JPS60182426A - 光偏向器 - Google Patents
光偏向器Info
- Publication number
- JPS60182426A JPS60182426A JP3893884A JP3893884A JPS60182426A JP S60182426 A JPS60182426 A JP S60182426A JP 3893884 A JP3893884 A JP 3893884A JP 3893884 A JP3893884 A JP 3893884A JP S60182426 A JPS60182426 A JP S60182426A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- surface acoustic
- substrate
- optical deflector
- reflected
- saw
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/29—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the position or the direction of light beams, i.e. deflection
- G02F1/33—Acousto-optical deflection devices
- G02F1/335—Acousto-optical deflection devices having an optical waveguide structure
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
発明の背景
この発明は、弾性表面波による光ビームのブラッグ回折
現象を利用した光偏向器に関する。
現象を利用した光偏向器に関する。
弾性表面波（以下ＳＡＷという）か音響光学結晶基板表
面上を伝播することは基板表面の屈折率が場所的に周期
的に変化することを意味する。したがって、ＳＡＷの波
面に対してブラッグ角θで入射する光には回折か生じ、
この光は２θの角度だけ偏向される。ＳＡＷによる光の
ブラッグ回折の条件は次の通りである。
面上を伝播することは基板表面の屈折率が場所的に周期
的に変化することを意味する。したがって、ＳＡＷの波
面に対してブラッグ角θで入射する光には回折か生じ、
この光は２θの角度だけ偏向される。ＳＡＷによる光の
ブラッグ回折の条件は次の通りである。
ここで λ：先の波長
Ａ：ＳＡＷの周期
このようなＳＡＷによる光のブラッグ回折を利用した光
偏向器は知られている。この光偏向器においては、音響
光学基板上に光導波層か形成されるとともに、所定位置
にＳＡＷ発生手段としてのインターディジタル−トラン
スデユーサ（以下ＩＤＴという）が設けられる。そして
ＩＤ４から発生するＳＡＷの伝播方向に対してブラッグ
回折条件を満足する角度で伝播する光ビームが光導波層
に入射される。
偏向器は知られている。この光偏向器においては、音響
光学基板上に光導波層か形成されるとともに、所定位置
にＳＡＷ発生手段としてのインターディジタル−トラン
スデユーサ（以下ＩＤＴという）が設けられる。そして
ＩＤ４から発生するＳＡＷの伝播方向に対してブラッグ
回折条件を満足する角度で伝播する光ビームが光導波層
に入射される。
ＩＤＴからは反対方向に伝播する２つのＳＡＷか発生す
る。にもかかわらず、従来の光偏向器においては一方の
ＳＡＷしか光の偏向のために利用されていなかった。
る。にもかかわらず、従来の光偏向器においては一方の
ＳＡＷしか光の偏向のために利用されていなかった。
発明の概要
この発明は、ＩＤＴから発生する２つのＳＡＷを光の偏
向のために利用し、もって大きな偏向角を得ることので
きる光偏向器を提供するものである。
向のために利用し、もって大きな偏向角を得ることので
きる光偏向器を提供するものである。
この発明による光偏向器は、反対方向に伝播する第１お
よび第２のＳＡＷを発生ずる１つのＩＤＴと、少なくと
も２つのＳＡＷ反射手段とか基板上に設けられ、ＳＡＷ
反射手段は、両ＳＡＷの伝播方向が、第１のＳＡＷによ
ってブラッグ回折された光ビームが第２のＳＡＷとブラ
ッグ回折条件を満足するような方向となるように、少な
くともいずれか一方のＳＡＷを反射させる配置であるこ
とを特徴とする。ＳＡＷ反射手段には、基板上に形成さ
れた溝、グレーティング反射器などかある。グレーティ
ング反射器は基板上にイオン番ビーム書エツチングなと
により形成することか可能である。また、基板へ＋ のＴｉ 等の熱拡散、Ｈｅ イオン注入などにより形成
された屈折率変化の周期構造もグレーティング反射器の
概念に含まれるものとする。
よび第２のＳＡＷを発生ずる１つのＩＤＴと、少なくと
も２つのＳＡＷ反射手段とか基板上に設けられ、ＳＡＷ
反射手段は、両ＳＡＷの伝播方向が、第１のＳＡＷによ
ってブラッグ回折された光ビームが第２のＳＡＷとブラ
ッグ回折条件を満足するような方向となるように、少な
くともいずれか一方のＳＡＷを反射させる配置であるこ
とを特徴とする。ＳＡＷ反射手段には、基板上に形成さ
れた溝、グレーティング反射器などかある。グレーティ
ング反射器は基板上にイオン番ビーム書エツチングなと
により形成することか可能である。また、基板へ＋ のＴｉ 等の熱拡散、Ｈｅ イオン注入などにより形成
された屈折率変化の周期構造もグレーティング反射器の
概念に含まれるものとする。
この発明の光偏向器によると、１つのＩＤＴから発生す
る２つのＳＡＷによって光ビームか２回偏向される。し
たかつて、偏向角を２倍とすることか可能である。ＩＤ
Ｔに印加する高周波信号のパワーを増大させる必要は全
くない。
る２つのＳＡＷによって光ビームか２回偏向される。し
たかつて、偏向角を２倍とすることか可能である。ＩＤ
Ｔに印加する高周波信号のパワーを増大させる必要は全
くない。
ＩＤＴは１個ですむからＩＤＴの作製工程を復雑にする
こともない。
こともない。
実施例の説明
第１図において、ＬｉＮｂＯ３結晶等の音響光学基板０
０）上にＴｉ等を熱拡散することにより、基板（１０）
よりも屈折率の高い光導波層（１］）か形成されている
。この基板００）上の一部に、マスキングを併用した金
属（たとえはＡＪ）の蒸着またはスパッタリングにより
ＩＤＴ口２か形成されている。よりＴｑ２１は、よく知
られているように、互いに平行な多数の電極か交互に接
続されることにより構成されている。このＩ Ｄ Ｔ
ｔ１２１には高周波信号発生器（１３）から高周波信号
か印加される。
０）上にＴｉ等を熱拡散することにより、基板（１０）
よりも屈折率の高い光導波層（１］）か形成されている
。この基板００）上の一部に、マスキングを併用した金
属（たとえはＡＪ）の蒸着またはスパッタリングにより
ＩＤＴ口２か形成されている。よりＴｑ２１は、よく知
られているように、互いに平行な多数の電極か交互に接
続されることにより構成されている。このＩ Ｄ Ｔ
ｔ１２１には高周波信号発生器（１３）から高周波信号
か印加される。
このことにより、ＩＤＴ（１２＋からはＳＡＷか発生し
、ＩＤＴｕ２＋の電極と直交する２方向に伝播していく
。反対方向に伝播するこれらのＳＡＷをツレぞれｓＡｗ
ｌ、５ＡＷ２とする。
、ＩＤＴｕ２＋の電極と直交する２方向に伝播していく
。反対方向に伝播するこれらのＳＡＷをツレぞれｓＡｗ
ｌ、５ＡＷ２とする。
ＩＤＴ（１２１から発生したＳ Ａ、Ｗ ｌ、５ＡＷ２
（７）伝播経路上において、基板Ｏ■にはＳＡＷの反射
手段である溝ｔ２＋１ ＠かそれぞれ形成されている。
（７）伝播経路上において、基板Ｏ■にはＳＡＷの反射
手段である溝ｔ２＋１ ＠かそれぞれ形成されている。
反射溝０１） ｔ２２＋は、たとえばイオンビーム加工
、レーザ加工等により形成される。反射１０１） ＠の
内側面は反射面となるから、ＳＡＷの乱反射を防き効率
のよい反射を確保するために、滑らかにしておくとよい
。また反射ｉ （２＋） Ｅの深さはＳＡＷの波長（周
期）Δを用いて２Ａ程度で充分である。
、レーザ加工等により形成される。反射１０１） ＠の
内側面は反射面となるから、ＳＡＷの乱反射を防き効率
のよい反射を確保するために、滑らかにしておくとよい
。また反射ｉ （２＋） Ｅの深さはＳＡＷの波長（周
期）Δを用いて２Ａ程度で充分である。
反射溝０１）（社）によって５ＡＷ１．５ＡＷ２かそれ
ぞれ反射され、５ＡＷ３．５ＡＷ４として基板００）の
中央部の方に伝播していく。基板０α上の光導波層（１
１１内には、適当な光結合手段によって光ビーム（Ｂ）
が入射される。光ビームＣＢ）の入射方向、反射溝２１
＋ Ｅの配置は次のように定められている。入射ビーム
（Ｂ）と反射溝（２１＋で反射した５ＡＷ３とかブラッ
グ回折条件を満足する。これにより入射光ビーム（Ｂ）
は５ＡＷ３によって回折され、角度２θだけ偏向される
。この回折された光ビーム（Ｂ１）と反射溝ｃ！２）で
反射した５ＡＷ４とかブラッグ回折条件を満足する。こ
れにより、光ビーム（Ｂ１）はさらに角度２θだけ回折
される。
ぞれ反射され、５ＡＷ３．５ＡＷ４として基板００）の
中央部の方に伝播していく。基板０α上の光導波層（１
１１内には、適当な光結合手段によって光ビーム（Ｂ）
が入射される。光ビームＣＢ）の入射方向、反射溝２１
＋ Ｅの配置は次のように定められている。入射ビーム
（Ｂ）と反射溝（２１＋で反射した５ＡＷ３とかブラッ
グ回折条件を満足する。これにより入射光ビーム（Ｂ）
は５ＡＷ３によって回折され、角度２θだけ偏向される
。この回折された光ビーム（Ｂ１）と反射溝ｃ！２）で
反射した５ＡＷ４とかブラッグ回折条件を満足する。こ
れにより、光ビーム（Ｂ１）はさらに角度２θだけ回折
される。
以上のようにして、最終的に得られる回折光ビーム（Ｂ
２）は入射光ビーム（Ｂ）に対して角度４θ偏向された
ことになる。この偏向角は従来の光偏向器の偏向角の２
倍である。
２）は入射光ビーム（Ｂ）に対して角度４θ偏向された
ことになる。この偏向角は従来の光偏向器の偏向角の２
倍である。
ＩＤＴｕ２］を第１図に図示の位置ではなく、入射ビー
ム（Ｂ）の偏向位置と反射溝（２＋１との間の位置（（
５）で示す）、および回折光ビーム（Ｂ１）の偏向位置
を反射ａ （２２１との間の位置（（Ｃ＞で示す）に配
置することも可能である。
ム（Ｂ）の偏向位置と反射溝（２＋１との間の位置（（
５）で示す）、および回折光ビーム（Ｂ１）の偏向位置
を反射ａ （２２１との間の位置（（Ｃ＞で示す）に配
置することも可能である。
入射光ビームＣＢ）は光導波層０１）内を伝播する過程
でしだいに広がっていく。したかつて、すべての光がＳ
ＡＷとブラッグ回折条件を満足することはなく、光ビー
ムの広がりに応じて偏向効率か低下する。そこで第２図
に示すように、反射ｆｉｌ （２１１に代えて、５ＡＷ
Ｉに対して凸弧面の内側面をもつ反射溝〃を形成すると
よい。この場合には、反射溝の）によって反射された５
ＡＷ３は扇形状に広がるので、多くの光か５ＡＷ３とブ
ラン Ｌ
でしだいに広がっていく。したかつて、すべての光がＳ
ＡＷとブラッグ回折条件を満足することはなく、光ビー
ムの広がりに応じて偏向効率か低下する。そこで第２図
に示すように、反射ｆｉｌ （２１１に代えて、５ＡＷ
Ｉに対して凸弧面の内側面をもつ反射溝〃を形成すると
よい。この場合には、反射溝の）によって反射された５
ＡＷ３は扇形状に広がるので、多くの光か５ＡＷ３とブ
ラン Ｌ
Claims (5)
- （１）反対方向に伝播する第１および第２の弾性表面波
を発生する１つのインターディジタル・トランスデユー
サと、少なくとも２つの弾性表面波反射手段とが基板上
に設けられ、弾性表面波反射手段は、両弾性表面波の伝
播方向か、第１の弾性表面波によってブラッグ回折され
た光ビームか第２の弾性表面波とブラッグ回折条件を満
足するような方向となるように、少なくともいずれか一
方の弾性表面波を反射させる配置である、光偏向器。 - （２） 弾性表面波反射手段が反射溝である、特許請求
の範囲第（１）項に記載の光偏向器。 - （３）反射溝が直線状に形成されている、特許請求の範
囲第（２）項に記載の光偏向器。 - （４）反射溝か弧状に形成されている、特許請求の範囲
第（２）項に記載の光偏向器。 - （５） 弾性表面波反射手段がグレーティング反射器で
ある、特許請求の範囲第（１）項に記載の光偏向器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3893884A JPS60182426A (ja) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | 光偏向器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3893884A JPS60182426A (ja) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | 光偏向器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60182426A true JPS60182426A (ja) | 1985-09-18 |
Family
ID=12539163
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3893884A Pending JPS60182426A (ja) | 1984-02-29 | 1984-02-29 | 光偏向器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60182426A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6885491B2 (en) | 2001-03-21 | 2005-04-26 | Carl-Zeiss-Stiftung (Trading As Carl Zeiss) | Diffraction-optical component, illumination system and exposure system comprising such a diffraction-optical component as well as an exposure method employing such an exposure system |
-
1984
- 1984-02-29 JP JP3893884A patent/JPS60182426A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6885491B2 (en) | 2001-03-21 | 2005-04-26 | Carl-Zeiss-Stiftung (Trading As Carl Zeiss) | Diffraction-optical component, illumination system and exposure system comprising such a diffraction-optical component as well as an exposure method employing such an exposure system |
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