JPS60163041A - 改良された光重合性組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な光重合性組成物に関する。さらに詳しく
は、安全性が高くかつ安定性の改良された発色剤を含む
フォトレジスト用光重合性組成物に関する。

フォトレジストを用いたプリント配線板の作製法は周知
である。その方法は、まず、銅張り積層板や、フレキシ
ブル銅張板等の基板に、フォトレジスト組成物を塗布又
は積層して皮膜を形成し、次いで活性光によって画像露
光を行々うと、露光部分は重合硬化する。次に未露光部
分を適当な現像液によって溶解除去し、レジスト画像を
形成する。この画像形成基板に、エツチング、メッキ、
陽極処理等積々の処理を行なうことにより、レジストに
よって保膜されていない銅面を変性１７プリント配線板
を作製していくことからなる。

プリント配線板作製時には、露光、未露光部分を明確に
判断するため、又は重複露光、現像醇の彼処理工程の作
業性を向上させるために露光部分に色素を形成させる必
要があり、そのために発色剤が必要である。

フォトレジスト用に利用できる発色剤としてけ、アミノ
置換ロイコ体と低級脂肪族多ハロゲン化合物の組合わせ
や特公昭グざ一３ｔ’１０３号公報に示される如きアミ
ノ置換ロイコ体とロフィンニ量体の組合わせが知られて
いる。

前者の系は、非釧塩写真への応用で知られるように高感
度であるが、低級脂肪族多ハロゲン化合物は揮散性が高
く、かつ毒性の高いものが多い。

このため、フォトレジストの発色剤に利用する場合、フ
ォトレジストを銅張板へ積層するのに高温で熱ラミネー
シヨン作業を行なうと多ハロゲン化合物の大気中への揮
散により、長期取扱い作業時の人体への毒性が懸念され
るとともに発色性にバラツキが生じる。又、揮散しやす
いため各種フォトレジストの発色剤のシェルフライフが
短い等の欠点が指摘されている。

徒者の系は、μフインニＩ体の安全性が高いという点で
の改良がみられるが、発色剤系の感度があまり高くない
。

以上の問題点に鑑み、本発明者らは、鋭意研究の結果、
安全性が高く、感光性に優れ、がっ安定性の改良された
発色剤を含む光重合性組成物を発明するに至った。

即ち、本発明は （ａ）少なくとも２個の炭素−炭素二重結合を有し、光
重合開始剤によって重合体を形成できるエチレン性不飽
和化合物（以下モノマーと称す）、（ｂ）活性光によっ
て活性化し得る光重合開始剤、（Ｃ）アミノ置換ロイコ
化合物もしくはアリールアミノ化合物、 （ｄ）下記構造式（Ｉ）で示される化合物よりなる光重
合性組成物に関するものである。

Ｒ＋　Ｓ　Ｓ　Ｒ２（１） （式中、Ｒ１、Ｒ２のいずれが少なくとも一方が炭素数
コないしょＯのアルキル基又はアルキレン基、炭素数３
カいし一〇のシクロアルキル基、炭素数６ないし一〇の
アリール基、炭素数６ないし２０の芳香環を含む１価基
、炭素数／ないしコ。

で窒素及び又は硫黄及び又は酸素原子／ないし５個を有
する複素環を含む１価基、チウラム基の中から選ばれた
基を示す。） 構造式（Ｉ）で示される化合物は、従来用いられていた
発色助剤である四臭化炭素等の脂肪族多ハロゲン化合物
に比べ揮発性が低い。このため、構造式（１）で示され
る化合物を発色助剤として含む光重合性組成物をフォト
レジストとして用いた場合、フォトレジストの製造及び
フォトレジストを用いたプリント配線板の作製工程にお
ける高温の作業での安全性が著しく改善される。又、構
造式（Ｉ）の化合物を含む本発明の光重合性組成物を露
光すると、極めて高い発色性を示すとともに、予想し得
ない光重合皮（感光度）の高さを示す。

Ｒ，、Ｒ２としては上記に規定する種々の基を用いるこ
とができるが、代表的な基としてけ複素環を含む１価基
、チウラム基等が挙げられる。複素環を含む７価基名を
具体的に挙げるならば、ビーリル基、イミダゾリル基、
チアゾリル基、オキサシリル基、チアジアゾリル基、テ
トラゾリル基、ｌＨＳ　− 一インダゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾチア
ゾリル基、チアゾリニル基、グーメチルテトラゾリル基
、グーエチルテトラゾリル基、クーフェニルテトラゾリ
ル基、グーフェニルチアゾリル基環が挙げられる。その
中で、ベンゾチアゾリル基、グーフェニルテトラゾリル
基、グーメチルテトラゾリル基、グーエチルテトラゾリ
ル基等が好ましい。

本発明に用い得るチウラム基とは下記一般式（Ｉ）又は
（１）で表わされる如き基である。

（式中、Ｒ８ｓ　Ｒ４の少々くともいずれか一方が炭素
数コないしょθのアルキル基又はアルキレン基、炭素数
３ないし一〇のアリール基、Ｒ５はモルホリノ基を示す
） これらの例としては、ジメチルチウラム基、ジエチルチ
ウラム基、ジフェニルチウラム基、ビス（ｐ−二トロフ
ェニル）チウラム基、ジペンタメチレンチウラム基、ジ
ーＮ−オキシジエチレンチ　６− ウラム基等がある。

構造式（１）で示される化合物の添加量は全光重合性組
成物に対し、０００７〜３重量％が好ましく、さらには
００３〜７重量％が好ましい。又、本発明で開示される
化合物を一種類以上用いてもよい。さらに本発明で開示
される化合物と、既存のロイコ染料の発色剤として利用
される特公昭＋／−２／ｌｒＡ号、特公昭ダｇ−１ｔｌ
Ｉ０３号公報等に開示されている化合物を併用すること
もできる。具体的には、コ−（０−クロロフェニル）−
１Ｉ、ｓ−ｙフェニルイミタソリルニ量体、！−（ｏ−
フルオｐ＋フェニル）−４’ｊ−ジフェニルイミダゾリ
ルニ量体、−一（０−クロロフェニル）−４！、ｔ−ビ
ス−（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾリルニ量体、コ
ー（０−メトキシフェニル）−＋、ｔ−ジフェニルイミ
ダゾリルニ量体等のｐフィンニ量体、−一メルカブトベ
ンゾキサゾール、コーメルカブトベンゾチアゾール、コ
ーメルカブトベンゾイミダゾール、コーメルカブトチア
ゾリン、／−フェニル−３−メルカプトテトラゾール、
ビス（ジメチルチオカルバミル）ジサルファイド、２．
２’−ジチオ−ビス（ベンゾチアゾール）、ローダミン
、チオアセトアニリド等が挙げられる。

本発明におけるアミノ置換ロイコ化合物とは、ロイコト
リアリルメタン染料と、ｐイコキザンテン、ｐイコチオ
キサンテン及びｐイコアクリデンに関するロイコ化合物
より成るもので、一般にはロイコ染料として利用される
ものである。

具体的には、ｐイコクリスタルノ（イオレット、ｐイコ
オパールプルー、ロイコマラカイトグリーン、ロイコｐ
−ザニリン、ｐイコパラμｍザニリン、ｐ、ｐ’、ｐ’
　−トリメチルロイコオパールプル−、ｐ、ｐ’、ｐ’
−）リクｐｃｘ＋：Ｉイコオパールプルー、ｐ、　ｐ’
−ビス−テトラメチル−ジアミノジフェニルメタン、３
．６−ビス（ジメチルアミノ）−デー（ｐ−ジメチルア
ミノフェニル）キサンチン、３，６−ビス（ジエチルア
ミノ）−ター（ｐ−ジメチルアミノフェニル）キサンチ
ン１．７ｊ−ビス（ジエチルアミノ）−９−（ｐ−ジエ
チルアミノフェニル）キサンチン、３．６−ビス（ジメ
チルアミノ）−９−（ｐ−ジメチルアミノフェニル）チ
オキサンチン等が挙げられる。

これらロイコ染料の塩、例えばＨＣｌ塩、ルイス酸との
塩、硫酸塩、ｐ−）ルエンスルホン酸塩も使用すること
ができる。

又、了り−ルアミノ類としては、アニリン、Ｎ−／チル
アニリン、Ｎ、Ｎ−９エチルアニリン、Ｎ。

Ｎ−ジエチルクレシジン及びこれらの関連アリールアミ
ノ化合物が挙げられる。

本発明に用いつる七ツマ−は、分子中に少なくとも２個
の炭素−炭素二重結合を有する化合物であり、光重合開
始剤によって重合体を形成し、非ガス状で、大気圧下で
１００℃以上の沸点を有するものである。このような炭
素−炭素二重結合を有するエチレン性不飽和化合物の例
としては、（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルア
ミド、アリル化合物、ビニルエーテル化合物、ビニルエ
ステル化合物等が挙げられる。

（メタ）アクリレートとしては、多価アルコールのポリ
（メタ）アクリレート（ここで言うポリ−タ　− とはジ（メタ）アクリレート以上の化合物である）でア
リ、多価アルコールとしてはポリエチレングリコール、
ポリプロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、
トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、メタ
ンジオール、トリメチルールエタンがある。

又、好ましいモノマーとして、ウレタン（メタ）アクリ
レートが挙げられる。これは、水酸基を有する（メタ）
アクリレートもしくは（メタ）アクリルアミド勢の（メ
タ）アクリルアミド類と、２個以上のインシアナト基を
有する化合物の付加生成物であり、水酸基を有する（メ
タ）アクリレートとしては、コーヒドロキシエチル（メ
タ）アクリレート、−一ヒドｐキシグロビル（メタ）ア
クリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アク
リレート、コーヒドｐキシー３−フェノキシプロビル（
メタ）アクリレート埠がある。さらに（メタ）アクリル
アミド類としては、ヒドロキシメチル（メタ）アクリル
アミドがある。さらにポリエチレングリコール、ボリプ
ｐピレングリコ−１０− ル等のポリオールにその一倍当量以上のジイソシアナー
トを反応させて得られたポリイソシアナートと水酸基を
有する（メタ）アクリレート等を反応させて得られたウ
レタン（メタ）アクリレート等も有効である。２個以上
のインシアナト基を有する化合物としては、ヘキサメチ
レンジイソシアナート、トリレンジイソシアナート、イ
ソホロンジイソシアナート、キシリレンジイソシアナー
ト、乞グｒ−ジイソシアナトジフェニルメタン等があり
、これらのウレタン（メタ）アクリレート等についてＦ
ｉ特願昭ｓｒ−ｇｏｌＩＩＩｓ号明細書に詳しい。さら
に用いることのできるモノマーとして、フタル酸、アシ
ヒン酸、マｐン酸等とジアリルアルコールドのジアリル
エステルや桂皮酸エステル類、ビスマレイン酸エステル
類、ビスマレイミド類、アシッドホスホオキシジエチル
メタクリレート、−一ビス−（メタクリロキシエチル）
ホスフェート、コービス（アクリルキシ）ホスフェート
等がある。

これら千ツマ−の量としては、全光重合性組成物に対し
７０重量％ないし５０重量％が好ましく、さらには−０
重量％ないし５０重量％が好ましい。

以上の七ツマ−を一種以上用いることも制限するもので
はない。

本発明に用い得る光重合開始剤又は増感剤は一般に使用
されるものでよいが、エチレン性不飽和化合物の重合に
適するものは、アントラキノン、コーメチルアントラキ
ノン、λ−エチルアントラキノン等のアントラキノン銹
導体、ベンゾイン、ペンツインメチルエーテル、ベンゾ
インエチルエーテル等のベンシイ／誘導体、クロルチオ
キサントン、ジイソプロピルチオキサントン等のチオキ
サントン！！導体、ベンゾフェノン、フェナントレンキ
ノン、ミヒラーケトン（Ｉｆ、？’−ビス（ジメチルア
ミノ）ベンゾフェノン）である。

これら光重合開始剤等の使用量に制限はないが、好まし
くは全光重合性組成物に対し００２重量％ないし／り重
量％、さらに好ましくは０７重量％ないし７０重量％で
ある。

又、本発明の組成物には、熱可塑性有機重合体バインダ
ーが含まれることが好ましく、それらとしてはエチレン
性不飽和化合物と相溶性のあるものが好ましく、モノマ
ーとしてエチレン性化合物を使用する場合には、バイン
ダーとしてポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポ
リ塩化ビニル、塩素化ポリエチレン、ポリ酢酸ビニル、
ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ポリア
クリル酸等のビニルモノマーの重合物及び共重合体が好
ましい。その使用量としては、全光重合性組成物に対し
５重量％ないし５０重量％が好ましく、さらに好ましく
は、２０重量％ないし６０重量％である。フルダーレジ
ストとして本組成物を用いるＡＩ合ｔｉ、バインダーは
用いないか、もしくは少量用いることが推奨される。

他に、光反応性組成物の貯蔵時の熱重合を防止するため
の重合禁止剤、レジストを見易くするための染料や、顔
料、物理的、化学的性質を改良するための可塑剤や難燃
剤等を使用しても差支えない。

本発明で開示される光反応性組成物を基板上に成膜する
方法としては、骸組成物の溶液を基板上７３− に塗布し乾燥する方法と、適当なフィルム上に塗布し乾
燥して得られた積層体を基板に積層する方法がある。後
者の積層体は一般にドライフィルムと称されているが、
二層のフィルムに感光性組成物がサンドイッチ状にはさ
まれた構造のものが多く、基板への積層時には、一方の
フィルムを剥離しながら積層する。この剥離フィルムと
しては、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファンや
、特願昭１ｇ−７４／９０号明細書に開示されている剥
離性フィルムがある。積層されたレジストの上にはもう
一方のフィルムである支持フィルムと称されるフィルム
で覆われているが、一般には、この上にマスクを密着さ
せ露光する。この支持フィルムとしては、ポリエチレン
テレフタレート、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニ
ル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリメタクリ
ル酸メチヘポリアクリロニトリルやこれらの共重合体か
らなるフィルムが挙げられるが、特に用いる現俸液に溶
解する材料を用いると、工程の自動化や剥離時における
画偉の浮きが表い等の利点を有しているーｌダー ことが特開昭！ｒ４ｔ−／ざ７３コ号公報に開示されて
いる。

感光層の積層に続くドライフィルムを用いたプリント回
路板作成の工程を簡単に述べる。即ち、必要ならば支持
フィルムを剥離し、ノ・−７ト一ン画像、プロセス陰画
、又は陽画を通して活性光により画像妬光する。次に、
これを適当な現像液、例えば／、／、／　−ｈリクロロ
エタンを用いて未露光部を除去し、基板上に画像パター
ンを形成する。

そして、この基板を例えば塩化第二鉄溶液、銅アンモニ
ア溶液、塩化第二銅溶液、過硫酸アンモニウム溶液等を
用いて露出銅面を溶解して銅の画像パターンを形成する
か、あるいはノ・ンダメツキを施してハンダのパターン
を形成する方法が代表的プロセスであるが、メッキ工程
では、まず銅面を化学的もしくは電気化学的処理を行な
った後、硫酸銅やピロリン酸等を用いた銅メッキ、さら
にノ・ンダメツキを行なう。

通常、ドライフィルムレジストでは、耐メツキ性改良の
ために銅板密着剤を添加するが、本発明で開示された光
重合性組成物は一般に使用される銅板密着剤を併用する
ことができる。ドライフィルムレジスト等で銅板密着剤
として利用される化合物は特開昭タｊ−Ａｊ９ダ７号、
特開昭１ｔ−Ａｊ−１０２号、特開昭５５−Ａ！２０３
号、特開昭ｔ６−ｓｉｍ号、特開昭５Ａ−４７ｇ’ｌり
号、特開昭Ｓ乙−ｔｑｇり５号、特開昭ｓｔ−ｔｏｏｇ
ダｑ号、特開昭！；’Ｉ−／９ユ９ＱＡ号、特開昭５３
−ｌコ’Ｉ！；９１μ号等の各公報に開示されている。

具体的には、フタルイミド、フタラジン、インダゾール
、アセトグアナミン、モノアザインドール、ジフェニル
カルバゾン、λ、４’、Ａ　−）リメルカプトトリアジ
ン、チオバルビッール酸、チオヒダントイン許が挙げら
れる。

本発明で開示された光重合性組成物は低い露光量におい
ても極めて優れた発色性を示す。又、上記銅板密着剤と
併用することにより耐メッキ性を著しく向上できる。さ
らにドライフィルムレジストを基板に高温で加熱積層し
ても不快臭が発生しない。さらにロフィン二量体／アミ
ノ置換ロイコ化合物の組合わせよりも光重合性が極めて
優れ、感光度に優れるという利点がみられた。

本発明の光重合性組成物は、印刷インキ、印刷板、フォ
トエツチングによる精密部品、精密ノシターン板の製作
等にも応用可能なものである。

以下に、実施例をもって具体的実施態様を示すが、本発
明を限定するものではない。

実施例１ ３０θ−のセパラブルフラスコに、溶剤として１００９
　（ｒ）メチルエチルケトン／クロロホルム（ＳＯ／！
；θ）混合溶液を入れ、ノ（インダーとしてポリメタク
リル酸メチル（デルペラ）　ｇＯＮ■；旭化成工業株式
会社製）ｋＯｆを加え、り０℃に加熱して均一溶液とす
る。ここに、ヘキサメチレンジイソシアネートとコーヒ
ドロキシエチルアクリレート（２ＨＥＡ）より合成した
ウレタンジアクリレート（モノマーＡ　）　、！：　ホ
ＩＪエチレングリコールジアクリレート（モノマーＢ：
商品名Ａ−１ＩＧ■。

新中村化学製）のｇ：を混合物　１１３９をモノマーと
して加え、さらに開始剤としてベンゾフェノン３、Ｏｆ
、ミヒラーズケトン　Ｑ、／ｆ、染料としてダイヤモン
ドグリーン■（三菱化成工業株式会社製）１７− ００２１％ｐ−メトキシフェノール００３ｔを加え均一
混合溶液を調整した。（この溶液全量を以下混合液−７
とする。） 混合液−ｌにロイコクリスタル／；イオレットａｒｔ、
ジペンゾチアジル、・ジスルフィド　θｊｆを加え均一
とした後、ブレードコーターを用い、３ｔμのポリエチ
レンフィルムにこの混合溶液を塗布し６０℃で３０分間
乾燥して厚さ５０μのレジスト膜を形成せしめ、２Ｓμ
の配向ポリスチレンフィルムをレジスト表面にローラー
で張り合わゼ、トライフィルムレジストを作製した。次
に、このドライフィルムレジストを整面した銅張積層板
（ガラスエポキシ基板）にポリエチレンフィルムを剥離
しながら、ＡＲ−７００型■ラミネーター（旭化成工業
株式会社製）を用い、９０℃で加圧積層させた。この積
層板を室温で３θ分以上放置し、次にレジスト面にコ０
０ｐのライ／が１０００μ間隔で描かれたマスクと、Ｄ
ｕＰｏｎｔ社のリストン用／り段タブレットマスクを密
着させコｋＷ超高圧水銀灯（オーク社製：　Ｉ（ＰＭ−
コｏｏｏ■）で１０θｍＪ／−の光−１ｇ− 量で露光した。未露光部は淡緑色であるのに対し、色素
が形成された露光部は鮮やかな濃緑青色を示した。３０
分間放置した後、色素が形成された露光部と、未露光部
の色調のコントラストを目視判定した。結果を表／に示
した。次に／、　／、　／　−トリクロロエタンで現像
を行ない未露光部を溶解除去した。現像により洗い出さ
れなかったステップタブレット段数（以下ＳＴ段数とす
る）をもって感光度の評価とした。結果を表１に示した
。２００μライン＆スペースマスクで露光した部分（１
０ｍＸ／θｍ×一枚）をメッキ前処理液として　“ニュ
ートラクリーンＣ■”　（シラブレー・ファー・イース
ト社Ｈ）を用いた下記の条件Ａでメッキ前処理を行なっ
た後、７枚は硫酸鋼メッキ（条件Ｂ）、他の７枚はピロ
リン酸銅メッキ（条件Ｃ）を行なった。

次にそれぞれの板を水洗後、ハンダメッキ（条件Ｄ）ｔ
＝行なった。メッキされた画線の縁にメッキもぐりは全
く観察されなかった。次に透明粘着テープをレジスト表
面に強く密着させ、−気にテープを剥離したが、レジス
トの剥離社全く観察されなかった。（この試験を以下テ
ープ剥離試験とす石） 実施例コ 実施例／で調整した混合液−７にロイコクリスタルバイ
オレット　θ！；ｆ、！−フェニルテトラゾリルジスル
フィド　Ｏｊｆを加え実施例／と同様の方法で積層体を
形成し、露光、現像を行ない、色変わり度、８７段数に
よる感光度の評価を行なった。結果を表１に示した。さ
らに実施例１と同様にメッキ前処理、ハンダメッキを行
なった。メッキされた画線の縁にメッキもぐりは全く観
察され々かった。又、テープ剥離試験でもレジストの剥
離は全く観測されなかった。

実施例３ 使用したバインダーがポリメタクリル酸メチル（デルペ
ット？Ｏ西旭化成工業株式金社製）、七ツマ−がトリメ
チロールプロパントリアクリレート（モノ？　−ＣＴＭ
ＰＴＡ　）とポリエチレングリコールジアクリレート（
モノ〜−Ｂ；商品名Ａ−ＱＧ■新中村化学製）ｔ：ｌ混
合物である点を除いて実施例１と同様の方法で混合溶液
（以下混合液−コとする）を調整した。混合液−コにロ
イコクリスタルバイオレット　θ５ｆ７Ｉ、ジベンゾチ
アジルジスルフィド　ａｒｔを加え実施例１と同様の方
法で積層体を形成し、露光、現像を行ない、色変わり度
、８Ｔ段数による感光度の評価を行なった。結果を表１
に示した。さらに実施例１と同様にメッキ前処理、ハン
ダメッキを行なった。メッキされた画線の縁にメッキも
ぐりは全く観察されなかった。

又、テープ剥離試験でもレジストの剥離は全く観測され
なかった。

実施例１ 実施例１で調整した混合液−１にロイコクリスタルバイ
オレット　θ＆ｆ、ジベンゾチアジルジスルフィド０．
２！Ｉｔ、４４−フェニルーコーメルカブトテトラゾー
ル０２ｆｔ、２−メルカプトチアゾリンθコＳｔを加え
、　実施例１と同様の方法で積層体を形成し、露光、現
像を行ない、色変わり度、８７段数による感光度の評価
を行なった。結果を表１に示した。さらに実施例１と同
様にメッキ前処理、−コ／− ハンダメッキを行なった。メッキされた画線の縁にメッ
キもぐりは全く観察されなかった。又、テープ剥離試験
でもレジストの剥離は全く観測され表かった。

実施例Ｓ 実施例１で調整した混合液−／にロイコクリスタルバイ
オレット　ａｓｐ、ジベンジルジスルフィド　ｄｊｌＦ
を加え実施例／と同様の方法で積層体を形成し、霧光、
現像を行ない、色変わり度、８７段数による感光度の評
価を行なった。結果を表１に示した。さらに実施例１と
同様にメッキ前処理、ハンダメッキを行なった。メッキ
された画線の縁にメッキもぐりが少し観察された。又、
テープ剥離試験ではレジストの剥離が少し観察された〇
実施例６ 実施例１で、ジベンゾチアジルジスルフィドのかわりに
ジエチルチウラムジスルフィド　Ｏｊｆを用いたほかは
実施例１に準じた。

比較例／ 実施例Ｊで調整した混合液−コに四臭化炭素−ココー ０Ｓｆを加え以下実施例１と同様の方法で積層体を形成
し、露光、現像を行なった。露光時、露光部分はほとん
ど発色せず、色調のコントラストが極めて悪く、かつ感
光度の評価も極めて低かった。

結果を表１に示した。又、加熱積層による積層体形成時
、不快臭を発した。さらに実施例／と同様にメッキ前処
理、ハンダメッキを行なった。メッキされた画線の縁に
は明らかにメッキもぐりが観察された。さらにテープ剥
離試験でもレジストはほぼ全面剥離した。

比較例コ 実施例３で調整した混合液−コにロイコクリスタルバイ
オレット　ａｓｆ、四臭化炭素　ａＳｔを加え以下実施
例１と同様の方法で積層体を形成し、露光、現像を行な
った。９０℃での加圧積層による積層体形成時不快臭を
発した。色変わり度はやや悪く、かつ感光度の評価も若
干低かった。結果を表／に示した。さらに実施例／と同
様にメッキ前処理、ハンダメッキを行表った。メッキさ
れた画線の縁には明確なメッキもぐりが観察された。

さらにテープ剥離試験ではレジストはほぼ全面剥離した
。

比較例３ 実施例３で調整した混合液−一にロイコクリスタルバイ
オレット　４Ｓｆ％、２−（ｏ−クロロフェニル）−１
Ｉ、ｔ−ジフェニルイミダゾリルニ量体（ロフインニ量
体）０．ｌＩｆを加え、以下実施例１と同様の方法で積
層体を形成し、露光、現像を行なった。色変わり度はや
や悪く、かつ感光度の評価も低かった。結果を表／に示
した。さらに実施例１と同様にメッキ前処理、ハンダメ
ッキを行なった。メッキされた画線の縁には明らかにメ
ッキもぐりが観察された。さらにテープ剥離試験ではレ
ジストはほぼ全面剥離した。

なお、実施例、比較例中のメッキ前処理条件、及びメッ
キ条件り以下のようである。

メッキ前処理条件 条件Ａ：シツプレー・ファー・イースト社製［ニュート
ラクリーンＣＪａｓ％水溶液にダθ℃で３分間浸漬。

条件Ｂ：ジャパンメタルフイニツシング社ｍ　ｒ硫酸銅
コンク」を／９チ硫酸で３．Ａ倍に希釈したメッキ液中
でユ５　Ａ７’ｄ−の電流密度で室温下、３０分メッキ
を行なう。

条件Ｃ：ハーショー・打出社製「ピロトンコンク」のり
θチ水溶液中で＆ｆＣで３θ分間ユｊ　Ａ／　ｄｍ’の
電流密度でメッキを行なう。

条件Ｄ：マクダメツド社製の）・ンダメツキ液（錫／鉛
＝　ｌＩ／Ａ）を用い、コＡ／ｄｔｔ／　の電流密度で
７０分間メッキを行なう。

（以下余白） 一コ３− （注ｌ）色変わり度の評価（目視判定）評価ランク ｉ露光部、未貢光部のコントラストが非常に明確ユ　ｌ
　コントラストがｌに次ぐ程度に明確３　Ｎ　コントラ
ストが明確 病　ｌ　コントラストがあまりはつきりしない＆ｚ　コ
ントラストがほとんど判断できない（注コ）感度（感光
度の評価） 現像後残ったリストンタブレットの段数（大きい程感度
良）（注３）積層体を９θ℃で加圧積層した時の不快臭
の発生の有無−コ６一 （注ｌＩ）銅面密着剤として、クーフェニル−２−メル
カプトテトラゾール０２１９％−一メルカプトチアゾリ
ンＯコ５ｆを混合溶液−７に添加した場合 Ａ　：　ウレタンジアクリル酸エステルＣ：　トリメチ
ロールプロパントリアクリレートＢ　：　ポリエチレン
グリコールジアクリレートＤ１＝　ジベンゾチアジルジ
スルフィドＤＢ　：　Ｑ−フェニルテトラゾリルジスル
フィドＤ、ニジベンジルジスルフィド Ｄ４：　四臭化炭素 Ｄ５　：　２−　（ｏ　−ｐ　ｏ四フェニル）−１１３
−ジンエニルイミダゾリルニ量体 Ｄ６：　ジエチルチウラムジスルフィド特許出願人　旭
化成工業株式会社 代理人弁理士　星　野　透 −＋２７−

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）、（ａ）少なくとも一個の炭素−炭素二重結合を
   有し、光重合開始剤によって重合体を形成できるエチレ
   ン性不飽和化合物、 （ｂ）活性光によって活性化しうる光重合開始剤、（ｅ
   ）アミノ置換ロイコ化合物もしくはアリールアミン化合
   物、 （ｄ）下記構造式（ｒ）で示される化合物よりなる光重
   合性組成物。 Ｒｓ　５−８−’ｆｈ　（Ｉ） （式中、Ｒ，及びＲ２は各々炭素数コないしょθのアル
   キル基又はアルキレン基、炭素数６ないし一〇のシクロ
   アルキル基、炭素数６ないし一〇のアリール基、炭素数
   ６ないし、２ｏの芳香環を含む７価基、炭素数／ないし
   一〇で窒素及び又は硫黄及び又は酸素原子をｌないし５
   個を有する複素環を含む１価基、チウラム基の中から選
   ばれた基を示す。）