JPS60173006U - 成膜状態の光学的監視装置 - Google Patents

成膜状態の光学的監視装置

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JPS60173006U
JPS60173006U JP6036884U JP6036884U JPS60173006U JP S60173006 U JPS60173006 U JP S60173006U JP 6036884 U JP6036884 U JP 6036884U JP 6036884 U JP6036884 U JP 6036884U JP S60173006 U JPS60173006 U JP S60173006U
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JP
Japan
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monitoring device
substrate
film formation
film
optical monitoring
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Pending
Application number
JP6036884U
Other languages
English (en)
Inventor
清一 高堂
Original Assignee
日本ビクター株式会社
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Filing date
Publication date
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Priority to JP6036884U priority Critical patent/JPS60173006U/ja
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Pending legal-status Critical Current

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  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第１図及び第２図はそれぞれ本考案の成膜状態の監視装
置の各人なる実施例の概略構成を示す側断面図、第３図
は従来の成膜状態の監視装置の一例の側断面図である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 真空雰囲気中で駆動回転される基板に、蒸着法あるいは
    スパッタリング法の適用によって所定の物質の薄膜を付
    着形成させる場合に、基板に付着形成される所定の物質
    の簿膜に照射した光の反射光を検出して基板上の成膜状
    態を監視するようになされている成膜状態の監視装置に
    おいて、基板上の成膜状態を監視するのに使用される光
    束の通路の一部として、真空雰囲気中で基板を駆動回転
    させるための回転軸の中空部分が用いられるようにして
    なる成膜状態の光学的監視装置。
JP6036884U 1984-04-24 1984-04-24 成膜状態の光学的監視装置 Pending JPS60173006U (ja)

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JPS60173006U true JPS60173006U (ja) 1985-11-16

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JP (1) JPS60173006U (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5189711B1 (ja) * 2012-02-15 2013-04-24 株式会社シンクロン 光学式膜厚計測装置及び光学式膜厚計測装置を用いた薄膜形成装置
JP2019196513A (ja) * 2018-05-08 2019-11-14 株式会社アルバック 成膜装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5189711B1 (ja) * 2012-02-15 2013-04-24 株式会社シンクロン 光学式膜厚計測装置及び光学式膜厚計測装置を用いた薄膜形成装置
JP2019196513A (ja) * 2018-05-08 2019-11-14 株式会社アルバック 成膜装置

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