JPS60169494A - ５′−ハロゲノ−５′−デオキシブレデイニンおよびその製造法 - Google Patents
５′−ハロゲノ−５′−デオキシブレデイニンおよびその製造法Info
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- JPS60169494A JPS60169494A JP59026755A JP2675584A JPS60169494A JP S60169494 A JPS60169494 A JP S60169494A JP 59026755 A JP59026755 A JP 59026755A JP 2675584 A JP2675584 A JP 2675584A JP S60169494 A JPS60169494 A JP S60169494A
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- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
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- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
- Saccharide Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、新規な５′−ハロゲノ−５′−デオキシプレ
デイニンまたはその塩に関する。また本発明ｆｆ＝Ｏ Ｈ （式中、Ｒ＋はアミノ基の保護基、Ｒ２およびＲ５は水
酸基の保護基を示す）で表わされる化合物の水酸基をハ
ロゲン化した式 Ｉｔｌ−ＩＮ−ＣＩｌ−ＣＯＮＨ２ − Ｃ冨Ｏ ■ Ｎ１（ Ｒ３００Ｒ，。
デイニンまたはその塩に関する。また本発明ｆｆ＝Ｏ Ｈ （式中、Ｒ＋はアミノ基の保護基、Ｒ２およびＲ５は水
酸基の保護基を示す）で表わされる化合物の水酸基をハ
ロゲン化した式 Ｉｔｌ−ＩＮ−ＣＩｌ−ＣＯＮＨ２ − Ｃ冨Ｏ ■ Ｎ１（ Ｒ３００Ｒ，。
（式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ１、Ｒ２および現
は前記と同じ意味を有する）で表わされる化合物を得、
次いでアミノ基の保護基および場合により同時ｔこ水酸
基の保護基を脱離した後、イミダゾール閉環し、そして
水酸基の保護基が脱離されていない場合ｔこは、その保
護基を脱離することを特徴とするダーハロゲノーダーデ
オキシプレデイニンまたはその塩の製造法である。
は前記と同じ意味を有する）で表わされる化合物を得、
次いでアミノ基の保護基および場合により同時ｔこ水酸
基の保護基を脱離した後、イミダゾール閉環し、そして
水酸基の保護基が脱離されていない場合ｔこは、その保
護基を脱離することを特徴とするダーハロゲノーダーデ
オキシプレデイニンまたはその塩の製造法である。
プレデイニン（Ｂｒｅｄｉｎｉｎ ； ４’−カルバモ
イルー／−β−Ｄ−リボフラノシルーイミタゾリウムー
５−オレイト〕は特開昭１１−ｇ−５６ｇ９１．を号公
報により公知の物質であり、抗つイ１Ｖ７−活性、抗＋
１ｉ１ｉ瘍作用および免疫抑制作用などを有する。
イルー／−β−Ｄ−リボフラノシルーイミタゾリウムー
５−オレイト〕は特開昭１１−ｇ−５６ｇ９１．を号公
報により公知の物質であり、抗つイ１Ｖ７−活性、抗＋
１ｉ１ｉ瘍作用および免疫抑制作用などを有する。
本発明者は、抗腫瘍性を有するプレデイニン誘導体ｔこ
ついて種々研究を続けた結果、式％式％ （式中、Ｘはハロゲン原子を示す）で表わされる５′−
ハロゲノ−５′−デオキシプレデイニンがエールリッヒ
腹水癌細胞を移植したマウスｔこ対して優れた延命効果
を有することを見出し、本発明を完成したものである。
ついて種々研究を続けた結果、式％式％ （式中、Ｘはハロゲン原子を示す）で表わされる５′−
ハロゲノ−５′−デオキシプレデイニンがエールリッヒ
腹水癌細胞を移植したマウスｔこ対して優れた延命効果
を有することを見出し、本発明を完成したものである。
従って本発明の５′−ハロゲノ−５′−デオキシプレデ
イニンまたはその塩は制＋１９１剤として有圧である。
イニンまたはその塩は制＋１９１剤として有圧である。
上記の塩としては、ナトリウム塩、カリウム塩などのア
ルカリ金属塩、マグネシウム塩、カルシ類 ラム塩などのアルカリ土類金属塩などが挙げられる。
ルカリ金属塩、マグネシウム塩、カルシ類 ラム塩などのアルカリ土類金属塩などが挙げられる。
本発明で用いられる化合物〔り〕は、式原子またはＲ３
基、Ｒ２およびＲ３基は前記と同じ意味を有する）で表
わされるＡ Ｉ ＣＡ ＩＪボンドを酸性条件下光照射
し、２′位および３′位の水酸基が保護されていない場
合には、その水酸基を保護して式％式％ （式中％Ｒ２およびＲ３は前記と同じ意味を有する）で
表わされる化合物を得、該化合物〔３〕のアミノ基を適
当なアミノ保藤基で保肢すること１こより得られる。
基、Ｒ２およびＲ３基は前記と同じ意味を有する）で表
わされるＡ Ｉ ＣＡ ＩＪボンドを酸性条件下光照射
し、２′位および３′位の水酸基が保護されていない場
合には、その水酸基を保護して式％式％ （式中％Ｒ２およびＲ３は前記と同じ意味を有する）で
表わされる化合物を得、該化合物〔３〕のアミノ基を適
当なアミノ保藤基で保肢すること１こより得られる。
上記の水酸基の保護基としては、該酸化学または糖化学
の分野において使用される公知の水酸基の保護基が用い
られる。２′位および３′位の水酸基の保護基の例とし
ては、ホルミル、アセチル、メトキシアセチル、ベンゾ
イル、ｐ−クロロベンジルオキシアセチルなどのアシル
基、ｔ−ブチル、ベンジル、α−工１−キシエチル、α
−メトキシイソグロビル、テトラヒドロピラニル、メト
キシテトラヒドロピラニル、０−ニトロベンジル、ｔ−
ブチルジフェニルシリル基などが挙げられる。また２′
位および３′位の水酸基は隣接する酸素原子と共ｅこ環
状アセタールを形成する形で保護される。
の分野において使用される公知の水酸基の保護基が用い
られる。２′位および３′位の水酸基の保護基の例とし
ては、ホルミル、アセチル、メトキシアセチル、ベンゾ
イル、ｐ−クロロベンジルオキシアセチルなどのアシル
基、ｔ−ブチル、ベンジル、α−工１−キシエチル、α
−メトキシイソグロビル、テトラヒドロピラニル、メト
キシテトラヒドロピラニル、０−ニトロベンジル、ｔ−
ブチルジフェニルシリル基などが挙げられる。また２′
位および３′位の水酸基は隣接する酸素原子と共ｅこ環
状アセタールを形成する形で保護される。
このような保護基としては、インプロピリデン、メトキ
シメチレン、メトキシエチリデン、エトキシメチレン、
エトキシエチリデン、ベンジリデン、シクロアルキリデ
ン基などが挙げられる。
シメチレン、メトキシエチリデン、エトキシメチレン、
エトキシエチリデン、ベンジリデン、シクロアルキリデ
ン基などが挙げられる。
上記の保護基を導入するには、公知の方法によって行う
ことができるが、後ｔこ保護基を脱離する際に効率よく
、しかも一段階で脱離できるような保護基を選択するの
が好ましい。
ことができるが、後ｔこ保護基を脱離する際に効率よく
、しかも一段階で脱離できるような保護基を選択するの
が好ましい。
Ａ Ｉ ＣＡ ＩＪボシド〔２〕の酸性条件下光照射に
よる光化学反応ｔこより中間物質〔３〕が製造される。
よる光化学反応ｔこより中間物質〔３〕が製造される。
上記の酸性条件としてはＡＩＣＡ！Ｊボシド〔２〕がプ
ロ１−ン化され得るようなｐＨ範囲であればよいが、通
常のｐ ＨＯ，／〜グの条件下で行われる。このような
酸性条件とするには、通常、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸
などの無機酸や酢酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸を
適宜希釈した溶液として用いればよい。
ロ１−ン化され得るようなｐＨ範囲であればよいが、通
常のｐ ＨＯ，／〜グの条件下で行われる。このような
酸性条件とするには、通常、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸
などの無機酸や酢酸、トリフルオロ酢酸などの有機酸を
適宜希釈した溶液として用いればよい。
上記の光化学反応は、冷却下でも行い得るが、通常室温
で行われる。反応時間は、王としてＡＩＣＡ’Ｊボシド
〔λ〕の種類およびそのｌ農度により左右され、その濃
度が薄い程反応が早く進行し、逆に彩度が濃い程反応時
間を要するが、反応の終点は適当な担体の薄層クロマト
グラフィーまたは高速液体クロマトグラフィーなどｔこ
よってＡＩＣＡリボシｌ−”（、りおよび生成する中間
物質〔３〕を追跡することｅこより適宜決定することが
できる。
で行われる。反応時間は、王としてＡＩＣＡ’Ｊボシド
〔λ〕の種類およびそのｌ農度により左右され、その濃
度が薄い程反応が早く進行し、逆に彩度が濃い程反応時
間を要するが、反応の終点は適当な担体の薄層クロマト
グラフィーまたは高速液体クロマトグラフィーなどｔこ
よってＡＩＣＡリボシｌ−”（、りおよび生成する中間
物質〔３〕を追跡することｅこより適宜決定することが
できる。
通常は３０分ないし２〕時間位である。光照射方法とし
ては、紫外線電球、例えば水銀ランプの照射ｔこより行
われる。反応の際には、反応液中の酸素が存在するよう
な場合ｅこはオゾンｔこ変換し、それにより反応ｔこ悪
影響を与える恐れがあるので、不活性ガス、例えばアル
ゴンガス、窒素ガフ すとの気流下で反応を行うと副反
応を防止する点て有利である◇ このようにして得られた中間物質〔３〕は、中和された
後、減圧濃縮し、シリカゲル、活性アルミナ、吸着樹脂
などの４４２体を用いるクロマトグラフィー？こより精
製することができる。
ては、紫外線電球、例えば水銀ランプの照射ｔこより行
われる。反応の際には、反応液中の酸素が存在するよう
な場合ｅこはオゾンｔこ変換し、それにより反応ｔこ悪
影響を与える恐れがあるので、不活性ガス、例えばアル
ゴンガス、窒素ガフ すとの気流下で反応を行うと副反
応を防止する点て有利である◇ このようにして得られた中間物質〔３〕は、中和された
後、減圧濃縮し、シリカゲル、活性アルミナ、吸着樹脂
などの４４２体を用いるクロマトグラフィー？こより精
製することができる。
次に、中間物質〔３〕のアミン基を適当なアミノ保護基
で保護される。
で保護される。
上記のアミノ保護基としては、該酸化学又は、アミノ酸
化学の分野において使用される公知のアミノ基の保護基
が用いられる。例えば、ホルミルトリフルオロアセチル
、クロロアセチル、０−ニトロフェノキシアセチル、ｐ
−トルエンスルホニ／ｌ／、Ｏ−ニトロフェニルヌルフ
ェニルｔｘ ト（ｒ）アシル基、ベンジルオキシカルボ
ニル、ｏｆまたハｐ）−ブロモベンジルオキシカルボニ
ル、％（マたはｐ） −クロロベンジルオキシカルボニ
ル、ｐ−ニトロベンジルオキシカｔＬｔ ホニル、ｐ−
メトキシベンジルオキシカルボニル、ｐ−フエニｌレア
ゾヘンジルオキシカルボニ／Ｉ／、Ｐ − ｉ ｐ’−
メトキシフェニルアゾ）ベンジルオキシカルボニルナト
ンジルオキシカルボニル基、トリクロロエトキシカフレ
ボニル、メトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル
、ｔ−アミルオキシカルボニルソデロビルメトキシ力ル
ポニルなとの脂肪族オキシカルボニル基、コーフェニル
ーイソプロｄソキシ ）カルボニル、２ − トＩＪ
）レーイソプロ７３ツキシブｊ１１．ｉ 、ｌ：ニルな
どのアラルキルオキシカルボニル基、１リチル、メ ト
ギシ１− リチル、シメ トキシ１ーリチルなどの１−
リチル基、１−リメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシ
リルなどのシリル基なと′２；挙けられイ）。５上記の
保護基を導入するには、公知の方法しこよって行うこと
かできるが、後ｔこ保，１〔す基を脱−１する際ｅこ効
率よく、しかも一段階で脱崗（１できるような保護基を
選択するのが好ましい。
化学の分野において使用される公知のアミノ基の保護基
が用いられる。例えば、ホルミルトリフルオロアセチル
、クロロアセチル、０−ニトロフェノキシアセチル、ｐ
−トルエンスルホニ／ｌ／、Ｏ−ニトロフェニルヌルフ
ェニルｔｘ ト（ｒ）アシル基、ベンジルオキシカルボ
ニル、ｏｆまたハｐ）−ブロモベンジルオキシカルボニ
ル、％（マたはｐ） −クロロベンジルオキシカルボニ
ル、ｐ−ニトロベンジルオキシカｔＬｔ ホニル、ｐ−
メトキシベンジルオキシカルボニル、ｐ−フエニｌレア
ゾヘンジルオキシカルボニ／Ｉ／、Ｐ − ｉ ｐ’−
メトキシフェニルアゾ）ベンジルオキシカルボニルナト
ンジルオキシカルボニル基、トリクロロエトキシカフレ
ボニル、メトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル
、ｔ−アミルオキシカルボニルソデロビルメトキシ力ル
ポニルなとの脂肪族オキシカルボニル基、コーフェニル
ーイソプロｄソキシ ）カルボニル、２ − トＩＪ
）レーイソプロ７３ツキシブｊ１１．ｉ 、ｌ：ニルな
どのアラルキルオキシカルボニル基、１リチル、メ ト
ギシ１− リチル、シメ トキシ１ーリチルなどの１−
リチル基、１−リメチルシリル、ｔ−ブチルジメチルシ
リルなどのシリル基なと′２；挙けられイ）。５上記の
保護基を導入するには、公知の方法しこよって行うこと
かできるが、後ｔこ保，１〔す基を脱−１する際ｅこ効
率よく、しかも一段階で脱崗（１できるような保護基を
選択するのが好ましい。
このようにして得られた化合物〔ｑ〕は、非親Ｏ水性有
機溶媒で抽出することｔこより得られる。さらｔこ精製
を必要とする場合ｅこは、シリカゲル、活性アルミナ、
吸着樹脂なとの１１１体を用いるクロマトグラフィーに
より精製する二とができる。
機溶媒で抽出することｔこより得られる。さらｔこ精製
を必要とする場合ｅこは、シリカゲル、活性アルミナ、
吸着樹脂なとの１１１体を用いるクロマトグラフィーに
より精製する二とができる。
次ｅこ出発物質〔弘〕の水酸基をハロゲン化するのであ
るが、このハロゲン化は第３級有機アミンの存在下、式 ％式％ （式中、Ｒ４はメチル、ｐ−）ＩＪルまたは１゛リフル
オロメチル基、Ｙはハロゲン原子を示す）で表ヌ わされる＼ルホニルハライドを反応させ、次いでア士ト
ン、メチルエチルケｌ−ン、ジメチルホルムアミド ＰＡ）なとの如き有機溶媒中、式 （式中、Ｍはアルカリ金属原子、Ｘはハロゲン原子を示
す）で表わされるハロゲン化アルカリ金属をＦｘＬＣさ
せることにより行われる。上記のハロゲン化アルカリ金
属との反応は通常室温ないしは加熱下で行われる。
るが、このハロゲン化は第３級有機アミンの存在下、式 ％式％ （式中、Ｒ４はメチル、ｐ−）ＩＪルまたは１゛リフル
オロメチル基、Ｙはハロゲン原子を示す）で表ヌ わされる＼ルホニルハライドを反応させ、次いでア士ト
ン、メチルエチルケｌ−ン、ジメチルホルムアミド ＰＡ）なとの如き有機溶媒中、式 （式中、Ｍはアルカリ金属原子、Ｘはハロゲン原子を示
す）で表わされるハロゲン化アルカリ金属をＦｘＬＣさ
せることにより行われる。上記のハロゲン化アルカリ金
属との反応は通常室温ないしは加熱下で行われる。
上記ハロゲン化反応により得られた式〔５〕で表わされ
るハロゲン化合物を反応液から採取するには、析出した
副生成物をｒ去し、反応溶媒を留液 去し、残渣ｐこ非親水性有機溶媒と水性溶媒を加えて分
液し、有機溶媒層を減圧濃縮することｅこより得られる
。ハロゲン化アルカリ金属としてヨウ化アルカリ金属、
例えばヨウ化リチウムを使用した場合には、上記水性溶
液としてはチオ硫酸すｌ−ＩＪウム水溶液を用いて分液
することにより脱色できる。得られたハロゲノ化合物〔
５〕をさらに精製する場合ｅこは、シリカゲル、活性ア
ルミナ、吸着樹脂などの担体を用いるクロマトグラフィ
ーにより精製することができる。
るハロゲン化合物を反応液から採取するには、析出した
副生成物をｒ去し、反応溶媒を留液 去し、残渣ｐこ非親水性有機溶媒と水性溶媒を加えて分
液し、有機溶媒層を減圧濃縮することｅこより得られる
。ハロゲン化アルカリ金属としてヨウ化アルカリ金属、
例えばヨウ化リチウムを使用した場合には、上記水性溶
液としてはチオ硫酸すｌ−ＩＪウム水溶液を用いて分液
することにより脱色できる。得られたハロゲノ化合物〔
５〕をさらに精製する場合ｅこは、シリカゲル、活性ア
ルミナ、吸着樹脂などの担体を用いるクロマトグラフィ
ーにより精製することができる。
本発明ｔこおいては、上記ハロゲン化法の別法として、
ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ） の如き有機溶媒中四
塩化炭素−または四臭化炭素−（Ｃ６ｔｓ＋ｓｐを反応
させる方法、ピリジンの如き有機溶媒中５ＯＣｊｈまた
は５ＯｚＣ１ｈを反応させる方法、ＤＭＦの如き有機溶
媒中（Ｃ６Ｈｓ １５ Ｐジハロゲナイドを反応させる
方法、ＤＭＦの如き有機溶媒中Ｃ（Ｃ６ＨｓＯ）３ＰＣ
Ｈ５Ｉ ）を反応させる方法も使用するのであるが、公
知のアミノ保護基σつ脱離方法ｅこより行われる。例え
ばｔ−ブチ！レオキシカルツミニル基は１−リフルオロ
酢酸で処理すること？こより行われる。
ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ） の如き有機溶媒中四
塩化炭素−または四臭化炭素−（Ｃ６ｔｓ＋ｓｐを反応
させる方法、ピリジンの如き有機溶媒中５ＯＣｊｈまた
は５ＯｚＣ１ｈを反応させる方法、ＤＭＦの如き有機溶
媒中（Ｃ６Ｈｓ １５ Ｐジハロゲナイドを反応させる
方法、ＤＭＦの如き有機溶媒中Ｃ（Ｃ６ＨｓＯ）３ＰＣ
Ｈ５Ｉ ）を反応させる方法も使用するのであるが、公
知のアミノ保護基σつ脱離方法ｅこより行われる。例え
ばｔ−ブチ！レオキシカルツミニル基は１−リフルオロ
酢酸で処理すること？こより行われる。
上記のアミン保護基の脱離化においては、同時化
ｔこ２”、 ３’−０−保護基も脱離基してもより・。
例えば２′位および３′位の水酸基がイソプロピリデン
基で保護され、アミノ基がｔ−ブチルオキシカフしｓ４
ニル基である場合ｅこは、一段階で脱離される。
基で保護され、アミノ基がｔ−ブチルオキシカフしｓ４
ニル基である場合ｅこは、一段階で脱離される。
このようにして得られた式
％式％
（式中、Ｒ２′は水素原子またはＲ２基、Ｒ１は水素原
子またはＲ１基を有し、Ｘ、Ｒ２およびＲ５は前記と同
し意味を有する）で表わされる化合物をイミダゾール閉
環するのであるが、適当な有機溶媒、例えばジメチルヌ
ルホキサイド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ１
−アミド、ヘキサメチレンホヌポリルアミドなとの有（
長浴媒中、ギ酸、オｌレトギ酸エステル、ポルムイミノ
エーテル、ジェトキシメチルアセテートまたはＮ−ホル
ミルモルホリンなどと加熱する方法、二硫化炭素のピリ
ジン溶液、ジチオギ酸アルカリまたはチオ尿素と反応さ
せ、次いて脱硫反応に付す方法などＥこより行われる。
子またはＲ１基を有し、Ｘ、Ｒ２およびＲ５は前記と同
し意味を有する）で表わされる化合物をイミダゾール閉
環するのであるが、適当な有機溶媒、例えばジメチルヌ
ルホキサイド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセ１
−アミド、ヘキサメチレンホヌポリルアミドなとの有（
長浴媒中、ギ酸、オｌレトギ酸エステル、ポルムイミノ
エーテル、ジェトキシメチルアセテートまたはＮ−ホル
ミルモルホリンなどと加熱する方法、二硫化炭素のピリ
ジン溶液、ジチオギ酸アルカリまたはチオ尿素と反応さ
せ、次いて脱硫反応に付す方法などＥこより行われる。
このようｅこして得られた式
（式中、Ｘ 、 Ｒ’２およびＲ／、は前記と同じ意味
を有する）で表わされる化合物は、２′位および１位の
水酸基の保護基が脱離されていない場合ｅこは、該酸化
学または糖化学において用いられる公知の脱離方法１こ
より行えばよい。
を有する）で表わされる化合物は、２′位および１位の
水酸基の保護基が脱離されていない場合ｅこは、該酸化
学または糖化学において用いられる公知の脱離方法１こ
より行えばよい。
を用いるカラムクロマトグラフィーｔこより分離、楯゛
製することができる。
製することができる。
的
次（コ本目〜化合物〔／〕のエールリッヒ腹水癌細胞を
移植したマウスに対する延命効果を試験した結果をこつ
いて述べる。
移植したマウスに対する延命効果を試験した結果をこつ
いて述べる。
■試験方法
動物はＩＣＲ系マウスを用い、薬剤投与群は７群５匹、
対照群は７匹とし、エールす・ノヒ服水癌細胞、ｌ Ｘ
／ ０’個を腹腔内ｔこ移植し、１ｇ時間後方・ら７
１７回７日間薬剤を５０１ｎｇ／ ｋｇ １１！Ｌ腔内
１こ投与した。対照群の平均生存日数を７００％として
薬剤投与群の生存日数と比較して判定した。
対照群は７匹とし、エールす・ノヒ服水癌細胞、ｌ Ｘ
／ ０’個を腹腔内ｔこ移植し、１ｇ時間後方・ら７
１７回７日間薬剤を５０１ｎｇ／ ｋｇ １１！Ｌ腔内
１こ投与した。対照群の平均生存日数を７００％として
薬剤投与群の生存日数と比較して判定した。
文・１照群の平均生存日数
■試験払果
５’−りｒ’ＯＳ’ ｆ’オキシブレディニン Ｔ／Ｃ
１５１，、：ｒ 幅 次ｅこ、実施例を挙げて本発明の目的化合物〔／〕の製
造例ｔこついて述べる。
１５１，、：ｒ 幅 次ｅこ、実施例を挙げて本発明の目的化合物〔／〕の製
造例ｔこついて述べる。
尚、実施例中で使用した薄層クロマ１−グラフィー（Ｔ
ＬＣ）は特記しない限り次の担体および展開溶媒を用い
た。
ＬＣ）は特記しない限り次の担体および展開溶媒を用い
た。
４１Ｊ体； ンリヵゲ）Ｖ （メルク社製、Ａｒｔ５７
１５）展開溶媒； Ａ；クロロホルム−メタノール（５：／ＩＢ；クロロホ
ルム−メタノール（１０：／）Ｃ；クロロホルム−メタ
ノール−酢酸（グｏ：２０：／） Ｄ；クロロポルム−酢酸エチル（２： ／）核磁気共鳴
ヌペク）／しのシグナルの帰納ｔこおいては、リボーヌ
骨格の位置番号は、イミダゾール環が開環した場合てあ
っても、プレディニンと同じ位１１こ対応する番号で示
す。
１５）展開溶媒； Ａ；クロロホルム−メタノール（５：／ＩＢ；クロロホ
ルム−メタノール（１０：／）Ｃ；クロロホルム−メタ
ノール−酢酸（グｏ：２０：／） Ｄ；クロロポルム−酢酸エチル（２： ／）核磁気共鳴
ヌペク）／しのシグナルの帰納ｔこおいては、リボーヌ
骨格の位置番号は、イミダゾール環が開環した場合てあ
っても、プレディニンと同じ位１１こ対応する番号で示
す。
実施例 ／
２−アミノ−Ｎ−（２，３−０〜インプロピリチン−β
−Ｄ−リボフラノシル）マロンアミド ２’、３’ −０−イ’／ ７”ｌ’ビリデン−ＡＩｃ
ＡリボシＦ’ Ｊ７ｇｍｇを０．０３ Ｎ酢酸ＳＯＯｍ
ｅに溶がし、アルゴン気流下高圧水銀燈（４１００Ｗ、
パイレックヌ・フィルター伺）を２０時間照射した。反
応液を／Ｎ水酸化すＩ・リウム水溶液で中和し、減圧濃
縮した。残渣をできるだけ少量の５０％含水メタノール
に溶かし、これｅこシリヵゲ／Ｌ−（ワコーゲｔｖＣ−
，２００） 乙ｆ ヲ加え、混合した後、カラムに充填
した。クロロホルム−メタノール（２ｏ：／〜１５：／
）で溶出するカラムクロマトグラフィーを行った。Ｒｆ
Ａ＝ ０．３３付近のフラクションを集め、減圧乾固し
てあめ状の表題の目的物を得た。
−Ｄ−リボフラノシル）マロンアミド ２’、３’ −０−イ’／ ７”ｌ’ビリデン−ＡＩｃ
ＡリボシＦ’ Ｊ７ｇｍｇを０．０３ Ｎ酢酸ＳＯＯｍ
ｅに溶がし、アルゴン気流下高圧水銀燈（４１００Ｗ、
パイレックヌ・フィルター伺）を２０時間照射した。反
応液を／Ｎ水酸化すＩ・リウム水溶液で中和し、減圧濃
縮した。残渣をできるだけ少量の５０％含水メタノール
に溶かし、これｅこシリヵゲ／Ｌ−（ワコーゲｔｖＣ−
，２００） 乙ｆ ヲ加え、混合した後、カラムに充填
した。クロロホルム−メタノール（２ｏ：／〜１５：／
）で溶出するカラムクロマトグラフィーを行った。Ｒｆ
Ａ＝ ０．３３付近のフラクションを集め、減圧乾固し
てあめ状の表題の目的物を得た。
収量：３３ｍ？Ｉ収率／／グ俸）
ＴＬＣ； Ｒｆｃ％ ０．３３
Ｍ ａｓｓ （ＣＩ 、 イソブタｙ） ； ２９０
（Ｍｌ（）７５ （ｂｒ、、２Ｈ，Ｈ−５’）、／１．
０９、グ／２ （各ｓ、、／Ｈ，Ｈ−３） 、ｌＡ、２
ｇ （ｂｒ 、 ｓ、、／Ｈ，Ｈ−グ）、≠乙Ｓ （ｄ
、、／Ｈ，Ｈ−３’）１、！；７／ （ｂｒ、ｓ、、／
Ｈ，Ｈ−／’）、７．７５ （ｂｒ、２Ｈ，ＮＨ２）、
１．’ＩＯ（ｂｒ 、、２Ｈ，ＮＨ２）、ｇ、７ （ｂ
ｒ 、、／Ｈ，Ｎ−Ｈ） 実施例 認 ２−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−Ｎ−（，２，
３−０−イングロビリテ゛ンーβ−Ｄ−リボフラノシル
）マロンアミド ２−アミノーＮ−Ｌ２，３−０−イソプロピリデン−β
−Ｄ−リボフラノシル）マロンアミドｊグア２およびｔ
−ブチル−８−ゲージメチルビリミジン−一−イルーチ
オールカーボネートタ９／２をジオキサン７ＱｍｌＶに
溶かし、これにトリエチルアミン３． ’！ ４’ ｍ
ｅを加え、５０℃で一夜櫓拌した。
（Ｍｌ（）７５ （ｂｒ、、２Ｈ，Ｈ−５’）、／１．
０９、グ／２ （各ｓ、、／Ｈ，Ｈ−３） 、ｌＡ、２
ｇ （ｂｒ 、 ｓ、、／Ｈ，Ｈ−グ）、≠乙Ｓ （ｄ
、、／Ｈ，Ｈ−３’）１、！；７／ （ｂｒ、ｓ、、／
Ｈ，Ｈ−／’）、７．７５ （ｂｒ、２Ｈ，ＮＨ２）、
１．’ＩＯ（ｂｒ 、、２Ｈ，ＮＨ２）、ｇ、７ （ｂ
ｒ 、、／Ｈ，Ｎ−Ｈ） 実施例 認 ２−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−Ｎ−（，２，
３−０−イングロビリテ゛ンーβ−Ｄ−リボフラノシル
）マロンアミド ２−アミノーＮ−Ｌ２，３−０−イソプロピリデン−β
−Ｄ−リボフラノシル）マロンアミドｊグア２およびｔ
−ブチル−８−ゲージメチルビリミジン−一−イルーチ
オールカーボネートタ９／２をジオキサン７ＱｍｌＶに
溶かし、これにトリエチルアミン３． ’！ ４’ ｍ
ｅを加え、５０℃で一夜櫓拌した。
反応液を水冷し、不溶物を一過し、酢酸エチルで〇洗浄
した。ρ液と洗液を合ぜて氷水３００ｍ１＆こ注ぎ、酢
酸エチル１０Ｏｍｅで５回抽出した。酢酸エチル層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。残γｎを
出来るだけ少量のクロロホルムに溶かし、これをシリカ
ゲル（ワコーゲルＣ−，：Ｘ０Ｏ） ／乙０７のカラム
にチャージし、クロロ７１；ルムーメクノー／ｌ’（３
０：／ｌ で溶出するフラッシュクロマ１−グラフィー
を行つｆこ。Ｒｆｎ ＝ ０．４’ ２ 付近のフラク
ションを集め、減圧乾固してクリーム色のあわ状の表題
の化合物を得た。収量ｊ乙７７（収率７７．０％） ＴＬＣｉ ＲｆＢ＝０．’１２ ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ 、Ｄ２０添加、１００ＭＨｚ１３
．７３ （ｂｒ、ｓ、、 ２Ｈ，Ｈ−５’） 、４ｔ、
３／ （ｂｒ、ｓ、、 ／Ｈ，Ｈ−４”） 、ｌＡ、ｓ
７ （ｂｒ、、 ／Ｈ。
した。ρ液と洗液を合ぜて氷水３００ｍ１＆こ注ぎ、酢
酸エチル１０Ｏｍｅで５回抽出した。酢酸エチル層を無
水硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧濃縮した。残γｎを
出来るだけ少量のクロロホルムに溶かし、これをシリカ
ゲル（ワコーゲルＣ−，：Ｘ０Ｏ） ／乙０７のカラム
にチャージし、クロロ７１；ルムーメクノー／ｌ’（３
０：／ｌ で溶出するフラッシュクロマ１−グラフィー
を行つｆこ。Ｒｆｎ ＝ ０．４’ ２ 付近のフラク
ションを集め、減圧乾固してクリーム色のあわ状の表題
の化合物を得た。収量ｊ乙７７（収率７７．０％） ＴＬＣｉ ＲｆＢ＝０．’１２ ＮＭＲ（ＣＤＣＩｓ 、Ｄ２０添加、１００ＭＨｚ１３
．７３ （ｂｒ、ｓ、、 ２Ｈ，Ｈ−５’） 、４ｔ、
３／ （ｂｒ、ｓ、、 ／Ｈ，Ｈ−４”） 、ｌＡ、ｓ
７ （ｂｒ、、 ／Ｈ。
Ｈ−ｆ３’）、ｖ、乙９ （ｓ、、／Ｈ，Ｈ−３） 、
’Ａｇ７ ｆｄ、、／ｆ−Ｉ、Ｈ−２′）、タフ９ ｔ
ｂｒ、ｓ、／Ｈ、Ｉ−１−／す Ｍａｓｓ （ＣＩ 、イソブクｙ）ｍ／ｅ ；３９０（
ＭＨ”） 実施例 ３ ２−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−Ｎ＝５−デ第
１−シーβ−Ｄ−リボフラノシル）マロンアミド ２−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−Ｎ−（ｊ、３
−０−インプロピリデン−β−Ｄ−リボフラノシル）マ
ロンアミド／／乙７ｍｇ （３７）１モル）をピリジン
ｉ、：ｚｍｅ＋こ溶かし、これに水冷下メクンヌルホニ
ルクロライド３５０μｌ（／、５倍モｗｌを加えた後、
室温で３０分間攪拌した。反応ｒＬｔこ水２ｍｌを加え
て減圧濃縮した後、残渣ｔこ酢酸エチルと水を加えて分
液した。酢酸エチル層をワットマン／ＰＳ？７”ｉ紙で
濾過した後、減圧濃縮した。得られた泡状物質を５０℃
で７時間減圧乾燥した。
’Ａｇ７ ｆｄ、、／ｆ−Ｉ、Ｈ−２′）、タフ９ ｔ
ｂｒ、ｓ、／Ｈ、Ｉ−１−／す Ｍａｓｓ （ＣＩ 、イソブクｙ）ｍ／ｅ ；３９０（
ＭＨ”） 実施例 ３ ２−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−Ｎ＝５−デ第
１−シーβ−Ｄ−リボフラノシル）マロンアミド ２−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−Ｎ−（ｊ、３
−０−インプロピリデン−β−Ｄ−リボフラノシル）マ
ロンアミド／／乙７ｍｇ （３７）１モル）をピリジン
ｉ、：ｚｍｅ＋こ溶かし、これに水冷下メクンヌルホニ
ルクロライド３５０μｌ（／、５倍モｗｌを加えた後、
室温で３０分間攪拌した。反応ｒＬｔこ水２ｍｌを加え
て減圧濃縮した後、残渣ｔこ酢酸エチルと水を加えて分
液した。酢酸エチル層をワットマン／ＰＳ？７”ｉ紙で
濾過した後、減圧濃縮した。得られた泡状物質を５０℃
で７時間減圧乾燥した。
この物質をメチルエチｌレケトン３０ｍ１に溶かし、こ
れ（・こヨウ化リチウムｇ０３Ｉｎｇ（２倍モ／Ｉ／）
を加れ、２時間加熱還流した。析生物を戸去し、Ｐ顯を
減圧濃縮した。残ｙ＋”ｆを酢酸エチル５０ｍ１ｔこ溶
かし、０．３Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液、水の順で洗
浄した後、酢酸エチル層をワットマン／ ＰＳＦｉ紙で
濾過し、減圧濃縮した。残漬をできるだけ少量のクロロ
ホルムに溶かし、これをシリカゲル（ワコーゲル、Ｃ−
２００＋３０９のカラム１こチャージし、クロロホルム
ーメクノール（４０：／）で溶出するカラムクロマトグ
ラフィーにより事前製した。ＲｆＢ＝０．４’乙伺近の
フラクションを集め、減圧乾固して表題の目的物を得た
。収弾／／ｇ乙ｍ９ ＋収率７９２％） Ｍａｓｓ（ＣＩ 、イソブク７） ； ５００ （ＭＨ
’°）ＰＭＲ（１００ＭＨ２，ＣＤＣｌ３．Ｄ２０添加
）δｐｐｍ ；／、 ＩＩ乙 （ｓ、、９Ｈ１−（ＣＨ
３）２） 、／、３グ、／、５３（各ｓ、、ン（ＣＨｓ
ｈ） 、３．．２９ （ｍ、、２Ｈ，Ｈ−５’） 、１
Ａ２２ （ｍ、、／Ｈ，Ｈ−＜”） 、 １１．７／
（ｍ、＋／Ｈ＋ Ｈ−２’＋ Ｈ−Ｊ’） 、ｊ５ざ（
ｄ、、／Ｈ，Ｈ−／’） ＴＬＣ；ＲｆＢ＝０．ｔｌ乙 実施例 １ ２−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−Ｎ−［２，３
−０−インプロピリデン−５−クロロ−５−デオキシ−
β−Ｄ−リボフラノシル）マロンアミド ｊ−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−Ｎ−（２，３
−０−イングロビリデンーＤ−リボフラノシル）マロン
アミド９０２ｍ？ （２３２ｍモル）をピリジン／ｊ；
ｍ１４に溶かし、これに水冷下メタン加え、室温で３時
間攪拌した。反応液に−〜〜を加えて減圧濃縮し、残渣
ｔこクロロホルム３Ｑｍｅと水７３ｍＢを加えて振とう
し、分液した。クロロホルム層をソットマン／ＰＳ濾紙
で一過し、減圧濃縮した後、５０℃で３時間真空乾燥し
て粗製の５−〇−メタンスルホニル体を得た。これをメ
チルエチＩレケトン２ＱｍｌＶに浴かし、これ１こ塩化
リチウム／９乙■（２倍モル）を加えて、６時間加熱還
流した。不溶物を戸去し、アセトンで洗浄し、ろ液と洗
ｍｌ液を合せて減圧濃縮した。残渣を少量のクロロホル
ムに溶かし、これをシリカゲル（ワコーゲル、Ｃ−２０
０４、！３？のカラムにチャージし、クロロホルム−酢
酸エチルの成分比をｔ：／、３：／、２：／の順に変化
させる溶媒系で溶出するカラムクロマトグラフィーｔこ
より精製した。
れ（・こヨウ化リチウムｇ０３Ｉｎｇ（２倍モ／Ｉ／）
を加れ、２時間加熱還流した。析生物を戸去し、Ｐ顯を
減圧濃縮した。残ｙ＋”ｆを酢酸エチル５０ｍ１ｔこ溶
かし、０．３Ｎチオ硫酸ナトリウム水溶液、水の順で洗
浄した後、酢酸エチル層をワットマン／ ＰＳＦｉ紙で
濾過し、減圧濃縮した。残漬をできるだけ少量のクロロ
ホルムに溶かし、これをシリカゲル（ワコーゲル、Ｃ−
２００＋３０９のカラム１こチャージし、クロロホルム
ーメクノール（４０：／）で溶出するカラムクロマトグ
ラフィーにより事前製した。ＲｆＢ＝０．４’乙伺近の
フラクションを集め、減圧乾固して表題の目的物を得た
。収弾／／ｇ乙ｍ９ ＋収率７９２％） Ｍａｓｓ（ＣＩ 、イソブク７） ； ５００ （ＭＨ
’°）ＰＭＲ（１００ＭＨ２，ＣＤＣｌ３．Ｄ２０添加
）δｐｐｍ ；／、 ＩＩ乙 （ｓ、、９Ｈ１−（ＣＨ
３）２） 、／、３グ、／、５３（各ｓ、、ン（ＣＨｓ
ｈ） 、３．．２９ （ｍ、、２Ｈ，Ｈ−５’） 、１
Ａ２２ （ｍ、、／Ｈ，Ｈ−＜”） 、 １１．７／
（ｍ、＋／Ｈ＋ Ｈ−２’＋ Ｈ−Ｊ’） 、ｊ５ざ（
ｄ、、／Ｈ，Ｈ−／’） ＴＬＣ；ＲｆＢ＝０．ｔｌ乙 実施例 １ ２−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−Ｎ−［２，３
−０−インプロピリデン−５−クロロ−５−デオキシ−
β−Ｄ−リボフラノシル）マロンアミド ｊ−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−Ｎ−（２，３
−０−イングロビリデンーＤ−リボフラノシル）マロン
アミド９０２ｍ？ （２３２ｍモル）をピリジン／ｊ；
ｍ１４に溶かし、これに水冷下メタン加え、室温で３時
間攪拌した。反応液に−〜〜を加えて減圧濃縮し、残渣
ｔこクロロホルム３Ｑｍｅと水７３ｍＢを加えて振とう
し、分液した。クロロホルム層をソットマン／ＰＳ濾紙
で一過し、減圧濃縮した後、５０℃で３時間真空乾燥し
て粗製の５−〇−メタンスルホニル体を得た。これをメ
チルエチＩレケトン２ＱｍｌＶに浴かし、これ１こ塩化
リチウム／９乙■（２倍モル）を加えて、６時間加熱還
流した。不溶物を戸去し、アセトンで洗浄し、ろ液と洗
ｍｌ液を合せて減圧濃縮した。残渣を少量のクロロホル
ムに溶かし、これをシリカゲル（ワコーゲル、Ｃ−２０
０４、！３？のカラムにチャージし、クロロホルム−酢
酸エチルの成分比をｔ：／、３：／、２：／の順に変化
させる溶媒系で溶出するカラムクロマトグラフィーｔこ
より精製した。
ＲｆＤ＝０．２ｇ付近のフラクションを集めて減圧乾固
して表題の目的物を白色泡状物として得た。
して表題の目的物を白色泡状物として得た。
収量６９０ｍｇｋ収率７３％）
Ｔ ＬＣ； ＲｆＤ＝０．２ｇ
Ｐ ＭＲ（／ ００ＭＨｚ 、ＤＭＳ Ｏｄ６Ｄ２０）
δＴＭＳ 、 ／、 ３ ｏ、／、グ５ 〔各Ｓ、、３
Ｈ＋３１（。
δＴＭＳ 、 ／、 ３ ｏ、／、グ５ 〔各Ｓ、、３
Ｈ＋３１（。
２２ｍ
ンＣ（Ｃｌ５）２） 、３．乙２ （ｍ、、２Ｈ，Ｈ−
５’） 、弘Ｏｇ （ｔ、、／Ｈ，Ｈ−グ′）、≠５ヶ
〜４４７グ（ｍ、、ＪＲ，Ｈ−３，Ｈ−２’、Ｈ−１’
） 、！；、４＋！０ （ｄ、、／Ｈ，Ｈ−／’） 実施例 ５ Ｊ−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−Ｎ−（＋２．
Ｊ−０−インプロピリデン−５−プロモー５−デオキシ
−β−Ｄ−リボフラノシル） マロンアミド 実施例３ｔこおいて、塩化リチウム／９乙■の代りｔこ
臭化リチウム’ｌ ０３ ｍｇを用い、またカラムクロ
マトグラフィーの溶媒系としてクロロホルム−メタノー
ル（＋７！Ｏ：／） を用いて表題の目的物を白色泡状
物として得た。収率ｇ Ｏ，４７％ＴＬＣ； ＲｆＢ＝
（７，４’４’ ＰＭＲ（１００，ＭＨｚ 、ＣＤＣｊｂ−Ｄ２０）δＭ
Ｓ ｐｐｍ；／、３１１．１５グ（各ｓ、、 ３１１＋３１
−■、 ；Ｃ（ＣＨ３）２） 、３．ゲタ ｆｑ、、２
Ｈ，Ｈ−４’） 、＃、１１ｏ （ｍ、＋／ｆ（＋ Ｈ
−１’ｌ 、ｔｔｂ乙〜４４．７ ’ｌ （ｍ、。
５’） 、弘Ｏｇ （ｔ、、／Ｈ，Ｈ−グ′）、≠５ヶ
〜４４７グ（ｍ、、ＪＲ，Ｈ−３，Ｈ−２’、Ｈ−１’
） 、！；、４＋！０ （ｄ、、／Ｈ，Ｈ−／’） 実施例 ５ Ｊ−ｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−Ｎ−（＋２．
Ｊ−０−インプロピリデン−５−プロモー５−デオキシ
−β−Ｄ−リボフラノシル） マロンアミド 実施例３ｔこおいて、塩化リチウム／９乙■の代りｔこ
臭化リチウム’ｌ ０３ ｍｇを用い、またカラムクロ
マトグラフィーの溶媒系としてクロロホルム−メタノー
ル（＋７！Ｏ：／） を用いて表題の目的物を白色泡状
物として得た。収率ｇ Ｏ，４７％ＴＬＣ； ＲｆＢ＝
（７，４’４’ ＰＭＲ（１００，ＭＨｚ 、ＣＤＣｊｂ−Ｄ２０）δＭ
Ｓ ｐｐｍ；／、３１１．１５グ（各ｓ、、 ３１１＋３１
−■、 ；Ｃ（ＣＨ３）２） 、３．ゲタ ｆｑ、、２
Ｈ，Ｈ−４’） 、＃、１１ｏ （ｍ、＋／ｆ（＋ Ｈ
−１’ｌ 、ｔｔｂ乙〜４４．７ ’ｌ （ｍ、。
３Ｈ，Ｈ−３、Ｈ−２′、Ｈ−３’ｌ 、＆ ６２ （
ｄ、。
ｄ、。
／ Ｈ，Ｈ−／’）
実施例 ６
５′−クロロ−５′−デオキシプレデイニン実施例ｑで
得たコーｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−Ｎ−（２
，３−０−インプロピリデン−５−クロロ−５−デオキ
シ−β−Ｄ−リボフラノシル）マロンアミド５７０ｍｇ
を９０％トリフルオロ酢酸水ｉｓｍｅｔこ溶かし、室温
で３０分間攪拌した。反応後、水溶の温度を２０℃以下
に保ちながら反応液を減圧濃縮した。残漬ｔこ水を加え
て減圧濃縮する操作を３回繰り返した後、凝縮物ｔこイ
ソフロパノールを刃口えて減圧濃縮する操作をノ回操り
収した。残渣を少１汁のメタノールに溶かし、これをシ
リカゲル（ワコーゲルＣ−２００）２１とまぶした後、
シリカゲル１５７を充填したカラムｔこチャージし、ク
ロロホルム−メタノールの成分比を２０ ：／、１０
： ／、７：／、５：／の順に変化させる溶媒系で浴出
するカラムクロマＩ・グラフィーを行った。Ｒｆｃ ＝
０．２ Ｓ付近を有するフラクションを集めて減圧乾
固して２−アミノ−Ｎ−（５−クロロ−５−デオキシ−
β−Ｄ−リボフラノシル）マロンアミドを飴状として得
た。これを５０℃で３時間真空乾燥した後、ジメチルホ
ルムアミドｇｍｅに溶かし、これにオＪｖ）ギ酸エチル
０．２０２ｍ１を加えて９０℃で２５分間攪拌した。
得たコーｔ−ブチルオキシカルボニルアミノ−Ｎ−（２
，３−０−インプロピリデン−５−クロロ−５−デオキ
シ−β−Ｄ−リボフラノシル）マロンアミド５７０ｍｇ
を９０％トリフルオロ酢酸水ｉｓｍｅｔこ溶かし、室温
で３０分間攪拌した。反応後、水溶の温度を２０℃以下
に保ちながら反応液を減圧濃縮した。残漬ｔこ水を加え
て減圧濃縮する操作を３回繰り返した後、凝縮物ｔこイ
ソフロパノールを刃口えて減圧濃縮する操作をノ回操り
収した。残渣を少１汁のメタノールに溶かし、これをシ
リカゲル（ワコーゲルＣ−２００）２１とまぶした後、
シリカゲル１５７を充填したカラムｔこチャージし、ク
ロロホルム−メタノールの成分比を２０ ：／、１０
： ／、７：／、５：／の順に変化させる溶媒系で浴出
するカラムクロマＩ・グラフィーを行った。Ｒｆｃ ＝
０．２ Ｓ付近を有するフラクションを集めて減圧乾
固して２−アミノ−Ｎ−（５−クロロ−５−デオキシ−
β−Ｄ−リボフラノシル）マロンアミドを飴状として得
た。これを５０℃で３時間真空乾燥した後、ジメチルホ
ルムアミドｇｍｅに溶かし、これにオＪｖ）ギ酸エチル
０．２０２ｍ１を加えて９０℃で２５分間攪拌した。
さらｔこオルトギ酸エチ）ｖＯ，／ ｍｅを追加し、７
５分間攪拌した後、減圧濃縮した。残漬をシリカゲル（
ワコーゲルＣ−２００＞ ２ｆにまぶした後、シリカゲ
／ｌ／１５７を充填したカラムにチャージし、クロロホ
ルム−メタノールの成分比を２０：／、１０：／、７：
／、５：／、９ｔ：／の順に変化させる溶媒系で浴出す
るカラムクロマ１′クラフイーをこより昂′製した。Ｒ
ｆｃ＝０．ケタ付近のフラクションを集めて減圧乾固し
て５′−クロロ−５′−デオキシブレデイニンを得た。
５分間攪拌した後、減圧濃縮した。残漬をシリカゲル（
ワコーゲルＣ−２００＞ ２ｆにまぶした後、シリカゲ
／ｌ／１５７を充填したカラムにチャージし、クロロホ
ルム−メタノールの成分比を２０：／、１０：／、７：
／、５：／、９ｔ：／の順に変化させる溶媒系で浴出す
るカラムクロマ１′クラフイーをこより昂′製した。Ｒ
ｆｃ＝０．ケタ付近のフラクションを集めて減圧乾固し
て５′−クロロ−５′−デオキシブレデイニンを得た。
収−４ｉ’／ ７ ／ ｍｇ（収率５０９％）。
融点；７９９〜２００℃（分解） （メタノール・より
再結晶） ’１’ ＬＣ： Ｒｆｃ ＝０．’ｌりＵＶｉλ慝’ｚ
２ ｇ Ｏｎｍ Ｐ ＭＲ（／ ＯＱＭ）ｉｚ 、 ＤＭＳＯ−ｄ６−０
２０）ＭＳ δ ｉ ３．ｇ ４’ （ｂｒ 、、、２Ｈ，Ｈ−５’
） 、／ｌ、０１１ｐｍ ＋ｍ、、ｍ？Ｈ，Ｈ−３’、１（−４１！’） 、 ｌ
Ａｇｇ ｆｄ、ｄ、、。
再結晶） ’１’ ＬＣ： Ｒｆｃ ＝０．’ｌりＵＶｉλ慝’ｚ
２ ｇ Ｏｎｍ Ｐ ＭＲ（／ ＯＱＭ）ｉｚ 、 ＤＭＳＯ−ｄ６−０
２０）ＭＳ δ ｉ ３．ｇ ４’ （ｂｒ 、、、２Ｈ，Ｈ−５’
） 、／ｌ、０１１ｐｍ ＋ｍ、、ｍ？Ｈ，Ｈ−３’、１（−４１！’） 、 ｌ
Ａｇｇ ｆｄ、ｄ、、。
／ ）Ｉ、 Ｈ−１’） 、ｊ ５ｇ （ｄ、、 ／肥
ｆ−ｉ −／’ｌ、１．３０ （ｓ、、／Ｈ，Ｈ２） 実施例 ７ ５′−フロモー５’−テオキシプレデイニン実施例５で
得た２−ｔ−ブチルオキシカルボ二〇ｌレアミノ−Ｎ−
（，２，３−０−インプロビリデン−５−プロモー５−
デオキシ−β−Ｄ−リボフラノシル）マロンアミ）”
／、 ２ｙ ヲタＯ％トリフルオロ酢醒ノＱｍｅに溶か
し、室温で３０分間攪拌した後、水溶の温度を２０℃以
下ｅこ保らながら反応液を減圧濃縮した。残漬にメタノ
ールｔこ溶かし、これにトリエチルアミンを加えて塩基
性とした後、減圧濃縮した。残渣を少量のメタノールに
溶かし、これをシリカゲル（ワコーゲルＣ−２００）３
ｆ／にまぶした後、シリカゲル２７７を充填したカラム
にチャージし、クロロホルム−メタノールの成分比を２
０：／、１０：／、７：７．５：／の順ｔこ変化させる
溶媒系で溶出するカラムクロマトグラフィーを行った。
ｆ−ｉ −／’ｌ、１．３０ （ｓ、、／Ｈ，Ｈ２） 実施例 ７ ５′−フロモー５’−テオキシプレデイニン実施例５で
得た２−ｔ−ブチルオキシカルボ二〇ｌレアミノ−Ｎ−
（，２，３−０−インプロビリデン−５−プロモー５−
デオキシ−β−Ｄ−リボフラノシル）マロンアミ）”
／、 ２ｙ ヲタＯ％トリフルオロ酢醒ノＱｍｅに溶か
し、室温で３０分間攪拌した後、水溶の温度を２０℃以
下ｅこ保らながら反応液を減圧濃縮した。残漬にメタノ
ールｔこ溶かし、これにトリエチルアミンを加えて塩基
性とした後、減圧濃縮した。残渣を少量のメタノールに
溶かし、これをシリカゲル（ワコーゲルＣ−２００）３
ｆ／にまぶした後、シリカゲル２７７を充填したカラム
にチャージし、クロロホルム−メタノールの成分比を２
０：／、１０：／、７：７．５：／の順ｔこ変化させる
溶媒系で溶出するカラムクロマトグラフィーを行った。
Ｒ，＋ｃ・０，２〜０．３付近を・ＩＪするフラクショ
ンτ呆めで倣！す乾固して＋ｉ：ｉ状のノーアミノ−Ｎ
−（５−プロモー５−デメギシーβ−Ｄ−リボフラノシ
ル）マロンアミドを得た。これを５０℃で３時間真空乾
燥した後、ジメチルホルムアミド７５ｍ１４に浴かし、
これにオルトギ’Ｉ１１．２ｍｌを加えてり０℃で３０
分間攪拌した。反応液を減１を濃縮し、残渣を少量のメ
タノールに溶かし、シリカゲｌしくワコーゲルＣ−２０
０）３？にまぶした後、シリカゲル、！７７を充填した
カラムｔこチャーンし、クロロホルム−メタノールの成
分比を、２０：／、１０：／、５：／の１１＠Ｑこ変化
さぜる溶媒系で浴出するカラムクロマ１−クラフィー（
・こより和製した。Ｒｆｃ＝０．５ｌｌ（て］近のフラ
クションを集めて減圧乾固して５′−ブロモ−５′−デ
オキシブレデイニンを得た。収錨／乙ｇｍｑ（収率／７
７係）。
ンτ呆めで倣！す乾固して＋ｉ：ｉ状のノーアミノ−Ｎ
−（５−プロモー５−デメギシーβ−Ｄ−リボフラノシ
ル）マロンアミドを得た。これを５０℃で３時間真空乾
燥した後、ジメチルホルムアミド７５ｍ１４に浴かし、
これにオルトギ’Ｉ１１．２ｍｌを加えてり０℃で３０
分間攪拌した。反応液を減１を濃縮し、残渣を少量のメ
タノールに溶かし、シリカゲｌしくワコーゲルＣ−２０
０）３？にまぶした後、シリカゲル、！７７を充填した
カラムｔこチャーンし、クロロホルム−メタノールの成
分比を、２０：／、１０：／、５：／の１１＠Ｑこ変化
さぜる溶媒系で浴出するカラムクロマ１−クラフィー（
・こより和製した。Ｒｆｃ＝０．５ｌｌ（て］近のフラ
クションを集めて減圧乾固して５′−ブロモ−５′−デ
オキシブレデイニンを得た。収錨／乙ｇｍｑ（収率／７
７係）。
融点；／ｇ乙〜／ｇｇ℃ （分）リイ） （メタノール
から再結晶） ＴＬＣ： Ｒｙｆｃ ＝０．３ ’Ｉ Ｕ ■ ； ン５ Ｈ２０：２７９ ｎｍａｘ ＰＭＲ（１００ＭＨｚ 、ＤＭＳＯｄ６−Ｄ２０１δＴ
Ｍ８：３．７／ （ｂｒ、、−？Ｈ，１（−３’） 、
’１．０’ｌ （１２ｍ ｍ、、、２１−Ｉ、Ｈ−２’、Ｉ（−３′）、／、ｔ１
１７ （ｄ、ｄ、、 ／Ｈ、Ｈ−，２’ｌ 、夕！；ｇ
（ｄ、、／Ｉ（、ｌ−１−／’） 、ｆｆ３３ （ｓ
、、 ／ Ｈ，、Ｈ−２１ 手続補正書 昭和４０年姻月ｎ日 特許庁長官 志 賀 学 殿 ／ 事件の表示 ３−′−ハロゲノー５′−デオキシブレデイニンおよＯ
・その製造法 ３、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 化１５丁 静岡県田方郡大仁町三Ｉｇ乙３２番地の／名
称東洋醸造株式会社 自 発 ｊ 補正の対象 明細君の発明の詳細な説明の欄 左 補正の内容 明細書第６頁第７行、同第５頁第７３行および同第１グ
頁第３行の 「該酸化学」を 「核酸化学Ｊと訂正する。
から再結晶） ＴＬＣ： Ｒｙｆｃ ＝０．３ ’Ｉ Ｕ ■ ； ン５ Ｈ２０：２７９ ｎｍａｘ ＰＭＲ（１００ＭＨｚ 、ＤＭＳＯｄ６−Ｄ２０１δＴ
Ｍ８：３．７／ （ｂｒ、、−？Ｈ，１（−３’） 、
’１．０’ｌ （１２ｍ ｍ、、、２１−Ｉ、Ｈ−２’、Ｉ（−３′）、／、ｔ１
１７ （ｄ、ｄ、、 ／Ｈ、Ｈ−，２’ｌ 、夕！；ｇ
（ｄ、、／Ｉ（、ｌ−１−／’） 、ｆｆ３３ （ｓ
、、 ／ Ｈ，、Ｈ−２１ 手続補正書 昭和４０年姻月ｎ日 特許庁長官 志 賀 学 殿 ／ 事件の表示 ３−′−ハロゲノー５′−デオキシブレデイニンおよＯ
・その製造法 ３、 補正をする者 事件との関係 特許出願人 化１５丁 静岡県田方郡大仁町三Ｉｇ乙３２番地の／名
称東洋醸造株式会社 自 発 ｊ 補正の対象 明細君の発明の詳細な説明の欄 左 補正の内容 明細書第６頁第７行、同第５頁第７３行および同第１グ
頁第３行の 「該酸化学」を 「核酸化学Ｊと訂正する。
明細書第７５頁第７９行の
「帰納」を
「帰属」と訂正する。
明細書第２０頁第１〜２行の
「加れ」を
「加え」と訂正する。
明細書同頁第２行の
「析生物」を
「析出物」と訂正する。
明細書第２弘頁第１行および同第２６
５行の
「水浴」を
「水浴」と訂正する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ／）５′−ハロゲノーダーデオキシプレデイニンまたは
その塩 ３００Ｒ２ （式中、Ｒ１はアミノ基の保護基、Ｒ２およびＲ３は水
酸基の保護基を示す） で表わされる化合物の水酸基を
ハロゲン化した式 ％式％ （式中、Ｘはハロゲン原子を示し、Ｒ１、Ｒ２およびＲ
５は前記と同じ意味を有する）て表わされる化合物を得
、次いでアミノ基の保護基および場合ｔこより同時に水
酸基の保護基を脱離した後、イミダゾ−Ｉし閉環し、そ
して水酸基の保護基が脱離されていない場合には、その
保護基を脱離することを特徴とする５′−ハロゲノ−５
′−デオキシプレデイニンまたはその塩の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59026755A JPS60169494A (ja) | 1984-02-14 | 1984-02-14 | ５′−ハロゲノ−５′−デオキシブレデイニンおよびその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59026755A JPS60169494A (ja) | 1984-02-14 | 1984-02-14 | ５′−ハロゲノ−５′−デオキシブレデイニンおよびその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60169494A true JPS60169494A (ja) | 1985-09-02 |
| JPH0510359B2 JPH0510359B2 (ja) | 1993-02-09 |
Family
ID=12202094
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59026755A Granted JPS60169494A (ja) | 1984-02-14 | 1984-02-14 | ５′−ハロゲノ−５′−デオキシブレデイニンおよびその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60169494A (ja) |
-
1984
- 1984-02-14 JP JP59026755A patent/JPS60169494A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0510359B2 (ja) | 1993-02-09 |
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