JPS60170627A - アミドエーテルイミドブロック共重合体 - Google Patents
アミドエーテルイミドブロック共重合体Info
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- JPS60170627A JPS60170627A JP60000029A JP2985A JPS60170627A JP S60170627 A JPS60170627 A JP S60170627A JP 60000029 A JP60000029 A JP 60000029A JP 2985 A JP2985 A JP 2985A JP S60170627 A JPS60170627 A JP S60170627A
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G73/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon in the main chain of the macromolecule, not provided for in groups C08G12/00 - C08G71/00
- C08G73/06—Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain of the macromolecule
- C08G73/10—Polyimides; Polyester-imides; Polyamide-imides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
- C08G73/14—Polyamide-imides
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- Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
- Polyurethanes Or Polyureas (AREA)
- Polyamides (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
この発明は新しい共重合体に関し、詳しく述べるとポリ
エーテルイミド重合単位を含有する新しいブロック共重
合体に関する。ポリエーテルイミド類は非晶質で高性能
なエンジニアリング熱可塑性樹脂である。この重合体の
連鎖構造の特徴は、堅固な芳香族イミドの機能を有し、
高い剛性とクリープ抵抗並びに高い熱たわみ温度を示す
。ポリエーテルイミドは高いガラス転移温度を示すので
一般には比較的高温で加工される。ポリアミド類あるい
はナイロン類は溶融加工性の熱可塑性樹脂であり、その
連鎖構造の特徴は反復するアミド基である。これらは一
般に半結晶性で融点は、175ないし275℃である。
エーテルイミド重合単位を含有する新しいブロック共重
合体に関する。ポリエーテルイミド類は非晶質で高性能
なエンジニアリング熱可塑性樹脂である。この重合体の
連鎖構造の特徴は、堅固な芳香族イミドの機能を有し、
高い剛性とクリープ抵抗並びに高い熱たわみ温度を示す
。ポリエーテルイミドは高いガラス転移温度を示すので
一般には比較的高温で加工される。ポリアミド類あるい
はナイロン類は溶融加工性の熱可塑性樹脂であり、その
連鎖構造の特徴は反復するアミド基である。これらは一
般に半結晶性で融点は、175ないし275℃である。
都合の悪いことはナイロン類はガラス転位温度が低いた
めに、用途が制限され適切でない場合がある。そこで適
度なガラス転位温度を示し、ポリアミドとポリエーテル
イミドとの両方の利点を有する重合体がめられている。
めに、用途が制限され適切でない場合がある。そこで適
度なガラス転位温度を示し、ポリアミドとポリエーテル
イミドとの両方の利点を有する重合体がめられている。
この発明により開示されるのはアミドエーテルイミドブ
ロック共重合体並びにその調製法である。
ロック共重合体並びにその調製法である。
新しいブロック共重合体は式
%式%
()
〔式中aは1以上の整数例えば10ないし10.000
またはそれ以上で、ZはCH3CH3゜ 及びfB)一般式 (但し、Xは次式 I で示される2価ラジカルからなる群より選ばれたl@で
あり、qは0または1であり、yは1ないし5の整数で
ある) で示される2個有機ラジカルから成る群より選ばれた1
@であり、2価結合手の一〇−2−0−ラジカルは無水
フタル酸より誘導した単位の例えば8,3′−、8,@
’−,4,3’−または4,4/−に位置されており、
R7とR2とR3ば ■ 6ないし約20炭素原子を有する゛芳香族炭化水素
ラジカル及びそのハロゲン化誘導体■ 2ないし約20
炭素原子を有するアルキレンラジカル及びシクロアルキ
レンラジカルとC(Z−8)フル4レン端末付ポリジオ
ルガノシロキサン 0式 吾Q杏 (但し、Qは次式 %式% で示される群より選ばれた1員であり、このXは1ない
し5の整数である) で示される2価ラジカルから成る群より互いに独立に選
ばれた2個有機ラジカルである〕で示される重合単位を
含有する。
またはそれ以上で、ZはCH3CH3゜ 及びfB)一般式 (但し、Xは次式 I で示される2価ラジカルからなる群より選ばれたl@で
あり、qは0または1であり、yは1ないし5の整数で
ある) で示される2個有機ラジカルから成る群より選ばれた1
@であり、2価結合手の一〇−2−0−ラジカルは無水
フタル酸より誘導した単位の例えば8,3′−、8,@
’−,4,3’−または4,4/−に位置されており、
R7とR2とR3ば ■ 6ないし約20炭素原子を有する゛芳香族炭化水素
ラジカル及びそのハロゲン化誘導体■ 2ないし約20
炭素原子を有するアルキレンラジカル及びシクロアルキ
レンラジカルとC(Z−8)フル4レン端末付ポリジオ
ルガノシロキサン 0式 吾Q杏 (但し、Qは次式 %式% で示される群より選ばれた1員であり、このXは1ない
し5の整数である) で示される2価ラジカルから成る群より互いに独立に選
ばれた2個有機ラジカルである〕で示される重合単位を
含有する。
この発明の新しい共重合体は活性なポリカルボキシル基
含有化合物、好ましくは酸塩化物と肴機ジアミンを重合
して調製され、アミン末端付ポリアミドとなる。この反
応生成物にさらに芳香族ビス(エーテル無水物)及び所
望なら有機ジアミンが添加される。これらの成分は重合
条件下に反応されてこの発明のブロック共重合体となる
。
含有化合物、好ましくは酸塩化物と肴機ジアミンを重合
して調製され、アミン末端付ポリアミドとなる。この反
応生成物にさらに芳香族ビス(エーテル無水物)及び所
望なら有機ジアミンが添加される。これらの成分は重合
条件下に反応されてこの発明のブロック共重合体となる
。
有機ジアミンとして用いうるのは式
%式%)
()
(式中R1とR3は前述の定義通りである)で示される
ものである。式(2)とWの有機ジアミンを例示すると
、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、
4.4/−ジアミノジフェニルプロパン、4.4/−ジ
アミノジフェニルメタン、ベンジジン、4,4/−ジア
ミノジフェニルサルファイド。
ものである。式(2)とWの有機ジアミンを例示すると
、m−フェニレンジアミン、p−フェニレンジアミン、
4.4/−ジアミノジフェニルプロパン、4.4/−ジ
アミノジフェニルメタン、ベンジジン、4,4/−ジア
ミノジフェニルサルファイド。
4.4/−ジアミノジフェニルヌルホン、4.4/−ジ
アミノジフェニルエーテル、■、5−ジアミノナフタレ
ン、8.3’−ジメチルベンジジン、3,2t’−ジメ
トキシベンジジン、2,4−ビス(β−アミノ−1−ブ
チル)トルエン、ビス(p−β−アミノ−t−プチルフ
ェニル)エーテル、ビス(p−β−メチル−〇−アミノ
ペンチル)ベンゼン、1.3−97ミノー4−イツプロ
ピルーベンゼン、■、2−ビス(8−アミノプロポキン
)エタン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジ
アミン、2,4−ジアミノトルエン、2,6−ジアミノ
トルエン、ビス(4−アミノンクロヘキシル)メタン、
8−メチルへブタメチレンジアミン、4.4/−ジメチ
ルへブタメチレンジアミン、2.11−ドデカンジアミ
ン。
アミノジフェニルエーテル、■、5−ジアミノナフタレ
ン、8.3’−ジメチルベンジジン、3,2t’−ジメ
トキシベンジジン、2,4−ビス(β−アミノ−1−ブ
チル)トルエン、ビス(p−β−アミノ−t−プチルフ
ェニル)エーテル、ビス(p−β−メチル−〇−アミノ
ペンチル)ベンゼン、1.3−97ミノー4−イツプロ
ピルーベンゼン、■、2−ビス(8−アミノプロポキン
)エタン、m−キシリレンジアミン、p−キシリレンジ
アミン、2,4−ジアミノトルエン、2,6−ジアミノ
トルエン、ビス(4−アミノンクロヘキシル)メタン、
8−メチルへブタメチレンジアミン、4.4/−ジメチ
ルへブタメチレンジアミン、2.11−ドデカンジアミ
ン。
2.2−ジメチルプロピレンジアミン、オクタメチレン
ジアミン、3−メトキシへキサメチレンジアミン、2.
5−ジメチルヘキサメチレンジアミン。
ジアミン、3−メトキシへキサメチレンジアミン、2.
5−ジメチルヘキサメチレンジアミン。
2.5−ジメチルへブタメチレンジアミン、8−メチル
へブタメチレンジアミン、5−メチルノナメチレンジア
ミン、1.4−シクロヘキサンジアミン。
へブタメチレンジアミン、5−メチルノナメチレンジア
ミン、1.4−シクロヘキサンジアミン。
■、■2−オクタデカンジアミン、ビス(3−アミノプ
ロピル)サルファイド、N−メチル−ビス(3−アミノ
プロピル)アミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメ
チレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレン
ジアミン、ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジ
シロキサン、ビス(4−アミノブチル)テトラメチルジ
シロキサン、他及びこれらの混合物である。
ロピル)サルファイド、N−メチル−ビス(3−アミノ
プロピル)アミン、ヘキサメチレンジアミン、ヘプタメ
チレンジアミン、ノナメチレンジアミン、デカメチレン
ジアミン、ビス(3−アミノプロピル)テトラメチルジ
シロキサン、ビス(4−アミノブチル)テトラメチルジ
シロキサン、他及びこれらの混合物である。
この発明の共重合体を造るために用いる活性ポリカルボ
キシル基含有化合物は、例えばポリカルボン酸、無水物
及び酸塩化物である。好ましいポリカルボキシル基含有
化合物は式 (式中−は前述の定義通りである) で示される酸塩化物である。
キシル基含有化合物は、例えばポリカルボン酸、無水物
及び酸塩化物である。好ましいポリカルボキシル基含有
化合物は式 (式中−は前述の定義通りである) で示される酸塩化物である。
式(Vlの酸塩化物の例としては、塩化アジピル。
塩化マロニル、塩化サクンニル、塩化グルタリル。
ピメリン酸ジ塩化物、スペリン酸ジ塩化物、アゼライン
酸ジ塩化物、セバシン酸ジ塩化物、ドデカンジ酸ジ塩化
物、塩化フタロイル、塩化イソフタロイル、塩化テレフ
タロイル、■、4−ナフタレンジカルボン酸ジ酸化塩化
物、4/−ジフェニルエーテル−ジカルボン酸ジ塩化物
、他がある。
酸ジ塩化物、セバシン酸ジ塩化物、ドデカンジ酸ジ塩化
物、塩化フタロイル、塩化イソフタロイル、塩化テレフ
タロイル、■、4−ナフタレンジカルボン酸ジ酸化塩化
物、4/−ジフェニルエーテル−ジカルボン酸ジ塩化物
、他がある。
ジアミンと活性カルボキシル基含有化合物との反応生成
物と、続いて反応される芳香族ビス(エーテルジ無水物
)は、式 %式% (式中2は前述の定義通りである) で示される。
物と、続いて反応される芳香族ビス(エーテルジ無水物
)は、式 %式% (式中2は前述の定義通りである) で示される。
式(9)の芳香族ビス(エーテルジ無水物)の例として
は、2,2−ビス(4−(2,8−ジカルボキシフェノ
キシ)フェニル〕プロパンジ無水物、4.4/−ピス(
2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルエーテル
ジ無水物、1.3−ビス(2,8−ジカルボキシフェノ
キシ)ベンゼンジ無水物、4.4−ビス(2,8〜ジカ
ルボキシフエノキシ)ジフェニルサルファイドジ無水物
、 1.4−ヒ:x、 (2,8−ジカルボキシフェノ
キシ)ベンゼンジ無水物、 4.1−ビス(2,8−ジ
カルボキシフェノキシ)ペンゾフエノンジ無水物、4,
4/−ビス(2,8−ジカルボキシフェノキシ)ジフェ
ニルスルホンジ無水物。
は、2,2−ビス(4−(2,8−ジカルボキシフェノ
キシ)フェニル〕プロパンジ無水物、4.4/−ピス(
2,3−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルエーテル
ジ無水物、1.3−ビス(2,8−ジカルボキシフェノ
キシ)ベンゼンジ無水物、4.4−ビス(2,8〜ジカ
ルボキシフエノキシ)ジフェニルサルファイドジ無水物
、 1.4−ヒ:x、 (2,8−ジカルボキシフェノ
キシ)ベンゼンジ無水物、 4.1−ビス(2,8−ジ
カルボキシフェノキシ)ペンゾフエノンジ無水物、4,
4/−ビス(2,8−ジカルボキシフェノキシ)ジフェ
ニルスルホンジ無水物。
2.2−ビス[4−(3,4−ジカルボキシフェノキン
)フぞニル〕プロパンジ無水物、4.1−ビス(3,4
−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルエーテルジ無水
物、4.4/−ビス(8,4−ジカルボキシフェノキシ
)ジフェニルサルファイドジ無水物。
)フぞニル〕プロパンジ無水物、4.1−ビス(3,4
−ジカルボキシフェノキシ)ジフェニルエーテルジ無水
物、4.4/−ビス(8,4−ジカルボキシフェノキシ
)ジフェニルサルファイドジ無水物。
■、8−ビス(3,4−ジカルボキシフェノキシ)ベン
ゼンジ無水物、 1,4−ビス(3,4−ジカルボキシ
フェノキシ)ベンゼンジ無水物、4.キービス(3,4
−ジカルボキシフェノキシ)ペンゾフエノンジ無水物、
4− (2,a−ジカルボキシフェノキシ)−47−
(3,4−ジカルボキシフェノキシ)−ジフェニルー2
.2−プロパンジ無水物、他及ヒこれらジ無水物の混合
物があげられる。
ゼンジ無水物、 1,4−ビス(3,4−ジカルボキシ
フェノキシ)ベンゼンジ無水物、4.キービス(3,4
−ジカルボキシフェノキシ)ペンゾフエノンジ無水物、
4− (2,a−ジカルボキシフェノキシ)−47−
(3,4−ジカルボキシフェノキシ)−ジフェニルー2
.2−プロパンジ無水物、他及ヒこれらジ無水物の混合
物があげられる。
ジアミンと活性カルボキシル基含有化合物との反応は、
ポリアミド生成条件で行なわれる。一般には当モル量の
酸塩化物とジアミンが用いられるが、式 (式中R1とR2は前述の定義通りであり、nは約1な
いし20.好ましくは約1ないし4の整数である) で示されるアミン末端付ポリアミドを得るためには1モ
ル過剰量のジアミンが好ましい。
ポリアミド生成条件で行なわれる。一般には当モル量の
酸塩化物とジアミンが用いられるが、式 (式中R1とR2は前述の定義通りであり、nは約1な
いし20.好ましくは約1ないし4の整数である) で示されるアミン末端付ポリアミドを得るためには1モ
ル過剰量のジアミンが好ましい。
か〜る反応はN−メチルピロリドン、ピリジン等の塩基
性で非活性な溶媒中で実質的に無水条件で行なわれるの
が好都合である。ポリアミドを調製する合成法は良く知
られており、この発明の共重合体が何か特定の合成手段
に限定されるものでは無い。
性で非活性な溶媒中で実質的に無水条件で行なわれるの
が好都合である。ポリアミドを調製する合成法は良く知
られており、この発明の共重合体が何か特定の合成手段
に限定されるものでは無い。
上述の反応成分が重合された後、芳香族ビス(、ニーチ
ル無水物)及び所望なら追加の有機ジアミンが添加され
る。一般には全ジアミン(即ちアミン末端付ポリアミド
と追加の有機ジアミンの合計)と当モル量の芳香族ビス
(エーテル無水物)とが結合される。重合単位の所望の
比率に応じてアミン末端基付ポリアミドと芳香族ビス(
エーテル無水物)とのモル比を変えることができる。ア
ミン末端付ポリアミドと無水物のモル比は1ないし99
モモル係ポリアミドに対し、99ないし1モル係の芳香
族ビス(エーテル無水物)の範囲で変えることができる
。
ル無水物)及び所望なら追加の有機ジアミンが添加され
る。一般には全ジアミン(即ちアミン末端付ポリアミド
と追加の有機ジアミンの合計)と当モル量の芳香族ビス
(エーテル無水物)とが結合される。重合単位の所望の
比率に応じてアミン末端基付ポリアミドと芳香族ビス(
エーテル無水物)とのモル比を変えることができる。ア
ミン末端付ポリアミドと無水物のモル比は1ないし99
モモル係ポリアミドに対し、99ないし1モル係の芳香
族ビス(エーテル無水物)の範囲で変えることができる
。
無水物とアミン末端付ポリアミドと有機ジアミンとの反
応は、0−ジクロロベンゼン、m−クレゾール/トルエ
ンその他の良(知られた溶媒を用いて、反応物間の相互
作用をもたらすために約100℃ないし約250℃の温
度で行うのが好都合である。別の方法として、ブロック
共重合体は成分の混合物を昇温下に全体を攪拌しながら
加熱溶融重合することにより調製できる。一般に溶融重
合温度は約200ないし400℃好ましくは230℃な
いし300℃が用いられる。溶融重合に通常用いられる
連鎖停止剤を適量添加することも用いられる。反応条件
と成分の比率は所望の分子量、固有粘度、耐溶剤性に応
じて広範囲に変化できる。
応は、0−ジクロロベンゼン、m−クレゾール/トルエ
ンその他の良(知られた溶媒を用いて、反応物間の相互
作用をもたらすために約100℃ないし約250℃の温
度で行うのが好都合である。別の方法として、ブロック
共重合体は成分の混合物を昇温下に全体を攪拌しながら
加熱溶融重合することにより調製できる。一般に溶融重
合温度は約200ないし400℃好ましくは230℃な
いし300℃が用いられる。溶融重合に通常用いられる
連鎖停止剤を適量添加することも用いられる。反応条件
と成分の比率は所望の分子量、固有粘度、耐溶剤性に応
じて広範囲に変化できる。
式(Il及び式(■)で定義した重合単位の量及び重量
%を変化させることはこの発明において可能である。各
重合単位の量は調製法によって調節される。
%を変化させることはこの発明において可能である。各
重合単位の量は調製法によって調節される。
式(Ilの重合単位は、ブロック共重合体の5ないし9
5モモル係、残りが式(II+の重合単位とすることが
できる。好ましい共重合体は式(I)の重合単位がブロ
ック共重合体の10ないし90モル係、さらに好ましく
は約20ないし80モモル係あるものである。
5モモル係、残りが式(II+の重合単位とすることが
できる。好ましい共重合体は式(I)の重合単位がブロ
ック共重合体の10ないし90モル係、さらに好ましく
は約20ないし80モモル係あるものである。
予め定まった性質を持つ重合単位の比率を調節すること
によりポリアミドやポリエーテルイミドよりも優れた成
る物性を持つブロック共重合体が生成される。一般に式
(Ilの重合単位の比率が高くなると低いガラス転移温
度(例えば60℃)を持つブロック共重合体となり、一
方この比率が低くなると高いガラス転移温度(例えば1
00°C)を持つブロック共重合体ができる。
によりポリアミドやポリエーテルイミドよりも優れた成
る物性を持つブロック共重合体が生成される。一般に式
(Ilの重合単位の比率が高くなると低いガラス転移温
度(例えば60℃)を持つブロック共重合体となり、一
方この比率が低くなると高いガラス転移温度(例えば1
00°C)を持つブロック共重合体ができる。
この発明を実施例を通じてさらに例証するが、これで発
明を限定するつもりはない。
明を限定するつもりはない。
実施例1
数種の脂肪族アミドエーテルイミドブロック共重合体が
調製された。適切な反応器に15ccのN−メチルピロ
リドン(NMP)を装入し、ヘキサメチレンジアミン(
HMDA)を添加した。これに塩化アジピルを添加し混
合した時にHMDAが10モルチ過剰となるように調節
した。これに追加のHMDAを当モルの2.2−ビス[
4−(2,8−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕−
プロパンジ無水物(BPADA)と共に添加した。重合
体溶液を注型し250−290℃に加熱してフィルムを
得へ第1表に反応成分の量を変化させて得られたブロッ
ク共重合体のガラス転移温度(Tg)を示した。
調製された。適切な反応器に15ccのN−メチルピロ
リドン(NMP)を装入し、ヘキサメチレンジアミン(
HMDA)を添加した。これに塩化アジピルを添加し混
合した時にHMDAが10モルチ過剰となるように調節
した。これに追加のHMDAを当モルの2.2−ビス[
4−(2,8−ジカルボキシフェノキシ)フェニル〕−
プロパンジ無水物(BPADA)と共に添加した。重合
体溶液を注型し250−290℃に加熱してフィルムを
得へ第1表に反応成分の量を変化させて得られたブロッ
ク共重合体のガラス転移温度(Tg)を示した。
フィルムのTgは微分走査熱量計を用いて1分間に40
℃の加熱速度にて測定され、2回目の速冷後の中間転移
点を採った。比較のためにポリアミドとポリエーテルイ
ミドを稠製し測定した。
℃の加熱速度にて測定され、2回目の速冷後の中間転移
点を採った。比較のためにポリアミドとポリエーテルイ
ミドを稠製し測定した。
(以下余白)
用〜〜〜−〜−−
Ln ’−D r’−0、r−40N
S + S +
81 婁1 七七七=
il 8、。9.。、
次に、実施例1においてNMPを含有する反応−器にH
MDAを全部一度に添加する事を除き、同一実験を反復
した。塩化アジピノンを添加混合L7.[、BPADA
が添加された。第2表に反応成分の量と当該ブロック
共重合体のTgか示される〇尉〜−〜−−〜へ Ll’1qFetOr−INN −’++++++ 81炭1 恣iii 諭 。Jじ:じ 実施例2 数種の別のブロック共重合体が生成された。それは芳香
族脂肪族アミドエーテルイミドブロック共重合体で、溶
媒をNMPとし、ヘキサメチレンジアミンに塩化イソフ
タロイルを添加し、引き続き化学量論量のBPADA
を添加して共重合体を得た。
MDAを全部一度に添加する事を除き、同一実験を反復
した。塩化アジピノンを添加混合L7.[、BPADA
が添加された。第2表に反応成分の量と当該ブロック
共重合体のTgか示される〇尉〜−〜−−〜へ Ll’1qFetOr−INN −’++++++ 81炭1 恣iii 諭 。Jじ:じ 実施例2 数種の別のブロック共重合体が生成された。それは芳香
族脂肪族アミドエーテルイミドブロック共重合体で、溶
媒をNMPとし、ヘキサメチレンジアミンに塩化イソフ
タロイルを添加し、引き続き化学量論量のBPADA
を添加して共重合体を得た。
重合体溶液を注型し250−290℃に加熱してフィル
ムを得た。第3表に反応成分量を変化させて得たブロッ
ク共重合体のガラス転移扇度(Tg)を示しγこ。比較
のためのポリアミドとポリエーテルイミドの単独重合体
を調製し測定した。
ムを得た。第3表に反応成分量を変化させて得たブロッ
ク共重合体のガラス転移扇度(Tg)を示しγこ。比較
のためのポリアミドとポリエーテルイミドの単独重合体
を調製し測定した。
81展に目二二囚二二
反1湯真口昌昌吊=
上記データによって例証されるごとく、重合体連鎖中に
式(1)及び(11)の構造単位が含まれる場合に改善
された物性を有するブロック共重合体が得られる。
式(1)及び(11)の構造単位が含まれる場合に改善
された物性を有するブロック共重合体が得られる。
この発明のブロック共重合体の用途として広範囲の物理
形状の製品例えば、フィルム、成形品。
形状の製品例えば、フィルム、成形品。
フィラメント、繊維、被覆物等があげられる。フィルム
状で用いられても成形品にされても、あるいは積層品に
加工されても、この重合体は室温で良好な物性を有する
のみならず、高扁で長期間おいても強度変化が無く、秀
れた負荷順応性を保留する。
状で用いられても成形品にされても、あるいは積層品に
加工されても、この重合体は室温で良好な物性を有する
のみならず、高扁で長期間おいても強度変化が無く、秀
れた負荷順応性を保留する。
この発明の重合組成物で造られたフィルムは従来通りの
用途に用いうる。すなわちこの発明の組成物は自動車や
航空分野に装飾及び保護の目的で用いうるし、モーター
スロットライナー用高温絶縁材として、または変圧器用
や誘電キャパシターとして、あるいはコイルや電線被覆
材(モーター用巻線コイルの絶縁用)として、その他容
器及びその内張つとして用いられ、もしくは積層品とし
てはこの発明のフィルムまたは該組成物溶液が石綿、雲
母、ガラス繊維等の耐熱物その他物体上に施こされて出
来たシートを交互に重ねてから、これを高温高圧で処理
し、樹脂結合剤を流動硬化させて密着した積層構造体と
して用いられる。か〜る組成物でできたフィルムはプリ
ント回路板としても役立てうる。
用途に用いうる。すなわちこの発明の組成物は自動車や
航空分野に装飾及び保護の目的で用いうるし、モーター
スロットライナー用高温絶縁材として、または変圧器用
や誘電キャパシターとして、あるいはコイルや電線被覆
材(モーター用巻線コイルの絶縁用)として、その他容
器及びその内張つとして用いられ、もしくは積層品とし
てはこの発明のフィルムまたは該組成物溶液が石綿、雲
母、ガラス繊維等の耐熱物その他物体上に施こされて出
来たシートを交互に重ねてから、これを高温高圧で処理
し、樹脂結合剤を流動硬化させて密着した積層構造体と
して用いられる。か〜る組成物でできたフィルムはプリ
ント回路板としても役立てうる。
別の用途として前記組成物の溶液を銅、アルミニウムそ
の他のごとき電導体の上に塗膜し、次にこれを加熱昇温
して溶剤を除去し、樹脂組成物を硬化せしめる。所望な
らか〜る絶縁導体上に別の追加被覆物例えばポリアミド
、ポリエステル、シリコーン、ポリビニルホルーマール
樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド、ポリテトラフルオロ
エチレン等の重合体皮膜を施すことができる。他のタイ
プの絶縁体の上にこの発明の硬化性組成物を用いること
も差しつかえない。
の他のごとき電導体の上に塗膜し、次にこれを加熱昇温
して溶剤を除去し、樹脂組成物を硬化せしめる。所望な
らか〜る絶縁導体上に別の追加被覆物例えばポリアミド
、ポリエステル、シリコーン、ポリビニルホルーマール
樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド、ポリテトラフルオロ
エチレン等の重合体皮膜を施すことができる。他のタイ
プの絶縁体の上にこの発明の硬化性組成物を用いること
も差しつかえない。
この樹脂の用途として勧められるものにブレーキライニ
ング製造における石綿繊維、炭素繊維。
ング製造における石綿繊維、炭素繊維。
その他繊維物質の結合剤がある。さらにこの発明の重合
組成物に石綿、ガラス繊維、滑石1石英。
組成物に石綿、ガラス繊維、滑石1石英。
木粉、微粉炭素、ンリカ等の充填材を成形前に混入した
組成物より、成形用組成物及び成形品がっくりうる。成
形品は当業者に良く知られた方法に従って加熱下または
加圧加熱下に造られる。さらに意図する用途次第で種々
の耐熱顔料や染料並びに各種の禁止剤を混入することも
できる。
組成物より、成形用組成物及び成形品がっくりうる。成
形品は当業者に良く知られた方法に従って加熱下または
加圧加熱下に造られる。さらに意図する用途次第で種々
の耐熱顔料や染料並びに各種の禁止剤を混入することも
できる。
この発明を例証する目的のために代表的な実施態様を詳
しく示したが、この発明の範囲を逸脱することなしに様
々な変更修正ができることは熟練した当業者には明らか
であろう。
しく示したが、この発明の範囲を逸脱することなしに様
々な変更修正ができることは熟練した当業者には明らか
であろう。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 及び式 〔式中aは1以上の整数例えば10ないし10.000
またはそれ以上の整数で2はCHB BrBr CH
3Br Br 及び (B) 一般式 べ◇−(X) 0− (但し、×は次式 で示される2価ラジカルから成る群より選ばれた1@で
あり、qは0または1であり、yは1ないし5の整数で
ある)で示される2個有機ラジカルから成る群より選ば
れた1@であり、2価結合手の一〇−2−0−ラジカル
は無水フタル酸誘導単位の例えば8.8’ −、8,4
7−、4,8’ −又は4,4′−に位置されており、
そしてR1、R2。 R3は ■ 6ないし約20炭素原子を有する芳香族炭化水素ラ
ジカル及びそのハロゲン化誘導体と■ 2ないし約20
炭素原子を有するアルキレンラジカル、シクロアルキレ
ンラジカル及びC(2−8)アルキレン末端付ポリジオ
ルガノンロキサンと 0式 −@−Q−@− (但しQは次式 0 111; 一〇−、−C−、−8−.−8−、−CXH応X−1 で示される群より選ばれた1員であり、このXは1ない
し5の整数である) で示される2価ラジカルとから成る群より互いに独立に
選ばれた2個有機ラジカルである〕で示され1重合単位
を含有するアミドエーテルイミドブロック共重合体。 (2)式(I)の重合単位がブロック共重合体の約5な
いし約95モルチである特許請求の範囲第1項記載のブ
ロック共重合体。 (3) 式(I)の重合単位かブロック共重合体の約I
Oな(・し約90モルチである特許請求の範囲第1項記
載のブロック共重合体。 (4)式(Ilの重合単位がブロック共重合体の約20
ないし約80モルチである特許請求の範囲第1項記載の
ブロック共重合体。 (5) R2カ2ないし約20炭素原子を有するアルキ
レンラジカルである特許請求の範囲第1項記載のブロッ
ク共重合体。 +61 R2が6ないし約20炭素原子を有する芳香族
ラジカルである特許請求の範囲第1項記軛のブロック共
重合体。 (71R,カZ ?、Cいし約20炭素原子を有するア
ルキレンラジカルである特許請求の範囲第1項記載のブ
ロック共重合体。 (81R,が6ないし約20炭素原子を有する芳香族ラ
ジカルである特許請求の範囲第1項記載のブロック共重
合体。 (9)zが式 %式% (式中yは1ないし約5の整数) で示される特許請求の範囲第1項記載のブロック共重合
体。 0〔R3がメタフェニレンであり、Zが式で示される基
である特許請求の範囲第9項記載のブロック共重合体。 09式 %式% () で示される酸塩化物を、 式 %式%) で示される有機ジアミンの少くともモル当量と重合条件
下に反応させて式 (式中R,、R2は後述の定義通りであり、nは約1な
いし20.好ましくは約1ないし4の整数である) で示されるアミン末端付ポリアミドを生成し、次いで該
アミン末端付アミドを 111 0 0 〔式中Zは H3CH3 及び (但しXは次式 で示される2価ラジカルから成る群より選ばれた1員で
あり、qは0またはlであり、yは1ないし5の整数で
ある) で示される2個有機ラジカルから成る群より選ばれた1
員であり、2価結合手の一〇 −2−0−ラジカルは無
水フタル酸誘導単位の例えば8.8’−。 8.4’−、4,3’−または4.4/−、に位置され
ており、そしてR,と馬は ■ 6ないし約20炭素原子を有する芳香族炭化水素ラ
ジカル及びそのハロゲン化誘導体と■ 2ないし約20
炭素原子を有するアルキレンラジカル、シクロアルキレ
ンラジカル及びC(2−8)アルキレン末端付ポリジオ
ルガノシロキサンと 0式 釡Qつ− (但しQは次式 で示される群より選ばれたl!であり、このXは1ない
し5の整数である) で示される2価ラジカルとから成る群より選ばれた2個
有機ラジカルである〕 で示される芳香族ビス(エーテル無水物)と反応させて
アミドエーテルイミドブロック共重合体を生成する工程
を包含するアミドエーテルイミドブロック共重合体の製
造方法。 02式 %式%() で示される有機ジアミンを、 0 0 111 式 CI −C−R2−C−CI ・・・・・・・・・
・・・ (V)で示される酸塩化物と重合させ、次に該
反応生成物を式 %式% 〔式中2は、 及び (B) 一般式 べ0呟qX巨X (但しXは次式 %式% で示される2価ラジカルから成る群より選ばれたl員で
あり、qは0または1であり、yは1ないし5の整数で
ある) で示される2個有機ラジカルから成る群より選ばれた1
@であり、2価結合手の一〇−2−0−ラジカルは無水
フタル酸誘導単位の例えば8.8’ −。 3.4’ −、4,8’ −、または4,4/−に位置
されており、そしてR1とR2は ■ 6ないし約20炭素原子を有する芳香族炭化水素ラ
ジカル及びそのハロゲン化誘導体と■ 2ないし約20
炭素原子を有するアルキレンラジカル、シクロアルキレ
ンラジカル及びC(2−8)アルキレン末端付ポリジオ
ルガノシロキサンと 0式 (( (但しQは次式。 0 11 11 0 、−C−、−8−、−8−、−CxH2x −1 で示される群より選ばれた1員であり、このXは1ない
し5の整数である) で示される2価ラジカルとから成る群より選ばれた2個
有機ラジカルである〕 で示される芳香族ビス(エーテル無水物)と、重合する
にあたり、反応する有機ジアミンのモル数を酸塩化物と
芳香族ビス(エーテル無水物)とを合わせた全モル数に
等しくして行なう重合を包含するアミドエーテルイミド
共重合体の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US567334 | 1983-12-30 | ||
US06/567,334 US4504632A (en) | 1983-12-30 | 1983-12-30 | Amide ether imide block copolymers |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60170627A true JPS60170627A (ja) | 1985-09-04 |
Family
ID=24266728
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP60000029A Pending JPS60170627A (ja) | 1983-12-30 | 1985-01-04 | アミドエーテルイミドブロック共重合体 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4504632A (ja) |
EP (1) | EP0156029A3 (ja) |
JP (1) | JPS60170627A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH01193322A (ja) * | 1987-11-04 | 1989-08-03 | General Electric Co <Ge> | アミド−イミド共重合体及びその製造法 |
JP2019104818A (ja) * | 2017-12-12 | 2019-06-27 | Jfeケミカル株式会社 | 高周波基板材料用ポリアミド酸、高周波基板材料用ポリイミド、高周波基板材料用ポリイミドフィルム、高周波基板材料用ポリイミド成形体および高周波基板 |
JP2020510126A (ja) * | 2017-06-30 | 2020-04-02 | エルジー・ケム・リミテッド | ポリイミド系共重合体およびこれを含むポリイミド系フィルム |
Families Citing this family (19)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5512676A (en) | 1987-09-03 | 1996-04-30 | The Boeing Company | Extended amideimide hub for multidimensional oligomers |
US5714566A (en) | 1981-11-13 | 1998-02-03 | The Boeing Company | Method for making multiple chemically functional oligomers |
US5516876A (en) | 1983-09-27 | 1996-05-14 | The Boeing Company | Polyimide oligomers and blends |
US5705598A (en) | 1985-04-23 | 1998-01-06 | The Boeing Company | Polyester sulfone oligomers and blends |
US5969079A (en) | 1985-09-05 | 1999-10-19 | The Boeing Company | Oligomers with multiple chemically functional end caps |
US5693741A (en) | 1988-03-15 | 1997-12-02 | The Boeing Company | Liquid molding compounds |
US5210213A (en) | 1983-06-17 | 1993-05-11 | The Boeing Company | Dimensional, crosslinkable oligomers |
US5618907A (en) | 1985-04-23 | 1997-04-08 | The Boeing Company | Thallium catalyzed multidimensional ester oligomers |
US4609702A (en) * | 1985-10-22 | 1986-09-02 | General Electric Company | Ether modified polyesterimide resins |
US5268519A (en) * | 1987-02-20 | 1993-12-07 | The Boeing Company | Lightly crosslinked etherimide oligomers |
US4808686A (en) * | 1987-06-18 | 1989-02-28 | General Electric Company | Silicone-polyimides, and method for making |
EP0324315A3 (de) * | 1987-12-15 | 1990-07-18 | Ciba-Geigy Ag | Polyamid-Polyimid-Blockcopolymere |
US5817744A (en) | 1988-03-14 | 1998-10-06 | The Boeing Company | Phenylethynyl capped imides |
US4962183A (en) * | 1989-05-08 | 1990-10-09 | Hoechst Celanese Corp. | Polyimide-polyamide polymer having fluorine-containing linking groups |
US5322905A (en) * | 1991-02-27 | 1994-06-21 | General Electric Company | Stable blends of copolyetherimide ester thermoplastic elastomers and polyamides |
US8063168B2 (en) | 2009-02-06 | 2011-11-22 | The Boeing Company | Oligomers with di-phenylethynyl endcaps |
WO2019004802A1 (ko) * | 2017-06-30 | 2019-01-03 | 주식회사 엘지화학 | 폴리이미드계 공중합체 및 이를 포함하는 폴리이미드계 필름 |
KR102415374B1 (ko) * | 2017-12-14 | 2022-06-29 | 주식회사 엘지화학 | 폴리아미드이미드계 블록 공중합체 및 이를 포함하는 폴리아미드이미드계 성형품 |
CN110734545A (zh) * | 2019-10-28 | 2020-01-31 | 中仑塑业(福建)有限公司 | 一种聚酰亚胺树脂及其制备方法和用途 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4332929A (en) * | 1980-01-30 | 1982-06-01 | General Electric Company | Copolymers of etherimides and amides |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH580125A5 (ja) * | 1972-08-25 | 1976-09-30 | Ciba Geigy Ag | |
US4118535A (en) * | 1975-11-03 | 1978-10-03 | General Electric Company | Novel polyetheramide-imide epoxy resin blends |
US4115341A (en) * | 1977-01-24 | 1978-09-19 | General Electric Company | Polyetheramide-acid-imide solution and process for preparation thereof |
US4258155A (en) * | 1979-12-03 | 1981-03-24 | General Electric Company | Blends of polyetherimides and polyamideimides |
-
1983
- 1983-12-30 US US06/567,334 patent/US4504632A/en not_active Expired - Fee Related
-
1984
- 1984-12-20 EP EP84115914A patent/EP0156029A3/en not_active Withdrawn
-
1985
- 1985-01-04 JP JP60000029A patent/JPS60170627A/ja active Pending
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4332929A (en) * | 1980-01-30 | 1982-06-01 | General Electric Company | Copolymers of etherimides and amides |
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JPH01193322A (ja) * | 1987-11-04 | 1989-08-03 | General Electric Co <Ge> | アミド−イミド共重合体及びその製造法 |
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JP2019104818A (ja) * | 2017-12-12 | 2019-06-27 | Jfeケミカル株式会社 | 高周波基板材料用ポリアミド酸、高周波基板材料用ポリイミド、高周波基板材料用ポリイミドフィルム、高周波基板材料用ポリイミド成形体および高周波基板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US4504632A (en) | 1985-03-12 |
EP0156029A3 (en) | 1987-12-09 |
EP0156029A2 (en) | 1985-10-02 |
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