JPS60174814A - 半導体用高純度シリコンの加工屑を用い溶銑又は溶鋼の昇熱に利用する法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は半導体用冒純度シリコンの成形加工の際発生
する切断粉、切断片２粒軟、は研謄粉を利用することを
特徴とする。

従来電気炉に於ける溶鋼の昇温には電極のアーク熱によ
り加熱昇温を行っている。又転炉製鋼に於ては溶銑（約
１２３０℃）から溶鋼への精錬過程に於て炉底又は炉の
上、下部よシ酸素ガスを吹込み浴銑中の含有炭素を酸化
燃焼して炭素量を下げ粗鋼とする。炭素の燃焼により当
然溶ｗＩは昇温するが次の理由で昇温不足である。即ち
粗鋼は更に次工程に移され、精錬されて目的の成品鋼材
となる。

しかし乍ら炭素の燃焼熱のみでは目的直置（約１６２０
℃）が得られず、補助剤としてＦｅ−８ｉ、金属アルミ
ニウム、炭素材或は之等の幾つかを組合せたものを造粒
加工したものを添加し、昇温して次精錬工程に移してい
る。

電子材料であるＳｉ半婢体の成形加工時発生する切断粉
等は廃棄物として処理されているのが現状である。しか
るに加工による材質の変化は々いから酸化発熱剤として
利用可能なことは明らかである。

この発明の主目的はこの廃棄物であるＳｉの酸化反応熱
を利用することである。

このＳｌ屑は高純度であり、形状は殆んどが粉状で粒度
は２０〜３０ミクロンである。したがって溶鋼中に噴射
した場合１反応速度が大で２発熱効率がよい。又転炉へ
の投入には造粒加工が必要で高比重の大々ることが望ま
しい。これは溶銑への混入をよりよくするためで、その
結果溶銑７７１４度が効率的に上昇する。

）（”！ｌ；　Ｌｌ：、市、を大ならしめるには金属鉄
粉層、酸化鉄粉等を用いる。又急速な加温を要求する場
合には金ＡＪ４アルミニウムの粉２粒の混合使用、或は
阻のｒｊ２化生酸生成物裏付けへの影響緩和には生石灰
。

ドロマイト等の塩基性酸化物を、又更に耐火物を保護し
たい場合は炭素質発熱剤と混合使用する等使用条件によ
って有効に利用可能である。

以上の様にこの発明は従来溶銑、溶鋼の昇温。

加熱には電気エネルギー或はＦｅ−８ｉ等高価な原料を
必要とした。而るに電子産業の発展に伴い半導体用シリ
コンの需要は益々大で、随って成形加工屑の発生も美大
である。これ等廃棄物を熱源として有効利用することは
製鋼原価の低減に稗益する。

４　実施例 Ａ）　’ｔｇ、気炉製鋼の場合 １）炉型式　：ニル−酸塩基性電気炉 １１）溶解量　；３０ｔ １１１）鋼　種　；炭素鋼・’ｃｏ、ｓ〜０．６％１■
）昇熱剤 ｂ）配合（重量割合） Ｓ１屑７０％ コークス　３０％ Ｃ）昇温結果 Ｂ）　転炉製鋼の場合 １）炉型式　；上、底吹 １１）　溶銑諺　；　ｚｓＢ　（平均）１１１）　鋼　
種　；粗鋼 ＩＶ）　昇熱ｈす ｂ）配合（ボー１ｔｉ−割合） ｓｉ　ｔｐｉ　６０％ Ａｔ　ノＩ−１５％ 鉄粉屑　３０％ ダイカルシウム シリケート　５％ Ｃ）造粒加工 ｉ）　ａ）配合のもの１トンに対しＣ，Ｍ、０２％水溶
液５％添加 １１）　粒形　豆炭穴 ｄ）　昇温結果

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 半導体用高純度シリコン（ｓｉ）　の切所加−工の際生
   じる粉２粒等の発生）ｆｔを用い、酸素をキャリ７ヤー
   ガスとして溶銑又は浴”ｊｊｉｄ中に噴射注入するか又
   はこれ等発生層を主成分として造オ加工４を行い溶銑、
   溶鋼中に投入しＳｌの酸化反応熱を利用、昇温すること
   を特徴とする。