3−へキサメチルシラザン等が挙げられる。
゜3、3.3−へキサメチルシラザン等が挙げられる。
この反応は無溶媒下又はピリジン、ジメチルホルムアミ
ド等の一般的な溶媒中もしくは反応に悪影響を及ばさな
いその他の有機溶媒中で行われる。
ド等の一般的な溶媒中もしくは反応に悪影響を及ばさな
いその他の有機溶媒中で行われる。
反応温度は特に限定されないが、通常冷却下、室温ない
し加温下に反応が行われる。
し加温下に反応が行われる。
3−2):
化合物(Mlまたはその塩類は化合物(Vlまたはその
゛塩類を還元することにより製造される。
゛塩類を還元することにより製造される。
この還元反応に用いられる還元剤としては基1
−N−C−を基−NH−CH2−に還元するのに慣用さ
れる試剤が挙げられる。そのような還元剤の好適な例と
してはポラン、ポラン−メチルスルフィド錯体、水素化
ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウム・リチウム等が
挙げられる。
れる試剤が挙げられる。そのような還元剤の好適な例と
してはポラン、ポラン−メチルスルフィド錯体、水素化
ホウ素ナトリウム、水素化アルミニウム・リチウム等が
挙げられる。
この反応は通常溶媒中で行われる。溶媒としてはテトラ
ヒドロフラン、酢酸、その他この反応に悪影響を及はさ
ない溶媒が使用され得る。反応温度は特に限定されない
が、通常、冷却下、室温ないしは加温下に反応が行われ
る。
ヒドロフラン、酢酸、その他この反応に悪影響を及はさ
ない溶媒が使用され得る。反応温度は特に限定されない
が、通常、冷却下、室温ないしは加温下に反応が行われ
る。
上記の様にして得られた化合物情)は、単離せずに、次
の反応工程で得られてもよい。
の反応工程で得られてもよい。
−3C
化合物(Il))またはその塩類は化合物情)またはそ
の塩類をヒドロキシ保護基の脱離反応に付すことにより
製造される。
の塩類をヒドロキシ保護基の脱離反応に付すことにより
製造される。
この反応は前記の方法lと同様の方法によって行われる
。
。
方法4
4−1):
化合物−まだはその塩類は化合物@またはその塩類を脱
離基の導入反応に付すことにより製造される。
離基の導入反応に付すことにより製造される。
この反応は化合物n)に脱離基導入のだめの試剤を反応
させることにより行われる。脱離基導入のだめの試剤と
しては、式:R5−0H(式中、R5は前記と同じ意味
)で示される化合物またはその反応性誘導体が挙げられ
る。反応性誘導体としては、前記方法3−1)の項で、
アシル基を導入する場合に用いられる試剤の反応性誘導
体として例示したものが同様に挙けられる。
させることにより行われる。脱離基導入のだめの試剤と
しては、式:R5−0H(式中、R5は前記と同じ意味
)で示される化合物またはその反応性誘導体が挙げられ
る。反応性誘導体としては、前記方法3−1)の項で、
アシル基を導入する場合に用いられる試剤の反応性誘導
体として例示したものが同様に挙けられる。
この反応はピリジン、ジメチルスルホキシド、ジメチル
系ルムアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等
の一般的な溶媒中もしくは反応に悪影響を及ぼさないそ
の他の有機溶媒中で行われる。反応温度は特に限定され
ないが、通常冷却下、室温ないしは加温下に反応が行わ
れる。
系ルムアミド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド等
の一般的な溶媒中もしくは反応に悪影響を及ぼさないそ
の他の有機溶媒中で行われる。反応温度は特に限定され
ないが、通常冷却下、室温ないしは加温下に反応が行わ
れる。
−2C
化合物(IXIまたはその塩類は化合物@またはその塩
類をヒドロキシ保護基の導入反応に付すことにより製造
される。
類をヒドロキシ保護基の導入反応に付すことにより製造
される。
この反応は前記の方法3−1)と同様の方法によって行
われる。
われる。
−3C
化合物(Xlまだはその塩類は化合物(IXIまたはそ
の塩類を還元することにより製造される。
の塩類を還元することにより製造される。
この反応は方法3−2)と同様の方法によって行われる
。
。
4−4):
化合物(xl)!、たけその塩類は化合物■)またはそ
の塩類をヒドロキシ保護基の脱離反応に付すことにより
製造される。
の塩類をヒドロキシ保護基の脱離反応に付すことにより
製造される。
この反応は方法1と同様の方法によって行われる。
4−5):
化合物(Ib)またはその塩類は化合物(Xllまたは
その塩類を閉環反応に付すことにより製造される。
その塩類を閉環反応に付すことにより製造される。
この閉環反応は化合物(功を室温で放置又は熱処理する
方法等の常法により行われる。
方法等の常法により行われる。
この反応は有機アミン又は一般の無機塩基もしくは塩基
性イオン交換樹脂等の存在下に行ってもよい。
性イオン交換樹脂等の存在下に行ってもよい。
この反応は通常、メタノール、ジクロロメタン、ジメチ
ルホルムアミド等の一般的な溶媒中もしくはこの反応に
悪影響を及はさないその他の有機溶媒中で行われる。
ルホルムアミド等の一般的な溶媒中もしくはこの反応に
悪影響を及はさないその他の有機溶媒中で行われる。
この発明において出発原料として使用する化合物([1
,側、欄および(4)は新規化合物であシ、例えば後記
製造例およびそれと同様な方法により製造することかで
きる。
,側、欄および(4)は新規化合物であシ、例えば後記
製造例およびそれと同様な方法により製造することかで
きる。
目的化合物+I+の有用性を示すために、この発明の代
表的化合物の薬理学的試験データを以下に示す。
表的化合物の薬理学的試験データを以下に示す。
試験法
1)担癌マウスの血清からの、免疫抑制因子の調製
マウス=8週令のlCR/JCL系雌マウスを系間マウ
ス物協同組合から入手した。
ス物協同組合から入手した。
腫瘍:ICRマウスの腹腔内で継代維持されたザルコー
マ180(S−180)を実験に使用した。
マ180(S−180)を実験に使用した。
免疫抑制因子の調製:
ICRマウスにS−180懸濁液(細胞数5×106個
/耐)0.21を腹腔内に移植した。S−180を有す
るマウスの心臓から、移植後7〜9日の間に軽度の麻酔
下に滅菌シリンジで採血し、血清を調整した。
/耐)0.21を腹腔内に移植した。S−180を有す
るマウスの心臓から、移植後7〜9日の間に軽度の麻酔
下に滅菌シリンジで採血し、血清を調整した。
免疫抑制因子をS−180担癌マウスの血清から、セー
キユング・OHおよびF、L、モドゥルトクン(ジャー
ナル・イムノロジー1274.2300〜2307頁、
1981年)によシ記載された方法に従って部分精製し
た。血清(50+/)に4%燐タングステン酸1/10
容および2M%化マグネシウム1/40容を加え、脂質
を除いて6000×Gで10分間遠心分離した。過剰の
燐タングステン酸およびマグネシウムイオンを、燐酸塩
緩衝食塩水(PBS : 0.1 SMji化す)IJ
ウムおよび0.01M燐酸緩衝液、pH7,4)に対し
て透析して除去した。
キユング・OHおよびF、L、モドゥルトクン(ジャー
ナル・イムノロジー1274.2300〜2307頁、
1981年)によシ記載された方法に従って部分精製し
た。血清(50+/)に4%燐タングステン酸1/10
容および2M%化マグネシウム1/40容を加え、脂質
を除いて6000×Gで10分間遠心分離した。過剰の
燐タングステン酸およびマグネシウムイオンを、燐酸塩
緩衝食塩水(PBS : 0.1 SMji化す)IJ
ウムおよび0.01M燐酸緩衝液、pH7,4)に対し
て透析して除去した。
次いで、部分脱脂質血清を硫酸アンモニウム50%飽和
により沈殿させた。上清液を20000×Gで30分間
遠心分離して除去した。沈殿を少量の水に再溶解し、P
BSK対し4℃で一夜透析した。透析溶液をPBS中で
セファデックスG−200によるカラムクロマトグラフ
ィーに付した。
により沈殿させた。上清液を20000×Gで30分間
遠心分離して除去した。沈殿を少量の水に再溶解し、P
BSK対し4℃で一夜透析した。透析溶液をPBS中で
セファデックスG−200によるカラムクロマトグラフ
ィーに付した。
各溶出液(15禦l)の免疫抑制活性を検定した。
(2) 免疫抑制活性検定法
免疫抑制活性をマイトジェン誘発マウス肺臓細胞増殖阻
止検定により測定した。
止検定により測定した。
(3)試験管内における免疫抑制因子によるマイトジェ
ン誘発マウス肺臓細胞増殖抑制および目的化合物fI)
によるその回復 試験管内におけるマウス肺臓細胞に対するマイトジェン
活性; a)マウス二8週令のBALB/←系雌マウスを使用し
た。
ン誘発マウス肺臓細胞増殖抑制および目的化合物fI)
によるその回復 試験管内におけるマウス肺臓細胞に対するマイトジェン
活性; a)マウス二8週令のBALB/←系雌マウスを使用し
た。
b)組織培養培地:使用した組織培養培地としては、ロ
ズウエル・パーク・メモリアル・インスティチュート(
RPMI )−1640で考案された完全培地を使用し
た。使用した培地はすべて、ペニシリン6100単位/
#/およびストレプトマイシン硫酸%100μ9/ml
ならびにウシ胎児血清5%を含有するものであった。
ズウエル・パーク・メモリアル・インスティチュート(
RPMI )−1640で考案された完全培地を使用し
た。使用した培地はすべて、ペニシリン6100単位/
#/およびストレプトマイシン硫酸%100μ9/ml
ならびにウシ胎児血清5%を含有するものであった。
C)肺臓細胞の調製:肺臓を無菌条件下に切除し、ハン
クス溶液で洗浄し、次いで組織培養培地に入れた。細胞
は組織培養培地に細胞数5X105個/耐含有するよう
に懸濁した。
クス溶液で洗浄し、次いで組織培養培地に入れた。細胞
は組織培養培地に細胞数5X105個/耐含有するよう
に懸濁した。
d)培養条件:組織培養用マルチディツシュ(ファルコ
ンJFL3−040)の各穴に上記マウス肺臓細胞懸濁
液0.11および、所定濃度の化合物溶液0.1yxl
および/または所定濃度の前記免疫抑制因子溶液0.1
mlを分注した。さらにコンカナバリンAを細胞刺戟
のために、最終濃度で1μ(17ml添加した。
ンJFL3−040)の各穴に上記マウス肺臓細胞懸濁
液0.11および、所定濃度の化合物溶液0.1yxl
および/または所定濃度の前記免疫抑制因子溶液0.1
mlを分注した。さらにコンカナバリンAを細胞刺戟
のために、最終濃度で1μ(17ml添加した。
培養物を灰酸ガス細胞培養恒温器中(空気95%、CO
□5%)37℃で48時間培養した。
□5%)37℃で48時間培養した。
e)マイトジェン誘発マウス肺臓細胞増殖の検定:マイ
トジェン誘発マウス肺臓細胞増殖を、トリチウム標識チ
ミジン(3H−チミジン)の取込みによシ検定した。試
験ではすべて10マイクロキユーリー(μCi ) /
mlの3H−チミジン20μlを前述したマウス肺臓細
胞の48時間培養液を含む各穴に加えた。そしてさらに
24時間培養した後、細胞を濾紙、ワットマンGF83
を用いて涙過し、食塩水および5%トリクロロ酢酸で順
次洗浄した。
トジェン誘発マウス肺臓細胞増殖を、トリチウム標識チ
ミジン(3H−チミジン)の取込みによシ検定した。試
験ではすべて10マイクロキユーリー(μCi ) /
mlの3H−チミジン20μlを前述したマウス肺臓細
胞の48時間培養液を含む各穴に加えた。そしてさらに
24時間培養した後、細胞を濾紙、ワットマンGF83
を用いて涙過し、食塩水および5%トリクロロ酢酸で順
次洗浄した。
濾紙を乾燥し、シンチレータ−〔p−ビス−(5−フェ
ニルオキサゾール)ベンゼン0.19および2.5−ジ
フェニルオキサゾール4gを含むトルエン11!〕中に
入れ、DNA中に組込まれ九′H−チミジンを測定した
。
ニルオキサゾール)ベンゼン0.19および2.5−ジ
フェニルオキサゾール4gを含むトルエン11!〕中に
入れ、DNA中に組込まれ九′H−チミジンを測定した
。
結果
担癌マウス血清から調製した免疫抑制因子は、マウス肺
臓細胞によるマイトジエン続発aH−チミジン取込み促
進を著しく抑制した。
臓細胞によるマイトジエン続発aH−チミジン取込み促
進を著しく抑制した。
免疫抑制因子に対する目的化合物(1)の最小有効濃度
を測定し、結果を表1に示す。
を測定し、結果を表1に示す。
表1
試験化合物 最小有効濃度(μ’j/ml )実施例1
0.096 実施例2 04 この発明の免疫調整剤は、例えば、この発明の有効物質
を外用、経口または非経口投与に適した有機もしくは無
機担体もしくは賦形剤と混合して含有する固体状、半固
体状または液体状の製剤の形で使用することができる。
0.096 実施例2 04 この発明の免疫調整剤は、例えば、この発明の有効物質
を外用、経口または非経口投与に適した有機もしくは無
機担体もしくは賦形剤と混合して含有する固体状、半固
体状または液体状の製剤の形で使用することができる。
有効成分は、例えば、錠剤、ベレット、カプセル、全開
、溶液、エマルジーン、懸濁液および通常無毒で医薬と
して許容される担体と混合して適当な剤形にして使用さ
れる。ここで担体としては水、ぶどう糖、乳糖、アラビ
アゴム、ゼラチン、マンニトール、でン粉ペースト、マ
グネシウムトリシリケート、タルク、とうもろこしでん
粉、ケラチン、コロイドシリカ、馬鈴薯でん粉、尿素お
よび固体状、半固体状、または液体状の製剤を製造する
際使用に適した他の担体であり、さらにまた補助剤、安
定化剤、濃稠化剤および着色剤ならびに香料を使用して
もよい。
、溶液、エマルジーン、懸濁液および通常無毒で医薬と
して許容される担体と混合して適当な剤形にして使用さ
れる。ここで担体としては水、ぶどう糖、乳糖、アラビ
アゴム、ゼラチン、マンニトール、でン粉ペースト、マ
グネシウムトリシリケート、タルク、とうもろこしでん
粉、ケラチン、コロイドシリカ、馬鈴薯でん粉、尿素お
よび固体状、半固体状、または液体状の製剤を製造する
際使用に適した他の担体であり、さらにまた補助剤、安
定化剤、濃稠化剤および着色剤ならびに香料を使用して
もよい。
この免疫調整剤はまた、所望の製剤中の有効成分の活性
を安定に維持するために保存剤または静菌剤を含んでい
ることもできる。この免疫調整剤中に含有される有効な
目的化合物の量は、疾患の過程と状態に対して所望の治
療効果を発揮するのに充分な量である。
を安定に維持するために保存剤または静菌剤を含んでい
ることもできる。この免疫調整剤中に含有される有効な
目的化合物の量は、疾患の過程と状態に対して所望の治
療効果を発揮するのに充分な量である。
この免疫調整剤を人に適用する場合、静脈内、筋肉内ま
たは経口投与により適用することが好ましい。この発明
の目的化合物の投与量または治−有効量は、処置すべき
個々の患者それぞれの年齢および条件によって変化する
が、大または動物に対して一般的には有効成分1日投与
量約0.1〜100N/kqが治療のために投与され、
通常1回約50岬、100ダ、250■、500岬が投
与される。
たは経口投与により適用することが好ましい。この発明
の目的化合物の投与量または治−有効量は、処置すべき
個々の患者それぞれの年齢および条件によって変化する
が、大または動物に対して一般的には有効成分1日投与
量約0.1〜100N/kqが治療のために投与され、
通常1回約50岬、100ダ、250■、500岬が投
与される。
また、目的化合物(1)または医薬として許容される塩
と抗癌剤、抗菌剤、抗炎油剤等と併用する場合の併用割
合は、病気の種類、薬剤の種類等によって異なるが、一
般的には目的化合物+11に対し併用する薬剤0.00
1〜10程度が適当である。
と抗癌剤、抗菌剤、抗炎油剤等と併用する場合の併用割
合は、病気の種類、薬剤の種類等によって異なるが、一
般的には目的化合物+11に対し併用する薬剤0.00
1〜10程度が適当である。
この発明を、実施例によって説明する。
製造例1
l−1)8aβ−イントリジジン−1α、2α、8β−
トリオール(1779)のピリジン(8117)溶液を
水冷却し、p−)ルエンスルホン酸クロリド(191■
)のジクロロメタン(3*/)溶液を滴下後、−夜室温
で攪拌する。反応液から減圧下に溶媒を留去する。残渣
をクロロホルム(2(1+/)に溶解後、炭酸水素ナト
リウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し
、これをシリカゲル(8g)・カラムクロマトグラフィ
ーに付した後、クロロホルム−メタノール(40:1)
混液で溶出する。目的物を含む分画を集め、溶媒全留去
L、2α−p−)ルエンスルボニルオキシ−1α、8β
−ジヒドロキシ−8aβ−イントリジジンの淡赤色結晶
(1081N)を得る。
トリオール(1779)のピリジン(8117)溶液を
水冷却し、p−)ルエンスルホン酸クロリド(191■
)のジクロロメタン(3*/)溶液を滴下後、−夜室温
で攪拌する。反応液から減圧下に溶媒を留去する。残渣
をクロロホルム(2(1+/)に溶解後、炭酸水素ナト
リウム水溶液、飽和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄し
、硫酸マグネシウムで乾燥する。減圧下に溶媒を留去し
、これをシリカゲル(8g)・カラムクロマトグラフィ
ーに付した後、クロロホルム−メタノール(40:1)
混液で溶出する。目的物を含む分画を集め、溶媒全留去
L、2α−p−)ルエンスルボニルオキシ−1α、8β
−ジヒドロキシ−8aβ−イントリジジンの淡赤色結晶
(1081N)を得る。
mp126〜128℃
I R(、itジs−/し):3370,2950,1
360,1180゜1100.1070α NMR(CDCl2.δ):1.74(5H,m)、2
.24(3H,’+s) 、2.25(2H,m) 、
2.91(IH,m) 、3.11(IH,d、d、J
=2Hz、12Hz)、3.83(IH。
360,1180゜1100.1070α NMR(CDCl2.δ):1.74(5H,m)、2
.24(3H,’+s) 、2.25(2H,m) 、
2.91(IH,m) 、3.11(IH,d、d、J
=2Hz、12Hz)、3.83(IH。
m)、4.33(IH,dld、J=6Hz14Hz)
14.90(IH,m) 、7.32(2H,d 、
J=8Hz) 。
14.90(IH,m) 、7.32(2H,d 、
J=8Hz) 。
7.84 (2H,、d 、 1=8Hz )1−2)
2α−p−)ルエンスルホニルオキシーlα、8β−
ジヒドロキシ−8aβ−イントリジジン(95W)及び
安息香酸ナトリウム(2094)のN、N−ジメチルポ
ルムアミド(3*/)混液を140℃で2.・5時間加
熱する。反応液を冷却後、濾過する。P液を減圧下に蒸
発乾固し、残渣をクロロホルム(30*/)で抽出する
。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナ
トリウム水溶液で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、次いで減圧下に溶媒を留去する。残渣をシリカゲル
(4v)・カラムクロマトグラフィーに付し、クロロホ
ルム−メタノール(50:1)混液で溶出する。目的物
を含む分画を集め、溶媒を留去し、2β−ベンゾイルオ
キシ−1α、8β−ジヒドロキシ−8aβ−イントリジ
ジンの黄褐色粉末(19mg)を得る。
2α−p−)ルエンスルホニルオキシーlα、8β−
ジヒドロキシ−8aβ−イントリジジン(95W)及び
安息香酸ナトリウム(2094)のN、N−ジメチルポ
ルムアミド(3*/)混液を140℃で2.・5時間加
熱する。反応液を冷却後、濾過する。P液を減圧下に蒸
発乾固し、残渣をクロロホルム(30*/)で抽出する
。抽出液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、飽和塩化ナ
トリウム水溶液で順次洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥
し、次いで減圧下に溶媒を留去する。残渣をシリカゲル
(4v)・カラムクロマトグラフィーに付し、クロロホ
ルム−メタノール(50:1)混液で溶出する。目的物
を含む分画を集め、溶媒を留去し、2β−ベンゾイルオ
キシ−1α、8β−ジヒドロキシ−8aβ−イントリジ
ジンの黄褐色粉末(19mg)を得る。
mp 143〜148℃
IR(ヌジq−zしc3300,1715,1285.
1150゜11531 NMR(CDCl2.δ) : 1.1〜2.4 (7
H1m ) + 3−01(IH,m) 、3.80(
2H,m) 、4.43(IH,m) 。
1150゜11531 NMR(CDCl2.δ) : 1.1〜2.4 (7
H1m ) + 3−01(IH,m) 、3.80(
2H,m) 、4.43(IH,m) 。
5.18(l)I、m) 、7.59(3H,m) 、
8.11(2H。
8.11(2H。
製造例2
2−1)8aβ−イントリジシアー1a、2a、gβ−
トリオール(346岬)、2,2−ジメトキシプロパン
(1,249)及びp−)ルエンスルホン酸の1水和物
(400W)のN、N−ジメチルホルムアミド(4諺l
)混液を室温で一夜攪拌する。反応液に水(5ml )
を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水残渣をヘキサンから
結晶化し、1a、2α−インプロビリクンジオキシ−8
β−ヒドロキシ−8aβ−イントリジジンの淡黄色針状
晶(300W)を得る。
トリオール(346岬)、2,2−ジメトキシプロパン
(1,249)及びp−)ルエンスルホン酸の1水和物
(400W)のN、N−ジメチルホルムアミド(4諺l
)混液を室温で一夜攪拌する。反応液に水(5ml )
を加え、飽和炭酸水素ナトリウム水残渣をヘキサンから
結晶化し、1a、2α−インプロビリクンジオキシ−8
β−ヒドロキシ−8aβ−イントリジジンの淡黄色針状
晶(300W)を得る。
mp109〜111℃
IR(ヌジe−zし):3290,1380,1250
,1200゜1140.1120.1060国 NMR(CDCl2 、δ) : 1.31 (3H、
s ) 、 1.4〜2.4(?H,m)、1.47(
3H,s)、2.98(IH,m)。
,1200゜1140.1120.1060国 NMR(CDCl2 、δ) : 1.31 (3H、
s ) 、 1.4〜2.4(?H,m)、1.47(
3H,s)、2.98(IH,m)。
3.12(IH,d、d、J=]IHz、IHz)、3
.84(lH、m) 、 4.65 (2B 、m)2
−2) 1α、2α −インプロピリデンジオキシ−8
β−ヒドロキシ−8aβ−イントリジジン(SOOダ)
をベンゼン(10+w/)及びジメチルスルホキシド(
1(1*/)混液に溶かした液に、ピリジン(185,
5■)、トリフルオロ酢酸(133,5■)及ヒジシク
ロへキシルカルボジイミド(1,45g)を順次加え、
室温で一夜攪拌する。反応液に酢酸エチル(100耐)
を加え、次いで不溶物を戸別する。ろ液を飽和炭酸水素
す) IJウム水溶液及び飽和塩化ナトリウム水溶液で
順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒
を留去する。
.84(lH、m) 、 4.65 (2B 、m)2
−2) 1α、2α −インプロピリデンジオキシ−8
β−ヒドロキシ−8aβ−イントリジジン(SOOダ)
をベンゼン(10+w/)及びジメチルスルホキシド(
1(1*/)混液に溶かした液に、ピリジン(185,
5■)、トリフルオロ酢酸(133,5■)及ヒジシク
ロへキシルカルボジイミド(1,45g)を順次加え、
室温で一夜攪拌する。反応液に酢酸エチル(100耐)
を加え、次いで不溶物を戸別する。ろ液を飽和炭酸水素
す) IJウム水溶液及び飽和塩化ナトリウム水溶液で
順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に溶媒
を留去する。
残渣をメタノール(30g+/)に溶解後、水素化ホウ
素ナトリウム(9oon)を加え、室温で3時間攪拌す
る。反応液に水(30ml)を加え、水層を分取後、こ
れをクロロホルム(50耐嘴2)で抽出する。有機層を
合し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、次いで溶媒を減圧下に留去する。残渣
をシリカゲル(25g)・カラムクロマトグラフィーに
付し、クロロホルム−メタノール(100:1)混液で
溶出する。目的物を含む分画を合し、溶媒を留去し、l
α、2α−インプロピリデンジオキシ−8α−ヒドロキ
シ−8aβ−イントリジジンの淡黄色油状物(169岬
)を得る。
素ナトリウム(9oon)を加え、室温で3時間攪拌す
る。反応液に水(30ml)を加え、水層を分取後、こ
れをクロロホルム(50耐嘴2)で抽出する。有機層を
合し、飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄後、硫酸マグネ
シウムで乾燥し、次いで溶媒を減圧下に留去する。残渣
をシリカゲル(25g)・カラムクロマトグラフィーに
付し、クロロホルム−メタノール(100:1)混液で
溶出する。目的物を含む分画を合し、溶媒を留去し、l
α、2α−インプロピリデンジオキシ−8α−ヒドロキ
シ−8aβ−イントリジジンの淡黄色油状物(169岬
)を得る。
IR(液膜): 3320,2930,1620,15
75゜1220ai1 NMR(CDCI、 、δ) : 1.2〜1.6 (
3H、m ) 、 1.8〜2.2(4H,m) 、
1.32(3H,8) 、 1.55(3H。
75゜1220ai1 NMR(CDCI、 、δ) : 1.2〜1.6 (
3H、m ) 、 1.8〜2.2(4H,m) 、
1.32(3H,8) 、 1.55(3H。
m)、3.16(IH,m)、3.21(IH,d、J
=12Hz) 、4.32(IH,m) 、4.67(
2H,m)Mass m/e 213 製造例3 3−1) 3−アジド−3−デオキシ−1,2・5,6
−ジー0−インプロピリデン−α−D−’/ルコフラノ
ース(1t)をアセトン(20*/)及び水(10*/
)混液に溶解した液に、p−)ルエンスルホン酸・1水
和物< 133岬)を室温で加え、50℃で7時間攪拌
後、30分間還流する。反応液を室温まで降温した後、
伏酸水素ナトリウム水済液でpH7,5に調整する。減
圧下にアセトンを留去し、クロロホルムで抽出する。抽
出液を硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、3−
アジド−3−デオキシ−1,2−0−インプロピリデン
−α−D−グルコフラノースの液状物質(846即)を
得る。
=12Hz) 、4.32(IH,m) 、4.67(
2H,m)Mass m/e 213 製造例3 3−1) 3−アジド−3−デオキシ−1,2・5,6
−ジー0−インプロピリデン−α−D−’/ルコフラノ
ース(1t)をアセトン(20*/)及び水(10*/
)混液に溶解した液に、p−)ルエンスルホン酸・1水
和物< 133岬)を室温で加え、50℃で7時間攪拌
後、30分間還流する。反応液を室温まで降温した後、
伏酸水素ナトリウム水済液でpH7,5に調整する。減
圧下にアセトンを留去し、クロロホルムで抽出する。抽
出液を硫酸ナトリウムで乾燥後、減圧下に濃縮し、3−
アジド−3−デオキシ−1,2−0−インプロピリデン
−α−D−グルコフラノースの液状物質(846即)を
得る。
I R(Film):2120c+++N M R(C
D30D、δC1,30(3H,8)、1.47(3H
。
D30D、δC1,30(3H,8)、1.47(3H
。
S)、5.83(IH,d、J=4H2)3−2) 3
−アジド−3−デオキシ−1,2−0−インプロピリデ
ン−α−D−グルコフラノース(7,66(1)のピリ
ジン(8(1+/)溶液にメタンスルホニルクロリド(
9,7*/)を室温で加え、同温度で1.5時間攪拌す
る。反応液に水(10++/)を氷冷却下に加え、次い
で減圧下に濃縮する。残渣をクロロホルムに溶解し、こ
れを希塩酸、飽和炭酸水素す) IJウム水溶液及び飽
和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、硫酸ナトリウム
で乾燥し、次いで減圧下に濃縮する。得られだ液状物質
をヘキサンから結晶化し、3−アジド−3−デオキシ−
1,2−0−イソプロピリデン−5,6−ピスー〇−メ
タンスルホニル−α−D゛−グルコフラノース(9,8
2g)を得る。
−アジド−3−デオキシ−1,2−0−インプロピリデ
ン−α−D−グルコフラノース(7,66(1)のピリ
ジン(8(1+/)溶液にメタンスルホニルクロリド(
9,7*/)を室温で加え、同温度で1.5時間攪拌す
る。反応液に水(10++/)を氷冷却下に加え、次い
で減圧下に濃縮する。残渣をクロロホルムに溶解し、こ
れを希塩酸、飽和炭酸水素す) IJウム水溶液及び飽
和塩化ナトリウム水溶液で順次洗浄後、硫酸ナトリウム
で乾燥し、次いで減圧下に濃縮する。得られだ液状物質
をヘキサンから結晶化し、3−アジド−3−デオキシ−
1,2−0−イソプロピリデン−5,6−ピスー〇−メ
タンスルホニル−α−D゛−グルコフラノース(9,8
2g)を得る。
mp104〜108℃
IR(ヌジョール):2130画
一 NMR(CDCI3.δ):1.33(3H,8)
、1.50(3H。
、1.50(3H。
s) 、3.07(3H,s) 、3.17(3H,s
) 、5.87(lH9dll−4H2) 3−3) 3−アジド−3−デオキシ−1,2−0−イ
ンプロピリデン−5,6−ピスー〇−メタンスルホニル
−α−D−グルコフラノース(27,59)の90%水
性トリフルオロ酢酸(308m/)混液を室温で5.5
時間持拌する。反応液を減圧下に、1/8の体積にまで
濃縮する。濃縮液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に
注入し、これを酢酸エチル及びテトラヒドロフラン混液
で抽出する。抽出液を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄
後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮する。残渣
をテトラヒドロフラン(200+w/)に溶解し、これ
に(エトキシカルボニルメチレン)トリフェニルホスホ
ラン(28,64g)を室温で加え、次いで2時間還流
する。反応液に酢酸エチルを加え、IN塩酸及び飽和塩
化ナトリウム水溶液で順次洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥
し、次いで減圧下に濃縮する。残渣をシリカゲル(50
0g)・カラムクロマトグラフづ−に付し、クロロホル
ム−メタノール(20:1(Vv))混液マ溶出する。
) 、5.87(lH9dll−4H2) 3−3) 3−アジド−3−デオキシ−1,2−0−イ
ンプロピリデン−5,6−ピスー〇−メタンスルホニル
−α−D−グルコフラノース(27,59)の90%水
性トリフルオロ酢酸(308m/)混液を室温で5.5
時間持拌する。反応液を減圧下に、1/8の体積にまで
濃縮する。濃縮液を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液中に
注入し、これを酢酸エチル及びテトラヒドロフラン混液
で抽出する。抽出液を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄
後、硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下に濃縮する。残渣
をテトラヒドロフラン(200+w/)に溶解し、これ
に(エトキシカルボニルメチレン)トリフェニルホスホ
ラン(28,64g)を室温で加え、次いで2時間還流
する。反応液に酢酸エチルを加え、IN塩酸及び飽和塩
化ナトリウム水溶液で順次洗浄後硫酸ナトリウムで乾燥
し、次いで減圧下に濃縮する。残渣をシリカゲル(50
0g)・カラムクロマトグラフづ−に付し、クロロホル
ム−メタノール(20:1(Vv))混液マ溶出する。
目的物を含む分画を合し、減圧下に溶媒を留去し、エチ
ル(2E)−5−アジド−乙8−ヒ゛スー0−メタンス
ルホニル−2,3,5−Hデオキシ−D−グルコ−2−
オクテナート(20,9,29)を得る。
ル(2E)−5−アジド−乙8−ヒ゛スー0−メタンス
ルホニル−2,3,5−Hデオキシ−D−グルコ−2−
オクテナート(20,9,29)を得る。
IR(液膜): 2250,1700.1660t:m
N M、R(d6−DMSO,δC1,33(3H,d
、J=8Hz)。
N M、R(d6−DMSO,δC1,33(3H,d
、J=8Hz)。
3.03(3H,s)、3.10(3H,s)、4.2
0(2H。
0(2H。
Q+J=8Hz)、6.27(’IH,d、J=16H
z)。
z)。
6.93(IH,dd、J=5.16Hz)3−4)
エチル(2E)、−5−アジド−7,8−ビスー〇−メ
タンスルホニル−2,3,5−) リーf’オキシーD
−グルコー2−オクテナート(18,549)をメタノ
ール(300+w/)及び濃塩酸(411/)混液に溶
解しだ液を10%パラジウム度素(20g)の存在下に
室温で12時間、水素(3,5気圧)還元する。反応液
から触媒を戸数し、これをエタノール、IN−塩酸及び
水で順次洗浄する。ろ液及び洗液を合し、これをアンバ
ー2イト(Amberlite)IRA400(O圧型
→でpH8に調整後、減圧下に濃縮する。残渣をエタノ
ールに溶解し、減圧下に濃縮後、濃縮液から固体を戸数
し、これをエタノールで洗浄し、5,8−イミノ−7−
0−メタンスルホニル−2,3,5,8−テトラデオキ
シ−D−グルコオクトノー1.4−ラクトン(3,36
9)を得る。
エチル(2E)、−5−アジド−7,8−ビスー〇−メ
タンスルホニル−2,3,5−) リーf’オキシーD
−グルコー2−オクテナート(18,549)をメタノ
ール(300+w/)及び濃塩酸(411/)混液に溶
解しだ液を10%パラジウム度素(20g)の存在下に
室温で12時間、水素(3,5気圧)還元する。反応液
から触媒を戸数し、これをエタノール、IN−塩酸及び
水で順次洗浄する。ろ液及び洗液を合し、これをアンバ
ー2イト(Amberlite)IRA400(O圧型
→でpH8に調整後、減圧下に濃縮する。残渣をエタノ
ールに溶解し、減圧下に濃縮後、濃縮液から固体を戸数
し、これをエタノールで洗浄し、5,8−イミノ−7−
0−メタンスルホニル−2,3,5,8−テトラデオキ
シ−D−グルコオクトノー1.4−ラクトン(3,36
9)を得る。
IR(ヌジ「シレ):1770,1210.1180c
*NMR(d6−DMSO,δ):3.20(3H,s
)F D Mass 266 (M++1 )一方、涙
液及び洗液を合し、減圧下に濃縮する。
*NMR(d6−DMSO,δ):3.20(3H,s
)F D Mass 266 (M++1 )一方、涙
液及び洗液を合し、減圧下に濃縮する。
残渣をシリカゲル(2509)・カラムクロマトグラフ
ィーに付し、クロロホルム−メタノール(1o : t
(V/V))混液で溶出する。目的物を含む分画を合
し、これを減圧下に濃縮して、2α−メタンスルホニル
オキシ−5−オキソ−1αI8α−ジヒドロキシ−8a
β−イントリジジン(2,29)を得る。
ィーに付し、クロロホルム−メタノール(1o : t
(V/V))混液で溶出する。目的物を含む分画を合
し、これを減圧下に濃縮して、2α−メタンスルホニル
オキシ−5−オキソ−1αI8α−ジヒドロキシ−8a
β−イントリジジン(2,29)を得る。
IR(ヌジョール):1610aR
N M R(DMSO−d6.δ):1.6−2.02
(2H,m)。
(2H,m)。
3.27(3H,5)
3−5) 5.8−イミノ−7−〇−メタンスルホニル
ー2.3.5.8−テトラデオキシ−D−グルコ−オク
トノー1.4−ラクトン(1g)をN、N−ジメチルホ
ルムアミド(5gt)及びエタノール(20++/)混
液に溶解した欲を4峙間ゆるやかに還流する。
ー2.3.5.8−テトラデオキシ−D−グルコ−オク
トノー1.4−ラクトン(1g)をN、N−ジメチルホ
ルムアミド(5gt)及びエタノール(20++/)混
液に溶解した欲を4峙間ゆるやかに還流する。
反応液を減圧下に濃縮する。残直にメタノール(20g
/)を加え、析出セ11をfP取し、メタノールで洗浄
し、2α−メタンスルホニルオキシ−5−オキソ−1a
、8α−ジヒドロキシ−8aβ−イントリジジン(65
8111g)を得る。さらに、涙液及び洗液を合し、減
圧下に濃縮する。残渣をシリカゲル(20g)・カラム
クロマトグラフィーに付し、クロロホルム・メタノール
(10: 1 (V/V))混液で溶出する。目的物を
含む分画を合し、溶媒を留去し、前記目的物(236■
)を回収する。
/)を加え、析出セ11をfP取し、メタノールで洗浄
し、2α−メタンスルホニルオキシ−5−オキソ−1a
、8α−ジヒドロキシ−8aβ−イントリジジン(65
8111g)を得る。さらに、涙液及び洗液を合し、減
圧下に濃縮する。残渣をシリカゲル(20g)・カラム
クロマトグラフィーに付し、クロロホルム・メタノール
(10: 1 (V/V))混液で溶出する。目的物を
含む分画を合し、溶媒を留去し、前記目的物(236■
)を回収する。
3−6)’ 2α−メタンスルホニルオキシ−5−オキ
ソ−112,8α−ジヒドロキシ−8aβ−イントリジ
ジン(IQ)の無水ピリジン(15I+/)溶液にヘキ
サメチルジシラザン(20震t)及びトリメチルクロロ
シラン(10m/)混液を室温で加え、同温度で一夜撰
、拌する。反応液を減圧下に濃縮する。
ソ−112,8α−ジヒドロキシ−8aβ−イントリジ
ジン(IQ)の無水ピリジン(15I+/)溶液にヘキ
サメチルジシラザン(20震t)及びトリメチルクロロ
シラン(10m/)混液を室温で加え、同温度で一夜撰
、拌する。反応液を減圧下に濃縮する。
残渣を酢酸エチル及びテトラヒドロフラン混液で抽出す
る。抽出液を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸
ナトリウムで乾燥後減圧下に濃縮し、2α−メタンスル
ホニルオキシ−5−オキソ−1α、8α−ジトリメチル
シリルオキシ−8aβ−イントリジジン(1,66g)
を得る。
る。抽出液を飽和塩化ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸
ナトリウムで乾燥後減圧下に濃縮し、2α−メタンスル
ホニルオキシ−5−オキソ−1α、8α−ジトリメチル
シリルオキシ−8aβ−イントリジジン(1,66g)
を得る。
IR(ヌジ日−ル):1650備
NMR(d6−DMSO,δ):0.13(18H,s
)、3.20(3H,5) 3−7) 2α−メタンスルホニルオキシ−5−オキシ
ーlα、8α−ジトリメチルシリルオキシ−8aβ−イ
ントリジジン(4134)のテトラヒドロフラン(10
ml )溶液にポラン−ジメチルスルフィド錯体(0,
4711/)を還流下に加え、続いて1時間還流する。
)、3.20(3H,5) 3−7) 2α−メタンスルホニルオキシ−5−オキシ
ーlα、8α−ジトリメチルシリルオキシ−8aβ−イ
ントリジジン(4134)のテトラヒドロフラン(10
ml )溶液にポラン−ジメチルスルフィド錯体(0,
4711/)を還流下に加え、続いて1時間還流する。
反応液に6N塩酸(2*/)を氷冷却下に加え、1時間
還流する。反応液を冷却後、アンバーライト(Ambe
rlitc ) I RA 400 (OH−型)でp
H8に調整する。樹脂を戸数し、これを水性エタノール
で洗浄する。ろ液及び洗液を合し、これを減圧下に濃縮
する。残渣をシリカゲル(15g)・カラムクロマトグ
ラフィーに付し、クロロホルム−メタノール(20:
1(V/V))混液で溶出する。目的物を含む分画を合
し、減圧下に濃縮し、2α−メタンスルホニルオキシ−
1α、8α−ジヒドロキシ−8aβ−イントリジジン(
659)を得る・ mpH7〜118℃ 3 ((1:lDニー7.95’ (C=40 Menu)
I R(Nujol ): C=OmissingNM
R(d6−DMSO,δ):3.13(3H,5)FD
Mass: 251 (M ) 3−8) 2α−メタンスルホニルオキシ−1α、8α
−ジヒドロキシ−8aβ−イントリジジン(213哩)
のN、N−ジメチルホルムアミド(511/)溶液に安
息香酸ナトリウム(484Mg)を室温で窒素雰囲気下
に加え、120℃で2時間攪拌する。反応液を冷却後酢
酸エチル(20耐)を加える。不溶物を戸数し、これを
酢酸エチルで洗浄する。F液及び洗液を合し、これを減
圧下に濃縮する。残渣をシリカゲル(109)・カラム
クロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール
(25: 1(v/v))混液で溶出する。目的物を含
む分画を合し、減圧下に溶媒を留去して、2β−ベンゾ
イルオキシ−1α18α−ジヒドロキシ−8aβ−イン
トリジジン(1279)を得る。
還流する。反応液を冷却後、アンバーライト(Ambe
rlitc ) I RA 400 (OH−型)でp
H8に調整する。樹脂を戸数し、これを水性エタノール
で洗浄する。ろ液及び洗液を合し、これを減圧下に濃縮
する。残渣をシリカゲル(15g)・カラムクロマトグ
ラフィーに付し、クロロホルム−メタノール(20:
1(V/V))混液で溶出する。目的物を含む分画を合
し、減圧下に濃縮し、2α−メタンスルホニルオキシ−
1α、8α−ジヒドロキシ−8aβ−イントリジジン(
659)を得る・ mpH7〜118℃ 3 ((1:lDニー7.95’ (C=40 Menu)
I R(Nujol ): C=OmissingNM
R(d6−DMSO,δ):3.13(3H,5)FD
Mass: 251 (M ) 3−8) 2α−メタンスルホニルオキシ−1α、8α
−ジヒドロキシ−8aβ−イントリジジン(213哩)
のN、N−ジメチルホルムアミド(511/)溶液に安
息香酸ナトリウム(484Mg)を室温で窒素雰囲気下
に加え、120℃で2時間攪拌する。反応液を冷却後酢
酸エチル(20耐)を加える。不溶物を戸数し、これを
酢酸エチルで洗浄する。F液及び洗液を合し、これを減
圧下に濃縮する。残渣をシリカゲル(109)・カラム
クロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メタノール
(25: 1(v/v))混液で溶出する。目的物を含
む分画を合し、減圧下に溶媒を留去して、2β−ベンゾ
イルオキシ−1α18α−ジヒドロキシ−8aβ−イン
トリジジン(1279)を得る。
[:a]、j8:+i6.4z°(C= 2.65 M
eOH)IR(液膜) : 1710,1600.15
5001N M R(CD30D 、δ)ニア、33〜
7.7(3E9m)、7.87〜8.17(2H,m) FD 朧ss : 277 (M+) 製造例4 4−1) 3−アジド−3−デオキシ−1,2−0−イ
ンプロピリデン−α−D−グルコフラノース(20g)
のピリジン(200胃l)溶液に、メタンスルホニルク
ロリド(6,3*/)を0℃で滴下し、−2℃〜θ℃で
1時間攪拌する。反応液に水(5*/ )を−2℃で加
えた後、減圧下に溶媒を留去する。残液を酢酸エチルに
溶解し、これをIN塩酸で2回及び水で1回、゛順次洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで減圧下に溶媒
を留去して、3−アジド−3−デオキシ−1,2−0−
イソプロピリデン−6−0−メタンスルホニル−α−D
−ス グルコフラノ−$(24,36g)を得る。
eOH)IR(液膜) : 1710,1600.15
5001N M R(CD30D 、δ)ニア、33〜
7.7(3E9m)、7.87〜8.17(2H,m) FD 朧ss : 277 (M+) 製造例4 4−1) 3−アジド−3−デオキシ−1,2−0−イ
ンプロピリデン−α−D−グルコフラノース(20g)
のピリジン(200胃l)溶液に、メタンスルホニルク
ロリド(6,3*/)を0℃で滴下し、−2℃〜θ℃で
1時間攪拌する。反応液に水(5*/ )を−2℃で加
えた後、減圧下に溶媒を留去する。残液を酢酸エチルに
溶解し、これをIN塩酸で2回及び水で1回、゛順次洗
浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで減圧下に溶媒
を留去して、3−アジド−3−デオキシ−1,2−0−
イソプロピリデン−6−0−メタンスルホニル−α−D
−ス グルコフラノ−$(24,36g)を得る。
IR(液膜) : 2160α
N M R(CDC13,δ):1.33(3H,S)
、1.50(3H。
、1.50(3H。
s)、3.07(3H,s)、4.63(IH,d、J
−3Hz)。
−3Hz)。
5.87(IH,d、 J=3Hz)
4−2) 3−アジド−3−デオキシ−1,2−0−イ
ソプロピリデン−6−〇−メタンスルホニルーα−D−
グルコフラノース(5g)の90%水性トリフルオロ酢
酸(55禦/)溶液を室温で1時間攪拌する。反応液か
ら減圧下に溶媒を留去する。
ソプロピリデン−6−〇−メタンスルホニルーα−D−
グルコフラノース(5g)の90%水性トリフルオロ酢
酸(55禦/)溶液を室温で1時間攪拌する。反応液か
ら減圧下に溶媒を留去する。
残渣を酢酸エチルに溶解し、炭酸水素す) IJウム水
溶液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで減圧
下に溶媒を留去する。残渣をN、N−ジメチルホルムア
ミド(100胃l)に溶解し、(エトキシカルボニルメ
チレン)トリフェニルホスホラン(8,08g)を室温
で加え、95℃で2時間攪拌する。反応液から減圧下に
溶媒を留去する。残渣を酢酸エチルに溶解し、IN塩酸
、炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和塩化ナトリウム水
溶液で順次洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで減
圧下に溶媒を留去する。残渣をシリカゲル(300g)
・カラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メ
タノール(50:1、V/V )混液で溶出する。目的
物を含む分画を集め、減圧下に溶媒を留去し、エチル(
2E)−5−アジド−7,8−ビスー〇−メタンスルホ
ニル−2,3,5−) +)f’オキシ−D−グルコ−
2−オクテナート(79η)を得る。
溶液で洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、次いで減圧
下に溶媒を留去する。残渣をN、N−ジメチルホルムア
ミド(100胃l)に溶解し、(エトキシカルボニルメ
チレン)トリフェニルホスホラン(8,08g)を室温
で加え、95℃で2時間攪拌する。反応液から減圧下に
溶媒を留去する。残渣を酢酸エチルに溶解し、IN塩酸
、炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和塩化ナトリウム水
溶液で順次洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥し、次いで減
圧下に溶媒を留去する。残渣をシリカゲル(300g)
・カラムクロマトグラフィーに付し、クロロホルム−メ
タノール(50:1、V/V )混液で溶出する。目的
物を含む分画を集め、減圧下に溶媒を留去し、エチル(
2E)−5−アジド−7,8−ビスー〇−メタンスルホ
ニル−2,3,5−) +)f’オキシ−D−グルコ−
2−オクテナート(79η)を得る。
I R(neat):2120,1700.1655c
mNMR(CD30D、δ):1.23(3H,d、J
=7Hz)。
mNMR(CD30D、δ):1.23(3H,d、J
=7Hz)。
4.23(2H,d、 J=7Hz) 、6.20(I
H,dd 。
H,dd 。
J−2,15Hz)、7.07(IH,d、d、J=6
.15Hz)4−3) W造例3−4)の方法に従い、
エチル(2E)−5−アジド−7,8−ビスー〇−メタ
ンスルホニル−2,3,5−トリデオキシ−D−グルコ
−2ナ ーオクテ嶌−トから、5−オキソ−8aβ−イントリジ
ジン−1α、2α、8α−トリオールを得る。
.15Hz)4−3) W造例3−4)の方法に従い、
エチル(2E)−5−アジド−7,8−ビスー〇−メタ
ンスルホニル−2,3,5−トリデオキシ−D−グルコ
−2ナ ーオクテ嶌−トから、5−オキソ−8aβ−イントリジ
ジン−1α、2α、8α−トリオールを得る。
25 。
〔α〕D、+44.04(C=1.95MeOH)IR
(液膜) : 1640〜1590zNMR(CD30
D、 δ) : 1.70〜2.20(2H,m) 。
(液膜) : 1640〜1590zNMR(CD30
D、 δ) : 1.70〜2.20(2H,m) 。
2.20〜3.(+3 (2H、m)
製造例5
5−1) 3−アジド−3−デオキシ−1,2,5,6
−ジー0−イソプロピリデン−α−D−グルコフラ/−
ス(3,469)及び1 % zg酸(v/v) (7
0耐)の混液を1時間還流する。反応液を氷冷却下、水
酸化バリウム水溶液でpH9,5に調整し、次いで二酸
化灰素を吹き込みpH5,5に調整する。得られた混液
にセライ) (Ce1ite )を加え、不溶物を戸数
し、これを水洗する。炉液及び洗液を合し、減圧下に体
積100耐にまで濃縮する。濃縮液を凍結乾燥し、3−
アジド−3−デオキシ−D−グルコース(2,52g)
を得る。
−ジー0−イソプロピリデン−α−D−グルコフラ/−
ス(3,469)及び1 % zg酸(v/v) (7
0耐)の混液を1時間還流する。反応液を氷冷却下、水
酸化バリウム水溶液でpH9,5に調整し、次いで二酸
化灰素を吹き込みpH5,5に調整する。得られた混液
にセライ) (Ce1ite )を加え、不溶物を戸数
し、これを水洗する。炉液及び洗液を合し、減圧下に体
積100耐にまで濃縮する。濃縮液を凍結乾燥し、3−
アジド−3−デオキシ−D−グルコース(2,52g)
を得る。
I R(KBr):2100cM
NMR(CD30D、δ):5.lo(d、J=3Hz
)FD Mass: 206(M +1)5−2) 3
−アジド−3−デオキシ−D−グルコース(10,73
9)及び(エトキシカルボニルメチレン)トリフェニル
ホスホラン(27,339)のN、N−ジメチルホルム
アミド(100m/)混液を92〜93℃で1.5時間
梢拌する。更に、(エトキシカルボニルメチレン)トリ
フェニルホスホラン(5す)を加え、同温度で30分間
攪拌する。
)FD Mass: 206(M +1)5−2) 3
−アジド−3−デオキシ−D−グルコース(10,73
9)及び(エトキシカルボニルメチレン)トリフェニル
ホスホラン(27,339)のN、N−ジメチルホルム
アミド(100m/)混液を92〜93℃で1.5時間
梢拌する。更に、(エトキシカルボニルメチレン)トリ
フェニルホスホラン(5す)を加え、同温度で30分間
攪拌する。
反応液から、N、N−ジメチルホルムアミドを留去し、
残渣をシリカゲル(50(1)・カラムクロマトグラフ
ィーに付し、クロロホルム−メタノール(20: 1
、v/v )混液で溶出する。目的物を含む分画を合し
、減圧下に溶媒を留去する。残渣をジクロロメタンで結
晶化し、エチル(E)−5−アジド−2,3,5−)リ
ゾオキシ−D−グルコ−2−オクテノエート(4,05
g)を得る。
残渣をシリカゲル(50(1)・カラムクロマトグラフ
ィーに付し、クロロホルム−メタノール(20: 1
、v/v )混液で溶出する。目的物を含む分画を合し
、減圧下に溶媒を留去する。残渣をジクロロメタンで結
晶化し、エチル(E)−5−アジド−2,3,5−)リ
ゾオキシ−D−グルコ−2−オクテノエート(4,05
g)を得る。
mp107〜108℃
Cα)D: +7.15° (C=3.28、MeOH
)IR(ヌジcづし):2120,1690.1650
ffi1NMR(CD OD、δ):1.27(3H,
t、J=71(z)。
)IR(ヌジcづし):2120,1690.1650
ffi1NMR(CD OD、δ):1.27(3H,
t、J=71(z)。
4.20 (2Hlq + J =7 Hz ) 、6
.13 (I H、d d 。
.13 (I H、d d 。
J=1.5Hz、16Hz’)、7.03(IH,dd
、J=6Hz、16Hz) 5−3) エチル(E)−5−アジド−2,3,5−ト
リデオキシ−D−グルコ−2−オクテノエート(645
ダ)をメタノール(10鱒l)及びIN塩酸(2,5g
/)の混液に溶解した液を10%パラジウム黒(zo’
ov)の存在下3時間、水素(1気圧)還元する。反応
液から触媒を戸数し、これを水性メタノールで洗浄する
。F液及び洗液を合し、アンバーライト(Amberl
ite ) I RA 400 (OH型、Rhom
& Hass社製)でpH8に調整後、溶媒を留去する
。残渣をエタノール(20+/)に溶解し、3時間還流
する。反応液から減圧下に溶媒を留去し、析出する結晶
を集め、エタノールで洗浄し、5−アミノ−2,3,5
−トリデオキシ−D−グルコ−オクタン酸ラクタム(3
59#)を得る。
、J=6Hz、16Hz) 5−3) エチル(E)−5−アジド−2,3,5−ト
リデオキシ−D−グルコ−2−オクテノエート(645
ダ)をメタノール(10鱒l)及びIN塩酸(2,5g
/)の混液に溶解した液を10%パラジウム黒(zo’
ov)の存在下3時間、水素(1気圧)還元する。反応
液から触媒を戸数し、これを水性メタノールで洗浄する
。F液及び洗液を合し、アンバーライト(Amberl
ite ) I RA 400 (OH型、Rhom
& Hass社製)でpH8に調整後、溶媒を留去する
。残渣をエタノール(20+/)に溶解し、3時間還流
する。反応液から減圧下に溶媒を留去し、析出する結晶
を集め、エタノールで洗浄し、5−アミノ−2,3,5
−トリデオキシ−D−グルコ−オクタン酸ラクタム(3
59#)を得る。
mp−151℃(分解)
〔α)D、−6,35’ (C=1.51、H2O)I
R(Nujol):1615m” NMR(D20.δ):1.83〜2.33(2H,m
)。
R(Nujol):1615m” NMR(D20.δ):1.83〜2.33(2H,m
)。
2.37〜2.73(2H,m)、3.60〜4.10
(5H。
(5H。
m)、4.23〜4.47(IH,m)F D Mas
s : 206 (M++1 )実施例1 2β−ベンゾイルオキシ−1α、8β−ジヒドロキシ−
8aβ−イントリジジン(55,4W)をテトラヒドロ
フラン(0,5m+/)及びIN水酸化ナトリウム水溶
液(Ig/)の混液に溶解した液を室温で1.5時間攪
拌する。反応液を減圧下に濃縮する。
s : 206 (M++1 )実施例1 2β−ベンゾイルオキシ−1α、8β−ジヒドロキシ−
8aβ−イントリジジン(55,4W)をテトラヒドロ
フラン(0,5m+/)及びIN水酸化ナトリウム水溶
液(Ig/)の混液に溶解した液を室温で1.5時間攪
拌する。反応液を減圧下に濃縮する。
濃縮液をダウエクス(Dovex )50WX10カラ
ム(5g/)に付し、これを水(20g/)で洗浄後、
2.8%アンモニア水(5(1+/)で溶出する。目的
物を含む分画を集め、溶媒を留去し、8aβ−イントリ
ジジン−1α、2β、8β−トリオールの淡黄色結晶(
30Kg)を得る。
ム(5g/)に付し、これを水(20g/)で洗浄後、
2.8%アンモニア水(5(1+/)で溶出する。目的
物を含む分画を集め、溶媒を留去し、8aβ−イントリ
ジジン−1α、2β、8β−トリオールの淡黄色結晶(
30Kg)を得る。
mp163〜166℃(分解)
IR(ヌジョール)=3500,3350,3200,
140011250,1115,1065.10250
IIN10250IIN、δ) : 1.1−2.1
(7H、m) 、 2.95(LH,m)、3.59(
IH,d、dlJ=7’H2,9Hz)13.77(I
H,d、d、d、J=8Hz、8Hz、4Hz)。
140011250,1115,1065.10250
IIN10250IIN、δ) : 1.1−2.1
(7H、m) 、 2.95(LH,m)、3.59(
IH,d、dlJ=7’H2,9Hz)13.77(I
H,d、d、d、J=8Hz、8Hz、4Hz)。
4.10 (2H、m)
実施例2
1α、2α−イソプロピリデンジオキシ−8α−ヒドロ
キシ−8aβ−イントリジジン(169Mg)の75%
水性トリフルオロ酢酸(10sZ)溶液を室温で1日間
攪拌する。反応液から減圧下に溶媒を留去した後、残渣
をアンバーライト(Amberlite)IRA400
(OH−型、20sZ)K付し、水(150*/)で溶
出する。溶出液から減圧下に溶媒を留去し、次いで残渣
をn−ヘキサンから結晶化し、8aβ−イントリジジン
−1α、2α18α−トリオールの淡赤色結晶(74W
)を得る。
キシ−8aβ−イントリジジン(169Mg)の75%
水性トリフルオロ酢酸(10sZ)溶液を室温で1日間
攪拌する。反応液から減圧下に溶媒を留去した後、残渣
をアンバーライト(Amberlite)IRA400
(OH−型、20sZ)K付し、水(150*/)で溶
出する。溶出液から減圧下に溶媒を留去し、次いで残渣
をn−ヘキサンから結晶化し、8aβ−イントリジジン
−1α、2α18α−トリオールの淡赤色結晶(74W
)を得る。
mp101〜103℃
IR(ヌジv1ル):3310,1380,1275,
1245゜1155.1010aR N M R(CD30D、δ):1.44(3H,m)
、1.92(3H。
1245゜1155.1010aR N M R(CD30D、δ):1.44(3H,m)
、1.92(3H。
m)、2.27(IH,d、d、J=11Hz、7Hz
)。
)。
2.99(2H,m)、4.23(3H,m)実施例3
2β−ベンゾイルオキシ−1α、8α−ジヒドロキシ−
8aβ−イントリジジン(106jf)のメタノール(
1耐)溶液にソジウムメトキサイドのメタノール混液(
28%、10μl>を室温で加え、同温度で2時間攪拌
する。反応液にンジウムメトキサイドのメタノール混液
(28%、lOμl)を追加し、室温で一夜攪拌する。
8aβ−イントリジジン(106jf)のメタノール(
1耐)溶液にソジウムメトキサイドのメタノール混液(
28%、10μl>を室温で加え、同温度で2時間攪拌
する。反応液にンジウムメトキサイドのメタノール混液
(28%、lOμl)を追加し、室温で一夜攪拌する。
反応液を減圧下に濃縮する。残渣をシリカゲル(10g
)・カラ ・□ムクロマトグラフィーに付し、ブタノー
ル−エタノール−クロロホルム−28%アンモニア水(
4:4:4:1(V/V))混液で溶出する。目的物を
含む分画を合し、減圧下に濃縮する。残渣をシリカゲル
(5g)・カラムクロマトグラフィーに付し、クロロホ
ルム−メタノール−水(65:15: 2 (V/V)
)混液で溶出する6目的物を含む分画を合し、減圧下に
溶媒を留去して、8aβ−イントリジジン−1α、2β
、8α−イントリジジン(25〜)を得る。 − mp122℃(分解) Crt3i’ : +5.03° (C= 0.71
MeOH)13C−NM!?(CD30D 、δ):
20.5 、32.0 、54.4 、62.3 。
)・カラ ・□ムクロマトグラフィーに付し、ブタノー
ル−エタノール−クロロホルム−28%アンモニア水(
4:4:4:1(V/V))混液で溶出する。目的物を
含む分画を合し、減圧下に濃縮する。残渣をシリカゲル
(5g)・カラムクロマトグラフィーに付し、クロロホ
ルム−メタノール−水(65:15: 2 (V/V)
)混液で溶出する6目的物を含む分画を合し、減圧下に
溶媒を留去して、8aβ−イントリジジン−1α、2β
、8α−イントリジジン(25〜)を得る。 − mp122℃(分解) Crt3i’ : +5.03° (C= 0.71
MeOH)13C−NM!?(CD30D 、δ):
20.5 、32.0 、54.4 、62.3 。
67.5 、68.1 、78.3 、82.2FD
Mass : 173 CM+)実施例4 5−オキソ−8aβ−イントリジジン−1α、2α。
Mass : 173 CM+)実施例4 5−オキソ−8aβ−イントリジジン−1α、2α。
8a−トリオール(78W)の乾燥ピリジ7 (、1m
l )溶液に1.1.1.3.3.3−へキサメチルジ
シラザン(2朗/)及びクロロトリメチルシラン(1m
l)の混液を室温で加え、同温度で一夜攪拌する。反応
液から減圧下に液媒を留去する。残渣をトルエンに溶解
後、液媒4を留去する。残渣を酢酸エチル及びテトラヒ
ドロフランの混液に溶解し、水洗後、硫酸ナトリウムで
乾燥し、次いで減圧下に溶媒を留去する。5−オキソ−
1α、2α、8α−トリ(トリメチルシリルオキシ)−
8aβ−イントリジジンを含む残渣(1t S呼)を乾
燥テトラヒドロフランに溶解し、これにボラン−メチル
スルフィド錯体(0,29μl)を室温で窒素ガス雰囲
気下に加え、次いで2詩間還流する。冷却後、反応液か
ら減圧下に溶媒を留去する。残渣に6N塩酸(Lm/)
を加え、1時間還流する。得られた混液に水を加え、体
積を201/にし、アンバーライト(Amber I
i te )IRA−400(Ol(”−型)でpH9
に調整する。
l )溶液に1.1.1.3.3.3−へキサメチルジ
シラザン(2朗/)及びクロロトリメチルシラン(1m
l)の混液を室温で加え、同温度で一夜攪拌する。反応
液から減圧下に液媒を留去する。残渣をトルエンに溶解
後、液媒4を留去する。残渣を酢酸エチル及びテトラヒ
ドロフランの混液に溶解し、水洗後、硫酸ナトリウムで
乾燥し、次いで減圧下に溶媒を留去する。5−オキソ−
1α、2α、8α−トリ(トリメチルシリルオキシ)−
8aβ−イントリジジンを含む残渣(1t S呼)を乾
燥テトラヒドロフランに溶解し、これにボラン−メチル
スルフィド錯体(0,29μl)を室温で窒素ガス雰囲
気下に加え、次いで2詩間還流する。冷却後、反応液か
ら減圧下に溶媒を留去する。残渣に6N塩酸(Lm/)
を加え、1時間還流する。得られた混液に水を加え、体
積を201/にし、アンバーライト(Amber I
i te )IRA−400(Ol(”−型)でpH9
に調整する。
樹脂を瀘取し、これを水性エタノールで洗浄する。
p液と洗液を合し、減圧下に溶媒を留去する。残渣をシ
リカゲル(10g)・カラムクロマトグラフィーに付し
、ブタノール−エタノール−クロロホルム−25%77
モニ7C4: 4 : 4 : I V/V”1混液で
溶出する。目的物を含む分画を集め、減圧下に溶媒を留
去し、8aβ−イントリジジン−1α。
リカゲル(10g)・カラムクロマトグラフィーに付し
、ブタノール−エタノール−クロロホルム−25%77
モニ7C4: 4 : 4 : I V/V”1混液で
溶出する。目的物を含む分画を集め、減圧下に溶媒を留
去し、8aβ−イントリジジン−1α。
2α、8α−トリオール(6〜)を得る。
実施例5
5−アミノ−2,3,54リゾオキシ−D−グルコ−オ
クタン酸ラクタム(1,4g)をピリジン(14sZ)
及びヘキサメチルホスホリックトリアミド(6震l)の
混液に溶解した液にメタンスルホニルクロリド(0,5
8*/)を水冷却下に加え、同温度で6時間攪拌する。
クタン酸ラクタム(1,4g)をピリジン(14sZ)
及びヘキサメチルホスホリックトリアミド(6震l)の
混液に溶解した液にメタンスルホニルクロリド(0,5
8*/)を水冷却下に加え、同温度で6時間攪拌する。
5−アミノ−8−0−メタンスルホニル−2,3,5−
)リゾオキシ−D−グルコ−オクタン酸ラクタムを含む
反応液に1.1.1゜3、3.3−へキサメチルジシラ
ザン(1’6gt)及びトリメチルクロロシラン(8*
/)を室温で加え、同温度で一夜攪拌する。反応液も減
圧下に濃縮する。残渣をトルエンに溶解後、再度、減圧
下に濃縮する。この操作を2度繰シ返し、得られた残渣
を酢酸エチルに溶解する。この溶液を水、飽和増化ナト
リウム水溶液で順次洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥し、
減圧下に溶媒を留去する。5−アミノ−8−0−メタン
スルホニル−4,6,7−ドリスー0−トリメチルシリ
ル−2,3,5−)リゾオキシ−D−グルコ−オクタン
酸ラクタムを含有する残渣を無水テトラヒドロフラン(
20s+/)に溶解し、これに、ポラン−メチルスルフ
ィド錯体(1,5*/)を室温で加え、次いで2時間還
流する。反応液を冷却後、濃塩酸(1,3s+/)を加
え、1時間還流する。反応液を減圧下に濃縮する。(2
R,3S)−2−((15,2S)−1,2−ジヒドロ
キジー−3−メタンスルホニルオキシプロピル)−3−
ヒドロキシピペリジンの塩酸塩を含有する残渣を水性メ
タノールに溶解する。溶液をアンバーライ) (A+n
berlite ) I RA −400(OH−型、
Rhom& Hass社製)でpH9に調整後、減圧下
に濃縮する。残渣をメタノールに溶解し、室温で一夜放
置後、減圧下に濃縮する。残渣をシリカゲル(125g
)・カラムクロマトグラフィーに付し、n−ブタノール
、エタノール、クロロホルム及び28%77−11−二
7水(4: 4 : 4 : 1 (V/V))混液で
溶出する。目的物を含む分画を集め、減圧下に濃縮する
。残渣をCM−セファデックス(5ephadex )
G−25(H+型、Pharmacia Fine C
hemicals社製、150s/)・カラムクロマト
グラフィーに付し、水(300s/)で洗浄後、塩化ナ
トリウム水溶液(0−0,15Mに濃度を徐々に上昇さ
せながら)で溶出する。目的物を含む分画を合し、減圧
下に濃縮する。残渣をシリカゲル(10g)・カラムク
ロマトグラフィーに付し、n−ブタノール、エタノール
、クロロホルム及び28%アンモニア水(4: 4 :
4 : 1 (V/v))混液で溶出する。目的物を
含む分画を合し、減圧下に溶媒を留去し、8aβ−イン
トリジジン−1α、2α、8α−トリオール(36wt
y )を得る。
)リゾオキシ−D−グルコ−オクタン酸ラクタムを含む
反応液に1.1.1゜3、3.3−へキサメチルジシラ
ザン(1’6gt)及びトリメチルクロロシラン(8*
/)を室温で加え、同温度で一夜攪拌する。反応液も減
圧下に濃縮する。残渣をトルエンに溶解後、再度、減圧
下に濃縮する。この操作を2度繰シ返し、得られた残渣
を酢酸エチルに溶解する。この溶液を水、飽和増化ナト
リウム水溶液で順次洗浄後、硫酸ナトリウムで乾燥し、
減圧下に溶媒を留去する。5−アミノ−8−0−メタン
スルホニル−4,6,7−ドリスー0−トリメチルシリ
ル−2,3,5−)リゾオキシ−D−グルコ−オクタン
酸ラクタムを含有する残渣を無水テトラヒドロフラン(
20s+/)に溶解し、これに、ポラン−メチルスルフ
ィド錯体(1,5*/)を室温で加え、次いで2時間還
流する。反応液を冷却後、濃塩酸(1,3s+/)を加
え、1時間還流する。反応液を減圧下に濃縮する。(2
R,3S)−2−((15,2S)−1,2−ジヒドロ
キジー−3−メタンスルホニルオキシプロピル)−3−
ヒドロキシピペリジンの塩酸塩を含有する残渣を水性メ
タノールに溶解する。溶液をアンバーライ) (A+n
berlite ) I RA −400(OH−型、
Rhom& Hass社製)でpH9に調整後、減圧下
に濃縮する。残渣をメタノールに溶解し、室温で一夜放
置後、減圧下に濃縮する。残渣をシリカゲル(125g
)・カラムクロマトグラフィーに付し、n−ブタノール
、エタノール、クロロホルム及び28%77−11−二
7水(4: 4 : 4 : 1 (V/V))混液で
溶出する。目的物を含む分画を集め、減圧下に濃縮する
。残渣をCM−セファデックス(5ephadex )
G−25(H+型、Pharmacia Fine C
hemicals社製、150s/)・カラムクロマト
グラフィーに付し、水(300s/)で洗浄後、塩化ナ
トリウム水溶液(0−0,15Mに濃度を徐々に上昇さ
せながら)で溶出する。目的物を含む分画を合し、減圧
下に濃縮する。残渣をシリカゲル(10g)・カラムク
ロマトグラフィーに付し、n−ブタノール、エタノール
、クロロホルム及び28%アンモニア水(4: 4 :
4 : 1 (V/v))混液で溶出する。目的物を
含む分画を合し、減圧下に溶媒を留去し、8aβ−イン
トリジジン−1α、2α、8α−トリオール(36wt
y )を得る。
(a ) B’ ニー3.43’ (C−0,9、メタ
ノール)FD Mass : 174 (M′++1)
CM R(CD30D、Complete、δ): 1
7.9 、24.5 。
ノール)FD Mass : 174 (M′++1)
CM R(CD30D、Complete、δ): 1
7.9 、24.5 。
44.4 、61.5 、64.3 、72.2 、7
5.2 、82.1特許出願人 藤沢薬品工業株式会社 手続補正書 (自発) 昭和59年7月IL日 1、事件の表示 昭和59年特許願第49670号 2、発明の名称 スワインソニン異性体およびその製造 方法、並びに免疫調整剤 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 大阪市東区道修町4丁目3番地 (524)藤沢薬品工業株式会社 代表者 藤澤友吉部 4、代理人 ■ 532 大阪市淀川区加島2丁目1番6号 5、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 6、補正の内容 明細(9第;38頁第13〜14行及び同第39頁第2
行の r−7,8−ビス−」を r−8−、、lと訂正します。
5.2 、82.1特許出願人 藤沢薬品工業株式会社 手続補正書 (自発) 昭和59年7月IL日 1、事件の表示 昭和59年特許願第49670号 2、発明の名称 スワインソニン異性体およびその製造 方法、並びに免疫調整剤 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 大阪市東区道修町4丁目3番地 (524)藤沢薬品工業株式会社 代表者 藤澤友吉部 4、代理人 ■ 532 大阪市淀川区加島2丁目1番6号 5、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄 6、補正の内容 明細(9第;38頁第13〜14行及び同第39頁第2
行の r−7,8−ビス−」を r−8−、、lと訂正します。
以上−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)式 〔式中、2位および8位の−OHはαまたはβ配位のど
ちらかの配位のヒドロキシ基を、1位(7)−4111
0J(はα配位のヒドロキシ基を、8α位の嘴Hはβ配
位の水素をそれぞれ意味し、8位のヒドロキシ基がβ配
位にある場合は、2位のヒドロキシ基はβ配位にあるも
のとする。〕で示されるスワインソニン異性体およびそ
の塩2)8aβ−イントリジジン−1α、2β、8β−
トリオールである特許請求の範囲第1項記載の化合物。 3)8aβ−イントリジジン−1α12β、8α−トリ
オールである特許請求の範囲第1項記載の化合物。 4)8aβ−イントリジジン−1α、2α、8α−トリ
オールである特許請求の範囲第1項記載の化合物。 5)式 〔式中、2位および8位の−OHはαまたはβ配位のど
ちらかの配位のヒドロキシ基を、1位の・・11110
Hはα配位のヒドロキシ基を、88位の一@Hはβ配位
の水素をそれぞれ意味し、8位のヒドロキシ基がβ配位
にある場合は、2位のyyロキシ其nB醇桔にふスえの
ンナスー]で示されるスワインソニン異性体まだはその
塩類を含有することを特徴とする免疫調整剤。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59049670A JPS60193986A (ja) | 1984-03-14 | 1984-03-14 | スワインソニン異性体およびその製造方法、並びに免疫調整剤 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59049670A JPS60193986A (ja) | 1984-03-14 | 1984-03-14 | スワインソニン異性体およびその製造方法、並びに免疫調整剤 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60193986A true JPS60193986A (ja) | 1985-10-02 |
Family
ID=12837602
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59049670A Pending JPS60193986A (ja) | 1984-03-14 | 1984-03-14 | スワインソニン異性体およびその製造方法、並びに免疫調整剤 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60193986A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5962467A (en) * | 1995-06-07 | 1999-10-05 | Glycodesign, Inc. | Derivatives of swainsonine and their use as therapeutic agents |
US6048870A (en) * | 1996-10-01 | 2000-04-11 | Glycodesign | 3, 5, and/or 6 substituted analogues of swainsonine processes for their preparation and their use as therapeutic agents |
US6051711A (en) * | 1997-10-24 | 2000-04-18 | Glycodesign Inc. | Synthesis of swainsonine salts |
US6395745B1 (en) | 1997-04-15 | 2002-05-28 | Glycodesign, Inc. | Alkaloid halide salts of swainsonine and methods of use |
-
1984
- 1984-03-14 JP JP59049670A patent/JPS60193986A/ja active Pending
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5962467A (en) * | 1995-06-07 | 1999-10-05 | Glycodesign, Inc. | Derivatives of swainsonine and their use as therapeutic agents |
US6048870A (en) * | 1996-10-01 | 2000-04-11 | Glycodesign | 3, 5, and/or 6 substituted analogues of swainsonine processes for their preparation and their use as therapeutic agents |
US6395745B1 (en) | 1997-04-15 | 2002-05-28 | Glycodesign, Inc. | Alkaloid halide salts of swainsonine and methods of use |
US6051711A (en) * | 1997-10-24 | 2000-04-18 | Glycodesign Inc. | Synthesis of swainsonine salts |
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