JPS60163333A - グレ−デツド型シヤドウマスク用パタ−ンの製造法 - Google Patents
グレ−デツド型シヤドウマスク用パタ−ンの製造法Info
- Publication number
- JPS60163333A JPS60163333A JP59017482A JP1748284A JPS60163333A JP S60163333 A JPS60163333 A JP S60163333A JP 59017482 A JP59017482 A JP 59017482A JP 1748284 A JP1748284 A JP 1748284A JP S60163333 A JPS60163333 A JP S60163333A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- light
- shadow mask
- pattern
- light source
- rotary plate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
- H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
- H01J9/14—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes
- H01J9/142—Manufacture of electrodes or electrode systems of non-emitting electrodes of shadow-masks for colour television tubes
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はグレーデッド型シャドウマスクを形成するため
のパターンの製造法に関するものである。
のパターンの製造法に関するものである。
カラーテレビ受像管用グレーデッド型シャドウマスクは
マスク有効面の中央部分と周辺部分とでは孔の大きさを
異にするものである。すなわち中央部分の孔を大きく周
辺部分に行くに従って次第に孔径を減少させたものであ
る。
マスク有効面の中央部分と周辺部分とでは孔の大きさを
異にするものである。すなわち中央部分の孔を大きく周
辺部分に行くに従って次第に孔径を減少させたものであ
る。
シャドウマスクを製作するには写真蝕刻法に用いる耐蝕
性感光液を塗布したマスク素材の金属板にマスクのパタ
ーンを焼料ければ良いが、グレーデッド型シャドウマス
クの場合にはマスク不動面の中央部分と周辺部分とで孔
の大きさな異にするから、すなわち中央部分の孔を大き
く周辺部に行くに従って次第に孔径を減少させなければ
ならないので次の２つの方法が考えられる。すなわち焼
イ・ｊ用のマスクのパターン自体に段階をつけたものを
使用するか、あるいはフラットなマスクのパターンから
金属板への焼付以後の工程で段階をつけるかである。し
かし、後者は均一性にとぼしく及びフォト二ノチングの
特性からも実用的でない。
性感光液を塗布したマスク素材の金属板にマスクのパタ
ーンを焼料ければ良いが、グレーデッド型シャドウマス
クの場合にはマスク不動面の中央部分と周辺部分とで孔
の大きさな異にするから、すなわち中央部分の孔を大き
く周辺部に行くに従って次第に孔径を減少させなければ
ならないので次の２つの方法が考えられる。すなわち焼
イ・ｊ用のマスクのパターン自体に段階をつけたものを
使用するか、あるいはフラットなマスクのパターンから
金属板への焼付以後の工程で段階をつけるかである。し
かし、後者は均一性にとぼしく及びフォト二ノチングの
特性からも実用的でない。
本発明は前者のマスクのパターン自体に段階をつける方
法に関するものの改良方法である。このようなマスクの
パターン自体に段階をつける方法には、例えば特公昭３
９−１３１５５号公報、同３９−４３１５６号公報に記
載されている。これら従来法には、光源の前面に中心部
が明るく、中心部から離れるに従って同心円状に暗くな
るようにしたぼかしマスクを使用して段階をつげたパタ
ーンを撮影する方法が記載されている。又特公昭Ａ ７
−２ ｉｌ ４１９号公報及び同Ａ７−４３９９２号公
報には光源の前面に中心部から周辺部にかけて連続的に
変化させるように胎成したコウモＩＩ傘状もしくはくさ
び形状等の遮光部を有する回転板を回転させて、段階を
つけたパターンを製造する方法が記載されている。これ
らいずれの方法共に光源の前面にぼかしマスク又は回転
板を置き、中心部と周辺部との光量差を生じさせ、製版
カメラ等によりレンズを通かした光を利用し、さらにス
フ１）−ンと感光月料との間の間隔によってピンホール
カメラの原理から中心部と周辺部の点径を異なるように
したものである。しかしながら、このような従来技術で
は、回転板の回転による振動やぼかしマスクの悪影響を
受けて微細パターンのプリントには適しないこと、およ
びグレーディングの比率に応じて遮光部の回転板を変え
る必要があり、ひとつの回転板顛対しては一種のグレー
ディング比率しか与えられず、グレーティングの程度に
従って回転板をいちいち設計作成する必要性がある。加
えて、スフ１１−ンと感光材料の間に間隔を設定しなけ
ればならないのでスフ１１−ンと感光拐料の元軸−ヒの
位置合わせ精度を正確に出すことの手間があり、ぼかし
マスクを介在させるので光臨の光量が減衰し、露光に必
要な時間が長くなるという工程管理上の回位１ｔさかあ
った。
法に関するものの改良方法である。このようなマスクの
パターン自体に段階をつける方法には、例えば特公昭３
９−１３１５５号公報、同３９−４３１５６号公報に記
載されている。これら従来法には、光源の前面に中心部
が明るく、中心部から離れるに従って同心円状に暗くな
るようにしたぼかしマスクを使用して段階をつげたパタ
ーンを撮影する方法が記載されている。又特公昭Ａ ７
−２ ｉｌ ４１９号公報及び同Ａ７−４３９９２号公
報には光源の前面に中心部から周辺部にかけて連続的に
変化させるように胎成したコウモＩＩ傘状もしくはくさ
び形状等の遮光部を有する回転板を回転させて、段階を
つけたパターンを製造する方法が記載されている。これ
らいずれの方法共に光源の前面にぼかしマスク又は回転
板を置き、中心部と周辺部との光量差を生じさせ、製版
カメラ等によりレンズを通かした光を利用し、さらにス
フ１）−ンと感光月料との間の間隔によってピンホール
カメラの原理から中心部と周辺部の点径を異なるように
したものである。しかしながら、このような従来技術で
は、回転板の回転による振動やぼかしマスクの悪影響を
受けて微細パターンのプリントには適しないこと、およ
びグレーディングの比率に応じて遮光部の回転板を変え
る必要があり、ひとつの回転板顛対しては一種のグレー
ディング比率しか与えられず、グレーティングの程度に
従って回転板をいちいち設計作成する必要性がある。加
えて、スフ１１−ンと感光材料の間に間隔を設定しなけ
ればならないのでスフ１１−ンと感光拐料の元軸−ヒの
位置合わせ精度を正確に出すことの手間があり、ぼかし
マスクを介在させるので光臨の光量が減衰し、露光に必
要な時間が長くなるという工程管理上の回位１ｔさかあ
った。
本発明は、これらの従来方法を応用改良して、グレーデ
ィングの無いフラットマスクパターンと感光材料とを密
着したブ１１ンタ一方式にて、かつ−４４の回転板にて
様々のグレーディング比率のパターン作成が為しえ、高
精細度パターンにも対応できるグレーデッド型シャドウ
マスク用パターンの製造方法を提供するものである。
ィングの無いフラットマスクパターンと感光材料とを密
着したブ１１ンタ一方式にて、かつ−４４の回転板にて
様々のグレーディング比率のパターン作成が為しえ、高
精細度パターンにも対応できるグレーデッド型シャドウ
マスク用パターンの製造方法を提供するものである。
すなわち、本発明は、レンズ系を通してパターン有効面
に疑似平行光線で放射する光源と、この光源とレンズと
の組合せによって放射される光の元軸を中心として、中
心から周辺にかけて連続的に変化させるように形成した
遮光部を有する光透過回転板をレンズから所望の間隔に
置き、この回転板から離して設置されたプリンターに、
前記回転板を透過ｌ〜だ光を照射し、フラット型シャド
ウマスクパターンと密着させた感光材料に露光すること
からなるグレーデツト型シャドウマスク用パターンの製
造法である。
に疑似平行光線で放射する光源と、この光源とレンズと
の組合せによって放射される光の元軸を中心として、中
心から周辺にかけて連続的に変化させるように形成した
遮光部を有する光透過回転板をレンズから所望の間隔に
置き、この回転板から離して設置されたプリンターに、
前記回転板を透過ｌ〜だ光を照射し、フラット型シャド
ウマスクパターンと密着させた感光材料に露光すること
からなるグレーデツト型シャドウマスク用パターンの製
造法である。
次にその実施例につき図面に基いて説明する。
映写機用投光ランプ１００Ｖ５００Ｗを用いた光源１１
１のフィラメントより内側にレンズの焦点位置がくるよ
５に平凸の焦光レンズ（２）を凸面を感光材料側、平面
を光源側に設ける。これにより完全平行死線ではな（光
源から遠ざかるに従って拡大された疑似平行光線’［ａ
）、！ｘなる。このレンズ（２１の前方に中心から周辺
にかけて連続的変化させるように形成した遮光部を有す
る回転板（４）を設ける。回転板１４）は、モーター等
の駆動装置（５１によって例えば毎分６０回転の速度で
回転される。この回転板（４）は、光源ＩＩＩと密着プ
１１ンター（１２）の間で元軸上で移動可能に設置され
ている。そのために、第１図に示すように、回転板ｆ４
１と駆動装置（５１を装着した台（９１に車（１０）を
取りつけ、例えば光軸と平行に設置したレール（１１］
によって、回転板（４）をレンズ（２）と密着プリンタ
ー（１７１との間で移動させると良い。回転板（４）の
移動範囲は、疑似平行光線（３）の拡大率によっても異
なるが、例えばレンズ（２）からの距離が２０ｆＪ〜６
０−の範囲で使用できた。
１のフィラメントより内側にレンズの焦点位置がくるよ
５に平凸の焦光レンズ（２）を凸面を感光材料側、平面
を光源側に設ける。これにより完全平行死線ではな（光
源から遠ざかるに従って拡大された疑似平行光線’［ａ
）、！ｘなる。このレンズ（２１の前方に中心から周辺
にかけて連続的変化させるように形成した遮光部を有す
る回転板（４）を設ける。回転板１４）は、モーター等
の駆動装置（５１によって例えば毎分６０回転の速度で
回転される。この回転板（４）は、光源ＩＩＩと密着プ
１１ンター（１２）の間で元軸上で移動可能に設置され
ている。そのために、第１図に示すように、回転板ｆ４
１と駆動装置（５１を装着した台（９１に車（１０）を
取りつけ、例えば光軸と平行に設置したレール（１１］
によって、回転板（４）をレンズ（２）と密着プリンタ
ー（１７１との間で移動させると良い。回転板（４）の
移動範囲は、疑似平行光線（３）の拡大率によっても異
なるが、例えばレンズ（２）からの距離が２０ｆＪ〜６
０−の範囲で使用できた。
この回転板（４）には第２図に示すようにその一部に遮
光部（６１を形成しである。この遮光部（６）は第２図
に示したごとく、光の量な調節するため中心部（７）と
周辺部（８）での距離によって感材特性より光量が変化
するよう角度で得られたものであり、中心部（７）は光
量で２５％（すなわち透明部の為す角度θが９ ｏ’）
、周辺部はｉｏｏ％の値をもっているものである。し
たがって回転板（４）の中心を通る光は周辺部（８）を
通る光に対して２５％の光量しか得られないものであり
、この光量の変化は中心部（７）から周辺部（８）へ連
続的に変化する。この回転板（４１を照射する光源（１
１及びレンズ（２）とは反対側に対向して不透明な点（
パターンが黒化し、エツチングされたシャドウマスクと
は白黒が逆なマスク）を持ったフラット型シャドウマス
クパターン（Ｉ３）を距離３．５７７１に離して設置す
る。光量変化を２５％〜 ｉｏｏ％まてでなく、グレー
ドの仕様によっては２５％〜７５％までの付けがたで良
い場合は、疑似平行光線の効果によって、レンズ（２）
と回転板（４）の距離を２５％〜１００％の場合より短
かめに設置する。２５％〜６０％であれば、回転板（４
）をさらにレンズ］２１に近ずけると良い。これは回転
板と感光材料の間にレンズ系の入る、特公昭３９−１３
１５５号公報又は同４７−２６ＡＩ９号公報等と同等の
効果があると同時に、本発明では露光時間が非常に短か
くなる。このことは重要である。
光部（６１を形成しである。この遮光部（６）は第２図
に示したごとく、光の量な調節するため中心部（７）と
周辺部（８）での距離によって感材特性より光量が変化
するよう角度で得られたものであり、中心部（７）は光
量で２５％（すなわち透明部の為す角度θが９ ｏ’）
、周辺部はｉｏｏ％の値をもっているものである。し
たがって回転板（４）の中心を通る光は周辺部（８）を
通る光に対して２５％の光量しか得られないものであり
、この光量の変化は中心部（７）から周辺部（８）へ連
続的に変化する。この回転板（４１を照射する光源（１
１及びレンズ（２）とは反対側に対向して不透明な点（
パターンが黒化し、エツチングされたシャドウマスクと
は白黒が逆なマスク）を持ったフラット型シャドウマス
クパターン（Ｉ３）を距離３．５７７１に離して設置す
る。光量変化を２５％〜 ｉｏｏ％まてでなく、グレー
ドの仕様によっては２５％〜７５％までの付けがたで良
い場合は、疑似平行光線の効果によって、レンズ（２）
と回転板（４）の距離を２５％〜１００％の場合より短
かめに設置する。２５％〜６０％であれば、回転板（４
）をさらにレンズ］２１に近ずけると良い。これは回転
板と感光材料の間にレンズ系の入る、特公昭３９−１３
１５５号公報又は同４７−２６ＡＩ９号公報等と同等の
効果があると同時に、本発明では露光時間が非常に短か
くなる。このことは重要である。
暗室作業において、感光材料（１４）を長時間露光させ
ることは、室内及び装置等からの光がもれて感光材料０
４）にあたりムラ等を発生しや１−くなることを防止す
る。本発明での露光時間は回転円板の位置には関係なく
２０〜２５秒間であ−た。、露光後は、密着プリンター
（１２）より感光材料（１４）を取り離し、現像工程を
経ることにより感光材料（１４１の感光層にグレーデッ
ド型シャドウマスクのパターンが、得られるものである
。
ることは、室内及び装置等からの光がもれて感光材料０
４）にあたりムラ等を発生しや１−くなることを防止す
る。本発明での露光時間は回転円板の位置には関係なく
２０〜２５秒間であ−た。、露光後は、密着プリンター
（１２）より感光材料（１４）を取り離し、現像工程を
経ることにより感光材料（１４１の感光層にグレーデッ
ド型シャドウマスクのパターンが、得られるものである
。
本発明は以上のようなものであり、レンズ系を１山した
光が完全な平行電線でなく拡カーりをもっているので、
回転板の位置によって光量遮光位置の変換が自由に出来
かつ露光時間の変化はなく、自由にグレーディングが伺
けらｉする。したがってグレーデッド型シャドウマスク
パターンのＮ ａがフラット型シャドウマスクパターン
から密着焼付にて容易に行ないうるものであり、製造も
」＝述の如くきわめて簡単である。
光が完全な平行電線でなく拡カーりをもっているので、
回転板の位置によって光量遮光位置の変換が自由に出来
かつ露光時間の変化はなく、自由にグレーディングが伺
けらｉする。したがってグレーデッド型シャドウマスク
パターンのＮ ａがフラット型シャドウマスクパターン
から密着焼付にて容易に行ないうるものであり、製造も
」＝述の如くきわめて簡単である。
本発明によれば、露光時間が従来法に比して短かくてす
み、グレーディング比率の変化に対しても露光時間がほ
ぼ一定であるという工程管理上の利点がある。また密着
露光方式であるので７ラント型マスクと感光材料の光軸
上での位置精度も正確に設定しやすく、シャドウマスク
の孔パターンが高精細度の微小パターンであっても対応
しゃずいという効果がある。
み、グレーディング比率の変化に対しても露光時間がほ
ぼ一定であるという工程管理上の利点がある。また密着
露光方式であるので７ラント型マスクと感光材料の光軸
上での位置精度も正確に設定しやすく、シャドウマスク
の孔パターンが高精細度の微小パターンであっても対応
しゃずいという効果がある。
第１図は、本発明のグレーデッド型シャドウマスク用パ
ターンの製造方法における露光工程の様子を示す説明図
、第２図は本発明に用いる回転板の一例を示す平面図で
ある。 （１１・・光 源 （２）・・・レンズ（３）・・・疑
似平行光線 （４）・・回転板（５１・・・駆動装置
（６）・・・遮光部（７）・・・中心部 （８）・周辺
部 （９）・・・台 ００）・・車 ａＵ・・・レール （１２）−・・密着ブ１１ンター（
１３１・・フラット型シャドウマスクパターン旧）・・
感光材料
ターンの製造方法における露光工程の様子を示す説明図
、第２図は本発明に用いる回転板の一例を示す平面図で
ある。 （１１・・光 源 （２）・・・レンズ（３）・・・疑
似平行光線 （４）・・回転板（５１・・・駆動装置
（６）・・・遮光部（７）・・・中心部 （８）・周辺
部 （９）・・・台 ００）・・車 ａＵ・・・レール （１２）−・・密着ブ１１ンター（
１３１・・フラット型シャドウマスクパターン旧）・・
感光材料
Claims (2)
- （１） レンズ系を介してパターン有効面に疑似平行光
線で放射する光源と、この光源とレンズとの組合せによ
って放射される元の光軸を中心として、中心から周辺に
かげて連続的に変化さぜるように形成した遮光部を有す
る光透過回転板を、レンズから所望の間隔に１６き、こ
の回転板から離して設置されたブ１１ンターに、前記回
転板を透過した光を照射し、フラット型シャドウマスク
パターンと密着させた感光材料に露光することからなる
グレーデッド型シャドウマスク用パターンの製造法。 - （２）疑似平行光線が、光源から遠ざかるに従って拡大
する光線である特許請求の範囲第１項のグレーデツト型
シャドウマスク用パターンの製造法。 （：３）回転板が光源とプリンターの間で光軸上で移動
可能に設置されている特許請求の範囲第１項記載のグレ
ーテッド型シャドウマスク用パターンの製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59017482A JPS60163333A (ja) | 1984-02-02 | 1984-02-02 | グレ−デツド型シヤドウマスク用パタ−ンの製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59017482A JPS60163333A (ja) | 1984-02-02 | 1984-02-02 | グレ−デツド型シヤドウマスク用パタ−ンの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60163333A true JPS60163333A (ja) | 1985-08-26 |
| JPH0460293B2 JPH0460293B2 (ja) | 1992-09-25 |
Family
ID=11945217
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59017482A Granted JPS60163333A (ja) | 1984-02-02 | 1984-02-02 | グレ−デツド型シヤドウマスク用パタ−ンの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60163333A (ja) |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5449061A (en) * | 1977-09-27 | 1979-04-18 | Toshiba Corp | Manufacture of pattern for graded shadow mask |
| JPS5519791A (en) * | 1979-07-12 | 1980-02-12 | Toppan Printing Co Ltd | Obscure mask for photographying oval grated shadow mask pattern |
-
1984
- 1984-02-02 JP JP59017482A patent/JPS60163333A/ja active Granted
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5449061A (en) * | 1977-09-27 | 1979-04-18 | Toshiba Corp | Manufacture of pattern for graded shadow mask |
| JPS5519791A (en) * | 1979-07-12 | 1980-02-12 | Toppan Printing Co Ltd | Obscure mask for photographying oval grated shadow mask pattern |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0460293B2 (ja) | 1992-09-25 |
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