JPS60189905A - 高均一磁界発生装置 - Google Patents
高均一磁界発生装置Info
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- JPS60189905A JPS60189905A JP59046267A JP4626784A JPS60189905A JP S60189905 A JPS60189905 A JP S60189905A JP 59046267 A JP59046267 A JP 59046267A JP 4626784 A JP4626784 A JP 4626784A JP S60189905 A JPS60189905 A JP S60189905A
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- shim coil
- coil
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- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01F—MAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
- H01F7/00—Magnets
- H01F7/06—Electromagnets; Actuators including electromagnets
- H01F7/20—Electromagnets; Actuators including electromagnets without armatures
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/20—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
- G01R33/24—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance for measuring direction or magnitude of magnetic fields or magnetic flux
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
- G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
- G01R33/20—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
- G01R33/28—Details of apparatus provided for in groups G01R33/44 - G01R33/64
- G01R33/38—Systems for generation, homogenisation or stabilisation of the main or gradient magnetic field
- G01R33/387—Compensation of inhomogeneities
- G01R33/3875—Compensation of inhomogeneities using correction coil assemblies, e.g. active shimming
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- G—PHYSICS
- G05—CONTROLLING; REGULATING
- G05F—SYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
- G05F7/00—Regulating magnetic variables
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- Automation & Control Theory (AREA)
- Magnetic Resonance Imaging Apparatus (AREA)
- Measuring Magnetic Variables (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は、空間的な磁界均一度が著しく高い高均一磁
界発生技術に関するものである。
界発生技術に関するものである。
第1図は例えばIBM Technical Disc
losureBulletin (Voe 19.A9
1977 P8517〜P8519 )に示された従
来の高均一磁界発生のための磁界補正装置の最適出力を
定めるフロー図である。ここでは磁界補正装置としてシ
ムコイルを用いているが、シムコイルとは、不均一な磁
界成分中の1成分にのみ対応する出力が独立に発生でき
るコイルであり1種類や次数の異なる多数のシムコイル
を設置することにより多数の不均一磁界成分をとり除く
ことができる〇 図において(1)は演算器、(2)は演算器(1)によ
って駆動される1次の補正電流の最適化、(3)は2次
の補正電流の最適化、 (4J(51は最適化が不可能
な場合の帰還路、(6)はシムコイルの最適化完了、(
7)はNMR(Nuclear Magnetic R
e5onance)スペクトロメータである。NMRス
ペクトロメータ(7)は通當パルスNMR法によって受
信されるFID (Free Induction D
ecay)信号をフーリュ変換し、フーリエ変換後の信
号の半値幅から測定対象試料中の磁界均一度が測定でき
る装置である。FID信号は磁界均一度の悪い場合には
その減衰が早くなり、磁界均一度が著しく悪い場合には
測定不可能となる。
losureBulletin (Voe 19.A9
1977 P8517〜P8519 )に示された従
来の高均一磁界発生のための磁界補正装置の最適出力を
定めるフロー図である。ここでは磁界補正装置としてシ
ムコイルを用いているが、シムコイルとは、不均一な磁
界成分中の1成分にのみ対応する出力が独立に発生でき
るコイルであり1種類や次数の異なる多数のシムコイル
を設置することにより多数の不均一磁界成分をとり除く
ことができる〇 図において(1)は演算器、(2)は演算器(1)によ
って駆動される1次の補正電流の最適化、(3)は2次
の補正電流の最適化、 (4J(51は最適化が不可能
な場合の帰還路、(6)はシムコイルの最適化完了、(
7)はNMR(Nuclear Magnetic R
e5onance)スペクトロメータである。NMRス
ペクトロメータ(7)は通當パルスNMR法によって受
信されるFID (Free Induction D
ecay)信号をフーリュ変換し、フーリエ変換後の信
号の半値幅から測定対象試料中の磁界均一度が測定でき
る装置である。FID信号は磁界均一度の悪い場合には
その減衰が早くなり、磁界均一度が著しく悪い場合には
測定不可能となる。
補正出力が発生する領域には、磁界分布を補正して高均
一化するための粗磁界(図示せず)が既に発生している
。
一化するための粗磁界(図示せず)が既に発生している
。
まず磁界補正工程は演算器(υに適当な開始命令を入れ
ることにより開始され、まず、1次の磁界出力を発生す
るシムコイル群中の特定の1種のシムコイルを任意の電
流値に演算器(1)によりセットすることにより、1次
の補正出力の最適化(2)が開始される。1種のシムコ
イルが任意の11E流値ニ1ツトされて磁界を発生して
いる状態でNMRスペクトo / −タ(7)により磁
界均一度を測定し、シムコイルが磁界を全く発生してい
ない状態との均一度を比較する。この時もし均一度が悪
化している場合には演算器(υによりシムコイルの通電
々流の大きさを変えてシムコイルの発生磁界の大きさを
変え同様にNMRスペクトロメータ(7)により磁界均
一度の測定と比較を行う。あるいは、シムコイルの通電
々流の向きと大きさの両方を変更することにより、シム
コイルの発生磁界の大きさ向き共に変えた状態でスペク
トロメータ(7)により磁界均一度の測定および比較を
行う。このような試行錯誤を何度も繰返した後に、シム
コイルへの通電前より磁界均一度が向上している状態が
NMRスペクトロメータ(7)の測定により明らかにな
った場合に、ようやくシムコイルへの通電々流の向きが
正しく設定されたことになる。続いてシムコイルへの通
電々流を最適化せねばならない。最適化とはあるシムコ
イルの発生できる磁界成分と同一の磁界成分が粗磁界分
布中に全く含まれなくなるまであるシムコイルの発生磁
界値を調整することである。まず、シムコイルへの通電
々流Iを演算器tl)によりI+ΔIとして、 NMR
スペクトロメータ(7)により磁界均一度α+Δαを測
定する。シムコイルへの通電々流がIの時の磁界均一度
がαであり、同様にI+ΔIの場合の均一度がα+△α
となった時。
ることにより開始され、まず、1次の磁界出力を発生す
るシムコイル群中の特定の1種のシムコイルを任意の電
流値に演算器(1)によりセットすることにより、1次
の補正出力の最適化(2)が開始される。1種のシムコ
イルが任意の11E流値ニ1ツトされて磁界を発生して
いる状態でNMRスペクトo / −タ(7)により磁
界均一度を測定し、シムコイルが磁界を全く発生してい
ない状態との均一度を比較する。この時もし均一度が悪
化している場合には演算器(υによりシムコイルの通電
々流の大きさを変えてシムコイルの発生磁界の大きさを
変え同様にNMRスペクトロメータ(7)により磁界均
一度の測定と比較を行う。あるいは、シムコイルの通電
々流の向きと大きさの両方を変更することにより、シム
コイルの発生磁界の大きさ向き共に変えた状態でスペク
トロメータ(7)により磁界均一度の測定および比較を
行う。このような試行錯誤を何度も繰返した後に、シム
コイルへの通電前より磁界均一度が向上している状態が
NMRスペクトロメータ(7)の測定により明らかにな
った場合に、ようやくシムコイルへの通電々流の向きが
正しく設定されたことになる。続いてシムコイルへの通
電々流を最適化せねばならない。最適化とはあるシムコ
イルの発生できる磁界成分と同一の磁界成分が粗磁界分
布中に全く含まれなくなるまであるシムコイルの発生磁
界値を調整することである。まず、シムコイルへの通電
々流Iを演算器tl)によりI+ΔIとして、 NMR
スペクトロメータ(7)により磁界均一度α+Δαを測
定する。シムコイルへの通電々流がIの時の磁界均一度
がαであり、同様にI+ΔIの場合の均一度がα+△α
となった時。
α+△α〈α
となった場合には、電流の変化分△Iは磁界均一度を向
上させる方向に変化している。従って1±1i ” O又ハl、「lが最小になるまでシムコイルの通電
々流を変化してゆく。
上させる方向に変化している。従って1±1i ” O又ハl、「lが最小になるまでシムコイルの通電
々流を変化してゆく。
このようにして、ようやく1次のシムコイル中(J)
1 種(7) シA :Iイルの最適化が完了した。続
いて1次のシムコイル群中の他の1mのシムコイルを上
記と同様の方法により最適化し、1次のシムコイル群の
全種の最適化が完了することにより1次の補正電流の最
適化(2)が完了する。但し、1−1I が極値をもたないような場合には、最適化が不可能であ
ったので、帰還路(4月こより、補正電流の最適化がで
きなかった旨の信号が演算器(1)に送られ。
1 種(7) シA :Iイルの最適化が完了した。続
いて1次のシムコイル群中の他の1mのシムコイルを上
記と同様の方法により最適化し、1次のシムコイル群の
全種の最適化が完了することにより1次の補正電流の最
適化(2)が完了する。但し、1−1I が極値をもたないような場合には、最適化が不可能であ
ったので、帰還路(4月こより、補正電流の最適化がで
きなかった旨の信号が演算器(1)に送られ。
補正工程が停止されるかあるいは最適補正ではないまま
次の工程に進むことになる。
次の工程に進むことになる。
このようにして1次の補正電流の最適化が行なわれたあ
と、続いて2次の補正電流の最適化(3)がNMRスペ
クトロメータ(7)による磁界均一度の測定を繰返すこ
とにより完了され、最適化完了(6)となる。
と、続いて2次の補正電流の最適化(3)がNMRスペ
クトロメータ(7)による磁界均一度の測定を繰返すこ
とにより完了され、最適化完了(6)となる。
また、 FID信号が十分観測可能となるためにシムコ
イルによって補正される前の磁界均一度はある程度高く
なければならない。同一の粗磁界分布がある場合測定領
域が広い場合には通常、磁界変化量が大きくなるので磁
界均一度は低下−していく。
イルによって補正される前の磁界均一度はある程度高く
なければならない。同一の粗磁界分布がある場合測定領
域が広い場合には通常、磁界変化量が大きくなるので磁
界均一度は低下−していく。
従って、広い領域を高均一化するためには、狭い領域を
高均一化する場合よりも更に粗磁界分布の磁界均一度が
高くなくてはFIDによる磁界均一度の測定が不可能と
なる。
高均一化する場合よりも更に粗磁界分布の磁界均一度が
高くなくてはFIDによる磁界均一度の測定が不可能と
なる。
シムコイルには超電導シムコイルと常電導シムコイルの
2種類がある。超電導シムコイルは粗磁界発生装置が超
電導コイルの場合に用いられるシムコイルであり高価な
液体ヘリウム中に設置される。シムコイルの発生磁界を
調整する場合には同じく液体ヘリウム中に設置された永
久電流スイッチと呼ばれるヒータ付スイッチのヒータに
常時通電して加熱しておかねばならず、調整時間が長い
場合には液体ヘリウムの蒸発tがぼり大となる。
2種類がある。超電導シムコイルは粗磁界発生装置が超
電導コイルの場合に用いられるシムコイルであり高価な
液体ヘリウム中に設置される。シムコイルの発生磁界を
調整する場合には同じく液体ヘリウム中に設置された永
久電流スイッチと呼ばれるヒータ付スイッチのヒータに
常時通電して加熱しておかねばならず、調整時間が長い
場合には液体ヘリウムの蒸発tがぼり大となる。
常電導シムコイルとは、常温で用いるコイルでアリ、銅
やアルミなどの通常の電線材料によって巻回されたコイ
ルである。
やアルミなどの通常の電線材料によって巻回されたコイ
ルである。
従来の高均一磁界発生装置は以上のように試行錯誤的磁
界高均一化法により構成されているのでシムコイル数が
増すにつれ補正に必要な時間が著しく増大して高均一磁
界がすばやく得られない欠点がある上に、もし超電導シ
ムコイルを用いた場合には高価な液体ヘリウムの消費量
がぼう大となり調整費用が著しく高価になる欠点があっ
た。また、粗磁界の均一度が悪い場合にはFID信号の
減衰が著しく早くなって磁界高均一化の調整が不可能に
なるという欠点があった。
界高均一化法により構成されているのでシムコイル数が
増すにつれ補正に必要な時間が著しく増大して高均一磁
界がすばやく得られない欠点がある上に、もし超電導シ
ムコイルを用いた場合には高価な液体ヘリウムの消費量
がぼう大となり調整費用が著しく高価になる欠点があっ
た。また、粗磁界の均一度が悪い場合にはFID信号の
減衰が著しく早くなって磁界高均一化の調整が不可能に
なるという欠点があった。
この発明は上記のような従来の磁界高均一化技術の欠点
を除去するためになされたもので、粗磁界分布をいくつ
かの点で測定することにより、補正磁界発生装置が発生
すべき最適磁界を計算装置によって直ちにめ、これを補
正磁界発生装置に加えることにより高均一磁界を得る装
置を提供するものである。
を除去するためになされたもので、粗磁界分布をいくつ
かの点で測定することにより、補正磁界発生装置が発生
すべき最適磁界を計算装置によって直ちにめ、これを補
正磁界発生装置に加えることにより高均一磁界を得る装
置を提供するものである。
最初に、この発明に用いる磁界補正法について説明する
〇 不均一磁界成分の少ない高均一磁界を発生させるために
1例えばノツチ付ソレノイドコイルを用いると、その発
生磁界Bzはコイル中心付近で次式のように表わせる。
〇 不均一磁界成分の少ない高均一磁界を発生させるために
1例えばノツチ付ソレノイドコイルを用いると、その発
生磁界Bzはコイル中心付近で次式のように表わせる。
■
ここでaはソレノイドコイルの半径、 PnはnQルジ
ャンドル多項式、εnはコイル形状により定まる定数で
ある。■式は5次以下の不均一磁界成分を全く含まない
高均一磁界が発生できることを示す。
ャンドル多項式、εnはコイル形状により定まる定数で
ある。■式は5次以下の不均一磁界成分を全く含まない
高均一磁界が発生できることを示す。
しかし、コイルの製作精度には上限があり、また、コイ
ルの設置環境を完全に非磁性とはできないことを考慮す
れば、■式通りの磁界が発生することはあり得ない。む
しろ、任意の磁界成分が発生していると考える必要があ
る。
ルの設置環境を完全に非磁性とはできないことを考慮す
れば、■式通りの磁界が発生することはあり得ない。む
しろ、任意の磁界成分が発生していると考える必要があ
る。
そこで、空間的に変化しない均一磁界中に微弱な不均一
磁界成分が多数台まれている磁界分布について検討し、
これら不均一磁界成分を打消す方法について考察してみ
る。
磁界成分が多数台まれている磁界分布について検討し、
これら不均一磁界成分を打消す方法について考察してみ
る。
任意の磁界Bはスカラーポテンシャル−により下式のよ
うに表わせる。
うに表わせる。
B±−一 ■
≠は直交球関数展関を用いて一般に次式で表わせる。
−= −Σ Σ 7” P’; (cosθ)CA:c
osm−+B:s−5−1n:In”1m=Q ここでi An 、 Bnは定数、γ、θ、φは極座標
表示の変数である。磁界補正を行う場合には磁界補正コ
イルの出力と対応がとり易いために一般に直角座標が用
いられるので以後直角座標表示を用いる。
osm−+B:s−5−1n:In”1m=Q ここでi An 、 Bnは定数、γ、θ、φは極座標
表示の変数である。磁界補正を行う場合には磁界補正コ
イルの出力と対応がとり易いために一般に直角座標が用
いられるので以後直角座標表示を用いる。
空間的に変化しない主磁界成分Boを2軸方向にとりi
B oに任意の不均一磁界成分B′がlB’l/1B
ol〈〈1の条件のもと憂ζ重畳されている場合につい
”;;; Bo + Bz 従って不均一磁界成分は主磁界と同一方向の2式分のみ
考えればよい。Z軸方向の磁界成分は次式の変換公式に
より表わせる。
B oに任意の不均一磁界成分B′がlB’l/1B
ol〈〈1の条件のもと憂ζ重畳されている場合につい
”;;; Bo + Bz 従って不均一磁界成分は主磁界と同一方向の2式分のみ
考えればよい。Z軸方向の磁界成分は次式の変換公式に
より表わせる。
■式を0式に代入し、直交座標により低次側から各成分
を表示する。
を表示する。
Bz −BO+AI x +As y +Aa Z+A
4 (z”−7(x”+yリ )+As zx+Aaz
y+AyxY+As (x2−yす+んz(z”−4x
”+yす +A+ox(4z″−x2yす +A++ y (4z ”−x”−yつ+Al2X(X
”−8y”) +AI3 y (8x”−yす +A14xyz +A+s z (X2−y”) + ・=−・・ ■す
なわち、0式の各項の重ね合せとしてBzを表わすこと
ができる。■式中第1項以外は空間的に変化する磁界成
分であり磁界高均一化のためにはこれら不均一磁界成分
が含まれないことが必要である。不均一磁界成分を除去
するために、シムコイルによる磁界補正を行う。シムコ
イルとは0式の各項中の唯−項の変数に一致する磁界成
分をもつ特殊なコイルである。独立した磁界成分が発生
できるので任意の磁界分布に対する補正が可能となる。
4 (z”−7(x”+yリ )+As zx+Aaz
y+AyxY+As (x2−yす+んz(z”−4x
”+yす +A+ox(4z″−x2yす +A++ y (4z ”−x”−yつ+Al2X(X
”−8y”) +AI3 y (8x”−yす +A14xyz +A+s z (X2−y”) + ・=−・・ ■す
なわち、0式の各項の重ね合せとしてBzを表わすこと
ができる。■式中第1項以外は空間的に変化する磁界成
分であり磁界高均一化のためにはこれら不均一磁界成分
が含まれないことが必要である。不均一磁界成分を除去
するために、シムコイルによる磁界補正を行う。シムコ
イルとは0式の各項中の唯−項の変数に一致する磁界成
分をもつ特殊なコイルである。独立した磁界成分が発生
できるので任意の磁界分布に対する補正が可能となる。
ソレノイドコイルに取付けるシムコイル構造は、円形コ
イル対またはくら型コイルの組合せとなっている。不均
一磁界は実際に発生磁界を測定しない限りその成分や振
幅の判定ができないので。
イル対またはくら型コイルの組合せとなっている。不均
一磁界は実際に発生磁界を測定しない限りその成分や振
幅の判定ができないので。
高均一磁界を得るためには多くのシムコイルを準備する
必要がある。従って高均一磁界を得るための磁界分布調
整および最適調整値であることの判定には多大の労力を
要す。
必要がある。従って高均一磁界を得るための磁界分布調
整および最適調整値であることの判定には多大の労力を
要す。
補正磁界の最適値を容易にめる方法として。
本発明は最小2乗法を適用する。すなわち、主コイルの
発生磁界である祖母界分布を、最小2乗法を用いて均一
磁界成分Boとマグネットが有する多数のシムコイル関
数およびそれ以外の項で表わすと、任意点の磁界Bzは
次式で表わせる。
発生磁界である祖母界分布を、最小2乗法を用いて均一
磁界成分Boとマグネットが有する多数のシムコイル関
数およびそれ以外の項で表わすと、任意点の磁界Bzは
次式で表わせる。
Bz(x、 y、 Z) −Bo + aHfI+ a
2h ” −+ anf 、+Rh(x、 L Z)■ ここでf+1f2e・・・、 fnは各々シムコイルの
磁界出力関数でありal、・・・、anは各々振幅を表
わす。またRflはn種のシムコイル関数では表わせな
い残差である。また、祖母界とはここでは補正前の磁界
分布という意味で用いた。
2h ” −+ anf 、+Rh(x、 L Z)■ ここでf+1f2e・・・、 fnは各々シムコイルの
磁界出力関数でありal、・・・、anは各々振幅を表
わす。またRflはn種のシムコイル関数では表わせな
い残差である。また、祖母界とはここでは補正前の磁界
分布という意味で用いた。
各シムコイルを励磁すると0式は次式のように表わせる
。
。
Bz(x、y、z)−Bo+(a+f+ −b+ f+
)+(a2fa−b2fz)+−+(anfn−bnf
n)+Rn(x、y、z)+Σ R’m(x、7.z)
■ m÷1 R10は各シムコイル磁界出力にわずかに含まれるf、
〜fn 以外の誤差磁界成分を表わしている。
)+(a2fa−b2fz)+−+(anfn−bnf
n)+Rn(x、y、z)+Σ R’m(x、7.z)
■ m÷1 R10は各シムコイル磁界出力にわずかに含まれるf、
〜fn 以外の誤差磁界成分を表わしている。
各シムコイルの磁界出力bnfn を祖母界分布より得
た磁界aゎfnを完全に打消すようにafl−bnトな
るよう励磁電流を調整すると任意点の磁界は次式のよう
になる。
た磁界aゎfnを完全に打消すようにafl−bnトな
るよう励磁電流を調整すると任意点の磁界は次式のよう
になる。
Bz(x、y、z)=Bo+Bn(x、y、z)+J
R’m(x、y、z) 0m”1 0式は、様々な原因により発生していた不均一磁界成分
中のシムコイル関数対応分が全て打ち消された均一度の
高い磁界分布が得られたことを表わしている。
R’m(x、y、z) 0m”1 0式は、様々な原因により発生していた不均一磁界成分
中のシムコイル関数対応分が全て打ち消された均一度の
高い磁界分布が得られたことを表わしている。
ところで、非常に数多くのシムコイルを設置することは
実用的ではなく1通常低次の不均一磁界成分をとり除く
ために10種類程度が用いられるが。
実用的ではなく1通常低次の不均一磁界成分をとり除く
ために10種類程度が用いられるが。
このような実用的な範囲内ではl Rn 1)1ΣR’
m Iであり、シムコイルの磁界出力精度が磁界分布補
正上の問題となることはない。
m Iであり、シムコイルの磁界出力精度が磁界分布補
正上の問題となることはない。
測定領域内の残差の最小値RT l n と最大値Rm
axは数値的にめられているので、この特待られる磁界
的均一度αは次式のようにシムコイルによる磁界分布補
正前に推定できる。
axは数値的にめられているので、この特待られる磁界
的均一度αは次式のようにシムコイルによる磁界分布補
正前に推定できる。
上記の磁界高均一化の方法を第2図にフロー図として示
す。Oυは祖母界分布の測定であり、Qlは祖母界分布
01の0式を用いた多項式表示、斡は多項式表示(ロ)
より直ちに得ることができるシムコイル励磁電流決定、
a◆は決定されたシムコイル電流に従って行なわれるシ
ムコイル励磁、(6)は磁界分布の測定による磁界均一
度の確認′、鱒はシムコイル励磁(14を行うことによ
って磁界高均一化完了を表わす。また、シムコイル励磁
電流決定Q3が行なわれた後の残留磁界成分より磁界均
一度の予想aΦを行う。
す。Oυは祖母界分布の測定であり、Qlは祖母界分布
01の0式を用いた多項式表示、斡は多項式表示(ロ)
より直ちに得ることができるシムコイル励磁電流決定、
a◆は決定されたシムコイル電流に従って行なわれるシ
ムコイル励磁、(6)は磁界分布の測定による磁界均一
度の確認′、鱒はシムコイル励磁(14を行うことによ
って磁界高均一化完了を表わす。また、シムコイル励磁
電流決定Q3が行なわれた後の残留磁界成分より磁界均
一度の予想aΦを行う。
祖母界分布測定(ロ)は、複数の座標点において行い1
点測定とみなすことができる位の十分小さな領域内の磁
界を各座標点で測定した。測定した祖母界分布は、0式
のように多項式表示(2)とした。
点測定とみなすことができる位の十分小さな領域内の磁
界を各座標点で測定した。測定した祖母界分布は、0式
のように多項式表示(2)とした。
補正に用いるシムコイルの種類をn種にあらかじめ定め
ることにより、f+””fnの関数が具体的な変数で表
わせる。全測定点に対しΣR−が最小となるようにq、
〜Qnを定め、■式のようにシムコイルを励磁した場合
について式で表わし、a、−bn”0(n=1.2.・
・・、n)となるようにb1〜boを定め1シムコイル
励磁電流決定(至)を行い、直ちにシムコイル励磁Q4
を実施した。シムコイルの磁界出力により補正された磁
界分布を測定することにより磁界均一度確認0啼を行う
、シムコイルの励磁電流を決定した際の残留磁界成分R
nの最大値および最小値より磁界均一度αを0式のよう
に予想することができたが、このような磁界均一度の予
想αηと磁界均一度確認(2)との値を比較することに
より、磁界補正の妥当性を確認することができる。ただ
し1本発明による磁界補正法の妥当性が実験的にも確認
できた後においては、磁界均一度確認(至)は必ずしも
必要ではなく、省略してもよい。
ることにより、f+””fnの関数が具体的な変数で表
わせる。全測定点に対しΣR−が最小となるようにq、
〜Qnを定め、■式のようにシムコイルを励磁した場合
について式で表わし、a、−bn”0(n=1.2.・
・・、n)となるようにb1〜boを定め1シムコイル
励磁電流決定(至)を行い、直ちにシムコイル励磁Q4
を実施した。シムコイルの磁界出力により補正された磁
界分布を測定することにより磁界均一度確認0啼を行う
、シムコイルの励磁電流を決定した際の残留磁界成分R
nの最大値および最小値より磁界均一度αを0式のよう
に予想することができたが、このような磁界均一度の予
想αηと磁界均一度確認(2)との値を比較することに
より、磁界補正の妥当性を確認することができる。ただ
し1本発明による磁界補正法の妥当性が実験的にも確認
できた後においては、磁界均一度確認(至)は必ずしも
必要ではなく、省略してもよい。
以下、この発明の一実施例を説明する。第8図において
eυは直流粗磁界を発生する超電導主コイル、磐はこの
超電導主コイルなりが発生する祖母界分布を補正するた
めの直流補正磁界を発生する超電導シムコイルであり2
両コイル(2)(2)は超電導状態を維持するために液
体ヘリウム(図示しない)中に浸漬冷却されている。■
はある座標点の磁界測定用のパルスNMRプローブであ
り、このプローブはプローブ固定台(財)上に置かれ、
プローブ固定台は、超電導主コイル3υのボア内の任意
点にパルスNMRプローブが移動できるように、プロー
ブ移動装置に)を備えている。パルスNMRプローブ勢
は高周波送受信回路(至)に接続されており、■10バ
ス(ホ)を介してコンピュータ(ハ)に接続されている
。またI10バス四を介してシムコイル動磁電源(至)
が接続され、シムコイル励磁vt源に)の直流出力端子
はシムコイルと接続されている。また、プローブ移動装
置に)はr10バス6Xlを介してコンピュータと接続
されている。同図中に座標軸(xILZ)を示した。
eυは直流粗磁界を発生する超電導主コイル、磐はこの
超電導主コイルなりが発生する祖母界分布を補正するた
めの直流補正磁界を発生する超電導シムコイルであり2
両コイル(2)(2)は超電導状態を維持するために液
体ヘリウム(図示しない)中に浸漬冷却されている。■
はある座標点の磁界測定用のパルスNMRプローブであ
り、このプローブはプローブ固定台(財)上に置かれ、
プローブ固定台は、超電導主コイル3υのボア内の任意
点にパルスNMRプローブが移動できるように、プロー
ブ移動装置に)を備えている。パルスNMRプローブ勢
は高周波送受信回路(至)に接続されており、■10バ
ス(ホ)を介してコンピュータ(ハ)に接続されている
。またI10バス四を介してシムコイル動磁電源(至)
が接続され、シムコイル励磁vt源に)の直流出力端子
はシムコイルと接続されている。また、プローブ移動装
置に)はr10バス6Xlを介してコンピュータと接続
されている。同図中に座標軸(xILZ)を示した。
超電導主コイル(ハ)がある座標点(”’ r yl
r zl 、) において発生している磁界は、その座
標点におかれたパルスNMRプローブに)によって測定
した。パルスNMRプローブ(至)は、■10バスOυ
を通したコンピュータに)の指令によりプローブ移動装
置に)が稼動してプローブ固定台(財)を8次元的に動
かすことにより超電導主コイル3υのボア内の任意点に
移動することができる。パルスNMRプローブ員は高周
波送受信回路(イ)から、核磁気共鳴法を用いた磁界測
定に必要な高周波信号を受けてプローブ内サンプルに核
磁気共鳴を発生させ、この共鳴現象により発生した信号
をまた高周波送受信回路で受信して、信号処理を行った
後にI10バス(ハ)を通してコンピュータに)にその
データを入力する。コンピュータ(ホ)はプローブ移動
装置に)ともI/Qバス0])を通して接続されている
ので、コンピュータ(ハ)には磁界の測定された座標と
、その座標での磁界の値とが入力すれる。・コンピュー
タ(至)の指令によりノfルスNMRプローブ縛の位置
を次々と考えて、必要な座標点における磁界の測定を行
い、これら全てのデータをコンピュータ(ハ)に入力し
た。磁界の全測定が終了した時点において、これら全測
定データを用いてコンピュータ(至)は直ちに超電導シ
ムコイル四が磁界分布補正のために必要な補正磁界出力
をめ、シムコイル電源(1)をI10パス四を通して稼
動させ超電導シムコイルに)にあらかじめめである磁界
対電流の換算値に従い通電し、補正磁界を発生させた。
r zl 、) において発生している磁界は、その座
標点におかれたパルスNMRプローブに)によって測定
した。パルスNMRプローブ(至)は、■10バスOυ
を通したコンピュータに)の指令によりプローブ移動装
置に)が稼動してプローブ固定台(財)を8次元的に動
かすことにより超電導主コイル3υのボア内の任意点に
移動することができる。パルスNMRプローブ員は高周
波送受信回路(イ)から、核磁気共鳴法を用いた磁界測
定に必要な高周波信号を受けてプローブ内サンプルに核
磁気共鳴を発生させ、この共鳴現象により発生した信号
をまた高周波送受信回路で受信して、信号処理を行った
後にI10バス(ハ)を通してコンピュータに)にその
データを入力する。コンピュータ(ホ)はプローブ移動
装置に)ともI/Qバス0])を通して接続されている
ので、コンピュータ(ハ)には磁界の測定された座標と
、その座標での磁界の値とが入力すれる。・コンピュー
タ(至)の指令によりノfルスNMRプローブ縛の位置
を次々と考えて、必要な座標点における磁界の測定を行
い、これら全てのデータをコンピュータ(ハ)に入力し
た。磁界の全測定が終了した時点において、これら全測
定データを用いてコンピュータ(至)は直ちに超電導シ
ムコイル四が磁界分布補正のために必要な補正磁界出力
をめ、シムコイル電源(1)をI10パス四を通して稼
動させ超電導シムコイルに)にあらかじめめである磁界
対電流の換算値に従い通電し、補正磁界を発生させた。
通常超電導コイルは磁界立下げの時のみに電源を必要と
する永久電流モード方式で運転され、そのため、永久電
流スイッチと呼ばれるヒータ付スイッチを液体ヘリウム
中に設置し、磁界立下げ時のみにヒータに通電する。シ
ムコイル電源(1)にはこれらヒータ電源も含まれてい
るが。
する永久電流モード方式で運転され、そのため、永久電
流スイッチと呼ばれるヒータ付スイッチを液体ヘリウム
中に設置し、磁界立下げ時のみにヒータに通電する。シ
ムコイル電源(1)にはこれらヒータ電源も含まれてい
るが。
ヒータに通電が開始されるのは、コンピュータ(財)が
超電導シムコイル(イ)の補正磁界出力、すなわち超電
導シムコイルに)への通電々流を導びき出した時点であ
る。
超電導シムコイル(イ)の補正磁界出力、すなわち超電
導シムコイルに)への通電々流を導びき出した時点であ
る。
この発明の実証試験を行うため、第4図の装置を用いた
。超電導主コイル3ηと、その外周とに10種類の磁界
出力が独立に発生できる超電導シムコイル(2)とを設
置した。磁界補正実験は、中心磁界を085Tとして実
施した。座ta軸(x、 L Z)および主磁界成分B
oを矢印で示した。原点を中心とした0、8mの立方体
を高均一化対象領域と定め、この領域内の代表的な8面
であるZ=−0,15m 、 z 40 。
。超電導主コイル3ηと、その外周とに10種類の磁界
出力が独立に発生できる超電導シムコイル(2)とを設
置した。磁界補正実験は、中心磁界を085Tとして実
施した。座ta軸(x、 L Z)および主磁界成分B
oを矢印で示した。原点を中心とした0、8mの立方体
を高均一化対象領域と定め、この領域内の代表的な8面
であるZ=−0,15m 、 z 40 。
z−0,15mの各面上の磁界分布を各々第5図(a)
、 (b)。
、 (b)。
(c)に示した。測定点は各軸50rnm間隔で7点、
立方体内で848点である。各図共1主磁界とに重畳さ
れた不均一磁界成分のみ強調している。シムコイル関数
を変数とし、後記第1表のシムコイルの磁界成分に基づ
いて最小2乗法計算を行った結果次式を得た。
立方体内で848点である。各図共1主磁界とに重畳さ
れた不均一磁界成分のみ強調している。シムコイル関数
を変数とし、後記第1表のシムコイルの磁界成分に基づ
いて最小2乗法計算を行った結果次式を得た。
B(x、y、z)=0.849944551−0.16
X10 ”x+0.84X10 ’y−0.79X10
”−’ z−0,20x 10−’(z”−’(x”+
yす)一0.15XIO”−’ zx+ 0.78xl
O−’ zy−0,68刈0−′xy+0.88X10
−’(x” −y2) −0,18x107 ’z(z
” −4z”+yす+R(x + y * z ) (
T) (DR””=4.7X10’(T) R”””−
1,8X10−1mO式を用い、各係数と絶対値等しく
符合が逆の磁界を各シムコイルを励磁することにより発
生させた。ここでは、磁界の高均一化が主目的であるの
で、0次の補正は行なわなかった。従って0式にも0次
項の補正は含めていない。シムコイルへの通電々流に対
する発生磁界は数値計算によりあらかじめめてあり、こ
の値に従って通電し磁界補正を行った。パルスNMR法
により測定した補正後の磁界分布を第6図(a) (b
) (c)に示す。第5図に示しtコ補正前磁界分布と
同一平面上の磁界分布を示して両者の比較を容易にした
。まず、補正効果を概観してみるとシムコイルによる磁
界分布の補正により不均一磁界成分の振幅が減少し、ま
た1分布曲線が凹凸に父化し磁界勾配の正負符合が全体
として平均化されている事より磁界補正がほぼ最適であ
ると推定できる。
X10 ”x+0.84X10 ’y−0.79X10
”−’ z−0,20x 10−’(z”−’(x”+
yす)一0.15XIO”−’ zx+ 0.78xl
O−’ zy−0,68刈0−′xy+0.88X10
−’(x” −y2) −0,18x107 ’z(z
” −4z”+yす+R(x + y * z ) (
T) (DR””=4.7X10’(T) R”””−
1,8X10−1mO式を用い、各係数と絶対値等しく
符合が逆の磁界を各シムコイルを励磁することにより発
生させた。ここでは、磁界の高均一化が主目的であるの
で、0次の補正は行なわなかった。従って0式にも0次
項の補正は含めていない。シムコイルへの通電々流に対
する発生磁界は数値計算によりあらかじめめてあり、こ
の値に従って通電し磁界補正を行った。パルスNMR法
により測定した補正後の磁界分布を第6図(a) (b
) (c)に示す。第5図に示しtコ補正前磁界分布と
同一平面上の磁界分布を示して両者の比較を容易にした
。まず、補正効果を概観してみるとシムコイルによる磁
界分布の補正により不均一磁界成分の振幅が減少し、ま
た1分布曲線が凹凸に父化し磁界勾配の正負符合が全体
として平均化されている事より磁界補正がほぼ最適であ
ると推定できる。
次に数値計算結果と実験結果とを比較検討してみる。数
値計算による磁界均一度の推定値と補正実験から得られ
た値とを後記第2表に示した◎第2表中、(1)はa−
Oll m i (2)はa−0,2m+(3)はa−
0,8mである。磁界分布補正前の均一度に対し、同表
に示す補正後の数値は十分小さく、効果的な磁界補正が
行なわれていると考えられる。但し、補正後均一度は実
験値が推定値より悪い結果となっている。この原因はシ
ムコイルの通電々流が実験値ではなく理論出力を基にし
て決定されている事と測定精度上の限界によるためであ
り、また、シムコイル電流通電時の1%程度の設定誤差
もその原因と推定される。これら実験上の種々の誤差成
分が取り除かれれば、推定値と実験値は更によく一致す
るといえる。シムコイルがどの程度有効に利用できたか
を確認する事は重要であるので、補正後の磁界分布を測
定し1シムコイル関数を用いた最小2乗法を適用して磁
界補正結果を判定した。
値計算による磁界均一度の推定値と補正実験から得られ
た値とを後記第2表に示した◎第2表中、(1)はa−
Oll m i (2)はa−0,2m+(3)はa−
0,8mである。磁界分布補正前の均一度に対し、同表
に示す補正後の数値は十分小さく、効果的な磁界補正が
行なわれていると考えられる。但し、補正後均一度は実
験値が推定値より悪い結果となっている。この原因はシ
ムコイルの通電々流が実験値ではなく理論出力を基にし
て決定されている事と測定精度上の限界によるためであ
り、また、シムコイル電流通電時の1%程度の設定誤差
もその原因と推定される。これら実験上の種々の誤差成
分が取り除かれれば、推定値と実験値は更によく一致す
るといえる。シムコイルがどの程度有効に利用できたか
を確認する事は重要であるので、補正後の磁界分布を測
定し1シムコイル関数を用いた最小2乗法を適用して磁
界補正結果を判定した。
後記第8表に最小2乗法により得た磁界分布の表式中の
各係数を示した。同表より、1次のシムコイルは数%ま
で不均一磁界成分を減じ、2次のシムコイルではその値
が数lθ%となり、8次のシムは補正に対して効果的で
ないといえる。高次シムコイルはど超電シムコイル(イ
)を構成するコイル数が増し、電流設定が困難となり、
理論出力と実験値がずれやすいこと、又高次成分はどそ
の絶対値が著しく小さいtこめ精度よくシムコイル電流
を調整することが困難となるためである。
各係数を示した。同表より、1次のシムコイルは数%ま
で不均一磁界成分を減じ、2次のシムコイルではその値
が数lθ%となり、8次のシムは補正に対して効果的で
ないといえる。高次シムコイルはど超電シムコイル(イ
)を構成するコイル数が増し、電流設定が困難となり、
理論出力と実験値がずれやすいこと、又高次成分はどそ
の絶対値が著しく小さいtこめ精度よくシムコイル電流
を調整することが困難となるためである。
なお、上記実施例では祖母界発生装置と補正磁界発生装
置とは共に超電導コイルである場合を示したが1両コイ
ルは常電導コイルであっても、永久磁石であってもよい
。また、超電導、常電導。
置とは共に超電導コイルである場合を示したが1両コイ
ルは常電導コイルであっても、永久磁石であってもよい
。また、超電導、常電導。
永久磁石の8種の磁界発生源中の複数種の組合せであっ
てもよい。
てもよい。
また、上記実施例では、パルスNMR法による磁界測定
法を用いたが、CWNMR法によってもよく。
法を用いたが、CWNMR法によってもよく。
あるいはホール素子による磁界測定法であってもよい。
また、上記実施例はコンピュータによる無人全自動測定
方式について示したが、全自動測定ではない方式もある
。すなわち、磁界分布の測定を行う際、記録用紙に各座
標点での磁界を記入し、このデータを磁界分布の多項式
表示のみを行うことを目的としてコンピュータに入力し
、出力として得たシムコイル補正電流値に従ってシムコ
イル電源を手動操作により励磁する方法である。このよ
うに手動操作又はオフラインでの操作が入る場合には、
磁界分布の多項式表示のみの機能があり。
方式について示したが、全自動測定ではない方式もある
。すなわち、磁界分布の測定を行う際、記録用紙に各座
標点での磁界を記入し、このデータを磁界分布の多項式
表示のみを行うことを目的としてコンピュータに入力し
、出力として得たシムコイル補正電流値に従ってシムコ
イル電源を手動操作により励磁する方法である。このよ
うに手動操作又はオフラインでの操作が入る場合には、
磁界分布の多項式表示のみの機能があり。
各装置の制御機能のない能力の低いコンピュータでよく
、高均一磁界発生装置を安価にすることが可能である。
、高均一磁界発生装置を安価にすることが可能である。
以上のように、この発明によればシムコイルの出力を試
行錯誤的に決定することなく1回の磁界分布の測定によ
り直ちにコンピュータにより出力させるので、磁界高均
一化に必要な時間が大幅に短縮でき、超電導シムコイル
を用いた場合の液体ヘリウムの消費量もわずかでよい効
果がある。まtコシムコイルの種類が増しても磁界高均
一化に必要な時間はほとんど増加しない効果もある。
行錯誤的に決定することなく1回の磁界分布の測定によ
り直ちにコンピュータにより出力させるので、磁界高均
一化に必要な時間が大幅に短縮でき、超電導シムコイル
を用いた場合の液体ヘリウムの消費量もわずかでよい効
果がある。まtコシムコイルの種類が増しても磁界高均
一化に必要な時間はほとんど増加しない効果もある。
第 1 表
bO〜b9;定数
第1図は従来の磁界高均一化のためのフロー図。
第2図は本発明による磁界補正法のフロー図、第8図は
この発明の一実施例による高均一磁界発生装置の断面斜
視図、第4図はこの発明の方法を立証するための実験装
置の断面図、第5図(a) (b) (c)は立証実験
時の補正面磁界分布を示す状態図、第6図(al (b
) (clは同じく補正後磁界分布を示す状態図である
。 図中、?υ・超電導主コイル、(財)・・・超電導シム
コイル、(ホ)・・・パルスNMRプローブ、H・・・
プローブ固定台、(ホ)・・・プローブ移動装置1(ホ
)・・・高周波送受信UUa、@・・I10バス、gR
・・・コンピュータ、@・・・■10バス、に)・・・
シムコイルN源、@IJ・・・I10バス。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 大岩増雄 第1図 第2図 第3図 1σ 第4図 (4) 第5図 第6図 (0) (C) 手続補正書(自発) 特許庁長官殿 1、事件の表示 特願昭 59−462672、発明の
名称 高均一磁界発生装置 3、補正をする者 5、補正の対象 明細書の全文および図面 補正の内容 (1)明細書の全文を別紙のとおり訂正する。 (2)図面の第5図、第6図をそれぞれ別紙のとおり訂
正する。 7、 添付書類の目録 (1)訂正後の明細書 1通 +2)図面(第5図、第6図) 各1通以上 明 細 書 11発明の名称 高均一磁界発生装置 2、特許請求の範囲 (1)祖母界発生装置と、この装置が発生する和硫界分
布を測定する磁界測定装置、各装置を制御しかつ測定さ
れた磁界分布を計算処理する計算装置。 補正磁界発生装置とを備え磁界測定装置によって測定さ
れた和硫界分布を空間的に変化しない磁界成分と補正磁
界発生装置の出力関数成分とそれ以外の成分との8種類
の成分に分け、補正磁界発生装置の出力関数成分の振幅
より補正磁界発生装置が磁界高均一化のために発生すべ
き磁界出力値を決定しこの磁界出力値を補正磁界発生装
置により発生させたことを特徴とする高均一磁界発生装
置。 3、発明の詳細な説明 〔発明の技術分野〕 この発明は、空間的な磁界均一度が著しく高い高均一磁
界発生技術に関するものである。 〔従来の技術〕 Bulletin (Voi? 19 、 A 919
77 P8517〜P8619 )に示された従来の高
均一磁界発生のための磁界補正装置の最適出力を定める
フロー図である。ここでは磁界補正装置としてシムコイ
ルを用いているが、シムコイルとは、不均一な磁界成分
中の1次分にのみ対応する出力が独立に発生できるコイ
ルであり、種類や次数の異なる多数のシムコイルを設置
することにより多数の不均一磁界成分をとり除くことが
できる。 図においてtl)は演算器、(2)は演算器(11によ
って駆動される1次の補正電流の最適化、(3)は2次
の補正電流の最適化、 t41f51は最適化が不可能
な場合の帰還路、(6)はシムコイルの最適化完了、(
7)はNMR(Nuclear Magnetic R
e5onance )スペクトロメータである。NMR
スペクトロメータ(7)は通常パルスNMR法によって
受信されるFID (Free Induction
Decay )信号をフーリエ変換し、フーリエ変換後
の信号の半値幅から測定対象試料中の磁界均一度が測定
できる装置である。FID信号は磁界均一度の悪い場合
にはその減衰が早くなり、磁界均一度が著しく悪い場合
には測定不可能となる。 補正出力が発生する領域には、磁界分布を補正して高均
一化するための祖母界(図示せず)力;既に発生してい
る。 まず磁界補正工程は演算器(りに適当な開始命令を入れ
ることにより開始され、まず、1次の磁界出力を発生す
るシムコイル群中の特定の1種のシムコイルを任意の電
流値に演算器(1)によりセ゛ノドすることにより、1
次の補正電流の最適化+21力5開始される。1種のシ
ムコイルが任意の電流値にセットされて磁界を発生して
いる状態でNPvlRスペクトロメータ(7)により磁
界均一度を測定し、シムコイルが磁界を全く発生してい
ない状態との均一度を比較する。この時もし均一度が悪
化しても)る場合には演算器(υによりシムコイルの通
電々流の大きさを変えてシムコイルの発生磁界の大きさ
を変え同様にNMRスペクトロメータ(7)により磁界
均一度の測定と比較を行う。あるいは、シムコイルの通
電々流の向きと大きさの両方を変更すること醤こより、
シムコイルの発生磁界の大きさ向き共に変えた状態でス
ペクトロメータ(7)により磁界均一度の測定および比
較を行う。このような試行錯誤を何度も繰返した後に、
シムコイルへの通電前より磁界均一度が向上している状
態がNMRスペクトロメータ(7)の測定により明らか
になった場合に、ようや(シムコイルへの通電々流の向
きが正しく設定されたことになる。続いてシムコイルへ
の通電々流を最適化せねばならない。最適化とはあるシ
ムコイルの発生できる磁界成分と同一の磁界成分が祖母
異性布中に全く含まれなくなるまであるシムコイルの発
生磁界値を調整することである。まず、シムコイルへの
通電々流Iを演算器11)によりI十△■として、NM
Rスペクトロメータ(7)により磁界均一度α+Δaを
測定する。シムコイルへの通電々流がIの時の磁界均一
度がaであり、同様に■+△Iの場合の均一度がα+△
αとなった時、α+Δαくα となった場合には、電流の変化分ΔIは磁界均一度dα を向上させる方向に変化しているので、j〒=〇になる
までシムコイルの通電々流を変化してゆく。 このようにして、ようやく1次のシムコイル中の1種の
シムコイルの最適化が完了した。続いて1次のシムコイ
ル群中の他の1種のシムコイルを上記と同様の方法によ
り最適化し、1次のシムコイル群の全種の最適化が完了
することにより1次dα の補正電流の最適化(2)が完了する。但し、a了”
0とならない場合には、最適化が不可能であったので、
帰還路<471とより、補正電流の最適化ができなかっ
た旨の信号が演算器(1)に送られ、補正工程が停止さ
れるかあるいは最適補正ではないまま次の工程に進むこ
とになる。 このようにして1次の補正電流の最適化が行なわれたあ
と、続いて2次の補正電流の最適化(3)がN1vlR
スペクトロメータ(7)による磁界均一度の測定を繰返
す仁とにより完了され、最適化完了(6)となる。 また、 FID信号が十分観測可能となるためにシムコ
イルによって補正される前の磁界均一度はある程度高く
なければならない。同一の祖母界分布がある場合測定領
域が広い場合には通常、磁界変化量が大きくなるので磁
界均一度は低下していく。 従って、広い領域を高均一化するためには、狭い領域を
高均一化する場合よりも更に祖母界分布の磁界均一度が
高くなくてはFIDによる磁界均一度の測定が不可能と
なる。 シムコイルには超電導シムコイルと常電導シムコイルの
2種類がある。超電導シムコイルは祖母界発生装置が超
電導コイルの場合に用いられるシムコイルであり高価な
液体ヘリウム中に設置される。シムコイルの発生磁界を
調整する場合には同じ(液体ヘリウム中に設置された永
久電流スイッチと呼ばれるヒータ付スイッチのヒータに
常時通電して加熱しておかねばならず、811時間が長
い場合には液体ヘリウムの蒸発量がぼう大となる。 常電導シムコイルとは、常温で用いるコイルであり、銅
やアルミなどの通常の電線材料によって巻回されたコイ
ルである。 従来の高均一磁界発生装置は以上のように試行錯誤的磁
界高均一化法により構成されているのでシムコイル数が
増すにつれ補正に必要な時間が著しく増大して高均一磁
界がすばやく得られない欠点がある上に、もし超電導シ
ムコイルを用いた場合には高価な液体ヘリウムの消費量
がぼう大となり調整費用が著しく高価になる欠点力やあ
った。また、祖母界の均一度が悪い場合にはFID信号
の減衰が著しく早くなって磁界高均一化の調整が不可能
になるという欠点があった。 ′ 〔発明の概要〕 。 この発明は上記のような従来の磁界高均一化技術の欠点
を除去するためになされたもので、祖母界分布をいくつ
かの点で測定することにより2補正磁界発生装置が発生
すべき最適磁界を計算装置によって直ちにめ、これを補
正磁界発生装置に加えることにより高均一磁界を得る装
置を提供するものである。 〔発明の実施例〕 最初に1.この発明に用いる礎界補正法について説明す
る。 不均一磁界成分の少ない高均一磁界を発生させるだめに
、例えばノツチ付ソレノイドコイルを用いると、その発
生磁界Bzはコイル中心付近で次式のように表わせる。 ■ ここでaはソレノイドコイルの半径、 Pnはn次ルジ
ャンドル多項式、εnはコイル形状により定まる定数で
ある。0式は5次以下の不均一磁界成分を全く含まない
高均一磁界が発生できることを示す。 しかし、コイルの製作精度には上限があり、また、コイ
ルの設置環境を完全に非磁性とはできないことを考慮す
れば、0式通りの磁界が発生することはあり得ない。む
しろ、5次以下の不均一磁界を含む任意の磁界成分が発
生していると考える必要がある。 そこで、空間的に変化しない均一磁界中に微弱な不均一
磁界成分が多数台まれている磁界分布について検討し、
これら不均一磁界成分を打消す方法について考察してみ
る。 任意の磁界Bはスカラーポテンシャル−により下式のよ
うに表わせる。 B−一φ ■ −は直交球関数展開を用いて一般に次式で表わせる〇 一一一Σ Σ r”P”:Ccosθ)(A胃cosr
nl+B:slnmφ〕n=lm=0 にで、An、Bnは定数、γ、θ、φは極座標表示の変
数である。磁界補正を行う場合には磁界補正コイルの出
力と対応がとり易いために一般に直角座標が用いられる
ので以後直角座標表示を用いる。 空間的に変化しない主磁界成分Boを2軸方向にとり+
Boに任意の不均一磁界成分B′がIB’l/1Bo
lく〈1の条件のもとに重畳されている場合について考
える。このとき ”:、 Bo + B’z 従って不均一磁界成分は主磁界と同一方向のZ成分のみ
考えればよい。2軸方向の磁界成分は次式の変換公式に
より表わせる。 Bz = −(φ7 CO8θ−φθsinθ) 00
式を0式に代入し、直交座標により低次側から各成分を
表示する。 Bz = Bo+A+ x+A2Y+As Z+A4
(z”−、(x” Yす)+Al1ZX+A6 zy十
A7xy+Aa (x” Y” )十Agz(z’−H
x”−Hy”) 十A+ox(4z”−x” y” ) +A++Y(4z’−xl−yす +Al2X(X” 8y” ) +A+3y(8x”−y”) +Al4xyZ +Au+z(x”7yす+=−@ すなわち、■式の各項の重ね合せとしてBzを表わすこ
とができる。■式中第1項以外は空間的に変化する磁界
成分であり磁界高均一化のためにはこれら不均一磁界成
分が含まれないことが必要である。不均一磁界成分を除
去するために、シムコイルによる磁界補正を行う。シム
コイルとは■式の各項中の唯−項の変数に一致する磁界
成分をもっ特殊なコイルである。独立した磁界成分が発
生できるので任意の磁界分布に対する補正が可能となる
。ソレノイドコイルに取付けるシムコイル構造は1円形
コイル対またはくら型コイルの組合せとなっている。不
均一磁界は実際に発生磁界を測定しない限りその成分や
振幅の判定ができないので。 高均一磁界を得るためには多くのシムコイルを準備する
必要がある。従って高均一磁界を得るための磁界分布調
整および最適調整値であることの判定には多大の労力を
要す。 補正磁界の最適値を容易にめる方法として。 本発明は最小2乗法を適用する。すなわち4主コイルの
発生磁界である祖母界分布を、最小2乗法を用いて均一
磁界成分Boとマグネットが有する多数のシムコイル関
数およびそれ以外の項で表わちこの時、任意点の磁界B
zは次式で表わせる。 Bz(x+y+z)−Bo+a+f++a2fg+−=
+anfn+Rn(x+Y+z)■にでf+、f2.・
・・、fnは各々シムコイルの磁界出力関数でありa+
、・・・ranは各々振幅を表わす。まりRnはn種の
シムコイル関数では表わせない残差である。また、祖母
界とはここでは補正前の磁界分布という意味で用いた。 各シムコイルを励磁すると0式は次式のように表わせる
。 Bz(x、y、z)=Bo+(a+f+−b+f+)+
(azf2−bzfz)i・・+(anfn bnfn
)ran(x+y+z)f1〜fn以外の誤差磁界成分
を表わしている。 各シムコイルの磁界出力bnf、を祖母界分布より得た
磁界anfn を完全に打消すように、すなわちa。−
bnとなるよう励磁電流を調整すると任意点の磁界は次
式のようになる。 Bz(x、y+z)−Bo+Rn(x+y、z)+1’
R’m(x+y+z) 0m”1 0式は、様々な原因により発生していた不均一磁界成分
中のシムコイル関数対応分が全て打ち消された均一度の
高い磁界分布が得られたことを表わしている。 ところで、非常に数多くのシムコイルを設置することは
実用的ではなく1通常紙次の不均一磁界成分をとり除く
ために10種類程度が用いられるが。 このような実用的な範囲内ではIRn D>l尿’m
lであり、シムコイルの磁界出力精度が磁界分布補正上
の問題となることはない。 測定領域内の残差の最小値Rn と最大値RT1は数値
的にめられているので、この特待られる磁界的均一度α
は次式のようにシムコイルによる磁界分布補正前に推定
できる。 2B。 上記の磁界高均一化の方法を第2図にフロー図として示
す。a◇は祖母界分布測定であり、Q2は祖母界分布の
0式を用いた多項式表示、aaは多項式表示(6)より
直ちに得ることができるシムコイル励磁電流決定、Q4
は決定されたシムコイル電流に従って行なわれるシムコ
イル励磁、(ト)は磁界分布の測定による磁界均一度の
確認、a・は磁界高均一化完了を表わす。また、シムコ
イル励磁電流決定(至)が行なわれた後の残留磁界成分
より磁界均一度の予想aηを行う。 祖母界分布測定σηは、複数の座標点において行い、点
測定とみなすことができる位の十分小さな領域内の磁界
を各座標点で測定した。測定した祖母界分布は、[F]
式のように多項式表示(6)とした。 補正に用いるシムコイルの種類をn種にあらかじめ定め
ることにより、fl〜fnの関数が具体的な変数で表わ
せる。全測定点に対しΣRAが最小となるようにQ I
””’ Q nを定め、■式のようにシムコイルを励
磁した場合について式で表わし、an−b、”0(n
” 1 + 2 +、 ”’ + n )となるように
b1〜bnを定め1シムコイル励磁電流決定餞を行い、
直ちにシムコイル励磁a4を実施した。シムコイルの励
磁出力により補正された磁界分布を測定することにより
磁界均一度確認(ト)を行う。シムコイルの励磁電流を
決定した際の残留磁界成分Rnの最大値および最小値よ
り磁界均一度αを0式のように予想することができたが
、このような磁界均一度の予想0ηと磁界均一度確認(
へ)との値を比較することにより、磁界補正の妥当性を
確認することができる。ただし。 本発明による磁界補正法の妥当性が実験的にも確認でき
た後においては、磁界均一度確認(へ)は必ずしも必要
ではなく、省略してもよい。 以下、この発明の一実施例を説明する。第8図において
ゆは直流粗磁界を発生する超電導主コイル、(至)はこ
の超電導主コイルにllが発生する祖母界分布を補正す
るための直流補正磁界を発生する超電導シムコイルであ
り1両コイルq@は超電導状態を維持するために液体ヘ
リウム(図示しない)中に浸漬冷却されている。四はあ
る座標点の磁界測定用のパルス照プローブであり、この
プローブはプローブ固定台(ハ)上に置かれ、プローブ
固定台は、超電導主コイル同のボア内の任意点にパルX
NMRプローブが移動できるように、プローブ移動装置
に)を備えている。パルスNMRプローブ(財)は高周
波送受信回路(至)に接続されており、I10バス鋤を
介してコンピュータ(2)に接続されている。またI/
Qバス四を介してシムコイル励磁電源に)が接続され、
シムコイル励磁電源に)の直流出力端子は超電導シムコ
イル(財)と接続されている。また、プローブ移動装置
に)はI/QパスC1,)を介してコンピュータと接続
されている。同図中に座標軸(x+y+z)を示した。 超電導主コイルなりがある座標点(Xi、 yl、 Z
])において発生している磁界は、その座標点におかれ
たパルスNMRプローブ(ハ)によって測定した。パル
ス調プローブ峙は、I10パス6υを通したコンピュー
タ(ハ)の指令によりプローブ移動装置(ハ)が稼動し
てプローブ固定台(ハ)を8次元的に動かすことにより
超電導主コイル(ハ)のボア内の任意点に移動すること
ができる。パルスNMRプローブに)は高周波送受信回
路(ホ)から、核磁気共鳴法を用いた磁界測定に必要な
高周波信号を受けてプローブ内サンプルに核磁気共鳴を
発生させ、この共鳴現象により発生した信号をまた高周
波送受信回路で受信して、信号処理を行った後にI10
バス(財)を通してコンピュータ(ハ)にそのデータを
入力する。コンピュータ(ハ)はプローブ移動装置に)
ともI10パスeDを通して接続されているので、コン
ピュータ(ハ)には磁界の測定された座標と、その座標
での磁界の値とが入力される。コンピュータ(ハ)の指
令によりパルス側プローブ(ハ)の位置を次々と変えて
、必要な座標点における磁界の測定を行い、これら全て
のデータをコンピュータ@に入力した。磁界の全測定が
終了した時点において、これら全測定データを用いてコ
ンピュータ(ハ)は回ちに超電導シムコイル(イ)が磁
界分布補正のために必要な補正磁界出力をめ、シムコイ
ル電源(7)をI10バス(ホ)を通して稼動させ超電
導シムコイル(ホ)にあらかじめめである磁界対電流の
換算値に従い通電し、補正磁界を発生させた。通常超電
導コイルは励消磁の時のみに電源を必要とする永久電流
モード方式マ運転され、そのため、永久電流スイッチと
呼ばれるヒータ付スイ゛ツチを液体ヘリウム中に設置し
、励消磁時のみにヒータに通電する。シムコイル電源(
1)にはこれらヒータ電源も含まれているが、ヒータに
通電が開始されるのは、コンピュータ(至)が超電導シ
ムコイル四の補正磁界出力、すなわち超電導シムコイ、
ル■への通電々流を導びき出した時点である。 この発明の実証試験を行うため、第4図の装置を用いた
。内直径1m、長さ1.86mの超電導主コイル?υと
、その外周上ニ10種類(ZO,Zl、 Z”、 Z”
。 X、 Y、 ZX、 ZY、NY、X”−Y2) ノ超
[導シム:Iイに@とを設置した。磁界補正実験は、中
心磁界を086Tとして実施した。座標軸(x+y+Z
)および主磁界成分Boを矢印で示した。原点を中心と
した0、8mの立方体を高均一化対象領域と定め、この
領域内の代表的な8面であるz−−0,15m 、 z
−0、zmo、15mの各面上の磁界分布を各々第5
図(a) 、 (b) 、 (cDに示した。測定点は
各軸50mm間隔で7点、立方体内で848点である。 各図共、主磁界上に重畳された不均一磁界成分のみ強調
している。シムコイル関数を変数とし、後記第1表のシ
ムコイルの磁界成分に基づいて最小2乗法計算を行った
結果次式%式% ) ( ) 0式を用い、各係数と絶対値等しく符号が逆の磁界を各
シムコイルを励磁することにより発生させた。ここでは
、磁界の高均一化が主目的であるので、0次の補正は行
なわなかった。従っての式にも0次項の補正は含めてい
ない。シムコイルへの通電々流に対する発生磁界は数値
計算によりあらかじめめてあり、この値に従って通電し
磁界補正を行った。パルスNMR法により測定した補正
後の磁界分布を第6図(a) (b) (c)に示す。 第5図に示した補正前出界分布と同一平面上の磁界分布
を示して両者の比較を容易にした。まず、補正効果を概
観してみるとシムコイルによる磁界分布の補正により不
均一磁界成分の振幅が減少し、また1分布曲線が凹凸に
変化し磁界勾配の正負符号が全体として平均化されてい
る事より磁界補正がほぼ最適であると推定できる◎ 次に数値計算結果と実験結果とを比較検討してみる。数
値計算による磁界均一度の推定値と補正実験から得られ
た値とを後記第2表に示した。第2表中、(1)はa翼
0.1m、(2)はa−〇、 2 m + (3]はa
ヰ0.8mの各立方体中での数値である。磁界分布補正
前の均一度に対し、同表に示す補正後の数値は十分小さ
く、効果的な磁界補正が行なわれていると考えられる。 但し、補正後均一度は実験値が推定値より悪い結果とな
っている。この原因はシムコイルの通電々流が実験値で
はなく理論出力を基にして決定され両者間に若干の違い
がある事と測定精度上の限界によるためであり、また、
シムコイル電流通電時の1%程度の設定誤差もその原因
と推定される。これら実験上の種々の誤差要因が取り除
かれれば、推定値と実験値は更によく一致するといえる
。シムコイルがどの程度有効に利用できたかを確認する
事は重要であるので、補正後の磁界分布を測定し、シム
コイル関数を用いた最小2乗法を適用して磁界補正結果
を判定した。後記第8表に最小2乗法により得た磁界分
布の表式中の各係数を示した。同表より、1次のシムコ
イルは数%まで不均一磁界成分を減じ、2次のシムコイ
ルではその値が数10%となり、8次のシムは補正に対
して効果的でないといえる。高次シムコイルはど超電シ
ムコイル(イ)を構成するコイル数が増し、電流設定が
困難となり、理論出力と実験値がずれやすいこと、又高
次成分はど電流設定のわずかな違いによる誤差が大きい
ため、精度よくシムコイル電流を調整することが困難と
なるためである。 なお、上記実施例では祖母界発生装置と補正磁界発生装
置とは共に超電導コイルである場合を示したが1両コイ
ルは常電導コイルであっても、永久磁石であってもよい
。また、超電導、常電導、永久磁石の8種の磁界発生源
中の複数種の組合せであってもよい。 また、上記実施例では、パルスNMR法による磁界測定
法を用いたが、 CWNMR法によってもよく。 あるいはホール素子による磁界測定法であってもよい。 また、上記実施例はコンピュータによる無人全自動測定
方式について示したが、全自動測定ではない方式もある
。すなわち、磁界分布の測定を行う際、記録用紙に各座
標点での磁界を記入し、このデータを磁界分布の多項式
表示のみを行うことを目的としてコンピュータに入力し
、出力として得たシムコイル補正電流値に従ってシムコ
イル電源を手動操作により励磁する方法である。このよ
うに手動操作又はオフラインでの操作が入る場合には、
磁界分布の多項式表示のみの機能があり、各装置の制御
機能のない能力の低いコンピュータでよく、高均一磁界
発生装置を安価にすることが可能である。 (発明の効果〕 以上のように、この発明によればシムコイルの出力を試
行錯誤的に決定することなく1回の磁界分布の測定によ
り直ちにコンピュータにより出力させるので、磁界高均
一化に必要な時間が大幅に短縮でき、超電導シムコイル
を用いた場合の液体ヘリウムの消費量もわずかでよい効
果がある。またシムコイルの種類が増しても磁界高均一
化に必要な時間はほとんど増加しない効果もある。 第 1 表 bo”” b会:定数 第1図は従来の磁界高均一化のためのフロー図。 第2図は本発明による磁界補正法のフロー図、第8図は
この発明の一実施例による高均一磁界発生装置の断面斜
視図、第4図はこの発明の方法を立証するための実験装
置の断面図、第5図(a) (b) (c)は立証実験
時の補正後m界分布を示す状態図、第6図(a) (b
) (c)は同じく補正後m界分布を示す状態図である
。 図中、?1し・m電導子コイル、(イ)・・・超電導シ
ムコイル、(財)・・・パルスNMRフローブ、りや・
・・プローブ固定台、(ハ)・・・プローブ移動装置、
(7)・a周波送受信回路、@・・・■10ハス、(ハ
)・・・コンピュータ、翰・・・I10バス、(7)・
・・シムコイル[lIi?f、、01)・・・I10ハ
ス。 なお1図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 大岩増雄 第6図 第6図
この発明の一実施例による高均一磁界発生装置の断面斜
視図、第4図はこの発明の方法を立証するための実験装
置の断面図、第5図(a) (b) (c)は立証実験
時の補正面磁界分布を示す状態図、第6図(al (b
) (clは同じく補正後磁界分布を示す状態図である
。 図中、?υ・超電導主コイル、(財)・・・超電導シム
コイル、(ホ)・・・パルスNMRプローブ、H・・・
プローブ固定台、(ホ)・・・プローブ移動装置1(ホ
)・・・高周波送受信UUa、@・・I10バス、gR
・・・コンピュータ、@・・・■10バス、に)・・・
シムコイルN源、@IJ・・・I10バス。 なお、図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 大岩増雄 第1図 第2図 第3図 1σ 第4図 (4) 第5図 第6図 (0) (C) 手続補正書(自発) 特許庁長官殿 1、事件の表示 特願昭 59−462672、発明の
名称 高均一磁界発生装置 3、補正をする者 5、補正の対象 明細書の全文および図面 補正の内容 (1)明細書の全文を別紙のとおり訂正する。 (2)図面の第5図、第6図をそれぞれ別紙のとおり訂
正する。 7、 添付書類の目録 (1)訂正後の明細書 1通 +2)図面(第5図、第6図) 各1通以上 明 細 書 11発明の名称 高均一磁界発生装置 2、特許請求の範囲 (1)祖母界発生装置と、この装置が発生する和硫界分
布を測定する磁界測定装置、各装置を制御しかつ測定さ
れた磁界分布を計算処理する計算装置。 補正磁界発生装置とを備え磁界測定装置によって測定さ
れた和硫界分布を空間的に変化しない磁界成分と補正磁
界発生装置の出力関数成分とそれ以外の成分との8種類
の成分に分け、補正磁界発生装置の出力関数成分の振幅
より補正磁界発生装置が磁界高均一化のために発生すべ
き磁界出力値を決定しこの磁界出力値を補正磁界発生装
置により発生させたことを特徴とする高均一磁界発生装
置。 3、発明の詳細な説明 〔発明の技術分野〕 この発明は、空間的な磁界均一度が著しく高い高均一磁
界発生技術に関するものである。 〔従来の技術〕 Bulletin (Voi? 19 、 A 919
77 P8517〜P8619 )に示された従来の高
均一磁界発生のための磁界補正装置の最適出力を定める
フロー図である。ここでは磁界補正装置としてシムコイ
ルを用いているが、シムコイルとは、不均一な磁界成分
中の1次分にのみ対応する出力が独立に発生できるコイ
ルであり、種類や次数の異なる多数のシムコイルを設置
することにより多数の不均一磁界成分をとり除くことが
できる。 図においてtl)は演算器、(2)は演算器(11によ
って駆動される1次の補正電流の最適化、(3)は2次
の補正電流の最適化、 t41f51は最適化が不可能
な場合の帰還路、(6)はシムコイルの最適化完了、(
7)はNMR(Nuclear Magnetic R
e5onance )スペクトロメータである。NMR
スペクトロメータ(7)は通常パルスNMR法によって
受信されるFID (Free Induction
Decay )信号をフーリエ変換し、フーリエ変換後
の信号の半値幅から測定対象試料中の磁界均一度が測定
できる装置である。FID信号は磁界均一度の悪い場合
にはその減衰が早くなり、磁界均一度が著しく悪い場合
には測定不可能となる。 補正出力が発生する領域には、磁界分布を補正して高均
一化するための祖母界(図示せず)力;既に発生してい
る。 まず磁界補正工程は演算器(りに適当な開始命令を入れ
ることにより開始され、まず、1次の磁界出力を発生す
るシムコイル群中の特定の1種のシムコイルを任意の電
流値に演算器(1)によりセ゛ノドすることにより、1
次の補正電流の最適化+21力5開始される。1種のシ
ムコイルが任意の電流値にセットされて磁界を発生して
いる状態でNPvlRスペクトロメータ(7)により磁
界均一度を測定し、シムコイルが磁界を全く発生してい
ない状態との均一度を比較する。この時もし均一度が悪
化しても)る場合には演算器(υによりシムコイルの通
電々流の大きさを変えてシムコイルの発生磁界の大きさ
を変え同様にNMRスペクトロメータ(7)により磁界
均一度の測定と比較を行う。あるいは、シムコイルの通
電々流の向きと大きさの両方を変更すること醤こより、
シムコイルの発生磁界の大きさ向き共に変えた状態でス
ペクトロメータ(7)により磁界均一度の測定および比
較を行う。このような試行錯誤を何度も繰返した後に、
シムコイルへの通電前より磁界均一度が向上している状
態がNMRスペクトロメータ(7)の測定により明らか
になった場合に、ようや(シムコイルへの通電々流の向
きが正しく設定されたことになる。続いてシムコイルへ
の通電々流を最適化せねばならない。最適化とはあるシ
ムコイルの発生できる磁界成分と同一の磁界成分が祖母
異性布中に全く含まれなくなるまであるシムコイルの発
生磁界値を調整することである。まず、シムコイルへの
通電々流Iを演算器11)によりI十△■として、NM
Rスペクトロメータ(7)により磁界均一度α+Δaを
測定する。シムコイルへの通電々流がIの時の磁界均一
度がaであり、同様に■+△Iの場合の均一度がα+△
αとなった時、α+Δαくα となった場合には、電流の変化分ΔIは磁界均一度dα を向上させる方向に変化しているので、j〒=〇になる
までシムコイルの通電々流を変化してゆく。 このようにして、ようやく1次のシムコイル中の1種の
シムコイルの最適化が完了した。続いて1次のシムコイ
ル群中の他の1種のシムコイルを上記と同様の方法によ
り最適化し、1次のシムコイル群の全種の最適化が完了
することにより1次dα の補正電流の最適化(2)が完了する。但し、a了”
0とならない場合には、最適化が不可能であったので、
帰還路<471とより、補正電流の最適化ができなかっ
た旨の信号が演算器(1)に送られ、補正工程が停止さ
れるかあるいは最適補正ではないまま次の工程に進むこ
とになる。 このようにして1次の補正電流の最適化が行なわれたあ
と、続いて2次の補正電流の最適化(3)がN1vlR
スペクトロメータ(7)による磁界均一度の測定を繰返
す仁とにより完了され、最適化完了(6)となる。 また、 FID信号が十分観測可能となるためにシムコ
イルによって補正される前の磁界均一度はある程度高く
なければならない。同一の祖母界分布がある場合測定領
域が広い場合には通常、磁界変化量が大きくなるので磁
界均一度は低下していく。 従って、広い領域を高均一化するためには、狭い領域を
高均一化する場合よりも更に祖母界分布の磁界均一度が
高くなくてはFIDによる磁界均一度の測定が不可能と
なる。 シムコイルには超電導シムコイルと常電導シムコイルの
2種類がある。超電導シムコイルは祖母界発生装置が超
電導コイルの場合に用いられるシムコイルであり高価な
液体ヘリウム中に設置される。シムコイルの発生磁界を
調整する場合には同じ(液体ヘリウム中に設置された永
久電流スイッチと呼ばれるヒータ付スイッチのヒータに
常時通電して加熱しておかねばならず、811時間が長
い場合には液体ヘリウムの蒸発量がぼう大となる。 常電導シムコイルとは、常温で用いるコイルであり、銅
やアルミなどの通常の電線材料によって巻回されたコイ
ルである。 従来の高均一磁界発生装置は以上のように試行錯誤的磁
界高均一化法により構成されているのでシムコイル数が
増すにつれ補正に必要な時間が著しく増大して高均一磁
界がすばやく得られない欠点がある上に、もし超電導シ
ムコイルを用いた場合には高価な液体ヘリウムの消費量
がぼう大となり調整費用が著しく高価になる欠点力やあ
った。また、祖母界の均一度が悪い場合にはFID信号
の減衰が著しく早くなって磁界高均一化の調整が不可能
になるという欠点があった。 ′ 〔発明の概要〕 。 この発明は上記のような従来の磁界高均一化技術の欠点
を除去するためになされたもので、祖母界分布をいくつ
かの点で測定することにより2補正磁界発生装置が発生
すべき最適磁界を計算装置によって直ちにめ、これを補
正磁界発生装置に加えることにより高均一磁界を得る装
置を提供するものである。 〔発明の実施例〕 最初に1.この発明に用いる礎界補正法について説明す
る。 不均一磁界成分の少ない高均一磁界を発生させるだめに
、例えばノツチ付ソレノイドコイルを用いると、その発
生磁界Bzはコイル中心付近で次式のように表わせる。 ■ ここでaはソレノイドコイルの半径、 Pnはn次ルジ
ャンドル多項式、εnはコイル形状により定まる定数で
ある。0式は5次以下の不均一磁界成分を全く含まない
高均一磁界が発生できることを示す。 しかし、コイルの製作精度には上限があり、また、コイ
ルの設置環境を完全に非磁性とはできないことを考慮す
れば、0式通りの磁界が発生することはあり得ない。む
しろ、5次以下の不均一磁界を含む任意の磁界成分が発
生していると考える必要がある。 そこで、空間的に変化しない均一磁界中に微弱な不均一
磁界成分が多数台まれている磁界分布について検討し、
これら不均一磁界成分を打消す方法について考察してみ
る。 任意の磁界Bはスカラーポテンシャル−により下式のよ
うに表わせる。 B−一φ ■ −は直交球関数展開を用いて一般に次式で表わせる〇 一一一Σ Σ r”P”:Ccosθ)(A胃cosr
nl+B:slnmφ〕n=lm=0 にで、An、Bnは定数、γ、θ、φは極座標表示の変
数である。磁界補正を行う場合には磁界補正コイルの出
力と対応がとり易いために一般に直角座標が用いられる
ので以後直角座標表示を用いる。 空間的に変化しない主磁界成分Boを2軸方向にとり+
Boに任意の不均一磁界成分B′がIB’l/1Bo
lく〈1の条件のもとに重畳されている場合について考
える。このとき ”:、 Bo + B’z 従って不均一磁界成分は主磁界と同一方向のZ成分のみ
考えればよい。2軸方向の磁界成分は次式の変換公式に
より表わせる。 Bz = −(φ7 CO8θ−φθsinθ) 00
式を0式に代入し、直交座標により低次側から各成分を
表示する。 Bz = Bo+A+ x+A2Y+As Z+A4
(z”−、(x” Yす)+Al1ZX+A6 zy十
A7xy+Aa (x” Y” )十Agz(z’−H
x”−Hy”) 十A+ox(4z”−x” y” ) +A++Y(4z’−xl−yす +Al2X(X” 8y” ) +A+3y(8x”−y”) +Al4xyZ +Au+z(x”7yす+=−@ すなわち、■式の各項の重ね合せとしてBzを表わすこ
とができる。■式中第1項以外は空間的に変化する磁界
成分であり磁界高均一化のためにはこれら不均一磁界成
分が含まれないことが必要である。不均一磁界成分を除
去するために、シムコイルによる磁界補正を行う。シム
コイルとは■式の各項中の唯−項の変数に一致する磁界
成分をもっ特殊なコイルである。独立した磁界成分が発
生できるので任意の磁界分布に対する補正が可能となる
。ソレノイドコイルに取付けるシムコイル構造は1円形
コイル対またはくら型コイルの組合せとなっている。不
均一磁界は実際に発生磁界を測定しない限りその成分や
振幅の判定ができないので。 高均一磁界を得るためには多くのシムコイルを準備する
必要がある。従って高均一磁界を得るための磁界分布調
整および最適調整値であることの判定には多大の労力を
要す。 補正磁界の最適値を容易にめる方法として。 本発明は最小2乗法を適用する。すなわち4主コイルの
発生磁界である祖母界分布を、最小2乗法を用いて均一
磁界成分Boとマグネットが有する多数のシムコイル関
数およびそれ以外の項で表わちこの時、任意点の磁界B
zは次式で表わせる。 Bz(x+y+z)−Bo+a+f++a2fg+−=
+anfn+Rn(x+Y+z)■にでf+、f2.・
・・、fnは各々シムコイルの磁界出力関数でありa+
、・・・ranは各々振幅を表わす。まりRnはn種の
シムコイル関数では表わせない残差である。また、祖母
界とはここでは補正前の磁界分布という意味で用いた。 各シムコイルを励磁すると0式は次式のように表わせる
。 Bz(x、y、z)=Bo+(a+f+−b+f+)+
(azf2−bzfz)i・・+(anfn bnfn
)ran(x+y+z)f1〜fn以外の誤差磁界成分
を表わしている。 各シムコイルの磁界出力bnf、を祖母界分布より得た
磁界anfn を完全に打消すように、すなわちa。−
bnとなるよう励磁電流を調整すると任意点の磁界は次
式のようになる。 Bz(x、y+z)−Bo+Rn(x+y、z)+1’
R’m(x+y+z) 0m”1 0式は、様々な原因により発生していた不均一磁界成分
中のシムコイル関数対応分が全て打ち消された均一度の
高い磁界分布が得られたことを表わしている。 ところで、非常に数多くのシムコイルを設置することは
実用的ではなく1通常紙次の不均一磁界成分をとり除く
ために10種類程度が用いられるが。 このような実用的な範囲内ではIRn D>l尿’m
lであり、シムコイルの磁界出力精度が磁界分布補正上
の問題となることはない。 測定領域内の残差の最小値Rn と最大値RT1は数値
的にめられているので、この特待られる磁界的均一度α
は次式のようにシムコイルによる磁界分布補正前に推定
できる。 2B。 上記の磁界高均一化の方法を第2図にフロー図として示
す。a◇は祖母界分布測定であり、Q2は祖母界分布の
0式を用いた多項式表示、aaは多項式表示(6)より
直ちに得ることができるシムコイル励磁電流決定、Q4
は決定されたシムコイル電流に従って行なわれるシムコ
イル励磁、(ト)は磁界分布の測定による磁界均一度の
確認、a・は磁界高均一化完了を表わす。また、シムコ
イル励磁電流決定(至)が行なわれた後の残留磁界成分
より磁界均一度の予想aηを行う。 祖母界分布測定σηは、複数の座標点において行い、点
測定とみなすことができる位の十分小さな領域内の磁界
を各座標点で測定した。測定した祖母界分布は、[F]
式のように多項式表示(6)とした。 補正に用いるシムコイルの種類をn種にあらかじめ定め
ることにより、fl〜fnの関数が具体的な変数で表わ
せる。全測定点に対しΣRAが最小となるようにQ I
””’ Q nを定め、■式のようにシムコイルを励
磁した場合について式で表わし、an−b、”0(n
” 1 + 2 +、 ”’ + n )となるように
b1〜bnを定め1シムコイル励磁電流決定餞を行い、
直ちにシムコイル励磁a4を実施した。シムコイルの励
磁出力により補正された磁界分布を測定することにより
磁界均一度確認(ト)を行う。シムコイルの励磁電流を
決定した際の残留磁界成分Rnの最大値および最小値よ
り磁界均一度αを0式のように予想することができたが
、このような磁界均一度の予想0ηと磁界均一度確認(
へ)との値を比較することにより、磁界補正の妥当性を
確認することができる。ただし。 本発明による磁界補正法の妥当性が実験的にも確認でき
た後においては、磁界均一度確認(へ)は必ずしも必要
ではなく、省略してもよい。 以下、この発明の一実施例を説明する。第8図において
ゆは直流粗磁界を発生する超電導主コイル、(至)はこ
の超電導主コイルにllが発生する祖母界分布を補正す
るための直流補正磁界を発生する超電導シムコイルであ
り1両コイルq@は超電導状態を維持するために液体ヘ
リウム(図示しない)中に浸漬冷却されている。四はあ
る座標点の磁界測定用のパルス照プローブであり、この
プローブはプローブ固定台(ハ)上に置かれ、プローブ
固定台は、超電導主コイル同のボア内の任意点にパルX
NMRプローブが移動できるように、プローブ移動装置
に)を備えている。パルスNMRプローブ(財)は高周
波送受信回路(至)に接続されており、I10バス鋤を
介してコンピュータ(2)に接続されている。またI/
Qバス四を介してシムコイル励磁電源に)が接続され、
シムコイル励磁電源に)の直流出力端子は超電導シムコ
イル(財)と接続されている。また、プローブ移動装置
に)はI/QパスC1,)を介してコンピュータと接続
されている。同図中に座標軸(x+y+z)を示した。 超電導主コイルなりがある座標点(Xi、 yl、 Z
])において発生している磁界は、その座標点におかれ
たパルスNMRプローブ(ハ)によって測定した。パル
ス調プローブ峙は、I10パス6υを通したコンピュー
タ(ハ)の指令によりプローブ移動装置(ハ)が稼動し
てプローブ固定台(ハ)を8次元的に動かすことにより
超電導主コイル(ハ)のボア内の任意点に移動すること
ができる。パルスNMRプローブに)は高周波送受信回
路(ホ)から、核磁気共鳴法を用いた磁界測定に必要な
高周波信号を受けてプローブ内サンプルに核磁気共鳴を
発生させ、この共鳴現象により発生した信号をまた高周
波送受信回路で受信して、信号処理を行った後にI10
バス(財)を通してコンピュータ(ハ)にそのデータを
入力する。コンピュータ(ハ)はプローブ移動装置に)
ともI10パスeDを通して接続されているので、コン
ピュータ(ハ)には磁界の測定された座標と、その座標
での磁界の値とが入力される。コンピュータ(ハ)の指
令によりパルス側プローブ(ハ)の位置を次々と変えて
、必要な座標点における磁界の測定を行い、これら全て
のデータをコンピュータ@に入力した。磁界の全測定が
終了した時点において、これら全測定データを用いてコ
ンピュータ(ハ)は回ちに超電導シムコイル(イ)が磁
界分布補正のために必要な補正磁界出力をめ、シムコイ
ル電源(7)をI10バス(ホ)を通して稼動させ超電
導シムコイル(ホ)にあらかじめめである磁界対電流の
換算値に従い通電し、補正磁界を発生させた。通常超電
導コイルは励消磁の時のみに電源を必要とする永久電流
モード方式マ運転され、そのため、永久電流スイッチと
呼ばれるヒータ付スイ゛ツチを液体ヘリウム中に設置し
、励消磁時のみにヒータに通電する。シムコイル電源(
1)にはこれらヒータ電源も含まれているが、ヒータに
通電が開始されるのは、コンピュータ(至)が超電導シ
ムコイル四の補正磁界出力、すなわち超電導シムコイ、
ル■への通電々流を導びき出した時点である。 この発明の実証試験を行うため、第4図の装置を用いた
。内直径1m、長さ1.86mの超電導主コイル?υと
、その外周上ニ10種類(ZO,Zl、 Z”、 Z”
。 X、 Y、 ZX、 ZY、NY、X”−Y2) ノ超
[導シム:Iイに@とを設置した。磁界補正実験は、中
心磁界を086Tとして実施した。座標軸(x+y+Z
)および主磁界成分Boを矢印で示した。原点を中心と
した0、8mの立方体を高均一化対象領域と定め、この
領域内の代表的な8面であるz−−0,15m 、 z
−0、zmo、15mの各面上の磁界分布を各々第5
図(a) 、 (b) 、 (cDに示した。測定点は
各軸50mm間隔で7点、立方体内で848点である。 各図共、主磁界上に重畳された不均一磁界成分のみ強調
している。シムコイル関数を変数とし、後記第1表のシ
ムコイルの磁界成分に基づいて最小2乗法計算を行った
結果次式%式% ) ( ) 0式を用い、各係数と絶対値等しく符号が逆の磁界を各
シムコイルを励磁することにより発生させた。ここでは
、磁界の高均一化が主目的であるので、0次の補正は行
なわなかった。従っての式にも0次項の補正は含めてい
ない。シムコイルへの通電々流に対する発生磁界は数値
計算によりあらかじめめてあり、この値に従って通電し
磁界補正を行った。パルスNMR法により測定した補正
後の磁界分布を第6図(a) (b) (c)に示す。 第5図に示した補正前出界分布と同一平面上の磁界分布
を示して両者の比較を容易にした。まず、補正効果を概
観してみるとシムコイルによる磁界分布の補正により不
均一磁界成分の振幅が減少し、また1分布曲線が凹凸に
変化し磁界勾配の正負符号が全体として平均化されてい
る事より磁界補正がほぼ最適であると推定できる◎ 次に数値計算結果と実験結果とを比較検討してみる。数
値計算による磁界均一度の推定値と補正実験から得られ
た値とを後記第2表に示した。第2表中、(1)はa翼
0.1m、(2)はa−〇、 2 m + (3]はa
ヰ0.8mの各立方体中での数値である。磁界分布補正
前の均一度に対し、同表に示す補正後の数値は十分小さ
く、効果的な磁界補正が行なわれていると考えられる。 但し、補正後均一度は実験値が推定値より悪い結果とな
っている。この原因はシムコイルの通電々流が実験値で
はなく理論出力を基にして決定され両者間に若干の違い
がある事と測定精度上の限界によるためであり、また、
シムコイル電流通電時の1%程度の設定誤差もその原因
と推定される。これら実験上の種々の誤差要因が取り除
かれれば、推定値と実験値は更によく一致するといえる
。シムコイルがどの程度有効に利用できたかを確認する
事は重要であるので、補正後の磁界分布を測定し、シム
コイル関数を用いた最小2乗法を適用して磁界補正結果
を判定した。後記第8表に最小2乗法により得た磁界分
布の表式中の各係数を示した。同表より、1次のシムコ
イルは数%まで不均一磁界成分を減じ、2次のシムコイ
ルではその値が数10%となり、8次のシムは補正に対
して効果的でないといえる。高次シムコイルはど超電シ
ムコイル(イ)を構成するコイル数が増し、電流設定が
困難となり、理論出力と実験値がずれやすいこと、又高
次成分はど電流設定のわずかな違いによる誤差が大きい
ため、精度よくシムコイル電流を調整することが困難と
なるためである。 なお、上記実施例では祖母界発生装置と補正磁界発生装
置とは共に超電導コイルである場合を示したが1両コイ
ルは常電導コイルであっても、永久磁石であってもよい
。また、超電導、常電導、永久磁石の8種の磁界発生源
中の複数種の組合せであってもよい。 また、上記実施例では、パルスNMR法による磁界測定
法を用いたが、 CWNMR法によってもよく。 あるいはホール素子による磁界測定法であってもよい。 また、上記実施例はコンピュータによる無人全自動測定
方式について示したが、全自動測定ではない方式もある
。すなわち、磁界分布の測定を行う際、記録用紙に各座
標点での磁界を記入し、このデータを磁界分布の多項式
表示のみを行うことを目的としてコンピュータに入力し
、出力として得たシムコイル補正電流値に従ってシムコ
イル電源を手動操作により励磁する方法である。このよ
うに手動操作又はオフラインでの操作が入る場合には、
磁界分布の多項式表示のみの機能があり、各装置の制御
機能のない能力の低いコンピュータでよく、高均一磁界
発生装置を安価にすることが可能である。 (発明の効果〕 以上のように、この発明によればシムコイルの出力を試
行錯誤的に決定することなく1回の磁界分布の測定によ
り直ちにコンピュータにより出力させるので、磁界高均
一化に必要な時間が大幅に短縮でき、超電導シムコイル
を用いた場合の液体ヘリウムの消費量もわずかでよい効
果がある。またシムコイルの種類が増しても磁界高均一
化に必要な時間はほとんど増加しない効果もある。 第 1 表 bo”” b会:定数 第1図は従来の磁界高均一化のためのフロー図。 第2図は本発明による磁界補正法のフロー図、第8図は
この発明の一実施例による高均一磁界発生装置の断面斜
視図、第4図はこの発明の方法を立証するための実験装
置の断面図、第5図(a) (b) (c)は立証実験
時の補正後m界分布を示す状態図、第6図(a) (b
) (c)は同じく補正後m界分布を示す状態図である
。 図中、?1し・m電導子コイル、(イ)・・・超電導シ
ムコイル、(財)・・・パルスNMRフローブ、りや・
・・プローブ固定台、(ハ)・・・プローブ移動装置、
(7)・a周波送受信回路、@・・・■10ハス、(ハ
)・・・コンピュータ、翰・・・I10バス、(7)・
・・シムコイル[lIi?f、、01)・・・I10ハ
ス。 なお1図中同一符号は同−又は相当部分を示す。 代理人 大岩増雄 第6図 第6図
Claims (1)
- (1)粗磁界発生装置と、この装置が発生する粗砥界分
布を測定する磁界測定装置、各装置を制御しかつ測定さ
れた磁界分布を計算処理する計算装置1補正磁界発生装
置とを備え磁界測定装置によって測定された粗砥界分布
を空間的に変化しない磁界成分と補正磁界発生装置の出
力関数成分とそれ以外の成分との8種類の成分に分け、
補正磁界発生装置の出力関数成分の振幅より補正磁界発
生装置が磁界高均一化のために発生すべき磁界出力値を
決定しこの磁界出力値を補正磁界発生装置により発生さ
せたことを特徴とする高均一磁界発生装置。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59046267A JPS60189905A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 高均一磁界発生装置 |
DE19853508332 DE3508332A1 (de) | 1984-03-09 | 1985-03-08 | Verfahren und vorrichtung zur erzeugung von besonders homogenen magnetfeldern |
GB08506000A GB2155642B (en) | 1984-03-09 | 1985-03-08 | Apparatus for generating highly homogeneous magnetic field |
US06/710,163 US4652826A (en) | 1984-03-09 | 1985-03-11 | Apparatus and process for generating a homogeneous magnetic field |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59046267A JPS60189905A (ja) | 1984-03-09 | 1984-03-09 | 高均一磁界発生装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60189905A true JPS60189905A (ja) | 1985-09-27 |
JPH0314213B2 JPH0314213B2 (ja) | 1991-02-26 |
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ID=12742440
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
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---|---|
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JP (1) | JPS60189905A (ja) |
DE (1) | DE3508332A1 (ja) |
GB (1) | GB2155642B (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6144375A (ja) * | 1984-08-08 | 1986-03-04 | Mitsubishi Electric Corp | 磁界測定装位置決め装置 |
JPS6198247A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-16 | ゼネラル・エレクトリツク・カンパニイ | 補正コイルを作動する方法 |
EP0374189A1 (en) * | 1987-08-14 | 1990-06-27 | Houston Area Research Center | Electromagnet and method of forming same |
JP2008086613A (ja) * | 2006-10-04 | 2008-04-17 | Hitachi Medical Corp | 磁気共鳴イメージング装置 |
JP2009216424A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Kobe Steel Ltd | 磁石位置測定方法および磁場測定装置 |
JP2011067516A (ja) * | 2009-09-28 | 2011-04-07 | Hitachi Medical Corp | 静磁場均一度調整方法、静磁場均一度測定治具、及び磁気共鳴イメージング装置 |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3511303A1 (de) * | 1985-03-28 | 1986-10-02 | Spectrospin AG, Fällanden, Zürich | Verfahren und vorrichtung zum homogenisieren des feldes einer magnetspule |
NL8502340A (nl) * | 1985-08-26 | 1987-03-16 | Philips Nv | Magnetisch resonantie apparaat met veld homogeniserende magnetische elementen. |
US4680551A (en) * | 1985-10-07 | 1987-07-14 | General Electric Company | Method for homogenizing a static magnetic field over an arbitrary volume |
EP0230027B1 (en) * | 1986-01-03 | 1995-08-30 | General Electric Company | Magnet shimming using information derived from chemical shift imaging |
US4740753A (en) * | 1986-01-03 | 1988-04-26 | General Electric Company | Magnet shimming using information derived from chemical shift imaging |
FR2598808B1 (fr) * | 1986-05-13 | 1993-09-17 | Thomson Cgr | Procede de reglage des correcteurs d'homogeneite du champ magnetique cree par un aimant |
GB2193578B (en) * | 1986-08-04 | 1989-12-20 | Picker Int Ltd | Electromagnet arrangements |
GB8619012D0 (en) * | 1986-08-04 | 1986-09-17 | Picker Int Ltd | Electromagnet arrangements |
DE3628161A1 (de) * | 1986-08-20 | 1988-02-25 | Spectrospin Ag | Vorrichtung zum kompensieren von zeitvarianten feldstoerungen in magnetfeldern |
JPS63109849A (ja) * | 1986-10-29 | 1988-05-14 | 株式会社日立メディコ | Nmrイメ−ジング装置 |
US4791371A (en) * | 1986-11-17 | 1988-12-13 | Memorial Hospital For Cancer And Allied Diseases | Apparatus useful in magnetic resonance imaging |
EP0272411B1 (en) * | 1986-12-03 | 1992-10-07 | General Electric Company | Passive shimming assembly and method of determining shim placement for mr magnet |
AU611231B2 (en) * | 1987-11-05 | 1991-06-06 | University Of Queensland, The | Magnetic field homogenization in nmr spectroscopy |
JPH01136645A (ja) * | 1987-11-25 | 1989-05-29 | Toshiba Corp | 磁気共鳴イメージング装置 |
US5023554A (en) * | 1989-05-22 | 1991-06-11 | The Reagents Of The University Of California | Fringe field MRI |
DE4210217C2 (de) * | 1992-03-28 | 1994-03-24 | Bruker Analytische Messtechnik | Verfahren zum Bau einer optimierten Magnetspulenanordnung |
DE4217496C2 (de) * | 1992-05-27 | 1994-06-16 | Bruker Analytische Messtechnik | Shim-Verfahren |
US5602480A (en) * | 1994-04-19 | 1997-02-11 | Hitachi Medical Corporation | Inspection method and apparatus using nuclear magnetic resonance |
WO1998002757A2 (en) * | 1996-07-12 | 1998-01-22 | Philips Electronics N.V. | Magnetic resonance apparatus |
EP1158307A1 (en) * | 2000-04-18 | 2001-11-28 | F.Hoffmann-La Roche Ag | Method for increasing the throughput of NMR spectrometers |
DE10104054C1 (de) * | 2001-01-31 | 2002-07-04 | Bruker Ag Faellanden | Magnetanordnung mit einem supraleitenden Magnetspulensystem und einer magnetischen Feldformvorrichtung für hochauflösende magnetische Resonanzspektroskopie und Verfahren zur Bestimmung von Fertigungstoleranzen der Feldformvorrichtung |
JP2003130937A (ja) * | 2001-10-24 | 2003-05-08 | Hitachi Ltd | 溶液用核磁気共鳴分析装置 |
US6844801B2 (en) * | 2003-03-21 | 2005-01-18 | Ge Medical Systems Global Technology Company, Llc | Methods and apparatus for adjusting center magnetic field of a magnetic field generator for MRI |
CN105664378B (zh) | 2009-07-15 | 2019-06-28 | 优瑞技术公司 | 用于使直线性加速器和磁共振成像设备彼此屏蔽的方法和装置 |
US8981779B2 (en) | 2011-12-13 | 2015-03-17 | Viewray Incorporated | Active resistive shimming fro MRI devices |
CA2888993A1 (en) | 2012-10-26 | 2014-05-01 | Viewray Incorporated | Assessment and improvement of treatment using imaging of physiological responses to radiation therapy |
US9446263B2 (en) | 2013-03-15 | 2016-09-20 | Viewray Technologies, Inc. | Systems and methods for linear accelerator radiotherapy with magnetic resonance imaging |
US10413751B2 (en) | 2016-03-02 | 2019-09-17 | Viewray Technologies, Inc. | Particle therapy with magnetic resonance imaging |
CN116036499A (zh) | 2017-12-06 | 2023-05-02 | 优瑞技术公司 | 多模态放射疗法的优化 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1135332A (en) * | 1966-03-07 | 1968-12-04 | Varian Associates | Apparatus for improving the uniformity of magnetic fields |
DE1798079C3 (de) * | 1967-08-21 | 1975-03-06 | Varian Associates, Palo Alto, Calif. (V.St.A.) | Verfahren zur Messung der gyromagnetischen Resonanz und zur Durchführung des Verfahrens geeignetes Spinresonanzspektrometer |
US4284950A (en) * | 1978-08-05 | 1981-08-18 | E M I Limited | Imaging systems |
US4535291A (en) * | 1982-08-09 | 1985-08-13 | Varian Associates, Inc. | Method for superconducting magnet shimming |
US4591789A (en) * | 1983-12-23 | 1986-05-27 | General Electric Company | Method for correcting image distortion due to gradient nonuniformity |
US4506247A (en) * | 1984-05-23 | 1985-03-19 | General Electric Company | Axisymmetric correction coil system for NMR magnets |
US4509030A (en) * | 1984-07-05 | 1985-04-02 | General Electric Company | Correction coil assembly for NMR magnets |
-
1984
- 1984-03-09 JP JP59046267A patent/JPS60189905A/ja active Granted
-
1985
- 1985-03-08 DE DE19853508332 patent/DE3508332A1/de not_active Ceased
- 1985-03-08 GB GB08506000A patent/GB2155642B/en not_active Expired
- 1985-03-11 US US06/710,163 patent/US4652826A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6144375A (ja) * | 1984-08-08 | 1986-03-04 | Mitsubishi Electric Corp | 磁界測定装位置決め装置 |
JPS6198247A (ja) * | 1984-10-19 | 1986-05-16 | ゼネラル・エレクトリツク・カンパニイ | 補正コイルを作動する方法 |
JPH0349256B2 (ja) * | 1984-10-19 | 1991-07-29 | Gen Electric | |
EP0374189A1 (en) * | 1987-08-14 | 1990-06-27 | Houston Area Research Center | Electromagnet and method of forming same |
JP2008086613A (ja) * | 2006-10-04 | 2008-04-17 | Hitachi Medical Corp | 磁気共鳴イメージング装置 |
JP2009216424A (ja) * | 2008-03-07 | 2009-09-24 | Kobe Steel Ltd | 磁石位置測定方法および磁場測定装置 |
JP2011067516A (ja) * | 2009-09-28 | 2011-04-07 | Hitachi Medical Corp | 静磁場均一度調整方法、静磁場均一度測定治具、及び磁気共鳴イメージング装置 |
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GB2155642A (en) | 1985-09-25 |
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