JPS6017169A - 布帛の処理方法および装置 - Google Patents
布帛の処理方法および装置Info
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- JPS6017169A JPS6017169A JP12359883A JP12359883A JPS6017169A JP S6017169 A JPS6017169 A JP S6017169A JP 12359883 A JP12359883 A JP 12359883A JP 12359883 A JP12359883 A JP 12359883A JP S6017169 A JPS6017169 A JP S6017169A
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- fabric
- treatment
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- processing
- low
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、浸漬性の悪い布帛に処理液を短時間で効率よ
く浸透させる方法及び装置に関するものである。さらに
詳しくは、液体の浸透性の悪い布帛にエアー・ツー・エ
アーで連続的に低温プラズマ処理を行う装置の布帛の導
出部に低圧系で直ちに処理できる処理液浸漬槽を設け、
布帛の低温プラズマ処理を行った後、空気中心こ取り出
すことなく低圧状態から直ちに処理液に連続的Ｇこ浸漬
する方法及びそのための装置に関するものである。
く浸透させる方法及び装置に関するものである。さらに
詳しくは、液体の浸透性の悪い布帛にエアー・ツー・エ
アーで連続的に低温プラズマ処理を行う装置の布帛の導
出部に低圧系で直ちに処理できる処理液浸漬槽を設け、
布帛の低温プラズマ処理を行った後、空気中心こ取り出
すことなく低圧状態から直ちに処理液に連続的Ｇこ浸漬
する方法及びそのための装置に関するものである。
従来から、浸漬性の悪い布帛Ｇこ処理ン夜を短ｌ寺間で
浸漬させるためには、布帛に浸漬り生をもたすための前
処理１例えば精練工程などを行ったり、浸透に必要な時
間を長くとったり、処理ン１ｋを昇温したり、あるいは
浸透をたすけるための漫透斉１（界面活性剤）を併用し
たりする方法力（一般ロタに番まｉテわれてきた。
浸漬させるためには、布帛に浸漬り生をもたすための前
処理１例えば精練工程などを行ったり、浸透に必要な時
間を長くとったり、処理ン１ｋを昇温したり、あるいは
浸透をたすけるための漫透斉１（界面活性剤）を併用し
たりする方法力（一般ロタに番まｉテわれてきた。
しかしながら、これらの方法に番ま次のような欠点があ
る。
る。
まず、布帛の精練工程を行うにしま楕に束、皇乞燥装置
及び水、精練助剤、昇温乾燥のためのエネルギーなどが
必要であり、当然のことな力くらコスト高になる。浸漬
時間を長（とることもよ、連続処理を行うには装置が大
きく、かつ複雑Ｇこなり、不＋１１′ごある。浸漬液を
昇温する方法では、その９Ｊｓ果Ｇこ限度がある。界面
活性剤を使用する方法にもその９１果に限度があり、ま
た併用した界面活４生斉１の残存により後工程に悪影響
をおよほすこともある。
及び水、精練助剤、昇温乾燥のためのエネルギーなどが
必要であり、当然のことな力くらコスト高になる。浸漬
時間を長（とることもよ、連続処理を行うには装置が大
きく、かつ複雑Ｇこなり、不＋１１′ごある。浸漬液を
昇温する方法では、その９Ｊｓ果Ｇこ限度がある。界面
活性剤を使用する方法にもその９１果に限度があり、ま
た併用した界面活４生斉１の残存により後工程に悪影響
をおよほすこともある。
本発明は、このような現状に鑑みて行われたもので、全
く新しい方法により浸透性の悪い布帛に処理液を短時間
で効率よく浸透させることのできる方法及びそのだめの
装置を得ることを目的とするものである。
く新しい方法により浸透性の悪い布帛に処理液を短時間
で効率よく浸透させることのできる方法及びそのだめの
装置を得ることを目的とするものである。
かかる目的を達成するため７本発明は次の構成を有する
ものである。
ものである。
ずなわら２本発明はＵ布帛を低温プラズマ雰囲気にて処
理した後、直ちに処理液に浸漬することを特徴とする布
帛の処理方法」及び［布帛の連続導入部と導出部を有し
、その間の布帛の走行面に高周波電極板とアース電極板
を相対峙して位置せしめてなる布帛の連続低温プラズマ
処理装置に。
理した後、直ちに処理液に浸漬することを特徴とする布
帛の処理方法」及び［布帛の連続導入部と導出部を有し
、その間の布帛の走行面に高周波電極板とアース電極板
を相対峙して位置せしめてなる布帛の連続低温プラズマ
処理装置に。
その布帛導出部に直結して処理液浸漬槽が設けられてな
ることを特徴とする布帛の処理装置」である。
ることを特徴とする布帛の処理装置」である。
以］Ｌ本発明について詳細に説明する。
本発明でいう布帛とは、素材に木綿、羊毛、絹ナトの天
然繊維や、ポリエステル、ナイロン、アクリル繊維など
の合成繊維を単独であるいは混用して用いた布帛で、処
理液特に水溶液などの浸透性の悪い布帛を意味し、さら
に詳しくは高密度の編織物、帆布、スソク地１毛布地な
との厚地織物のごとく布帛の構成が緻密なものや構成繊
維素拐自体が撥水性のあるもの２例えば木綿、羊毛なと
の天然繊維よりなる布帛あるいは撥水処理の施された布
帛なとを意味する。
然繊維や、ポリエステル、ナイロン、アクリル繊維など
の合成繊維を単独であるいは混用して用いた布帛で、処
理液特に水溶液などの浸透性の悪い布帛を意味し、さら
に詳しくは高密度の編織物、帆布、スソク地１毛布地な
との厚地織物のごとく布帛の構成が緻密なものや構成繊
維素拐自体が撥水性のあるもの２例えば木綿、羊毛なと
の天然繊維よりなる布帛あるいは撥水処理の施された布
帛なとを意味する。
また１本発明でいう処理液とは染料や樹脂加工剤等を水
に溶解又は分散させた液を意味する。
に溶解又は分散させた液を意味する。
本発明の装置は、その−例を第１図に側断面見取図で示
すごとく、布帛の低温プラズマ処理容器（４）の布帛の
導出部に処理液浸漬槽（９）が設けられてなる構造を有
している。布帛（１，１は入ロシー＝ルロール（２）を
通り、高周波電極板（７）とアース電極板（８）の間の
低温プラズマ処理ゾーン（３）に導かれ、ここで低温プ
ラズマ処理される。真空に保持できる低温プラズマ処理
容器（４）の入口シールロール（２）と出口シールロー
ル（８）の間には布帛と接触するものがないので、低温
プラズマ処理ゾーン（３）においては布帛（１゛）は真
空中（０，１〜１０Ｔｏｒｒ）を連続的にエアー ツー
エアーで挿通ずることができる。
すごとく、布帛の低温プラズマ処理容器（４）の布帛の
導出部に処理液浸漬槽（９）が設けられてなる構造を有
している。布帛（１，１は入ロシー＝ルロール（２）を
通り、高周波電極板（７）とアース電極板（８）の間の
低温プラズマ処理ゾーン（３）に導かれ、ここで低温プ
ラズマ処理される。真空に保持できる低温プラズマ処理
容器（４）の入口シールロール（２）と出口シールロー
ル（８）の間には布帛と接触するものがないので、低温
プラズマ処理ゾーン（３）においては布帛（１゛）は真
空中（０，１〜１０Ｔｏｒｒ）を連続的にエアー ツー
エアーで挿通ずることができる。
また、容器（４）には処理ガス導入口（５）及び排気口
（６）が設けられている。空気、酸素などの処理ガスは
導入口（５）より送られ、低温プラズマ処理ゾーン（３
）にて高周波印加により活性化されて低温プラズマとな
り、布帛（１”）の表面で反応する。反応ずみのガスは
、排気口（６）からこれに直結されている真空ポンプ（
図示せず）により外部に排出される。
（６）が設けられている。空気、酸素などの処理ガスは
導入口（５）より送られ、低温プラズマ処理ゾーン（３
）にて高周波印加により活性化されて低温プラズマとな
り、布帛（１”）の表面で反応する。反応ずみのガスは
、排気口（６）からこれに直結されている真空ポンプ（
図示せず）により外部に排出される。
容器（４）の内部の布帛（１°）の両面に設けられてい
る一対の電極板（７１（８１について、一方の電極（７
）は反応器（４）外に設備された高周波発振器（１シか
ら高周波が供給されるものであり、他方の電極（８）は
アースされている。
る一対の電極板（７１（８１について、一方の電極（７
）は反応器（４）外に設備された高周波発振器（１シか
ら高周波が供給されるものであり、他方の電極（８）は
アースされている。
プラズマ処理ゾーン（３）を通過した布帛（１”）は出
口シールロール（８）を通って、処理液浸漬槽（９）に
導かれる。
口シールロール（８）を通って、処理液浸漬槽（９）に
導かれる。
次いて、ガイトロール（１０） （１０’）を通って絞
りロール（１１）にて適当な付着量に絞られ１次の乾燥
又はスチーミングなど熱処理工程（図示せず）に送られ
る。
りロール（１１）にて適当な付着量に絞られ１次の乾燥
又はスチーミングなど熱処理工程（図示せず）に送られ
る。
出口シールロール（８）と処理液浸漬槽（９）の間は。
第１図のごとく連続していて布帛が減圧下で直ちに処理
液（１のに浸漬されるのが最もよいが、必ずしもその必
要はなく、処理条件によってはヘリウム。
液（１のに浸漬されるのが最もよいが、必ずしもその必
要はなく、処理条件によってはヘリウム。
アルゴンなどの不活性ガスを減圧下（５００Ｔｏｒｒ以
下）に保った状態で処理液（１９）の上部に入れること
もある。
下）に保った状態で処理液（１９）の上部に入れること
もある。
低温プラズマ処理に際しての容器（４）内の真空度は０
．１〜１０Ｔｏｒｒ、望ましくは０．５−２ Ｔｏｒｒ
が）否当である。また、低温プラズマ処理時の高周波の
周波数はＩ Ｋ１１２〜３０ＭＨｚの範囲で１中広く使
用可能であるが、使い易さ及び法的規制により５通常は
１３．５６ Ｍｌｌｚを使用する。
．１〜１０Ｔｏｒｒ、望ましくは０．５−２ Ｔｏｒｒ
が）否当である。また、低温プラズマ処理時の高周波の
周波数はＩ Ｋ１１２〜３０ＭＨｚの範囲で１中広く使
用可能であるが、使い易さ及び法的規制により５通常は
１３．５６ Ｍｌｌｚを使用する。
用いる高周波の出力は０．２〜１ Δ／ ｃ１程度が適
当である。
当である。
処理ガスの種類は酸素、空気など酸素を含有する気体が
よく、これらの気体の低圧（０，５〜２Ｔｏｒｒ）下で
一対の電極に高周波を印加すると電極間で上記気体の低
温プラズマが発生する。
よく、これらの気体の低圧（０，５〜２Ｔｏｒｒ）下で
一対の電極に高周波を印加すると電極間で上記気体の低
温プラズマが発生する。
この低温プラズマ雰囲気中に布帛を１０〜６０秒間通過
させることにより、布帛は内層までぬれ易さくウィッキ
ング性）が改良され、処理液の浸透が容易になるが１本
発明では前述のごとく低温プラズマ処理後、減圧下で直
ちに連続的に布帛が処理液に？ｉ ？４されるため、浸
漬に際しては布帛に含有されている空気などの気体の影
響が少ないこと。
させることにより、布帛は内層までぬれ易さくウィッキ
ング性）が改良され、処理液の浸透が容易になるが１本
発明では前述のごとく低温プラズマ処理後、減圧下で直
ちに連続的に布帛が処理液に？ｉ ？４されるため、浸
漬に際しては布帛に含有されている空気などの気体の影
響が少ないこと。
また布帛を構成している繊維表面が活性化されたままで
、樹脂などとの反応性に富むこと、繊維自体が加温状態
（１００〜１５０°Ｃ）になっていて、樹脂などとの反
応を促進することなど、浸透に有利な条件が相乗効果と
してあられれてくる。このような理由で、低温プラズマ
処理直後の布帛を連続的に処理液に浸ｄｊすると、処理
液は布帛に瞬間的に均一に浸透するので、短時間処理で
十分な浸透効果が得られる。
、樹脂などとの反応性に富むこと、繊維自体が加温状態
（１００〜１５０°Ｃ）になっていて、樹脂などとの反
応を促進することなど、浸透に有利な条件が相乗効果と
してあられれてくる。このような理由で、低温プラズマ
処理直後の布帛を連続的に処理液に浸ｄｊすると、処理
液は布帛に瞬間的に均一に浸透するので、短時間処理で
十分な浸透効果が得られる。
次に、実施例によって本発明の説明を行・うが。
本発明はこれに限定されるものではない。
実施例１
ナイロン８４０ｄを経糸、緯糸に使用したズック生地（
経糸密度８０本／吋、緯糸密度５２本／吋）を被加工布
帛として用意した。次に第１図に示す布帛の処理装置を
使用し、下記処理条件１にて３０秒間の低温プラズマで
処理（前処理）を上記布帛に連続的に行った後、減圧の
まま直ちに下記処方１の染料液に連続的に浸漬し、続い
て絞りマングルでピンクアップ量を６５％にコントロー
ルした後２スチーミングゾーンを通し、染料を固着させ
２次いで通常の条件にて水洗、乾燥を行った。
経糸密度８０本／吋、緯糸密度５２本／吋）を被加工布
帛として用意した。次に第１図に示す布帛の処理装置を
使用し、下記処理条件１にて３０秒間の低温プラズマで
処理（前処理）を上記布帛に連続的に行った後、減圧の
まま直ちに下記処方１の染料液に連続的に浸漬し、続い
て絞りマングルでピンクアップ量を６５％にコントロー
ルした後２スチーミングゾーンを通し、染料を固着させ
２次いで通常の条件にて水洗、乾燥を行った。
処理条件１
処理気体 空気
真空度 Ｉ Ｔｏｒｒ
高周波周波数 １３．５６ Ｍｌｌｚ
高周波出力 ０，６ Ｗ／ｃｄ
処方１
アシッド サイアニン ＩＪ ７％
尿 素 ２０ ｇ／β
アルギニン酸 １ ｇ／ρ
醋酸アンモニア Ｉｇ／Ａ
得られた染色物について評価したところ、従来上述の布
帛の生機を未精練でパ・ンデング染色した場合、染色液
浸透不良のため、染面不良であったが１本発明の方法で
行えば非常に均一で良好な染色物を得ることができた。
帛の生機を未精練でパ・ンデング染色した場合、染色液
浸透不良のため、染面不良であったが１本発明の方法で
行えば非常に均一で良好な染色物を得ることができた。
実施例２
木綿キャンプリンク生機（経糸１０ｓ／２緯糸１０ｓ／
１．経糸密度３８本／月緯糸密度４５本／吋）を被加工
布帛として用意した。
１．経糸密度３８本／月緯糸密度４５本／吋）を被加工
布帛として用意した。
次ぎに、第１図に示す布帛の処理装置を用いて下記処理
条件２にて６０秒間の低温プラズマ処理を上記布帛に連
続的に行った後、減圧のまま直ちに下記処方２の染料液
に連続的に浸漬し、続いて絞りローラーでピックアップ
７０％に絞り、以下通常の条件で発色（染料固着）、水
洗、乾燥を行った。
条件２にて６０秒間の低温プラズマ処理を上記布帛に連
続的に行った後、減圧のまま直ちに下記処方２の染料液
に連続的に浸漬し、続いて絞りローラーでピックアップ
７０％に絞り、以下通常の条件で発色（染料固着）、水
洗、乾燥を行った。
処理条件２
処理気体 酸素
真空度 １．５ Ｔｏ、ｒｒ
高周波周波数 １３．５６ Ｍｌｌｚ
高周詩出力 ０．４ １Ａ／ｃ請
処方２
Ｃｉｂａｃｒｏｎ ５ｃａｒｌｅｔ Ｐ−３Ｇ ３０
ｇ／ （１尿素 ５０ ｇ／ ｐ。
ｇ／ （１尿素 ５０ ｇ／ ｐ。
重ソウ １５ ｇ／ ｊ２
アルギン酸ソーダ Ｉｇ／ｊ！
アニオン系活性剤 １ ｇ／β
上記本発明の方法で行ったところ、染斑もなく良好な染
色物が得られたが、従来の方法、すなわち低温プラズマ
処理を行わず、単に染料液浸透後絞っただけでは、染料
液の浸透不良であり、良好な染色物は得られなかった。
色物が得られたが、従来の方法、すなわち低温プラズマ
処理を行わず、単に染料液浸透後絞っただけでは、染料
液の浸透不良であり、良好な染色物は得られなかった。
実施例３
ポリエステル／木綿（６５％／３５％混）６０Ｓ／１を
使用したフィル織物を通常の条件で染色及びシリコン撥
水仕上加工を行ったものについて、仕上工程後に色違い
が発見され、再染色（色直し）の必要性が生じた。
使用したフィル織物を通常の条件で染色及びシリコン撥
水仕上加工を行ったものについて、仕上工程後に色違い
が発見され、再染色（色直し）の必要性が生じた。
そこで、上記織物を被加工布帛とし、第１図に示す布帛
の処理装置を用いて、下記処理条件３にて６０秒間の低
温プラズマ処理を連続的に行ったあと、減圧のまま直ち
に下記処方３の染料液に連続的に浸漬し、絞った後は通
常の条件にて染料固着。
の処理装置を用いて、下記処理条件３にて６０秒間の低
温プラズマ処理を連続的に行ったあと、減圧のまま直ち
に下記処方３の染料液に連続的に浸漬し、絞った後は通
常の条件にて染料固着。
水洗、乾燥を行い１次いで撥水加工を行ったところ、な
んらトラブルなく１色直しをすることができた。
んらトラブルなく１色直しをすることができた。
処理条件３
処理気体 酸素
真空度 Ｉ Ｔｏｒｒ
高周波周波数 １３．５６ Ｍｌｌｚ
高周波出力 ０．６ Ｗ／ｃｄ
処方３
Ｋａｙａｌｏｎ Ｐｏ１ｙｅｓｔｅｒ Ｒｕｂｉｎｅ
３ＧＬ−３Ｏ，０３ｇ／ Ｅアルギン酸ソーダー １
ｇ／β 従来、撥水仕上加工品の再染色を行うには、撥水仕上織
物を酸性水溶液で２０分以上煮沸し、ｔａ水剤を除去し
た後、再染色する方法がとられていた。
３ＧＬ−３Ｏ，０３ｇ／ Ｅアルギン酸ソーダー １
ｇ／β 従来、撥水仕上加工品の再染色を行うには、撥水仕上織
物を酸性水溶液で２０分以上煮沸し、ｔａ水剤を除去し
た後、再染色する方法がとられていた。
しかしながら、この方法は工程費、ランニングコストが
高くつくのみならず、場合によっては撥水剤の除去とと
もに染料も若干除去され１色合せがさらに困難になった
。
高くつくのみならず、場合によっては撥水剤の除去とと
もに染料も若干除去され１色合せがさらに困難になった
。
また、撥水剤除去工程中、ｔａ水剤あるいは染料が斑状
に除去されると５ これの修正にさらに困難が加わった
。
に除去されると５ これの修正にさらに困難が加わった
。
しかしながら２本発明の装置及び方法を使用すると２色
直しが極めて容易に行えた。
直しが極めて容易に行えた。
第１図は１本発明の布帛の処理装置の一例を示ず側断面
図見取図である。 図中の（１１（１’）は布帛、（２）は布帛導入部の入
口シールロール、（４）は低温プラズマ処理容器、（７
）は高周波電極板、 ｔ＋７１はアース電極板、（８）
は布帛導出部の出口シールロール、（９）は処理液浸漬
槽、 ［＋９１は処理液、 ０２１は高周波発振器を示
す。 特許出願人 ユニチカ株式会社
図見取図である。 図中の（１１（１’）は布帛、（２）は布帛導入部の入
口シールロール、（４）は低温プラズマ処理容器、（７
）は高周波電極板、 ｔ＋７１はアース電極板、（８）
は布帛導出部の出口シールロール、（９）は処理液浸漬
槽、 ［＋９１は処理液、 ０２１は高周波発振器を示
す。 特許出願人 ユニチカ株式会社
Claims (2)
- （１）布帛を低温プラズマ雰囲気にて処理した後。 直ちに処理液に浸漬することを特徴とする布帛の処理方
法。 - （２）布帛の連続導入部と導出部を有し、その間の布帛
の走行面に高周波電極板とアース電極板を相対峙して位
置せしめてなる布帛の連続低温プラズマ処理装置に、そ
の布帛導出部に直結して処理液浸漬槽が設げられてなる
ことを特徴とする布帛の処理装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12359883A JPS6017169A (ja) | 1983-07-06 | 1983-07-06 | 布帛の処理方法および装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12359883A JPS6017169A (ja) | 1983-07-06 | 1983-07-06 | 布帛の処理方法および装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6017169A true JPS6017169A (ja) | 1985-01-29 |
Family
ID=14864573
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12359883A Pending JPS6017169A (ja) | 1983-07-06 | 1983-07-06 | 布帛の処理方法および装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6017169A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6461577A (en) * | 1987-08-27 | 1989-03-08 | Shiraimatsu Shinyaku Co | Durable deodorizing fiber material and its production |
| US5819350A (en) * | 1996-08-19 | 1998-10-13 | Wang; Chi-Hsiang | Process for continuously producing carbon fabric adsorbents and device therefor |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5887363A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-25 | ユニチカ株式会社 | 繊維製品の精練方法 |
-
1983
- 1983-07-06 JP JP12359883A patent/JPS6017169A/ja active Pending
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5887363A (ja) * | 1981-11-20 | 1983-05-25 | ユニチカ株式会社 | 繊維製品の精練方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6461577A (en) * | 1987-08-27 | 1989-03-08 | Shiraimatsu Shinyaku Co | Durable deodorizing fiber material and its production |
| US5819350A (en) * | 1996-08-19 | 1998-10-13 | Wang; Chi-Hsiang | Process for continuously producing carbon fabric adsorbents and device therefor |
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