JPS6018816A - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JPS6018816A JPS6018816A JP58125763A JP12576383A JPS6018816A JP S6018816 A JPS6018816 A JP S6018816A JP 58125763 A JP58125763 A JP 58125763A JP 12576383 A JP12576383 A JP 12576383A JP S6018816 A JPS6018816 A JP S6018816A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- resin
- composition
- glass transition
- transition point
- magnetic
- Prior art date
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- Pending
Links
Classifications
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/735—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/73—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
- G11B5/735—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer
- G11B5/7356—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer comprising non-magnetic particles in the back layer, e.g. particles of TiO2, ZnO or SiO2
- G11B5/7358—Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer comprising non-magnetic particles in the back layer, e.g. particles of TiO2, ZnO or SiO2 specially adapted for achieving a specific property, e.g. average roughness [Ra]
Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録媒体に関し、更に詳細には、カールが
ほとんどなくかつ走行安定性に優れた磁性薄膜型磁気記
録媒体に関するものである。
ほとんどなくかつ走行安定性に優れた磁性薄膜型磁気記
録媒体に関するものである。
近年、磁気記録の高密度化の目的で、磁性薄膜型の磁気
記録媒体、即ち、非磁性支持体上に、電気メッキ、無電
解メッキ、真空蒸着、イオンシレーティング、ツノ４ツ
タリング等の方法によって鉄、コバルト、ニッケル等の
金属もしくはそれらの合金からなる磁性薄膜を被着形成
した磁気記録媒体が開発されている。
記録媒体、即ち、非磁性支持体上に、電気メッキ、無電
解メッキ、真空蒸着、イオンシレーティング、ツノ４ツ
タリング等の方法によって鉄、コバルト、ニッケル等の
金属もしくはそれらの合金からなる磁性薄膜を被着形成
した磁気記録媒体が開発されている。
例えばコバルト蒸着膜等の金属磁性薄膜を非磁性支持体
（例えばポリエチレンテレフタレート）上に真空蒸着、
イオンシレーティング、スパッタリング等で被着してな
る磁気記録媒体は高密度記録に適した特性を有する反面
、支持体と磁性薄膜との熱膨張係数及び弾性率が異なる
ために、磁性薄膜形成時に、該薄膜内部に発生する内部
応力により磁気記録媒体の巾方向に関して磁性面側を凹
とするカールが発生するという欠点を有する。また上記
の磁気記録媒体においては、支持体の平滑性が磁性薄膜
層の平滑性を直接左右して電磁変換特性に大きな影響を
及ぼすことから非常に平滑性のよい支持体を用いている
ため、支持体の摩擦係数が大きくて走行時に磁気テープ
がガイドローラ等に密着しやすく、その結果磁気テープ
ががイドローラ等に張りついた状態になってテープに伸
び変形をきたし、出力変動を増大するなどの欠点を有す
る。
（例えばポリエチレンテレフタレート）上に真空蒸着、
イオンシレーティング、スパッタリング等で被着してな
る磁気記録媒体は高密度記録に適した特性を有する反面
、支持体と磁性薄膜との熱膨張係数及び弾性率が異なる
ために、磁性薄膜形成時に、該薄膜内部に発生する内部
応力により磁気記録媒体の巾方向に関して磁性面側を凹
とするカールが発生するという欠点を有する。また上記
の磁気記録媒体においては、支持体の平滑性が磁性薄膜
層の平滑性を直接左右して電磁変換特性に大きな影響を
及ぼすことから非常に平滑性のよい支持体を用いている
ため、支持体の摩擦係数が大きくて走行時に磁気テープ
がガイドローラ等に密着しやすく、その結果磁気テープ
ががイドローラ等に張りついた状態になってテープに伸
び変形をきたし、出力変動を増大するなどの欠点を有す
る。
本発明は前述した如き欠点を大巾に改善または克服した
磁気記録媒体を提供することを目的とするものでおる。
磁気記録媒体を提供することを目的とするものでおる。
すなわち本発明は表面に強磁性金属薄膜が形成された非
磁性支持体の裏面に、ガラス転移点４５℃以上の樹脂４
０重量部〜７５重量部と軟化温度１２０℃以上の樹脂６
０重量部〜２５重量部よりなる樹脂組成物を主成分とす
るバックコート層を形成したことを特徴とする磁気記録
媒体に関するものである。
磁性支持体の裏面に、ガラス転移点４５℃以上の樹脂４
０重量部〜７５重量部と軟化温度１２０℃以上の樹脂６
０重量部〜２５重量部よりなる樹脂組成物を主成分とす
るバックコート層を形成したことを特徴とする磁気記録
媒体に関するものである。
本発明による・々ツクコート層はガラス転移点４５℃以
上の樹脂と軟化温度１２０℃以上の樹脂を必須の成分と
して含有するものであり、ガラス転移点４５℃以上の樹
脂により上記した磁気記録媒体のカールが改善され、ま
た軟化点１２０℃以上の樹脂により磁気記録媒体のブロ
ッキング（粘着）現象や耐摩耗性が改善される。
上の樹脂と軟化温度１２０℃以上の樹脂を必須の成分と
して含有するものであり、ガラス転移点４５℃以上の樹
脂により上記した磁気記録媒体のカールが改善され、ま
た軟化点１２０℃以上の樹脂により磁気記録媒体のブロ
ッキング（粘着）現象や耐摩耗性が改善される。
本発明に用いられるガラス転移点４５℃以上の樹脂とし
ては、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−
塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビ
ニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−アクリロニ
トリル共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリデ
ン共重合体、メタクリル酸エステル−スチレン共重合体
、Ｉリビニルブチラール、セルロース誘導体、ポリエス
テル樹脂等が挙げられる。
ては、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−
塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸エステル−塩化ビ
ニリデン共重合体、メタクリル酸エステル−アクリロニ
トリル共重合体、メタクリル酸エステル−塩化ビニリデ
ン共重合体、メタクリル酸エステル−スチレン共重合体
、Ｉリビニルブチラール、セルロース誘導体、ポリエス
テル樹脂等が挙げられる。
また本発明に用いられる軟化点１２０℃以上の樹脂とし
ては熱可塑性ポリウレタン樹脂が挙げられる。
ては熱可塑性ポリウレタン樹脂が挙げられる。
ガラス転移点４５℃以上の樹脂と軟化点１２０℃以上の
樹脂の配合比は、プラス転移点４５℃以上の樹脂：軟化
点１２０℃以上の樹脂で４０ ： ６０〜７５ ： ２
５であることが重要である。上記した配合比によシ本発
明の目的であるカール及び走行安定性の改善された磁気
記録媒体を得ることができる。
樹脂の配合比は、プラス転移点４５℃以上の樹脂：軟化
点１２０℃以上の樹脂で４０ ： ６０〜７５ ： ２
５であることが重要である。上記した配合比によシ本発
明の目的であるカール及び走行安定性の改善された磁気
記録媒体を得ることができる。
更に本発明によるバックコート層に多官能インシアネー
ト化合物等の硬化剤を添加してもよい。
ト化合物等の硬化剤を添加してもよい。
硬化剤の添加量としては本発明による樹脂組成物ｉｏｏ
重量部に対して５重量部〜３０重量部であるのが好まし
い。
重量部に対して５重量部〜３０重量部であるのが好まし
い。
本発明によるバックコート層に、更に針状非磁性無機顔
料あるいはモース硬度５．０以下の非磁性顔料を単独あ
るいは混合して添加することが好ましい。ノ４ツクコー
ト層中に前記の顔料が含有されると磁気記録媒体のカー
ルが充分に防止され、またバックコート層表面がより適
度に粗面化されて摩擦係数が一段と低下し、がイドロー
ラ等への張ｐつきも全くなくなって走行安定性が一段と
向上する。
料あるいはモース硬度５．０以下の非磁性顔料を単独あ
るいは混合して添加することが好ましい。ノ４ツクコー
ト層中に前記の顔料が含有されると磁気記録媒体のカー
ルが充分に防止され、またバックコート層表面がより適
度に粗面化されて摩擦係数が一段と低下し、がイドロー
ラ等への張ｐつきも全くなくなって走行安定性が一段と
向上する。
針状非磁性無機顔料としてはα−Ｆｅ２０３、ｌ’−タ
イト等が挙げられる。またモース硬度５．０以下の非磁
性顔料としては、Ｃａ■３粉末、ＭｇＯ粉末、ＢａＣＯ
３粉末、ＺｎＯ粉末、カオリン粉末、Ｃｕ２Ｏ粉末、Ｃ
ｕＯ粉末、Ｍｏ８２粉末等が挙げられる。これら非磁性
顔料の粒子径は０．０５μよシ小さいものを使用すると
ブロッキングを防止することができず、また１μより大
きいものを使用すると、巻回時強磁性金属薄膜層に凹凸
が転移し、出力変動等の原因となるため、０．０５μ〜
１μの範囲内のものを使用することが望ましい。
イト等が挙げられる。またモース硬度５．０以下の非磁
性顔料としては、Ｃａ■３粉末、ＭｇＯ粉末、ＢａＣＯ
３粉末、ＺｎＯ粉末、カオリン粉末、Ｃｕ２Ｏ粉末、Ｃ
ｕＯ粉末、Ｍｏ８２粉末等が挙げられる。これら非磁性
顔料の粒子径は０．０５μよシ小さいものを使用すると
ブロッキングを防止することができず、また１μより大
きいものを使用すると、巻回時強磁性金属薄膜層に凹凸
が転移し、出力変動等の原因となるため、０．０５μ〜
１μの範囲内のものを使用することが望ましい。
尚上記した無機顔料（Ｐ）と本発明に用いる樹脂組成物
（Ｂ）との重量比率Ｐ／Ｂは０．５〜３．０であるのが
好ましい。この配合比が０．５よシ少ないと顔料の充填
量が少ないためにカール防止効果が少なく、また配合比
が３．０を越えると樹脂が少ないので塗布層自体が弱く
なり、粉落ち等塗布層の耐久性が悪くなる。
（Ｂ）との重量比率Ｐ／Ｂは０．５〜３．０であるのが
好ましい。この配合比が０．５よシ少ないと顔料の充填
量が少ないためにカール防止効果が少なく、また配合比
が３．０を越えると樹脂が少ないので塗布層自体が弱く
なり、粉落ち等塗布層の耐久性が悪くなる。
また本発明によるバックコート層中に潤滑剤を添加する
ことが好ましい。バックコート層中に潤滑剤が含有され
ると、潤滑剤により潤滑性に富み、傷つきに＜＜、耐久
性に優れた磁気記録媒体が得られる。
ことが好ましい。バックコート層中に潤滑剤が含有され
ると、潤滑剤により潤滑性に富み、傷つきに＜＜、耐久
性に優れた磁気記録媒体が得られる。
本発明によるバックコート層中に用いられる潤滑剤とし
ては、炭素数が８〜２４の直鎖状の飽和もしくは不飽和
脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸金属塩、脂肪酸アミド
、リン酸エステル等が挙げられる。潤滑剤の添加量とし
ては本発明による樹脂組成物１００重量部に対して１重
量部〜１５重量部であるのが好ましい。添加量が多くな
シすざると、可塑化して粉落ちが増大し、また余シ少な
すぎると潤滑効果が発揮されなくなる虞れが生じる。
ては、炭素数が８〜２４の直鎖状の飽和もしくは不飽和
脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸金属塩、脂肪酸アミド
、リン酸エステル等が挙げられる。潤滑剤の添加量とし
ては本発明による樹脂組成物１００重量部に対して１重
量部〜１５重量部であるのが好ましい。添加量が多くな
シすざると、可塑化して粉落ちが増大し、また余シ少な
すぎると潤滑効果が発揮されなくなる虞れが生じる。
本発明による・々ツクコート層に用いる塗料は常法に従
って調製することができ、例えばシクロヘキサノン、ト
ルエン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ツメチルホ
ルムアミド、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン等の溶剤にガラス転移点４５℃以上の樹脂と軟化点
１２０℃以上の樹脂を所定割合で溶解させ、更に針状非
磁性無機顔料、モース硬度５．０以下の非磁性顔料ある
いは潤滑剤を添加し混合分散させることによシ得られる
。この塗料には、カーデンブラック等の帯電防止剤を約
１０〜１５０重量部になるように添加することもできる
し、また更にはその他の通常の添加剤も添加することが
可能である。このように調製された塗料は常法に従って
非磁性支持体上に所定の乾燥厚になるように塗布される
。
って調製することができ、例えばシクロヘキサノン、ト
ルエン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ツメチルホ
ルムアミド、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケ
トン等の溶剤にガラス転移点４５℃以上の樹脂と軟化点
１２０℃以上の樹脂を所定割合で溶解させ、更に針状非
磁性無機顔料、モース硬度５．０以下の非磁性顔料ある
いは潤滑剤を添加し混合分散させることによシ得られる
。この塗料には、カーデンブラック等の帯電防止剤を約
１０〜１５０重量部になるように添加することもできる
し、また更にはその他の通常の添加剤も添加することが
可能である。このように調製された塗料は常法に従って
非磁性支持体上に所定の乾燥厚になるように塗布される
。
本発明による磁気記録媒体のベースとなる非磁性支持体
は４〜２５μ厚程度が好ましく、材料としては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタ
レート等のプリエステル類；Ｉリエチレン、ポリプロピ
レン等のポリオレフィン類；セルローストリアセテート
、セルロースダイアセテート、セルロースアセテートブ
チレート、セルロースアセテートプロピ第４−）等のセ
ルロース誘導体；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン
等のビニル系樹脂；４リイミド、ポリアミド、ポリカー
？ネート等の樹脂フィルム、あるいは銅、アルミニウム
、亜鉛、酸化アルミ等の非磁性金属、ガラス、磁器、陶
器等のセラミックスなどが使用される。
は４〜２５μ厚程度が好ましく、材料としては、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタ
レート等のプリエステル類；Ｉリエチレン、ポリプロピ
レン等のポリオレフィン類；セルローストリアセテート
、セルロースダイアセテート、セルロースアセテートブ
チレート、セルロースアセテートプロピ第４−）等のセ
ルロース誘導体；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン
等のビニル系樹脂；４リイミド、ポリアミド、ポリカー
？ネート等の樹脂フィルム、あるいは銅、アルミニウム
、亜鉛、酸化アルミ等の非磁性金属、ガラス、磁器、陶
器等のセラミックスなどが使用される。
この非磁性支持体上には、めっき、蒸着、ス／？ツタリ
ング、イオンブレーティング等により、Ｆｅ、 Ｃｏ、
Ｃｏ−Ｎｉ、 Ｃｏ −Ｃｒ、 Ｆｅ−Ｎｉ等からな
る約５００〜２０００ ｌの金属強磁性薄膜が形成され
る。
ング、イオンブレーティング等により、Ｆｅ、 Ｃｏ、
Ｃｏ−Ｎｉ、 Ｃｏ −Ｃｒ、 Ｆｅ−Ｎｉ等からな
る約５００〜２０００ ｌの金属強磁性薄膜が形成され
る。
以下、実施例によυ本発明を説明する。
実施例１
厚さ１０μのポリエステルベースフィルムの一面に、高
周波加熱法によって蒸発させたＣｏを入射角６５°で、
１０−５〜１０−’ Ｔｏｒｒ （Ｄ真空に保持された
真空蒸着装置によって、蒸着膜の厚みが約３０００ Ｘ
になるように蒸着させた。このようにして得られた磁性
薄膜はＨｃが６０００ｅ 、 Ｒｓが９０％、Ｂｍが１
８００ガウスであった。
周波加熱法によって蒸発させたＣｏを入射角６５°で、
１０−５〜１０−’ Ｔｏｒｒ （Ｄ真空に保持された
真空蒸着装置によって、蒸着膜の厚みが約３０００ Ｘ
になるように蒸着させた。このようにして得られた磁性
薄膜はＨｃが６０００ｅ 、 Ｒｓが９０％、Ｂｍが１
８００ガウスであった。
このように磁性薄膜を形成させた非磁性ベースの反対側
の面に下記の組成を有する塗料を塗布した。
の面に下記の組成を有する塗料を塗布した。
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ５０（ガラス転移
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名 ＶＡＧＨＸ
ＶＣＣ社製） ・熱可塑性ポリウレタン樹脂 ５０ （ガラス転移点−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名
サンゾレンＬＯ８Ａ、三洋化成■社製）・メチルエチル
ケトン ３００ ａジメチルホルムアミド ６００ 上記組成物を♂−ルミルにて２０時間混練した後、前記
非磁性ベースの所定面に乾燥厚が１μになるようにグラ
ビアコーティングによってバックコート層を形成させた
。乾燥後巻き取って２４時間放置した。その後１．１／
２インチ巾にスリットしてサングルテープを作成した。
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名 ＶＡＧＨＸ
ＶＣＣ社製） ・熱可塑性ポリウレタン樹脂 ５０ （ガラス転移点−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名
サンゾレンＬＯ８Ａ、三洋化成■社製）・メチルエチル
ケトン ３００ ａジメチルホルムアミド ６００ 上記組成物を♂−ルミルにて２０時間混練した後、前記
非磁性ベースの所定面に乾燥厚が１μになるようにグラ
ビアコーティングによってバックコート層を形成させた
。乾燥後巻き取って２４時間放置した。その後１．１／
２インチ巾にスリットしてサングルテープを作成した。
実施例２
・ポリビニルゾチラール樹脂 ５０
（ガラス転移点４８℃、軟化温度約８０℃）（商品名Ｂ
ＬＳ、積水化学■社製） ・熱可塑性ポリウレタン樹脂 ５０ （ガラス転移点−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名
サン！レンＬＯ８Ａ、三洋化成物社製）・メチルエチル
ケトン ３００ ・ジメチルホルムアミド ６００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によシサンプルテーデを作成した。
ＬＳ、積水化学■社製） ・熱可塑性ポリウレタン樹脂 ５０ （ガラス転移点−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名
サン！レンＬＯ８Ａ、三洋化成物社製）・メチルエチル
ケトン ３００ ・ジメチルホルムアミド ６００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によシサンプルテーデを作成した。
実施例３
（商品名ＶＡＧＨ，ＶＣＣ社［）
・熱可塑性ポリウレタン樹脂 ５０
（ガラス転移点−４０℃、軟化温度１６０℃）（商品名
サンブレンＬＱ−９０９Ｌ、三洋（ｂ置床社製）・メチ
ルエチルケトン ３００ ・ジメチルホルムアミド ６００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によりサンプルテープを作成した。
サンブレンＬＱ−９０９Ｌ、三洋（ｂ置床社製）・メチ
ルエチルケトン ３００ ・ジメチルホルムアミド ６００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によりサンプルテープを作成した。
実施例４
組成 重量部
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ５０（ガラス転移
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名ＶＡＧＨ，Ｖ
ＣＣ社Ｉｆり ・熱可塑性ポリウレタン樹脂 ５０ （ガラス転移点−３８℃、軟化温度２１５℃）（商品名
サンブレンＬＱ−Ｘ３７Ｌ、三洋化成■社製）・メチル
エチルケトン ３００ ・ジメチルホルムアミド ６００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によりサンプルテープを作成した。
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名ＶＡＧＨ，Ｖ
ＣＣ社Ｉｆり ・熱可塑性ポリウレタン樹脂 ５０ （ガラス転移点−３８℃、軟化温度２１５℃）（商品名
サンブレンＬＱ−Ｘ３７Ｌ、三洋化成■社製）・メチル
エチルケトン ３００ ・ジメチルホルムアミド ６００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によりサンプルテープを作成した。
実施例５
組成 重量部
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ７０（ガラス転移
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名ＶＡＧＨ，Ｖ
ＣＣ社製） ・熱可塑性ポリウレタン樹脂 ３０ （ガラス転移点−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名
サングレンＬＯ８Ａ、三洋化成■社製）・メチルエチル
ケトン ３００ ・ジメチルホルムアミド ６００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によシサンプルテーノを作成した。
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名ＶＡＧＨ，Ｖ
ＣＣ社製） ・熱可塑性ポリウレタン樹脂 ３０ （ガラス転移点−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名
サングレンＬＯ８Ａ、三洋化成■社製）・メチルエチル
ケトン ３００ ・ジメチルホルムアミド ６００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によシサンプルテーノを作成した。
実施例６
実施例１の塗料組成物に更に硬化剤（商品名コロネート
Ｌ：日本ぼりウレタン■社製）を１０重量部添加した塗
料を用い、実施例１の工程によりサンプルテープを作成
した。
Ｌ：日本ぼりウレタン■社製）を１０重量部添加した塗
料を用い、実施例１の工程によりサンプルテープを作成
した。
実施例７
実施例１の塗料組成物に更に硬化剤（商品名コロネート
Ｌ：日本ポリウレタン■社製）を２０重量部添加した塗
料を用い、実施例１の工程によりサンプルテープを作成
した。
Ｌ：日本ポリウレタン■社製）を２０重量部添加した塗
料を用い、実施例１の工程によりサンプルテープを作成
した。
比較例１
・ポリエステル樹脂 ５０
（ガラス転移点３８℃、軟化温度約５０℃）（商品名パ
イロノナ２００１東洋紡績■社製）・熱可塑性ポリウレ
タン樹脂 ５０ （ガラス転移点−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名
サンゾレンＬＯ８ＡＸ三洋化成■社製）・メチルエチル
ケトン ３００ ・ジメチルホルムアミド ６００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によシサンプルテーゾを作成した。
イロノナ２００１東洋紡績■社製）・熱可塑性ポリウレ
タン樹脂 ５０ （ガラス転移点−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名
サンゾレンＬＯ８ＡＸ三洋化成■社製）・メチルエチル
ケトン ３００ ・ジメチルホルムアミド ６００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によシサンプルテーゾを作成した。
比較例２
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ５０（ガラス転移
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名ＶＡＧＨＸ
ＶＣＣ社ｆｆ） ０ポリビニルブチラール樹脂５０ （ガラス転移点４８℃、軟化温度約８０℃）（商品名Ｂ
ＬＳ、積水化学■社製） ・メチルエチルケトン ３００ ・ジメチルホルムアミド ６００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によりサンプルテープを作成した。
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名ＶＡＧＨＸ
ＶＣＣ社ｆｆ） ０ポリビニルブチラール樹脂５０ （ガラス転移点４８℃、軟化温度約８０℃）（商品名Ｂ
ＬＳ、積水化学■社製） ・メチルエチルケトン ３００ ・ジメチルホルムアミド ６００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によりサンプルテープを作成した。
比較例３
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ５０（ガラス転移
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名ＶＡＧＨ，Ｖ
ＣＣ社製） ６ポリエステル樹脂 ５０ （ガラス転移点３８℃、軟化温度約５０℃）（商品名Ｂ
ＬＳ、東洋紡績■社製） 拳メチルエチルγトン ３００ ・ツメチルホルムアミド ６００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によシサンプルテーゾを作成した。
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名ＶＡＧＨ，Ｖ
ＣＣ社製） ６ポリエステル樹脂 ５０ （ガラス転移点３８℃、軟化温度約５０℃）（商品名Ｂ
ＬＳ、東洋紡績■社製） 拳メチルエチルγトン ３００ ・ツメチルホルムアミド ６００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によシサンプルテーゾを作成した。
比較例４
（ガラス転移点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名
ＶＡＧＨＸ ＶＣＣ社製） ・熱可塑性ポリウレタン樹脂７０ （ガラス転移点−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名
サングレンＬＯ８Ａ、三洋化成■社製）・メチルエチル
ケトン ３００ ・ジメチルホルムアミド ６００ 上記組成物を・々ツクコート塗料に用い、実施例１と同
様の工程によりサンプルテープを作成した。
ＶＡＧＨＸ ＶＣＣ社製） ・熱可塑性ポリウレタン樹脂７０ （ガラス転移点−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名
サングレンＬＯ８Ａ、三洋化成■社製）・メチルエチル
ケトン ３００ ・ジメチルホルムアミド ６００ 上記組成物を・々ツクコート塗料に用い、実施例１と同
様の工程によりサンプルテープを作成した。
実施例１〜７及び比較例１〜４のサンプルテープにつき
、カールの有無、ブロッキングの有無、磁性薄膜面の摩
擦係数、表面粗さ、出力変動を測定した。表１にその結
果を示す。
、カールの有無、ブロッキングの有無、磁性薄膜面の摩
擦係数、表面粗さ、出力変動を測定した。表１にその結
果を示す。
表 １
上表より明らかなように、ガラス転移点４５℃以上の樹
脂４０重量部〜７５重量部と、軟化温度１２０℃以上の
樹脂６０重量部〜２５重量部よりなる樹脂組成物を主成
分とする・々ツクコート層を金属強磁性薄膜形磁気記録
媒体に形成することにより、カール及びブロッキングを
防止するととができる。
脂４０重量部〜７５重量部と、軟化温度１２０℃以上の
樹脂６０重量部〜２５重量部よりなる樹脂組成物を主成
分とする・々ツクコート層を金属強磁性薄膜形磁気記録
媒体に形成することにより、カール及びブロッキングを
防止するととができる。
実施例８
組成 重量部
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ６０（ガラス転移
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名ＶＡ、ＧＨ１
■ＣＣ社製） ・熱可塑性プリウレタン樹脂 ４０ （ガラス転移点−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名
サンブレンＬＯ８Ａ、三洋化成■社製）・ｃｌ −Ｆｅ
２Ｏ３（長軸約０．４μ、軸比５〜１０） ３００・メ
チルエチルケトン ５００ ・ツメチルホルムアミド １００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によシサンダルテーノを作成した。
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名ＶＡ、ＧＨ１
■ＣＣ社製） ・熱可塑性プリウレタン樹脂 ４０ （ガラス転移点−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名
サンブレンＬＯ８Ａ、三洋化成■社製）・ｃｌ −Ｆｅ
２Ｏ３（長軸約０．４μ、軸比５〜１０） ３００・メ
チルエチルケトン ５００ ・ツメチルホルムアミド １００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によシサンダルテーノを作成した。
実施例９
実施例８の組成物において、α−Ｆｅ２０３をゲーサイ
ト（長軸約０．４μ、軸比５〜１０）に置換した組成物
をバックコート塗料に用い、実施例１と同様の工程によ
シザンプルテープを作成した。
ト（長軸約０．４μ、軸比５〜１０）に置換した組成物
をバックコート塗料に用い、実施例１と同様の工程によ
シザンプルテープを作成した。
実施例１０
組成 重量部
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ５０（ガラス転移
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名ＶＡＧＨＸ
ＶＣＣ社製） ・熱可塑性ポリウレタン樹脂 ５０ （ガラス転移点−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名
サンブレンＬＯ８Ａ、三洋イ誠■社製）・ＺｎＯ粉末（
モース硬度４．５、平均粒子径０．３μ） ３００・メ
チルエチルケトン ５００ ・ジメチルホルムアミド １００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によシサンプルテーノを作成した。
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名ＶＡＧＨＸ
ＶＣＣ社製） ・熱可塑性ポリウレタン樹脂 ５０ （ガラス転移点−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名
サンブレンＬＯ８Ａ、三洋イ誠■社製）・ＺｎＯ粉末（
モース硬度４．５、平均粒子径０．３μ） ３００・メ
チルエチルケトン ５００ ・ジメチルホルムアミド １００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によシサンプルテーノを作成した。
実施例１１
実施例１０の組成物において、ＺｎＯ粉末をＣａｃｏ
３粉末（モース硬度４．０、平均粒子径０．３μ）に置
換した組成物を・々ツクコート塗料に用い、実施例１と
同様の工程によシサンプルテーノを作成した。
３粉末（モース硬度４．０、平均粒子径０．３μ）に置
換した組成物を・々ツクコート塗料に用い、実施例１と
同様の工程によシサンプルテーノを作成した。
実施例１２
実施例１０の組成物において、ＺｎＯ粉末をカオリン粉
末（モース硬度１〜２．５、平均粒子径０．３μ）に置
換した組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同
様の工程によりサンプルテープを作成した。
末（モース硬度１〜２．５、平均粒子径０．３μ）に置
換した組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同
様の工程によりサンプルテープを作成した。
実施例１３
実施例１０の組成物において、サンブレンＬＯ８Ａをサ
ンブレンＬＱ−９０９Ｌ （三洋化成■社製；ガラス転
移点〜４０℃、軟化温度１６０℃）に置換した組成物を
バックコート塗料に用い、実施例１と同様の工程により
サンプルテープを作成した。
ンブレンＬＱ−９０９Ｌ （三洋化成■社製；ガラス転
移点〜４０℃、軟化温度１６０℃）に置換した組成物を
バックコート塗料に用い、実施例１と同様の工程により
サンプルテープを作成した。
実施例１４
実施例１０の組成物において、サンブレンＬＯ８Ａをサ
ンブレンＬＱ−Ｘ３７Ｌ（三洋化成■社製；ガラス転移
点−３８℃、軟化温度２１５℃）に置換した組成物を・
９ツクコート塗料に用い、実施例１と同様の工程によシ
サンプルテーゾを作成した。
ンブレンＬＱ−Ｘ３７Ｌ（三洋化成■社製；ガラス転移
点−３８℃、軟化温度２１５℃）に置換した組成物を・
９ツクコート塗料に用い、実施例１と同様の工程によシ
サンプルテーゾを作成した。
実施例１５
組成 重量部
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ５０（ガラス転移
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名ｖＡＧＨ１ｖ
ＣＣ社製） ・熱可塑性／ ＩＪウレタン樹脂 ５０（ガラス転移点
−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名サンゾレンＬ
ＯＳ Ａ、三洋化成■社製）畢パルミチン酸 ５ ・メチルエチルケトン ３００ ・ジメチルホルムアミド ６００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によりサンプルテープを作成した。
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名ｖＡＧＨ１ｖ
ＣＣ社製） ・熱可塑性／ ＩＪウレタン樹脂 ５０（ガラス転移点
−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名サンゾレンＬ
ＯＳ Ａ、三洋化成■社製）畢パルミチン酸 ５ ・メチルエチルケトン ３００ ・ジメチルホルムアミド ６００ 上記組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によりサンプルテープを作成した。
実施例１６
実施例１５の組成物において、ノやルミチン酸をヘキシ
ルラウレートに置換した組成物を・々ツクコート塗料に
用い、実施例１と同様の工程によシサンプルテーゾを作
成した。
ルラウレートに置換した組成物を・々ツクコート塗料に
用い、実施例１と同様の工程によシサンプルテーゾを作
成した。
実施例１７
実施例１５の組成物において、ツヤルミチン酸を下記の
化学式で表わされるリン酸エステルに置換した組成物を
バックコート塗料に用い、実施例１と同様の工程により
サングルテープを作成した。
化学式で表わされるリン酸エステルに置換した組成物を
バックコート塗料に用い、実施例１と同様の工程により
サングルテープを作成した。
実施例１８
実施例１５の組成物において、パルミチン酸を脂肪酸ア
ミド（商品名アーマイドＨＴ、２５％のミリスチン酸ア
ミドと７５チのステアリン酸アミドの混合物）に置換し
た組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様の
工程により茗ンゾルテープを作成した。
ミド（商品名アーマイドＨＴ、２５％のミリスチン酸ア
ミドと７５チのステアリン酸アミドの混合物）に置換し
た組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様の
工程により茗ンゾルテープを作成した。
実施例１９
実施例１５の組成物において、パルミチン酸を下記の化
学式で表わされるフッ素含有脂肪酸エステルに置換した
組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様の工
程によりサングルテープを作成した。
学式で表わされるフッ素含有脂肪酸エステルに置換した
組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様の工
程によりサングルテープを作成した。
実施例２０
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ６０（ガラス転移
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名ＶＡＧＨ１Ｖ
ＣＣａ［） ・熱可塑性ポリウレタン樹脂 ４０ （ガラス転移点−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名
サンプレンＬＯ８Ａ、三洋化成■社製）・ｃｌ −Ｆｅ
２Ｏ３（長軸的０．４μ、軸比５〜１０） ３００・パ
ルミチン酸 ５ ・メチルエチルケトン ５００ 命ジメチルホルムアミド １００ 上記組成物をツクツクコート塗料に用い、実施例１と同
様の工程によりサングルテープを作成した。
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名ＶＡＧＨ１Ｖ
ＣＣａ［） ・熱可塑性ポリウレタン樹脂 ４０ （ガラス転移点−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名
サンプレンＬＯ８Ａ、三洋化成■社製）・ｃｌ −Ｆｅ
２Ｏ３（長軸的０．４μ、軸比５〜１０） ３００・パ
ルミチン酸 ５ ・メチルエチルケトン ５００ 命ジメチルホルムアミド １００ 上記組成物をツクツクコート塗料に用い、実施例１と同
様の工程によりサングルテープを作成した。
実施例２１
実施例２０の組成物において、ツクルミチン酸ヲヘキシ
ルラウレートに置換した組成物をツクツクコート塗料に
用い、実施例１の工程によりサングルテープを作成した
。
ルラウレートに置換した組成物をツクツクコート塗料に
用い、実施例１の工程によりサングルテープを作成した
。
実施例２２
実施例２０の組成物において、ツヤルミチン酸を下記の
化学式で表わされるリン酸エステルに置換した組成物を
・々ツクコート塗料に用い、実施例１と同様の工程によ
シサンプルテーノを作成した。
化学式で表わされるリン酸エステルに置換した組成物を
・々ツクコート塗料に用い、実施例１と同様の工程によ
シサンプルテーノを作成した。
実施例２３
実施例２０の組成物において、・ソルミチン酸を脂肪酸
アミド（商品名アーマイドＨＴ、 ２５％のミリスチン
酸アミドと７５％のステアリン酸アミドの混合物）に置
換した組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同
様の工程によシサンプルテーデを作成した。
アミド（商品名アーマイドＨＴ、 ２５％のミリスチン
酸アミドと７５％のステアリン酸アミドの混合物）に置
換した組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同
様の工程によシサンプルテーデを作成した。
実施例２４
実施例２０の組成物において、ツヤルミチン酸を下記の
化学式で表わされるフッ素含有脂肪酸エステル罠置換し
た組成物を・々ツクコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によシサンプルテーノを作成した。
化学式で表わされるフッ素含有脂肪酸エステル罠置換し
た組成物を・々ツクコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によシサンプルテーノを作成した。
実施例２５
・塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体 ５０（ガラス転移
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名ＶＡＧＨＸ
ＶＣＣ社製） ・熱可塑性ポリウレタン樹脂 ５０ （ガラス転移点−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名
サン！レンＬＯ８Ａ、三洋化成■社製）−ＺｎＯ粉末（
モース硬度４．５、平均粒子径０．３μ） ３００・パ
ルミチン酸 ５ ・メチルエチルケトン ５００ ０ジメチルホルムアミド １００ 上記組成物を・ぐツクコート塗料に用い、実施例１と同
様の工程によりサンプルテープを作成した。
点７５℃、軟化温度約１００℃）（商品名ＶＡＧＨＸ
ＶＣＣ社製） ・熱可塑性ポリウレタン樹脂 ５０ （ガラス転移点−４０℃、軟化温度１３０℃）（商品名
サン！レンＬＯ８Ａ、三洋化成■社製）−ＺｎＯ粉末（
モース硬度４．５、平均粒子径０．３μ） ３００・パ
ルミチン酸 ５ ・メチルエチルケトン ５００ ０ジメチルホルムアミド １００ 上記組成物を・ぐツクコート塗料に用い、実施例１と同
様の工程によりサンプルテープを作成した。
実施例２６
実施例２５の組成物において、ノ母ルミチン［−ヘキシ
ルラウレートに置換した組成物をバックコート塗料に用
い、実施例１の工程によりサンプルテープを作成した。
ルラウレートに置換した組成物をバックコート塗料に用
い、実施例１の工程によりサンプルテープを作成した。
実施例２７
実施例２５の組成物において、パルミチン酸を下記の化
学式で表わされるリン酸エステルに置換した組成物をバ
ックコート塗料に用い、実施例１と同様の工程によシサ
ンプルテーゾを作成した。
学式で表わされるリン酸エステルに置換した組成物をバ
ックコート塗料に用い、実施例１と同様の工程によシサ
ンプルテーゾを作成した。
実施例２８
実施例２５の組成物において、パルミチン酸を脂肪酸ア
ミド（商品名アーマイドＨＴ、 ２５％のミリスチン酸
アミドと７５チのステアリン酸アミドの混合物）に置換
した組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によシサンプルテープを作成した。
ミド（商品名アーマイドＨＴ、 ２５％のミリスチン酸
アミドと７５チのステアリン酸アミドの混合物）に置換
した組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によシサンプルテープを作成した。
実施例２９
実施例２５の組成物において、ノ９ルミチン酸を下記の
化学式で表わされるフッ素含有脂肪酸エステルに置換し
た組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様の
工程によシサンプルテープを作成した。
化学式で表わされるフッ素含有脂肪酸エステルに置換し
た組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様の
工程によシサンプルテープを作成した。
実施例３０
実施例２５の組成物において、ＺｎＯ粉末をＣａＣＯ３
粉末（モース硬度４．０、平均粒子径０．３μ）に置換
した組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によりサンプルテープを作成した。
粉末（モース硬度４．０、平均粒子径０．３μ）に置換
した組成物をバックコート塗料に用い、実施例１と同様
の工程によりサンプルテープを作成した。
実施例３１
実施例２５の組成物において、ＺｎＯ粉末をＣａ■３粉
末に、ノ臂ルミチン酸をフッ素含有脂肪酸エステルにそ
れぞれ置換した組成物を・々ツクコート塗料に用い、実
施例１と同様の工程によりサンプルテープな作成した。
末に、ノ臂ルミチン酸をフッ素含有脂肪酸エステルにそ
れぞれ置換した組成物を・々ツクコート塗料に用い、実
施例１と同様の工程によりサンプルテープな作成した。
実施例８〜３１のサンプルテープについてモ実流側１〜
７のサンプルテープと同様に特性を測定した。第２表に
その結果を示す。
７のサンプルテープと同様に特性を測定した。第２表に
その結果を示す。
表 ２
上表より明らかなようにガラス転移点４５℃以上の樹脂
と軟化点１２０℃以上の樹脂よりなる組成物に、更に針
状非磁性無機顔料、モース硬度５．０以下の非磁性顔料
、潤滑剤を添加することにより、磁気記録媒体の摩擦係
数及び表面粗度を適正化することができ、走行安定性及
び出力変動を改善することができる。
と軟化点１２０℃以上の樹脂よりなる組成物に、更に針
状非磁性無機顔料、モース硬度５．０以下の非磁性顔料
、潤滑剤を添加することにより、磁気記録媒体の摩擦係
数及び表面粗度を適正化することができ、走行安定性及
び出力変動を改善することができる。
本発明によれば、カール及びブロッキングがほとんどな
く、かつ走行安定性に優れた磁気記録媒体を得ることが
できる。
く、かつ走行安定性に優れた磁気記録媒体を得ることが
できる。
〈測定方法〉
・軟化温度
長さ５ｍ、厚さ０．２ｍ＋の乾燥フィルムを神木製作所
製微量融点測定器にて１分間に２℃昇温してフィルム長
片が融は出す温度を測定し、この温度を軟化温度とした
。
製微量融点測定器にて１分間に２℃昇温してフィルム長
片が融は出す温度を測定し、この温度を軟化温度とした
。
・ブロッキング
サンプルテーゾを５ＯＮＹ社製ＶＴＲにかけ約り０ｍ走
行させた後、６０℃、８０％の高温高湿中に２４時間放
置し、更に常温にて２４時間放置後、ブロッキングの有
無を判定した。
行させた後、６０℃、８０％の高温高湿中に２４時間放
置し、更に常温にて２４時間放置後、ブロッキングの有
無を判定した。
・摩擦係数
一端をテンションダージに結合しだサンゾルテーゾを０
．ＩＳのステンレス鋼製のドラムに摺動させ、サンゾル
テーゾに５０ｇの張力を付加した状態で往復動させた。
．ＩＳのステンレス鋼製のドラムに摺動させ、サンゾル
テーゾに５０ｇの張力を付加した状態で往復動させた。
サンプルテーゾのテープ巾は約１２．７瓢、走行速度は
１■／ｓｅｃである。まだ測定は４０℃、相対湿度８０
チの条件下で行なった。
１■／ｓｅｃである。まだ測定は４０℃、相対湿度８０
チの条件下で行なった。
・表面粗さ
触針式表面粗度計にて測定した。
・出力変動
サンプルテーゾをβ方式ビデオカセットに組み込み、β
方式ビデオテープレコーダーのオーディオトラックでの
７ＫＨｚにおける出力変動を測定した。
方式ビデオテープレコーダーのオーディオトラックでの
７ＫＨｚにおける出力変動を測定した。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、表面に強磁性金属薄膜層が形成された非磁性支持体
の裏面に、ガラス転移点４５℃以上の樹脂４０重量部〜
７５重量部と軟化温度１２０℃以上の樹脂６０重量部〜
２５重量部よシなる樹脂組成物を主成分とするバックコ
ート層を形成したことを特徴とする磁気記録媒体。 ２、上記バックコート層は針状非磁性無機顔料、モース
硬度５．０以下の非磁性顔料及び潤滑剤のうち少なくと
も一種を含有していることを特徴とする特許請求の範囲
第１項記載の磁気記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58125763A JPS6018816A (ja) | 1983-07-11 | 1983-07-11 | 磁気記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58125763A JPS6018816A (ja) | 1983-07-11 | 1983-07-11 | 磁気記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6018816A true JPS6018816A (ja) | 1985-01-30 |
Family
ID=14918215
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58125763A Pending JPS6018816A (ja) | 1983-07-11 | 1983-07-11 | 磁気記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6018816A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61286543A (ja) * | 1985-06-14 | 1986-12-17 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 舶用軸発電装置の出力制御装置 |
| JPS6262420A (ja) * | 1985-09-13 | 1987-03-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| JPS6472316A (en) * | 1987-09-12 | 1989-03-17 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
| EP0657876A1 (en) * | 1992-06-04 | 1995-06-14 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Magnetic recording medium comprising binder that may be cured using both isocyanate and radiation curing techniques |
| US5516394A (en) * | 1989-09-11 | 1996-05-14 | Eastman Kodak Company | Toner fixing method and receiving sheet |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57195323A (en) * | 1981-05-22 | 1982-12-01 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
| JPS57208635A (en) * | 1981-06-19 | 1982-12-21 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
-
1983
- 1983-07-11 JP JP58125763A patent/JPS6018816A/ja active Pending
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| JPS57195323A (en) * | 1981-05-22 | 1982-12-01 | Sony Corp | Magnetic recording medium |
| JPS57208635A (en) * | 1981-06-19 | 1982-12-21 | Tdk Corp | Magnetic recording medium |
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| JPH0577860B2 (ja) * | 1985-06-14 | 1993-10-27 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | |
| JPS6262420A (ja) * | 1985-09-13 | 1987-03-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体 |
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