JPS6017027A - 金属ジルコニウム及び金属ハフニウムの製造方法 - Google Patents
金属ジルコニウム及び金属ハフニウムの製造方法Info
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- JPS6017027A JPS6017027A JP12319483A JP12319483A JPS6017027A JP S6017027 A JPS6017027 A JP S6017027A JP 12319483 A JP12319483 A JP 12319483A JP 12319483 A JP12319483 A JP 12319483A JP S6017027 A JPS6017027 A JP S6017027A
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- metal
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は金属ジルコニウム又は金属ハフニウムの製造方
法に関する。
法に関する。
従来金属ジルコニウム（Ｚ ｒ）又は金属ハフニウム（
Ｈｆ） を得る方法として、塩化物を不活性ガス気流中
で金属マグネシウム又は金属ナトリウムと接触させて金
属化している。還元剤として使用する金属ナトリウムは
危険なことから、金属マグネシウムがよく利用されてい
る。
Ｈｆ） を得る方法として、塩化物を不活性ガス気流中
で金属マグネシウム又は金属ナトリウムと接触させて金
属化している。還元剤として使用する金属ナトリウムは
危険なことから、金属マグネシウムがよく利用されてい
る。
しかしこの従来方法では金属ジルコニウムや金属ハフニ
ウムを製造する工程が複雑であシ、さらに金属マグネシ
ウムや金属ナトリウムを使用する費用が嵩むなどの欠点
があった。
ウムを製造する工程が複雑であシ、さらに金属マグネシ
ウムや金属ナトリウムを使用する費用が嵩むなどの欠点
があった。
本発明はこれら従来法の欠点を除去するためになされた
ものであり、ジルコニウム又はハフニウムのフッ素含有
化合物を不活性ガス気流中又は還元ガス気流中又は真空
中において、グθＯ℃以上の温度に保持された金属アル
ミニウム又は金属マグネシウムと接触させることを特徴
とする金属ジルコニウム又は金属ハフニウムの製造方法
である。
ものであり、ジルコニウム又はハフニウムのフッ素含有
化合物を不活性ガス気流中又は還元ガス気流中又は真空
中において、グθＯ℃以上の温度に保持された金属アル
ミニウム又は金属マグネシウムと接触させることを特徴
とする金属ジルコニウム又は金属ハフニウムの製造方法
である。
本発明はまた、アルキル燐酸の群、アルキルアリール燐
酸の群、アルキルアミンの群、中性燐酸エステルの群及
びケトンの各群からなる群よ９７種又は２種以上が選択
され石油系炭化水素で希釈された有機溶媒に抽出含有し
たジルコニウム又はハフニウムを、Ｆ−９及びＮＨ，の
少なくとも７種を含有する水溶液と接触させることによ
シ水相に移行せしめて得られたジルコニウム又はハフニ
ウムのフッ素含有化合物を、不活性ガス気流中又は還元
ガス気流中又は真空中において、４１ＯＯ℃以上に保持
された金属アルミニウム又は金属マグネシウムと接触さ
せることを特徴とする金属ジルコニウム又は金属ハフニ
ウムの製造方法である。
酸の群、アルキルアミンの群、中性燐酸エステルの群及
びケトンの各群からなる群よ９７種又は２種以上が選択
され石油系炭化水素で希釈された有機溶媒に抽出含有し
たジルコニウム又はハフニウムを、Ｆ−９及びＮＨ，の
少なくとも７種を含有する水溶液と接触させることによ
シ水相に移行せしめて得られたジルコニウム又はハフニ
ウムのフッ素含有化合物を、不活性ガス気流中又は還元
ガス気流中又は真空中において、４１ＯＯ℃以上に保持
された金属アルミニウム又は金属マグネシウムと接触さ
せることを特徴とする金属ジルコニウム又は金属ハフニ
ウムの製造方法である。
本発明はＺｒ −？ Ｈｆの塩化物を利用するのではな
く、結晶を得るのに都合のよいフッ素含有化合物より金
属化する方法である。フッ素含有化合物が塩化物を利用
するより都合がよいのは、結晶を得ることが容易なこと
の他に還元剤に金属アルミニウムも利用できることであ
り、さらに中間物であるＺｒ又はＨｆ のフッ素含有化
合物を造るのに必要なフッ素が循環使用する際に都合が
よいことである。以下に添付図に基き本発明を説明する
が、本発明はこれらの例に限定さ葺るものではない。
く、結晶を得るのに都合のよいフッ素含有化合物より金
属化する方法である。フッ素含有化合物が塩化物を利用
するより都合がよいのは、結晶を得ることが容易なこと
の他に還元剤に金属アルミニウムも利用できることであ
り、さらに中間物であるＺｒ又はＨｆ のフッ素含有化
合物を造るのに必要なフッ素が循環使用する際に都合が
よいことである。以下に添付図に基き本発明を説明する
が、本発明はこれらの例に限定さ葺るものではない。
第２図の７０シートは本発明による基本的なＺｒ又はＨ
ｆの製造方法を示すものである０２ｒ５舌 又はＨｆ のフッ素含有化合物（Ａ）を不活性ガス気流
中又は還元ガス気流中又は真空中においてり００℃以−
ヒに加熱されている金属アルミニウム又は金属マグネシ
ウム（Ｂ）を内蔵する反応器（０）に導くと、次式に示
すように、金属Ｚｒ 又は金属Ｈｆ （Ｉｉりが得られ
る。
ｆの製造方法を示すものである０２ｒ５舌 又はＨｆ のフッ素含有化合物（Ａ）を不活性ガス気流
中又は還元ガス気流中又は真空中においてり００℃以−
ヒに加熱されている金属アルミニウム又は金属マグネシ
ウム（Ｂ）を内蔵する反応器（０）に導くと、次式に示
すように、金属Ｚｒ 又は金属Ｈｆ （Ｉｉりが得られ
る。
ＨｆＦ、＋２Ｍ ｇｄＨｆ＋ ＪＭ ｇＦｆｆｉ↑・・
・（２）（ＮＵ、）、ＺｒＦ、＋コＭｇ、；Ｚｒ＋ＪＭ
ｇｌＦ、 Ｔ＋、２ＮＨ，Ｆ’↑−−−（３）Ｃ目ζ）
＊ＨｆＦ＠ ＋／ ＡＪ４Ｈｆ＋／ −Ａ幻、＋コＮＨ
，ＩＦ↑・・・（４）３ ３ Ｚｒ又はＨｆ のフッ素含有化合物の化学種は（１）〜
（４）式に示すものに限定されるものではない。
・（２）（ＮＵ、）、ＺｒＦ、＋コＭｇ、；Ｚｒ＋ＪＭ
ｇｌＦ、 Ｔ＋、２ＮＨ，Ｆ’↑−−−（３）Ｃ目ζ）
＊ＨｆＦ＠ ＋／ ＡＪ４Ｈｆ＋／ −Ａ幻、＋コＮＨ
，ＩＦ↑・・・（４）３ ３ Ｚｒ又はＨｆ のフッ素含有化合物の化学種は（１）〜
（４）式に示すものに限定されるものではない。
上式に示す反応式のようにＺｒ又はＨｆ の金属化と共
にＡＪＦ’、 、Ｍｇ１Ｐ、あるいはＨＩＦ ＋ＮＨ，
？籟Ｄ）が副生ずるが、反応器（０）の操業条件によっ
てはガス状で系外に導くことが出来る。また反応器に残
留した場合には、水や希酸などで洗浄して除去すること
が出来るほか、別に真空炉にて加熱して除去することも
出来る。
にＡＪＦ’、 、Ｍｇ１Ｐ、あるいはＨＩＦ ＋ＮＨ，
？籟Ｄ）が副生ずるが、反応器（０）の操業条件によっ
てはガス状で系外に導くことが出来る。また反応器に残
留した場合には、水や希酸などで洗浄して除去すること
が出来るほか、別に真空炉にて加熱して除去することも
出来る。
次に本発明による製造方法の原料となるＺｒ又けＨｆ
のフッ素含有化合゛物を造る一例を示したのが第一図の
フローシートである。
のフッ素含有化合゛物を造る一例を示したのが第一図の
フローシートである。
ｚｒ又Ｆｉｆｆを抽出含有する有機溶媒（Ｆ５を剥離工
程（Ｇ）に導き、Ｎ％“及びＦ−の１種以上を含有する
水溶液（ロ）と接触させることにより、次式のように有
機相のＺｒ又はＨｆを水相（ロ）に移行せしめて、これ
らのフッ素含有化合物を得ることが出来る。
程（Ｇ）に導き、Ｎ％“及びＦ−の１種以上を含有する
水溶液（ロ）と接触させることにより、次式のように有
機相のＺｒ又はＨｆを水相（ロ）に移行せしめて、これ
らのフッ素含有化合物を得ることが出来る。
１％ −Ｚｒ＋ｌＨＦ、ｐｌＩＲ＊Ｈ＋Ｚｒ？、 ＊＊
＊ （５）Ｒ，ｅＨｆ＋グＭＥ、Ｈｆ、、２リーＨ＋
（Ｎ夷）、１（ｆＦ”、、＋２ＮＨ，Ｆ −Ｉ（６１Ｈ
２ＺｒＦ、 −ｎＴＢＰ＋、２１１％型（Ｎ’Ｈ，）、
ＺｒＦ、 ＋ｎＴＢＰ＋、２Ｈ，０・・・（７） （Ｒ，ＮＨ）、 ＺｒＯ（Ｓｏ、）、＋ＩＩＮＨ，Ｉ（
Ｆ、、； （１１，）、 ＺｒＦ、 ＋コＲｓＮＨａ７
＋（ＮＨ４）ｔ ＢＯ，＋ｌＥ］、 Ｏ＠ 、φ （８
）（式中Ｒ，ＨはＨ型交換基を持つ抽出剤を示す）再生
された有機溶媒（Ｋ）は再び抽出工程に循環使用される
。一方水相（勇に移行したＺｒ又はＨｆは、（ＮＨ，）
、ＺｒＦ、 、 （ＮＨ，）、ＨｆＦ、等の結晶として
生成するので分離工程（、Ｔ）にて炉別して水相より取
出される。得られたＺｒ又はＨｆのフッ素含有化合物（
Ａ）は第１図に示した処理方法によシ金属化され、金属
ジルコニウム又は金属ハフニウムが製造される。
＊ （５）Ｒ，ｅＨｆ＋グＭＥ、Ｈｆ、、２リーＨ＋
（Ｎ夷）、１（ｆＦ”、、＋２ＮＨ，Ｆ −Ｉ（６１Ｈ
２ＺｒＦ、 −ｎＴＢＰ＋、２１１％型（Ｎ’Ｈ，）、
ＺｒＦ、 ＋ｎＴＢＰ＋、２Ｈ，０・・・（７） （Ｒ，ＮＨ）、 ＺｒＯ（Ｓｏ、）、＋ＩＩＮＨ，Ｉ（
Ｆ、、； （１１，）、 ＺｒＦ、 ＋コＲｓＮＨａ７
＋（ＮＨ４）ｔ ＢＯ，＋ｌＥ］、 Ｏ＠ 、φ （８
）（式中Ｒ，ＨはＨ型交換基を持つ抽出剤を示す）再生
された有機溶媒（Ｋ）は再び抽出工程に循環使用される
。一方水相（勇に移行したＺｒ又はＨｆは、（ＮＨ，）
、ＺｒＦ、 、 （ＮＨ，）、ＨｆＦ、等の結晶として
生成するので分離工程（、Ｔ）にて炉別して水相より取
出される。得られたＺｒ又はＨｆのフッ素含有化合物（
Ａ）は第１図に示した処理方法によシ金属化され、金属
ジルコニウム又は金属ハフニウムが製造される。
第３図はＺｒ又はＨｆのフッ素含有化合物が金属マグネ
シウムや金属アル２ニウムにより還元された際に副生ず
るＡｊｌＦ、 、ＭｇＦ、あるいはＮＩ（、’Ｆ等（Ｄ
）の処理をも含めた本発明方法の７０シートを示す。
シウムや金属アル２ニウムにより還元された際に副生ず
るＡｊｌＦ、 、ＭｇＦ、あるいはＮＩ（、’Ｆ等（Ｄ
）の処理をも含めた本発明方法の７０シートを示す。
Ｚｒ又はＨｆを抽出含有する有機溶媒（Ｆ）より反応器
（Ｃ）までの経路は第一図に示す通りである。
（Ｃ）までの経路は第一図に示す通りである。
反応器（０）より取出されたＡＪ！Ｆ’、又はＭｇＦ２
（Ｄ）を分解工程に）に導き、スチームあるいは大気を
施すると次式に示すようにａＪ、ｏ３又はＭ ｇＯ（Ｍ
）がｔじるＯ ＭｇＦ、 ＋ｉ九〇 ＨＭ ｇ○＋、２’ＨＦ’−・ａ
ｒ。
（Ｄ）を分解工程に）に導き、スチームあるいは大気を
施すると次式に示すようにａＪ、ｏ３又はＭ ｇＯ（Ｍ
）がｔじるＯ ＭｇＦ、 ＋ｉ九〇 ＨＭ ｇ○＋、２’ＨＦ’−・ａ
ｒ。
酸化の際に生じたＨｆ゛（Ｑ）は、有機溶媒（Ｆ）中の
ＺｒやＨｆ の剥離に使用するＮＨ，Ｖ、 ＮＨ，ＩＦ
ｇ等の含有液が循環する吸収工程（ト）に導かれ回収さ
れる０ 本発明で使用する反応器（０）は公知の密ＩＨＪ型の電
気炉や２重構造を有する外熱炉（竪型、横型又は回転炉
）など各種の栴造のものが利用される０ 還元剤として使用される全組アルミニウム又は金属マグ
ネシウムは液状、気体状のものが利用できる。
ＺｒやＨｆ の剥離に使用するＮＨ，Ｖ、 ＮＨ，ＩＦ
ｇ等の含有液が循環する吸収工程（ト）に導かれ回収さ
れる０ 本発明で使用する反応器（０）は公知の密ＩＨＪ型の電
気炉や２重構造を有する外熱炉（竪型、横型又は回転炉
）など各種の栴造のものが利用される０ 還元剤として使用される全組アルミニウム又は金属マグ
ネシウムは液状、気体状のものが利用できる。
反応器の反応条件を維持する不活性ガスはアルゴン・ヘ
リウム、９累ガスであり、還元性ガスとはＨ８１００，
ＣｎＴ′（ｍの各種炭化水素ガスなどである。
リウム、９累ガスであり、還元性ガスとはＨ８１００，
ＣｎＴ′（ｍの各種炭化水素ガスなどである。
本発明の厚相となるＺｒ又けＨｆのフッ素含有化合物を
造るのに使用する抽出剤であるアルキル燐酸は次の化合
物の群より選択される＝（ａ）’ （１）） （０）
（ｄ） （ｅ） （ｆ） ０ ０ ｊ１１ （式中Ｒは一般に炭素数がダ〜、２λのアルキル基を表
わす） 本発明で使用するアルキルアリール燐酸の群は次に示す
化合物より選択さｎる； １ ＲＯ−Ｐ−ＯＨ 人 〔式中Ｒは一般にｔ〜／４（個の炭素原子を含むアルキ
ル基で、Ａは一般にアリール基（フェニル基、トリル基
、キシリル基）を示す〕本発明で使用できる中性燐酸エ
ステルは次の化合物の中よシ選択される： （ａ）（ｂ）（Ｃ）（ｄ） （式中Ｒは炭素数ケ〜２２のアルキン基である）実施例
に示すＴＢＰ（）リプチルホスフェート）は上記（ａ）
の群に属し、Ｒ：Ｏ，Ｈ，である。
造るのに使用する抽出剤であるアルキル燐酸は次の化合
物の群より選択される＝（ａ）’ （１）） （０）
（ｄ） （ｅ） （ｆ） ０ ０ ｊ１１ （式中Ｒは一般に炭素数がダ〜、２λのアルキル基を表
わす） 本発明で使用するアルキルアリール燐酸の群は次に示す
化合物より選択さｎる； １ ＲＯ−Ｐ−ＯＨ 人 〔式中Ｒは一般にｔ〜／４（個の炭素原子を含むアルキ
ル基で、Ａは一般にアリール基（フェニル基、トリル基
、キシリル基）を示す〕本発明で使用できる中性燐酸エ
ステルは次の化合物の中よシ選択される： （ａ）（ｂ）（Ｃ）（ｄ） （式中Ｒは炭素数ケ〜２２のアルキン基である）実施例
に示すＴＢＰ（）リプチルホスフェート）は上記（ａ）
の群に属し、Ｒ：Ｏ，Ｈ，である。
次に本発明で使用するアルキルアミンは次の化合物群よ
り選択される： 第１級アミン ＲＮ馬として表わされ、式中のＲは炭素数がダルココの
アルキル基のものである。
り選択される： 第１級アミン ＲＮ馬として表わされ、式中のＲは炭素数がダルココの
アルキル基のものである。
第一級アミン
Ｒ，Ｎ又はＲ，ＮＨとして表わされ、式中のＲは炭素数
がダル２コのアルキル基のものである。
がダル２コのアルキル基のものである。
第３級アミン
−Ｎ又はＲ，ＮＨ−で表わされ、式中のＲは炭素数がダ
ルココのアルキル基のものである。
ルココのアルキル基のものである。
実施例で示すＴＯＡ （）リオクチルアミン）はＲ＝：
Ｏ，Ｈイ のものである。
Ｏ，Ｈイ のものである。
次に本発明で用いられるケトンの一例を次に示す：
ＯＨ。
０Ｈ。
この他にシクロヘキサン（ＣＩＩ Ｈｌ ｍ）がよく用
いられる０ 本発明で使用する希釈剤は石油系炭化水素であり、芳香
族系炭化水素、脂肪族系炭化水素あるいはこれらの混合
品も使用できる。またケロシンの如き雑多な炭化水素混
合物もよく使用される。
いられる０ 本発明で使用する希釈剤は石油系炭化水素であり、芳香
族系炭化水素、脂肪族系炭化水素あるいはこれらの混合
品も使用できる。またケロシンの如き雑多な炭化水素混
合物もよく使用される。
また、改質剤には一般にアルキル基の炭素数がダル２グ
までの高級アルコールが使用さ社る。
までの高級アルコールが使用さ社る。
混合割合は０〜３０％（体積）である。抽出剤の濃度は
被処理液の性状、金属イオン濃度、不純物濃度や種類、
さらに抽出化学種によっても決定さ扛るが、一般に抽出
剤濃度はコチ〜１００％（体積）である。
被処理液の性状、金属イオン濃度、不純物濃度や種類、
さらに抽出化学種によっても決定さ扛るが、一般に抽出
剤濃度はコチ〜１００％（体積）である。
以下に実施例をあげて本発明を具体的に説明するか、本
発明はＺｒ又はＨｆのフッ素含有化合されるものでない
。
発明はＺｒ又はＨｆのフッ素含有化合されるものでない
。
実施例 ｌ
／ Ｑ ％ ＴＯＡに抽出されたＺｒ を２！ｒＯｊｉ
／ＩＮＨ４ＨＰ、含有液で剥離して（Ｎ Ｈ４）＊ Ｚ
ｒＦｓの結晶を得た。この白色（ＮＨ４）ｔ ＺｒＦ
ａ結晶−０ｇをと９、アルゴンガス気流中で加熱して反
応器に充填し、すでにＡＡ（７℃に加熱している金属ア
ルミニウムと１時間接触させた後、反応器を冷却し反応
器底部の物質を分析したところ、底部に金属Ｚｒが、と
ころ、金属Ｚｒ りＪ ｇであった。
／ＩＮＨ４ＨＰ、含有液で剥離して（Ｎ Ｈ４）＊ Ｚ
ｒＦｓの結晶を得た。この白色（ＮＨ４）ｔ ＺｒＦ
ａ結晶−０ｇをと９、アルゴンガス気流中で加熱して反
応器に充填し、すでにＡＡ（７℃に加熱している金属ア
ルミニウムと１時間接触させた後、反応器を冷却し反応
器底部の物質を分析したところ、底部に金属Ｚｒが、と
ころ、金属Ｚｒ りＪ ｇであった。
実施例 コ
１００’４ＭよりＫ（７１チルイソブチルケトン）に抽
出されたＨｆ をコｏ ｏ ９ ／ Ａ！ ＮＵ、ＨＦ
、で剥離し、（ＮＨ，）、Ｈｆ１Ｆ、の結晶を得た。こ
の結晶２０ｇをとり、アルゴン気流中で加熱して気化し
たものと、別途にアルゴン気流中で６６０℃に加熱され
た金属アル１ニウム蒸気とを反応器に導いて反応させた
。冷却後、反応器壁に付着している物質を分析したとこ
ろ、金属Ｈｆ１０．ｇｌであることが確認できた。
出されたＨｆ をコｏ ｏ ９ ／ Ａ！ ＮＵ、ＨＦ
、で剥離し、（ＮＨ，）、Ｈｆ１Ｆ、の結晶を得た。こ
の結晶２０ｇをとり、アルゴン気流中で加熱して気化し
たものと、別途にアルゴン気流中で６６０℃に加熱され
た金属アル１ニウム蒸気とを反応器に導いて反応させた
。冷却後、反応器壁に付着している物質を分析したとこ
ろ、金属Ｈｆ１０．ｇｌであることが確認できた。
実施例 ３
４０１７ＢＰ Ｉｃ抽出さｔＬ ｆｔ Ｚｒ ｆ／ ｇ
０９ ／／ ＮＨ，？水溶液で剥離して（ＮＨ，）、
Ｚｒ？、の結晶を得た。この結晶−０ｇと金属マグネシ
ウムとを反応器底部に充填後、アルゴン気流中で急速に
昇温しざ００℃で１時間維持後、反応器を冷却して残量
を分析したところ、金属Ｚｒりｊ ｇであることが確認
できた。
０９ ／／ ＮＨ，？水溶液で剥離して（ＮＨ，）、
Ｚｒ？、の結晶を得た。この結晶−０ｇと金属マグネシ
ウムとを反応器底部に充填後、アルゴン気流中で急速に
昇温しざ００℃で１時間維持後、反応器を冷却して残量
を分析したところ、金属Ｚｒりｊ ｇであることが確認
できた。
第１図は本発明によＩ）Ｚｒ又はＨｆのフッ素含有化合
物から金属Ｚｒ又はＨｆを！＋！！造する方法を示す基
本的な７四−シート、第２図は本発明によりＺｒ又はＨ
ｆのフッ素含有化合物を得る方法の一例を示すフローシ
ート、第３図は副生じたＡｊＦ、等の処理工程を含めた
本発明による金属Ｚｒ又はＨｆの製造方法を示す７０−
シートである。図中、 Ａ・・Ｚｒ又ＦｉＨｆのフッ素含有化合物、Ｂ・・金属
アルミニウム又は金属マグネシウム、Ｃ・・反応器、Ｄ
・・ＡＪＩＪ’、 ゛等、Ｅ・・金属Ｚｒ又はＨｆ５Ｉ
Ｉ’・・Ｚｒ又はＩ（ｆを含有する有機溶媒、Ｇ・・剥
離工程、Ｈ・・ＮＨ４＋、Ｆ−含有水溶液、Ｊ・・結晶
分離工程、Ｋ・・有機溶媒、Ｌ・・Ｔ（、ＯｌＭ−、分
離工程、Ｎ ６ ＠ ＡＪ−、Ｏ，又はλ４ｇＯ。 Ｐ・・ガス吸収工程、Ｑ・・ＨＦ 。 第１図
物から金属Ｚｒ又はＨｆを！＋！！造する方法を示す基
本的な７四−シート、第２図は本発明によりＺｒ又はＨ
ｆのフッ素含有化合物を得る方法の一例を示すフローシ
ート、第３図は副生じたＡｊＦ、等の処理工程を含めた
本発明による金属Ｚｒ又はＨｆの製造方法を示す７０−
シートである。図中、 Ａ・・Ｚｒ又ＦｉＨｆのフッ素含有化合物、Ｂ・・金属
アルミニウム又は金属マグネシウム、Ｃ・・反応器、Ｄ
・・ＡＪＩＪ’、 ゛等、Ｅ・・金属Ｚｒ又はＨｆ５Ｉ
Ｉ’・・Ｚｒ又はＩ（ｆを含有する有機溶媒、Ｇ・・剥
離工程、Ｈ・・ＮＨ４＋、Ｆ−含有水溶液、Ｊ・・結晶
分離工程、Ｋ・・有機溶媒、Ｌ・・Ｔ（、ＯｌＭ−、分
離工程、Ｎ ６ ＠ ＡＪ−、Ｏ，又はλ４ｇＯ。 Ｐ・・ガス吸収工程、Ｑ・・ＨＦ 。 第１図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ｌ ジルコニウム又はハフニウムのフッ素含有化合物を
不活性ガス気流中又は還元ガス気流中又は真空中におい
て、ｑθ０℃以上の温度に保持された金属アルミニウム
又は金属マグネシウムと接触させることを特徴とする、
金属ジルコニウム又は金属ハフニウムの製造方法Ｏ ユ アルキル燐酸の群、アルキルアリール燐酸の群、ア
ルキルアをンの群、中性燐酸エステルの群及びケトンの
各群からなる群よｊ９／種又は一種以上が選択され石油
系炭化水素で希釈された有機溶媒に抽出含有したジルコ
ニウム又はハフニウムを、Ｆ−９及びＨＨ，＋の少なく
とも７種を含有する原溶液と接触させることによシ水相
に移行せしめて得られたジルコニウム又はハフニウムの
フッ素含有化合物を、不活性ガス気流中又は還元ガス気
流中又は真空中において、亭００℃以上に保持された金
属アルミニウム又は金属マグネシウムと接触させること
を特徴とする金属ジルコニウム又は金属ハフニウムの製
造方法０
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12319483A JPS6017027A (ja) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | 金属ジルコニウム及び金属ハフニウムの製造方法 |
| EP84304460A EP0134643A3 (en) | 1983-07-08 | 1984-06-29 | Preparing metallic zirconium, hafnium or titanium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12319483A JPS6017027A (ja) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | 金属ジルコニウム及び金属ハフニウムの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6017027A true JPS6017027A (ja) | 1985-01-28 |
Family
ID=14854515
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12319483A Pending JPS6017027A (ja) | 1983-07-08 | 1983-07-08 | 金属ジルコニウム及び金属ハフニウムの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6017027A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007007498A1 (ja) | 2005-07-07 | 2007-01-18 | Nippon Mining & Metals Co., Ltd. | 高純度ハフニウム、高純度ハフニウムからなるターゲット及び薄膜並びに高純度ハフニウムの製造方法 |
| WO2013177847A1 (zh) * | 2012-05-30 | 2013-12-05 | 深圳市新星轻合金材料股份有限公司 | 一种工业生产金属锆并同步产出低温铝电解质的制备方法 |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57169029A (en) * | 1981-04-08 | 1982-10-18 | Nishimura Watanabe Chiyuushiyutsu Kenkyusho:Kk | Method for obtaining metallic titanium or titanium hydride from compound containing titanium and fluorine |
-
1983
- 1983-07-08 JP JP12319483A patent/JPS6017027A/ja active Pending
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