JPS60171248A - 光学ガラスフアイバ用被覆材料の製造方法 - Google Patents

光学ガラスフアイバ用被覆材料の製造方法

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JPS60171248A
JPS60171248A JP59025649A JP2564984A JPS60171248A JP S60171248 A JPS60171248 A JP S60171248A JP 59025649 A JP59025649 A JP 59025649A JP 2564984 A JP2564984 A JP 2564984A JP S60171248 A JPS60171248 A JP S60171248A
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JP
Japan
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polybutadiene
compound
molecule
groups
hydrogenated
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Application number
JP59025649A
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English (en)
Inventor
Mitsuo Yoshihara
吉原 三男
Keichu Morikawa
森川 敬忠
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Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Electric Industrial Co Ltd
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  • Surface Treatment Of Glass Fibres Or Filaments (AREA)
  • Graft Or Block Polymers (AREA)
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  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 この発明は光伝送用の光学ガラスファイバを被覆するた
めの材料に関する。
光伝送用媒体として使用される光学ガラスファイバ(以
下、単に光ファイバと称する)は、通常その直径が20
0μm以下であり、また材質的に脆いため、その製造中
またはケーブル化の工程や保管中に表面に傷が発生しや
すく、この傷が応力集中源になり、外部から応力が加わ
った場合に容易に光ファイバが破断する欠点を有する。
この理由で光ファイバをそのまま光伝送用媒体として使
用することは極めて困難である。したがって、従来より
、光ファイバの表面にプラスチック被覆を行い、これに
より光フアイバ製造直後の初期強度の維持および長期使
用に耐える光ファイバの製造方法が試みられてきた。
このような樹脂被覆材料としては、従来シリコーン樹脂
、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂などの熱硬化性樹脂が用
いられているが、硬化乾燥に長時間を要するため生産性
に劣るばか硬化不足に起因して光ファイバとの密着性が
充分でなく長期信頼性に欠けるきらいがある。また、か
がる欠点を改善するものとして紫外線硬化型の樹脂被覆
材料が用いられているが、−IIに柔軟性に劣るためマ
イクロベンディングにより伝送特性が損なわれる欠点が
ある。
このため、この発明者らは、上記材料に代わるものとし
て、すでに、1分子中に2個以上の官能基を有する1・
4−ポリブタジェン類または゛これより誘導されて上記
ポリブタジェン類の、炭素−炭素二重結合とは異なる重
合性炭素−炭素二重結合が4人された変性ポリブタジェ
ン類を主材とした被覆材料を提案し、これによって乾燥
硬化時間の短縮や光ファイバとの密着性および被膜の柔
軟性の向上などを図るに至った。
また、この発明者らは、引き続き検討の結果、1分子中
に2個以上の官能基を有する1・4−ポリブタジェン類
の分子内に含まれる炭素−炭素二重結合に水素を付加し
てなるいわゆる水素添加物を単独でまたは前記水素未添
加のものとの混合系で主材として用いた被覆材料を提案
した。この被覆材料は、前記同様に光フアイバ用被覆材
料として好適に応用でき、とくに高温に長時間放置した
ときの柔軟性の維持に好結果が得られ、これに伴う伝送
特性の一層の向上を図ることができた。
この発明は、上記の先行発明番壬引き続きさらに検討を
加えた結果なされたものである。すなわち、この発明は
、1分子中に少なくとも2個のカルボキシル基を有する
水素添加l・2−ポリブタジェンに、a)分子中にエポ
キシ基およびアクリロイル基ないしはメタクリロイル基
を有する化合物、またはb)1分子中に少なくとも2個
のエポキシ基を有する化合物とアクリル酸ないしはメタ
クリル酸との二種の化合物とを反応させて、上記の水素
添加1・2−ポリブタジェンに少なくとも2個のアクリ
ロイル基ないしはメタクリロイル基が導入された変性ポ
リブタジェンを得1.これに1分子中に重合性炭素−炭
素二重結合を少な(とも1個有する化合物および重合開
始剤を添加することを特徴とする光フアイバ用被覆材料
の製造方法に係るものである。
この発明方法の方法により得られる被覆材料は、上記の
変性ポリブタジェンに含まれるアクリロイル基ないしは
メタクリロイル基あるいはこれと1分子中に重合性炭素
−炭素二重結合を少なくとも1個有する化合物に含まれ
る重合性炭素−炭素二重結合によって重合開始剤の存在
下加熱硬化ないし光硬化あるいは電子線硬化できる性質
を有し、その硬化速度が従来の熱硬化性樹脂を用しくた
ものに比べて速いことから、この発明に係る被覆材料を
用いると光ファイバの量産性が向上し、また硬化不足に
起因した密着性の低下が抑えられるため光ファイバの長
期信頼性を向上させることができる。
また、この発明の方法により得られる被覆材料から形成
される硬化被膜は、従来の熱硬化性樹脂を用いたものや
従来の紫外線硬化型の樹脂を用いたものに比べて非常に
柔軟性にすぐれ、この柔軟性によって強度的に好結果が
得られるだけでなく、マイクロベンディングなどに起因
した伝送損失の増加が抑えられ、高信顛性の光ファイバ
の製造が可能である。
とくに、水素添加1・2−ポリブタジェンから誘導され
た変性ポリブタジェンを用いているため、この発明者ら
がすでに提案した水素未添加の1・4−ポリブタジ−エ
ン類ないしその誘導体を単独で主材として用いたものに
比べて高温たとえば120℃以上に長時間放置したとき
の柔軟性あ低下を抑止できるとともに、前記提案のもの
およびこの発明者らが次いで提案した水素添加l・4−
ポリブタジェン類ないしはその誘導体あるいはこれと前
記水素未添加のものとの混合物を主材として用いたもの
に比べて低温下における柔軟性・をさらに良好に維持し
うるという低温特性にすぐれたものである。すなわち、
この発明の方法により得られる被覆材料は、低温から高
温までの広い温度範囲において光ファイバの伝送特性の
向上を図れるものである。
また、この発明の方法においては、水素添加1・2−ポ
リブタジェンに少なくとも2個のアクリロイル基ないし
はメタクリロイル基を導入する方法として、1分子中に
少なくとも2個のカルボキシル基を有する水素添加1・
2−ポリブタジェンを用い、これにa成分すなわち分子
中にエポキシ基およびアクリロイル基ないしはメタクリ
ロイル基を有する化合物またはb成分すなわち1分子中
に少なくとも2個のエポキシ基を有する化合物とアクリ
ル酸ないしはメタクリル酸との二種の化合物を反応させ
る方法を採用していることをひとつの特徴としている。
すなわち、水素添加1・2−ポリブタジェンに少なくと
も2個のアクリロイル基ないしはメタクリロイル基を導
入する方法としては、他にも種々の方法があり、例えば
1分子中に少なくとも2個の水酸基を有する水素添加1
・2−ポリブタジェンにジイソシアネート化合物を反応
させ、さらに、分子中にイソシアネート基と反応しうる
官能基と7クリロイル基ないしはメタクリロイル基を有
する化合物を反応させる方法があるが、このような方法
により得られる変性ポリブタジェンを用いた場合に比べ
て、上記のこの発明の方法により得られた変性ポリブタ
ジェンを用いると、光ファイバに対する密着性にすぐれ
た被覆材料を得ることができる。
この発明の方法において用いられる1分子中に少なくと
も2個のカルボキシル基を有する水素添加1・2−ポリ
ブタジェンは、1分子中に少なくとも2個通常2〜4個
、好ましくは分子両末端にカルボキシル基を有する1・
2−ポリブタジェンを水素添加して得られるものである
上記水素添加反応は、ラネー触媒などを用いた一般の水
素添加法に準して行うことができ、水素添加率としては
通常50%以上であることが望ましい。これより低くな
ると高温条件下での被膜の柔軟性の維持が難しくなる。
なお上記の説明によって明らかなように、この発明にお
ける水素添加1・2−ポリブタジェンには、1・2−ポ
リブタジェンに含まれる炭素−炭素二重結合が完全に水
素添加されていないものも当然に含まれる。
上記の1分子中に少なくとも2個のカルボキシル基を有
する水素添加1・2−ポリブタジェンとしては次の構造
のものが市販されている。
(ただし、Xは−CHZ CH2COOH。
n=10〜200である。) なお、この発明の方法においては、上記の水素添加l・
2−ポリブタジェンの使用量のうち通常50重量%以下
、好ましくは30重量%以下を1分子内に少なくとも2
個のカルボキシル基を有する水素添加1・4−ポリブタ
ジェンないしは水素未添加1・4−ポリブタジェンに置
き換えてもよい。ただし、これら水素添加1・4−ポリ
ブタジェンないしは水素未添加1・4−ポリブタジェン
の割合が多ずぎると硬化被膜の低温特性あるいは高温特
性が低下するため好ましくない。
この発明の方法において用いられるa成分すなわち分子
中にエポキシ基およびアクリロイル基ないしはメタクリ
ロイル基を有する化合物としては、グリシジルアクリレ
ート、グリシジルメタクリレートなどが挙げられる。
この発明の方法において用いられるb成分における1分
子中に少なくとも2個のエポキシ基を有する化合物とし
ては、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、脂環族エポキ
シ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂などが挙げられる。b成分
は、この1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を有す
る化合物とアクリル酸ないしはメタクリル酸との二種の
化合物であり、両化合物の使用割合は通常1対1 (モ
ル比)とするのがよい。
この発明の方法に係る変性ポリブタジェンは、上記の水
素添加1・2−ポリブタジェンに上記のa成分またはb
成分を反応させて得られる。a成分を用いる場合には、
上記の水素添加1・2−ポリブタジェンにそのカルボキ
シル基1当量に対してa成分のエポキシ基が通常0.9
〜1.1当量となる割合でa成分を配合して、第3級ア
ミン、第4級アンモニウム塩などの触媒を用いて通常7
0〜120℃で反応させる。
また、b成分を用いる場合には、通常は上記の水素添加
1・2−ポリブタジェンにそのカルボキシル基1当量に
対してb成分におけるエポキシ基が通常0.9〜1.1
当量となる割合で二種の化合物からなるb成分を同時に
配合して、第3級アミンなどの触媒を用いて通常70〜
120℃で反応させる。また、上記配合に際してまずb
成分のうちの1分子中に少なくとも2個のエポキシ基を
有する化合物を配合して反応させ、ついでアクリル酸な
いしメタクリル酸を配合して反応させるようにしてもよ
い。
この発明に係る被覆材料は、上記のようにして得られる
変性ポリブタジェンすなわち水素添加1・2−ポリブタ
ジェンに少なくとも2個、好ましくは分子両末端にアク
リロイル基ないしはメタクリロイル基が導入された変性
ポリブタジェンに、1分子中に重合性炭素−炭素二重結
合を少なくとも1個有する化合物(以下、C成分とし)
う)および重合開始剤を添加することにより得られる。
上記のC成分は、上記の変性ポリブタジェン力(一般に
室温で固形状あるいは高粘度のものであるため被覆材料
の粘度を調整して被覆作業性を良くするためおよび硬化
被膜の伸びや硬さを調整するために用いられる。
上記のC成分としては、重合性炭素−炭素二重結合を少
なくとも1個、好ましくは1〜3個有するアクリル酸エ
ステルないしはメタクリル酸エステルがとくに好ましい
。これらエステルの具体例としては、シクロヘキシルア
クリレートないしはメタクリレート、ベンジルアクリレ
ートないしはメタクリレート、カルピトールアクリレー
トないしはメタクリレート、2−エチルヘキシルアクリ
レートないしはメタクリレート、2−ヒドロキシエチル
アクリレートないしはメタクリレート、2−ヒドロキシ
プロピルアクリレートないしはメタクリレート、テトラ
ヒドロフルフリルアクリレートないしはメタクリレート
、エチレングリコールジアクリレートないしはジメタク
リレート、ジエチレングリコールジアクリレートないし
はジメタクリレート、トリエチレングリコールジアクリ
レートないしはジメタクリレート、トリプロピレングリ
コールジアクリレートないしはジメタクリレート、ポリ
エチレングリコールジアクリレートないしはジメタクリ
レート、ポリプロピレングリコールジアクリレートない
しはジメタクリレート、ブチレンゲリコールジアクリレ
ートないしはジメタクリレート、ネオペンチルグリコー
ルジアクリレートないしはジメタクリレート、1・6−
ヘキサングリコールジアクリレートないしはジメタクリ
レート、ペンタエリスリトールジアクリレートないしは
ジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレ
ートないしはトリメタクリレート、トリメチロールプロ
パントリアクリレートないしはトリメタクリレートなど
が挙げられる。
また、上記C成分としてはジアリルアジペート、ジアリ
ルフタレート、トリアリルトリメリテート、トリアリル
イソシアヌレートなどのアリルエステル、スチレン、ビ
ニルアセテート、N−ビニルピロリドンなどのビニル化
合物も使用できる。
上記C成分の添加量は、上記の変性ポリブタジェンとC
成分との合計量中、C成分が通常10〜70重量%、好
ましくは20〜60重量%となるようにするのがよい。
C成分が少なすぎると被覆材料の粘度が高くなりすぎて
被覆作業性が低下するため好ましくない。またC成分が
多すぎると硬化被膜の柔軟性が低下するため好ましくな
い。
上記の重合開始剤としては光重合開始剤ないしは熱重合
開始剤が挙げられ、光重合開始剤を用いると被覆材料を
紫外線で簡単かつ迅速に硬化させることができ、熱重合
開始剤あるいはこれと光重合開始剤とを用いると被覆材
料を加熱硬化させることができる。
上記光重合開始剤としては、ベンゾインメチルエーテル
、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピル
エーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾフェ
ノン、メチルオルソベンゾイルベンゾエート、ベンジル
、ベンジルジメチルケタール、2・2−ジェトキシアセ
トフェノン、1・1−ジクロロアセトフェノン、2−ク
ロロチオキサントン、2−メチルチオキサントン、2−
イソプロピルチオキサントン、アントラセンなど、また
これらとアミン類などの少量の増感助剤と併用したもの
などを挙げることができる。
また、上記熱重合開始剤としては、三級ブチルパーオク
トエートや三級ブチルパービバレートなどのパーエステ
ル、ビス−(4−三級ブチルシクロヘキシル)−パーオ
キシジカルボネートなどの如き過炭酸エステル、ベンゾ
イルパーオキシドの如きジアシルパーオキシド、ジー三
級ブチルパーオキシドやジクミルパーオキシドの如きジ
アルキルパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド
、メチルエチルケトンパーオキシド、クメンヒドロパー
オキシドなどのビトロパーオキシド、およびこれらと2
−エチルヘキサン酸やナフテン酸のコバル)−II塩の
如き金属促進剤との組合せなどの過酸化物系重合開始剤
が挙げられ、その他アゾ化合物なども使用できる。
これら重合開始剤の添加量としては上記の変性ポリブタ
ジェンとC成分との合計量100重量部に対して通常1
〜7重量部程度である。この量が少なすぎると硬化性を
満足できない。また所定量を超えて用いてもそれ以上の
硬化速度の向上は望めず、実用上上記範囲内とするのが
よい。
この発明の方法に係る光フアイバ用被覆材料は、以上の
変性ポリブタジェン、C成分および重合m1始剤を必須
成分とし、これに必要に応してアクリル樹脂、ポリアミ
ド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリウ
レタン樹脂、ポリアミドイミド樹脂、シリコーン樹脂、
フェノール樹脂などの各種の変性用樹脂や、有機けい素
化合物、界面活性剤などの各種添加剤を配合してもよく
、全体の粘度としては塗工作業性の観点から通常1、 
000〜l 0. 000 cps/25℃の範囲に調
整されているのが望ましい。
この被覆材料を光ファイバに適用するに当たっては、紡
糸直後の光ファイバの表面に上記材料を硬化後の厚みが
通常10〜200prnとなるように適宜の手段で塗工
したのち、重合開始剤の種類に応じて加熱硬化あるいは
紫外線や電子線などを照射して硬化させればよい。この
ようにして形成される一次被膜層上に通常はさらに耐摩
耗性の良好なポリアミド樹脂などの二次被膜層を設ける
ことにより、ファイバ強度の良好な光フアイバ被覆体と
される。
以上詳述したとおり、この発明の方法によれば、常態下
はもちろんのこと低温下でもまた高温下に長RJJ間放
置したのちでも良好な柔軟性を示す長期安定性の光フア
イバ用被覆材料を提供することができる。
以下に、この発明の実施例を記載してより具体的に説明
する。なお、以下において部とあるのは重量部を意味す
るものとする。
実施例1 攪拌機および温度計を付した300ccの四つロフラス
コに、分子両末端にカルボキシル基を有する水素添加さ
れた1・2−ポリブタジェン(酸価52.8、水素添加
率80%)106g、グリシジルメククリレート14g
、トリエチルアミン0.2g、ハイドロキノン0.01
gを加え、9O−115℃で7時間反応させて分子両末
端にメタクリロイル基を有する変性ポリブタジェンを得
た。
この変性ポリブタジェン70部にテトラヒドロフルフリ
ルアクリレート ルケタール4部を配合し、粘度2, 100cps (
25℃)の光ファイバ用被覆祠料を得た。
この被覆材料を高圧水銀ランプ(80W/cm。
2灯)を用い、コンヘアースピード10m7分で硬化さ
せた。得られた被膜の硬度はショア(shore)A4
0であった。また、この被膜を150℃の熱風乾燥機中
に1力月間放置して熱処理したのちの硬度はショアA4
5であった。
実施例2 実施例1で得られた変性ポリブタジェン70部にトリプ
ロピレンゲリールジアクリレート30部、ヘンジルシメ
チルヶクール4部を配合し、粘度2、200cps (
25℃)の光フアイバ用被覆材料を得た。
この被覆材料を実施例1と同様にして硬化させて得られ
た被nりの硬度はショアA55であった。
またこの被膜を実施例1と同様にして熱処理したのちの
硬度はショアA60であった。
実施例3 グリシジルメタクリレートの代わりにグリシジルアクリ
レートを使用した以外は実施例1と同様にして変性ポリ
ブタジェンを得、この変性ポリブタジェンを用いて実施
例1と同様にして粘度゛2゜500cps (25℃)
の光フアイバ用被覆材料を得た。
この被覆帆料を用いて実施例1と同様にして硬化させて
得られた被膜の硬度はショアA35であった。また、こ
の被膜を実施例1と同様にして熱処理したのちの硬度は
ショアA37であった。
実施例4 実施例1と同様のフラスコに、分子両末端にカルボキシ
ル基を有する水素添加された1・2−ポリブタジェン(
実施例1と同じもの)106g、ビスフェノールA型エ
ポキシ樹脂(油化シェル社製エピコート828)40g
、アクリル酸7g。
トリエチルアミン0.2g、ハイドロキノン0.04g
を加え、90〜110℃で8時間反応させて分子両末端
にアクリロイル基を有する変性ポリブタジェンを得た。
この変性ポリブタジェン50部にテトラヒドロフルフリ
ルアクリレ−)50部、ベンジルジメチルケタール4部
を配合して、粘度5.300cps(25℃)の光フア
イバ用被覆材料を得た。
この被覆材料を実施例1と同様にして硬化させて得られ
た被膜の硬度はショアA40であった。
また、この被膜を実施例1と同様にして熱処理したのち
の硬度はショアA50であった。
実施例5 実施例4で得られた変性ポリブタジェン50部にトリプ
ロピレンゲリールジアクリレート50部、ベンジルジメ
チルケタール4部を配合し、粘度8.0OOcpsの光
フアイバ用被覆材料を得た。
この被覆材料を実施例1と同様にして硬化させて得られ
た被膜の硬度はショアA65であった。
また、この被膜を実施例1と同様にして熱処理したのち
の硬度はショアA70であった。
実施例6 アクリル酸の代わりにメタクリル酸を用し)た以外は実
施例4と同様にして変性ポリブタジェンを得、この変性
ポリブタジェンを用いて実施例4と同様にして粘度5.
500cps (25℃)の光フアイバ用被覆材料を得
た。
この被覆材料を用いて実施例1と同様にし゛て硬化させ
て得られた被膜の硬度はショアA55であった。また、
この被膜を実施例1と同様にして熱処理したのちの硬度
はショアA60であった。
比較例1 分子両末端にアクリロイル基を有する1・4−ポリブタ
ジェン(数平均分子量3.000)60部、テトラヒド
ロフルフリルアクリレート40会ト、ベンジルジメチル
ケタ−Jし4部を配合し、!占度2.270cps (
25℃)の比較のための光フアイバ用被覆材料を得た。
この被覆材料を実施例1と同様にして硬化させて得られ
た被膜の硬度はショアA50であった。
また、この被膜を実施例1と同様にして熱処理したのち
の硬度はショアD70であり、被膜の柔軟性が著しく低
下していた。
比較例2 分子両末端に7クリロイル基を有する水素添加された1
・4−ポリブタジェン(数平均分子量3.000、水素
添加率70%)60部、テトラヒドロフルフリルアクリ
レート60部、ペンジルジメチルケタール4部を配合し
、粘度3.300cps(25℃)の比較のための光フ
アイバ用被覆材料を得た。
この被覆材料を実施例1と同様にして硬・化させて得ら
れた被膜の硬度はジョブA45であった。
また、この被膜を実施例1と同様にして熱処理したのち
の硬度はショアA80であった。
試験例 50m/分の速度で紡糸した直径125μmの光ファイ
バの表面に、紡糸工程に引き続く工程において、光フア
イバ用被覆材料を塗布したのち、高圧水銀ランプ(8W
/e11)で照射して硬化させた。
実施例1〜6および比較例1.2のいずれの被覆材材の
場合も被覆後の光ファイバの外径は約250μmで表面
は均一であり、破断強度は6 kgであった。実施例1
〜6の被覆材料を用いた場合は、−50°Cまで伝送損
失の増加は認められず、さらに、120℃で約1.00
0時間放置したのちでも、−50℃まで伝送損失の増加
はほとんど認められなかった。また、光ファイバに対す
る密着性も良好であった。これに対して、比較例1.2
の被覆材料を用いた場合は、−50℃までに伝送損失の
増加がわずかに認められた。
特許出願人 日東電気工業株式会社

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)1分子中に少なくとも2個のカルボキシル基を有
    する水素添加1・2−ポリブタジェンに、a)分子中に
    エポキシ基およびアクリロイル基ないしはメタクリロイ
    ル基を有する化合物、またはb)1分子中に少なくとも
    2個のエポキシ基を有する化合物とアクリル酸ないしは
    メタクリル酸との二種の化合物を反応させて、上記の水
    素添加1・2〜ポリブタジエンに少なくとも2個のアク
    リロイル基ないしはメタクリロイル基が導入された変性
    ポリブタジェンを得、これに1分子中に重合性炭素−炭
    素二重結合を少なくとも1個有する化合物および重合開
    始剤を添加することを特徴とする光学ガラスファイバ用
    被覆材料の製造方法。
JP59025649A 1984-02-13 1984-02-13 光学ガラスフアイバ用被覆材料の製造方法 Pending JPS60171248A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1991003498A1 (en) * 1989-09-08 1991-03-21 Desoto, Inc. Polymerizable oligomers and coatings based on butadiene

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WO1991003498A1 (en) * 1989-09-08 1991-03-21 Desoto, Inc. Polymerizable oligomers and coatings based on butadiene

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