JPS60193931A - ブタジエンの回収法 - Google Patents
ブタジエンの回収法Info
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- JPS60193931A JPS60193931A JP4755184A JP4755184A JPS60193931A JP S60193931 A JPS60193931 A JP S60193931A JP 4755184 A JP4755184 A JP 4755184A JP 4755184 A JP4755184 A JP 4755184A JP S60193931 A JPS60193931 A JP S60193931A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はブタジェンの製造方法に関する。更に詳しくは
、正ブテンを気相接触酸化脱水素せしめてブタジェンを
製造するに際して、非凝縮性ガスとブタジェンの混合ガ
スからブタジェンを回収する方法に関する。
、正ブテンを気相接触酸化脱水素せしめてブタジェンを
製造するに際して、非凝縮性ガスとブタジェンの混合ガ
スからブタジェンを回収する方法に関する。
正ブテンを分子状酸素によシ高温で気相接触酸化脱水素
せしめてブタジェンを製造する方法はすでに工業的に行
われている。しかしながら公知の方法は、一般に反応希
釈ガスとして大過剰のスチームを使用するためスチーム
コストがかかる、冷却時には多量の冷却水を要するなど
の欠点がちシ(例えばHydrocarbon Pro
cessing 1978年〔11〕131 * Th
e Oll and Gas Journal 197
3年[3]12)、また反応工程への酸素供給量を高め
て正ブテンの転化率を高めようとすると冷却後の生成ガ
ス中に存在する酸素濃度が高くなるため爆発の危険性を
生じ、生成ガスからブタジェンその他の04炭化水素を
回収する際に工業的に有利な加圧吸収を行うことが事実
上不可能でおった。
せしめてブタジェンを製造する方法はすでに工業的に行
われている。しかしながら公知の方法は、一般に反応希
釈ガスとして大過剰のスチームを使用するためスチーム
コストがかかる、冷却時には多量の冷却水を要するなど
の欠点がちシ(例えばHydrocarbon Pro
cessing 1978年〔11〕131 * Th
e Oll and Gas Journal 197
3年[3]12)、また反応工程への酸素供給量を高め
て正ブテンの転化率を高めようとすると冷却後の生成ガ
ス中に存在する酸素濃度が高くなるため爆発の危険性を
生じ、生成ガスからブタジェンその他の04炭化水素を
回収する際に工業的に有利な加圧吸収を行うことが事実
上不可能でおった。
これらの欠点を解決する方法として本発明者らは新しい
方法を開発した(%、願昭58−234306号)0こ
の方法は、希釈剤としてオフガス(すなわち反応生成ガ
スから、ブタジェンその他の04炭化水素、フラン、ベ
ンゼン等の副生有用物、高沸点物、アルデヒド類等の有
害な副生物を除去した洗気ガス)を使用し、かつ反応生
成ガスを冷却した後、アルデヒド類の除去工程を設ける
ことを主たる要件とするものであるが、この方法によっ
て得られる生成ガスは従来法に比較して窒素、酸素、ア
ルゴン、CO2、COなどの非凝縮性ガス濃度が高いと
いう特徴をもっている。
方法を開発した(%、願昭58−234306号)0こ
の方法は、希釈剤としてオフガス(すなわち反応生成ガ
スから、ブタジェンその他の04炭化水素、フラン、ベ
ンゼン等の副生有用物、高沸点物、アルデヒド類等の有
害な副生物を除去した洗気ガス)を使用し、かつ反応生
成ガスを冷却した後、アルデヒド類の除去工程を設ける
ことを主たる要件とするものであるが、この方法によっ
て得られる生成ガスは従来法に比較して窒素、酸素、ア
ルゴン、CO2、COなどの非凝縮性ガス濃度が高いと
いう特徴をもっている。
ところで、反応生成ガスから04炭化水素を回収スルニ
当って、一般にキシレン、ビニルシクロヘキセンなどの
ごとき吸収溶剤を使用する方法が行われておシ、また酸
素、CO2などの非凝縮性ガスの分離効率を高めるため
に、C4炭化水素とC4炭化水素と吸収溶剤との分離に
先立って非凝縮性ガスを分離し、その際に水もあわせて
分離する方法(米国特許第3.943.185号)が知
られている。
当って、一般にキシレン、ビニルシクロヘキセンなどの
ごとき吸収溶剤を使用する方法が行われておシ、また酸
素、CO2などの非凝縮性ガスの分離効率を高めるため
に、C4炭化水素とC4炭化水素と吸収溶剤との分離に
先立って非凝縮性ガスを分離し、その際に水もあわせて
分離する方法(米国特許第3.943.185号)が知
られている。
しかしながらかかる方法を非凝縮性ガス濃度の高い系に
適用した場合、C4炭化水素に同伴して吸収される非凝
縮ガスが多量であるために所期の効果を奏することがむ
ずかしい。即ち、前記方法によると、非凝縮性不活性ガ
スと水を吸収溶剤から分離するに際して、温度12.8
℃〜88℃、圧力−0,351cIl/cm、”G 〜
4.9 kl/cm”Gなる条件が必要であるが、非凝
縮性ガスが多い場合にはかかる条件では非凝縮性ガスを
充分に、は除去できず、その除去効率を上げるために工
程の温度を上げたシ圧力を下げたシすると、工程内での
水の蓄積はほとんど発生せず、そのためC4炭化水素を
吸収した溶剤と共に水がC4炭化水素放散工程へ同伴し
て放散塔中に蓄積し、放散工程の操業を乱す(例えばフ
ラッディングや圧力損失の増加)という問題を生じる。
適用した場合、C4炭化水素に同伴して吸収される非凝
縮ガスが多量であるために所期の効果を奏することがむ
ずかしい。即ち、前記方法によると、非凝縮性不活性ガ
スと水を吸収溶剤から分離するに際して、温度12.8
℃〜88℃、圧力−0,351cIl/cm、”G 〜
4.9 kl/cm”Gなる条件が必要であるが、非凝
縮性ガスが多い場合にはかかる条件では非凝縮性ガスを
充分に、は除去できず、その除去効率を上げるために工
程の温度を上げたシ圧力を下げたシすると、工程内での
水の蓄積はほとんど発生せず、そのためC4炭化水素を
吸収した溶剤と共に水がC4炭化水素放散工程へ同伴し
て放散塔中に蓄積し、放散工程の操業を乱す(例えばフ
ラッディングや圧力損失の増加)という問題を生じる。
そこで本発明者らは、非凝縮性ガスが高濃度で存在する
生成ガスから非凝縮性ガスおよび水分を実質的に含まな
いブタジェンを回収する方法を鋭意検討した結果、特定
なプロセスを採用することが有効なことを見い出し、本
発明を完成するに到ったO かくして本発明によれば、正ブテンを酸化脱水素せしめ
て1,3−ブタジェンを製造する反応工程で発生する非
凝縮性ガス濃度が4?5モルチ以上で、かつ水及びブタ
ジェンを含む混合ガスを沸点範囲110〜180℃の炭
化水素系吸収溶剤と接触させてブタジェンを該吸収溶剤
中に吸収せしめたのち(工程l)、該吸収溶剤中に混入
する非凝縮性ガスを除去しく工程2)、次いで該吸収溶
剤中に混入する水を除去したのち(工程3)、塔内圧力
0.5〜5 kFl/cTL2G、塔底温度11O〜1
90℃の条件下で該吸収溶剤からブタジェンを放散せし
める(工程4)ことを特徴とするブタジェンの回収法が
提供される。
生成ガスから非凝縮性ガスおよび水分を実質的に含まな
いブタジェンを回収する方法を鋭意検討した結果、特定
なプロセスを採用することが有効なことを見い出し、本
発明を完成するに到ったO かくして本発明によれば、正ブテンを酸化脱水素せしめ
て1,3−ブタジェンを製造する反応工程で発生する非
凝縮性ガス濃度が4?5モルチ以上で、かつ水及びブタ
ジェンを含む混合ガスを沸点範囲110〜180℃の炭
化水素系吸収溶剤と接触させてブタジェンを該吸収溶剤
中に吸収せしめたのち(工程l)、該吸収溶剤中に混入
する非凝縮性ガスを除去しく工程2)、次いで該吸収溶
剤中に混入する水を除去したのち(工程3)、塔内圧力
0.5〜5 kFl/cTL2G、塔底温度11O〜1
90℃の条件下で該吸収溶剤からブタジェンを放散せし
める(工程4)ことを特徴とするブタジェンの回収法が
提供される。
本発明において取扱う生成ガスは正ブテンを酸化脱水素
せしめてブタジェンを製造する際に得られるC4炭化水
素、非凝縮性ガス及び水を含むものでアシ、ブタジェン
、ブテン、イソブタン、ブタンガどのC4炭化水素類を
通常3〜34,5モルチ、好ましくは5〜24.5モル
チ、窒素、酸素、アルゴン、C02、COなどの非凝縮
性ガスを通常65モルチ以上、好ましくは75モルチ以
上、水を通常0.5〜10モルチ、好ましくは0.5〜
5モルチ含有するものである。該ガスは通常圧縮機によ
)5 kg /cTL2G以上、好ましくは8ゆ/自2
G以上に加圧され、また温度は60℃以下に冷却されて
いる。
せしめてブタジェンを製造する際に得られるC4炭化水
素、非凝縮性ガス及び水を含むものでアシ、ブタジェン
、ブテン、イソブタン、ブタンガどのC4炭化水素類を
通常3〜34,5モルチ、好ましくは5〜24.5モル
チ、窒素、酸素、アルゴン、C02、COなどの非凝縮
性ガスを通常65モルチ以上、好ましくは75モルチ以
上、水を通常0.5〜10モルチ、好ましくは0.5〜
5モルチ含有するものである。該ガスは通常圧縮機によ
)5 kg /cTL2G以上、好ましくは8ゆ/自2
G以上に加圧され、また温度は60℃以下に冷却されて
いる。
一方、本発明において用いられる吸収溶剤は、沸点範囲
が110〜180℃、好ましくは130℃〜155℃の
範囲にある炭化水素系化合物である。沸点が110℃以
下の溶剤では非凝縮性ガスの分離にあたシ溶剤の揮散損
失が多く、逆に沸点が180℃以上の溶剤では放散塔で
の加熱温度を高くする必要がちシ、熱エネルギー的に不
経済であ夛、さらに重合物やタールの析出を生じ易くな
シ溶剤が汚染される。
が110〜180℃、好ましくは130℃〜155℃の
範囲にある炭化水素系化合物である。沸点が110℃以
下の溶剤では非凝縮性ガスの分離にあたシ溶剤の揮散損
失が多く、逆に沸点が180℃以上の溶剤では放散塔で
の加熱温度を高くする必要がちシ、熱エネルギー的に不
経済であ夛、さらに重合物やタールの析出を生じ易くな
シ溶剤が汚染される。
かかる溶剤の具体例とじ七、例えばオクタン、ノナン、
デカン、エチルシクロヘキサン、オクテン、ノネン、ト
ルエン、エチルベンゼン、キシレン、クメン、ビニルシ
クロヘキセン々どかアケラれる。中でも芳香族系炭化水
素が賞月される。
デカン、エチルシクロヘキサン、オクテン、ノネン、ト
ルエン、エチルベンゼン、キシレン、クメン、ビニルシ
クロヘキセン々どかアケラれる。中でも芳香族系炭化水
素が賞月される。
また本発明の効果を本質的に損わ、ない範囲内であれば
他の吸収溶剤が適宜混入されてもよく、そのような溶剤
の例として例えば、酸化脱水素反応の副生物であるベン
ゼンへブタジェンの重合物などがあげられる。
他の吸収溶剤が適宜混入されてもよく、そのような溶剤
の例として例えば、酸化脱水素反応の副生物であるベン
ゼンへブタジェンの重合物などがあげられる。
本発明方法の一例を第1図によって示すと次のとうシで
ある。
ある。
圧縮されかつ冷却されたブタジェンを含む生成ガスが管
■を通じて吸収塔Aの塔底に導入され、吸収溶剤と向流
接触せしめて生成ガスから、ブタジェンおよびその他の
04炭化水素を回収する(工程1)。C4成分が除かれ
た生成ガスは、管■を通じて吸収塔の塔頂から導出され
オフガスとなる。
■を通じて吸収塔Aの塔底に導入され、吸収溶剤と向流
接触せしめて生成ガスから、ブタジェンおよびその他の
04炭化水素を回収する(工程1)。C4成分が除かれ
た生成ガスは、管■を通じて吸収塔の塔頂から導出され
オフガスとなる。
C4炭化水素をほとんど含まない吸収溶剤が管■を通じ
て吸収塔の塔頂に導入される。吸収塔は、通常圧力5k
ll/crn”G 〜15 #/m” G 1好ましく
は7〜10 kg7am2G、温度5〜60℃、好まし
くは15〜50℃に維持される。塔の形状は充填塔、段
塔、その他の通常の形式の塔が用いられる。また吸収塔
内部の発熱を抑制するために、塔内の液の一部を冷却器
によシ冷却すると吸収能力がよシ向上する。
て吸収塔の塔頂に導入される。吸収塔は、通常圧力5k
ll/crn”G 〜15 #/m” G 1好ましく
は7〜10 kg7am2G、温度5〜60℃、好まし
くは15〜50℃に維持される。塔の形状は充填塔、段
塔、その他の通常の形式の塔が用いられる。また吸収塔
内部の発熱を抑制するために、塔内の液の一部を冷却器
によシ冷却すると吸収能力がよシ向上する。
C4炭化水素を吸収した吸収溶剤は吸収塔の塔底から管
■を通じて導出され、スタビライザーBへ導入される。
■を通じて導出され、スタビライザーBへ導入される。
該吸収溶剤中に溶存する非凝縮性ガスはスタビライデー
の塔頂から管■を通じてガス状として抜き出される(工
程2)。該ガス中にはC4炭化水素類も含まれているの
で、必要に応じて管■の上流(一般的には圧縮機が設け
られ、この吸入側)に戻される。スタビライザーは圧力
0.0〜5 kli/cm” G 、好ましくは0.5
〜4kl!/an”G、塔頂の温度10〜60℃、好ま
しくは20〜50℃、塔底の温度60〜120℃に維持
される。塔の形状は充填塔、段塔、スプレー塔、空塔、
その他の通常の形式の塔が用いられる。
の塔頂から管■を通じてガス状として抜き出される(工
程2)。該ガス中にはC4炭化水素類も含まれているの
で、必要に応じて管■の上流(一般的には圧縮機が設け
られ、この吸入側)に戻される。スタビライザーは圧力
0.0〜5 kli/cm” G 、好ましくは0.5
〜4kl!/an”G、塔頂の温度10〜60℃、好ま
しくは20〜50℃、塔底の温度60〜120℃に維持
される。塔の形状は充填塔、段塔、スプレー塔、空塔、
その他の通常の形式の塔が用いられる。
非凝縮性ガスを実質的に含まないC4炭化水素を含有す
る吸収溶剤が、スタビライザーの塔底から管■を通じて
フラ、シー塔Cへ導入される。フラッシユ塔で04炭化
水素が吸収溶剤から放散され、管■を通じて冷却器に導
入され、液または気液混合物の形で七ノやレータ−Dに
貯えられ、管0を通じてブタジェン精製工程に導出され
る。このC4炭化水素が放散される際に吸収溶剤中の水
が同時に放散される(工程3)。一般に水はC4炭化水
素類と共沸関係にあるので、この段階で吸収溶剤中の水
はすべてC4炭化水素と同伴する。セパレーターでは下
層に水が蓄積し、管■よシ系外へ導出される。
る吸収溶剤が、スタビライザーの塔底から管■を通じて
フラ、シー塔Cへ導入される。フラッシユ塔で04炭化
水素が吸収溶剤から放散され、管■を通じて冷却器に導
入され、液または気液混合物の形で七ノやレータ−Dに
貯えられ、管0を通じてブタジェン精製工程に導出され
る。このC4炭化水素が放散される際に吸収溶剤中の水
が同時に放散される(工程3)。一般に水はC4炭化水
素類と共沸関係にあるので、この段階で吸収溶剤中の水
はすべてC4炭化水素と同伴する。セパレーターでは下
層に水が蓄積し、管■よシ系外へ導出される。
フラッジ−塔は圧力1〜4に1iI/crIL2G1温
度90〜150℃に維持される。塔の形状は充填塔、段
塔、空塔、その他の通常の形式の塔が用いられる。一般
には5段以下の段数のものであれば良い。
度90〜150℃に維持される。塔の形状は充填塔、段
塔、空塔、その他の通常の形式の塔が用いられる。一般
には5段以下の段数のものであれば良い。
フラッジ−塔の塔底から管■を通じて導出された吸収溶
剤中にはなお、C4炭化水素が含まれているので、それ
を放散するために管■を通じて放散塔Eに導入される(
工程4)。放散塔は圧力0.5〜5kg/cIrL2G
1塔頂の温度o〜90℃、塔底の温度110〜190℃
、好ましくは120−1800に維持される。本発明で
は塔圧の温度が重要であ、9.110℃以下では吸収溶
剤中のCa化水素の放散が充分でなく、190℃以上で
は重合体やタールの発生が多く溶剤の汚染が顕著になる
。
剤中にはなお、C4炭化水素が含まれているので、それ
を放散するために管■を通じて放散塔Eに導入される(
工程4)。放散塔は圧力0.5〜5kg/cIrL2G
1塔頂の温度o〜90℃、塔底の温度110〜190℃
、好ましくは120−1800に維持される。本発明で
は塔圧の温度が重要であ、9.110℃以下では吸収溶
剤中のCa化水素の放散が充分でなく、190℃以上で
は重合体やタールの発生が多く溶剤の汚染が顕著になる
。
放散塔の塔頂から04炭化水素が、塔底から吸収溶剤が
導出される。図に示されていないが、冷却器や加熱器で
は必要に応じて工程内において発生する高温流体と低温
流体との間で熱移動が行われる◇また吸収溶剤は繰返し
長時間使用すると、高沸点物やタール、重合体の増加に
よる溶剤の汚染が避けられないので、吸収溶剤の精製工
程、例えば蒸留操作によシ溶剤を再生する工程を必要に
応じて設ける。さらに重合防止剤は必ずしも必要としな
いが、添加しても何らさしつかえない。
導出される。図に示されていないが、冷却器や加熱器で
は必要に応じて工程内において発生する高温流体と低温
流体との間で熱移動が行われる◇また吸収溶剤は繰返し
長時間使用すると、高沸点物やタール、重合体の増加に
よる溶剤の汚染が避けられないので、吸収溶剤の精製工
程、例えば蒸留操作によシ溶剤を再生する工程を必要に
応じて設ける。さらに重合防止剤は必ずしも必要としな
いが、添加しても何らさしつかえない。
以上、第1図によって本発明方法の一例を示したが、本
発明は第1図によって何ら限定されるものではない。
発明は第1図によって何ら限定されるものではない。
かかる本発明によれば、
1.04炭化水素濃度の希薄なガスから効率的に04炭
化水素を回収することができる。
化水素を回収することができる。
2、非凝縮性ガスの含有量の少ないC4炭化水素を入手
することができる。
することができる。
3、放散塔での水の蓄積が防止でき安定に操業すること
ができる。
ができる。
4、重合体やタールの生成が少なく溶剤の汚染速度が遅
い。
い。
5、溶剤の損失が少ない。
などの利点を有する・
以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する
。
。
実施例1
圧縮工程(本発明では説明されていない)で、圧力10
kliI/CrIL2G、温度35℃の条件下で操作す
ることによシ得られた。
kliI/CrIL2G、温度35℃の条件下で操作す
ることによシ得られた。
屋素76.6モルチ、酸素2.4モルチ、アルゴン、C
O、及びco2の合計4.2モルチ、水0.6モルチ、
ブタン5.4モルチ、正ブテン1.8モルチ、ブタジェ
ン8.5モルチ、アルデヒド類0.12モル11成シ、
他に微量のフラン、ベンゼンを含む生成ガスが、毎時約
1.3 m3(NTP基準)の流量で吸収塔Aに導入さ
れる(工程1)。
O、及びco2の合計4.2モルチ、水0.6モルチ、
ブタン5.4モルチ、正ブテン1.8モルチ、ブタジェ
ン8.5モルチ、アルデヒド類0.12モル11成シ、
他に微量のフラン、ベンゼンを含む生成ガスが、毎時約
1.3 m3(NTP基準)の流量で吸収塔Aに導入さ
れる(工程1)。
C4吸収塔は内径2インチ、長さ32F+の充填塔であ
シ、内部には5韮φ×5頭の円筒状ラシヒリングが充填
されている。塔頂からは管■を通じてc4放散塔で04
成分を放散したあとの混合キシレンが8℃に冷却され、
毎時4tで供給された。塔底がら管■を通じて導入した
生成ガスはこのキシレンと向流接触されて、生成ガス中
に含まれているC4成分の99.5 %が吸収された。
シ、内部には5韮φ×5頭の円筒状ラシヒリングが充填
されている。塔頂からは管■を通じてc4放散塔で04
成分を放散したあとの混合キシレンが8℃に冷却され、
毎時4tで供給された。塔底がら管■を通じて導入した
生成ガスはこのキシレンと向流接触されて、生成ガス中
に含まれているC4成分の99.5 %が吸収された。
吸収塔の塔内圧力は9.0kIiI/cIIL2Gでア
シ、塔底のキシレンの温度は20℃である。C4吸収塔
の管■を通じて導出したC4成分を含まないオフガスは
次いでオフガス処理工程に送られる。
シ、塔底のキシレンの温度は20℃である。C4吸収塔
の管■を通じて導出したC4成分を含まないオフガスは
次いでオフガス処理工程に送られる。
C4成分を吸収したキシレンは20℃の温度のままC4
吸収塔の塔底から管■を通じて導出してスタビライデー
の塔頂に入シ、ここでキシレン中に溶解している窒素、
酸素、C02、及びC4成分の一部を塔頂の管■よシ放
出する(工程2)。管■からの放出ガスは圧縮工程へ戻
される。スタビライザーは、内径1インチ、長さ0.5
mの多孔板塔であシ、内部に5枚の多孔板が固定されて
おシ、塔底には加熱装置が設置されている。スタビライ
ザー〇塔底は圧力2 kg7cm” GN温度89℃に
維持されるOスタビライザー〇塔底から管■を通じて得
られるキシレン中には、窒素、酸素、COは検出できず
、co2は68 ppm 、 H2Oは1200ppm
含まれていた。
吸収塔の塔底から管■を通じて導出してスタビライデー
の塔頂に入シ、ここでキシレン中に溶解している窒素、
酸素、C02、及びC4成分の一部を塔頂の管■よシ放
出する(工程2)。管■からの放出ガスは圧縮工程へ戻
される。スタビライザーは、内径1インチ、長さ0.5
mの多孔板塔であシ、内部に5枚の多孔板が固定されて
おシ、塔底には加熱装置が設置されている。スタビライ
ザー〇塔底は圧力2 kg7cm” GN温度89℃に
維持されるOスタビライザー〇塔底から管■を通じて得
られるキシレン中には、窒素、酸素、COは検出できず
、co2は68 ppm 、 H2Oは1200ppm
含まれていた。
非凝縮性ガスを放散したキシレンはスタビライザーの塔
底の管■を通じて加熱器によシ120℃に加熱され、フ
ラッジ−塔Cに導入される(工程3)。フラッシュ塔は
内径3インチ、高さ0.3 mの空塔である。圧力は2
.2 kg/cm2Gに維持される1フラッジ−塔の塔
頂の管■よシC4成分及び水が導出され、冷却器によシ
液化させられセパレーターDに貯えられる。セパレータ
ーの下層の管[F]よシ、水が平均毎時約1!?抜き出
された。
底の管■を通じて加熱器によシ120℃に加熱され、フ
ラッジ−塔Cに導入される(工程3)。フラッシュ塔は
内径3インチ、高さ0.3 mの空塔である。圧力は2
.2 kg/cm2Gに維持される1フラッジ−塔の塔
頂の管■よシC4成分及び水が導出され、冷却器によシ
液化させられセパレーターDに貯えられる。セパレータ
ーの下層の管[F]よシ、水が平均毎時約1!?抜き出
された。
フラッジ−塔の塔底から管■を通じてキシレンが放散塔
Eの中段に導入される(工程4)。放散塔は内径3イン
チ、高さ1.5mの充填塔であシ、内部には5mmφ×
57Il+の円筒状ラシヒリングが充填されておシ、塔
底には加熱装置が設置されている。
Eの中段に導入される(工程4)。放散塔は内径3イン
チ、高さ1.5mの充填塔であシ、内部には5mmφ×
57Il+の円筒状ラシヒリングが充填されておシ、塔
底には加熱装置が設置されている。
キシレン中のC4成分は、放散塔の塔頂の管■を通じて
導出される。実質的に04成分を含まないキシレンが放
散塔の塔底の管0を通じて導出され、冷却器を経て吸収
塔へ導入される。管■と管0から導出されると04炭化
水素は、両者を合わせて、ブタジェン精製工程(図示さ
れてい々い)へ供給される。管■と管■とを合わせたC
4炭化水素には窒素、酸素、COは見い出されず、C0
2が330 ppm含有されていた。
導出される。実質的に04成分を含まないキシレンが放
散塔の塔底の管0を通じて導出され、冷却器を経て吸収
塔へ導入される。管■と管0から導出されると04炭化
水素は、両者を合わせて、ブタジェン精製工程(図示さ
れてい々い)へ供給される。管■と管■とを合わせたC
4炭化水素には窒素、酸素、COは見い出されず、C0
2が330 ppm含有されていた。
比較例1
フラッシュ塔およびセパレーターを設けずに、スタビラ
イデーの塔底から導出されるキシレンを放散塔に導入す
ること以外は実施例1と同じ操作を行った。その結果、
放散塔のフジッデイングが認められ、安定な操業を長時
間継続することができなかった。
イデーの塔底から導出されるキシレンを放散塔に導入す
ること以外は実施例1と同じ操作を行った。その結果、
放散塔のフジッデイングが認められ、安定な操業を長時
間継続することができなかった。
特許出願人 日本ゼオン株式会社
手続補正書
t 事件の表示
昭和59年特許願第47551号
2、発明の名称
ブメジエンの回収法
五 補正をする者
事件との関係 特許出願人
昭和59年6月26日(発送日)
5、 補正により増加する発明の数 06、補正の対象
明細書の図面の簡単な説明の欄
l 補正の内容
明細書第14頁末行の前5べ丁;ミΣ
「4、図面の簡単な説明
第1図は本発明の一実施態様を示すフ
ローシートである。
A−・・・・・吸収塔 B・・・・・・スタビライザー
C−・・・フラッシュ塔 D・・・・・・セパレーター
E・・・・・・放散塔 」 を加入する。
C−・・・フラッシュ塔 D・・・・・・セパレーター
E・・・・・・放散塔 」 を加入する。
以上
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 正ブテンを酸化脱水素せしめて1p 3− fタジ
エンを製造する反応工程で発生する非凝縮性ガス濃度が
デ5モルチ以上で、かつ水及びツタジエンを含む混合ガ
スを沸点範囲110〜180℃の炭化水素系吸収溶剤と
接触させてシタジエンを該吸収溶剤中に吸収せしめたの
ち(工程1)、該吸収溶剤中に混入する非凝縮性ガスを
除去しく工程2)、次いで該吸収溶剤中に混入する水を
除去したのち(工程3)、塔内圧力0.5〜5に9/儂
2G。 塔底温度110〜190℃の条件下で該吸収溶剤からブ
タジェンを放散せしめる(工程4)ことを特徴とするブ
タジェンの回収法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4755184A JPS60193931A (ja) | 1984-03-13 | 1984-03-13 | ブタジエンの回収法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4755184A JPS60193931A (ja) | 1984-03-13 | 1984-03-13 | ブタジエンの回収法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60193931A true JPS60193931A (ja) | 1985-10-02 |
Family
ID=12778293
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4755184A Pending JPS60193931A (ja) | 1984-03-13 | 1984-03-13 | ブタジエンの回収法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60193931A (ja) |
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- 1984-03-13 JP JP4755184A patent/JPS60193931A/ja active Pending
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