JPS601827A - Ｃｖｄ装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はＣＶＤ装置に係り、特に排気系の構造に関する
ものである。

従来の炉芯管タイプのＣＶＤ装置は第１図に示すように
炉芯管ｌのまわシにヒーター２があり炉芯管１の端面が
Ｏ−リング３でシールされ排気管４とつながっている。

排気管４にはメイン・バルブ５、ブースター・ポンプ６
、油回転ポンプ７がある構造になっている。したがって
、ヒーター２で加熱された炉芯管１内に反応ガスを流し
メインバルブ５を開閉して、油回転ポンプ７ブースター
ポンプ６で真空引きする時、未反応ガスが炉芯管ｌより
排気の方へ多量に流れる。排気管４、メイン・バルブ５
などは通常常温であるため、未反応ガスの反応が高温時
のときとちがい留着性の悪い生成物がこれに付着する。

真空度の変化にともない、生成物が遊離してウェハー上
にパウダーとして付着したり、生成物によりメインバル
ブ５が完全にしまりきらない、ブースター・ポンプ６、
油回転ポンプ７の寿命低下するなどの問題を引き起こし
ていた。

本発明はこれらの欠点を除去するため炉芯管とメイン・
バルブとの間に加熱型トラップを設は未反応ガスの反応
が炉芯管内と同じ状態でおこなわれるようにし密着性の
よい生成物として、トラップ出来るようにしたものであ
る。

以下図面について説明する。第２図は本発明の実施例で
あって、９は加熱型トラップ、ＩＯはヒーター、１１は
伝熱板、１２は伝熱板１１と接触している放熱板である
。第３図（ａｌ　、　（ｂｌは各々放熱板１２の形状例
であって第３図（ａｌのものは伝熱板１１より出された
足により中央に放熱板を設けたもの、第３図（ｂｌは伝
熱板１１の内面に接触するフィルターを放熱板として設
けたものである。

このような構造になっているので、ヒーター１０で加熱
された伝熱板１１の熱は放熱板１２に伝わシ、未反応ガ
スが９の加熱型トラップに入ると。

放熱板１２にぶつかりここで炉芯管ｌ内と同じ反応をす
げやく起し、密着性の良い生成物として、未反応ガスを
トラップすることが出来るものであるＯ 以上説明したように本発明の加熱型トラップを使用する
ことにより、ウェハーに付着するパーティクルが少なく
なり、メイン・バルブ、ブースター・ポンプ油回転ポン
プの寿命を伸ばすことが出来、装置の稼動率、ウェハー
の歩留を著しく向上させるものである。

なお、本実施例は炉芯管タイプのＣＶＤ装置の場合であ
るが常圧式、減圧式等のＣＶＤ装置においても同様の効
果が得られることは明らかである。

【図面の簡単な説明】

第１図は従来の炉芯管タイプのＣＶＤ装置の一部を示す
断面図、第２図は本発明の実施例のＣＶＤ装置の一部を
示す断面図、第３図（ａｌ　、　（ｂｌは各々本発明の
放熱板の形状を示す図である。 尚、図において、ｌ・・・・・・炉芯管、２．１０・・
・・・・ヒーター、３・・・・・・０−リング、４・・
・・・・排気管、５・・・・・・メイン・バルブ、６・
・・・・・ブースター・ポンプ、７・・・・・・油回転
ポンプ、８・・・・・・未反応ガスの密接性の悪い生成
物、９・・・・・・加熱型トラップ、１１・・・・・・
伝熱板、１２・・・・・・放熱板、である。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ヒーターの回りに伝熱板と該伝熱板に接触する放熱板と
   をもうけた加熱型トラップを有することを特徴とするＣ
   ＶＤ装置。