JPS637161U - - Google Patents

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JPS637161U
JPS637161U JP9770786U JP9770786U JPS637161U JP S637161 U JPS637161 U JP S637161U JP 9770786 U JP9770786 U JP 9770786U JP 9770786 U JP9770786 U JP 9770786U JP S637161 U JPS637161 U JP S637161U
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substrate
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tilting
sectional
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JP9770786U
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  • Physical Vapour Deposition (AREA)

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【図面の簡単な説明】
第1図は本考案による要部のみを図示したスパ
ツタ装置の断面図、第2図は光デイスク基板又は
磁気デイスク基板等の記録膜被着面を示した断面
図、第3図は従来技術による要部のみを示したス
パツタ装置の断面図である。 1……真空容器、2……回転電極、3……基板
、4……ターゲツト、5……ターゲツト保持器、
6……ベローズ、7……可動保持器、8……記録
膜被着面。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 回転保持された基板と基板に対向するターゲツ
    トから成るスパツタ装置において、基板に対して
    ターゲツトを傾斜させ、その傾斜角を任意に変化
    させ得る傾斜機構を設けたことを特徴とするスパ
    ツタ装置。
JP9770786U 1986-06-27 1986-06-27 Pending JPS637161U (ja)

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JP9770786U JPS637161U (ja) 1986-06-27 1986-06-27

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JP9770786U JPS637161U (ja) 1986-06-27 1986-06-27

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JPS637161U true JPS637161U (ja) 1988-01-18

Family

ID=30964940

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9770786U Pending JPS637161U (ja) 1986-06-27 1986-06-27

Country Status (1)

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JP (1) JPS637161U (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4726704B2 (ja) * 2006-06-05 2011-07-20 株式会社アルバック スパッタ装置およびスパッタ方法

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4726704B2 (ja) * 2006-06-05 2011-07-20 株式会社アルバック スパッタ装置およびスパッタ方法

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