JPS6014652B2 - 放電加工装置 - Google Patents
放電加工装置Info
- Publication number
- JPS6014652B2 JPS6014652B2 JP10616479A JP10616479A JPS6014652B2 JP S6014652 B2 JPS6014652 B2 JP S6014652B2 JP 10616479 A JP10616479 A JP 10616479A JP 10616479 A JP10616479 A JP 10616479A JP S6014652 B2 JPS6014652 B2 JP S6014652B2
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- JP
- Japan
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- machining
- discharge
- stray capacitance
- circuit
- changes
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H11/00—Auxiliary apparatus or details, not otherwise provided for
- B23H11/003—Mounting of workpieces, e.g. working-tables
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H1/00—Electrical discharge machining, i.e. removing metal with a series of rapidly recurring electrical discharges between an electrode and a workpiece in the presence of a fluid dielectric
- B23H1/02—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges
- B23H1/022—Electric circuits specially adapted therefor, e.g. power supply, control, preventing short circuits or other abnormal discharges for shaping the discharge pulse train
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B23—MACHINE TOOLS; METAL-WORKING NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- B23H—WORKING OF METAL BY THE ACTION OF A HIGH CONCENTRATION OF ELECTRIC CURRENT ON A WORKPIECE USING AN ELECTRODE WHICH TAKES THE PLACE OF A TOOL; SUCH WORKING COMBINED WITH OTHER FORMS OF WORKING OF METAL
- B23H2300/00—Power source circuits or energization
- B23H2300/20—Relaxation circuit power supplies for supplying the machining current, e.g. capacitor or inductance energy storage circuits
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Electrical Discharge Machining, Electrochemical Machining, And Combined Machining (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は電極と被加工体間の加工間隙にパルス放電を繰
返して加工する放電加工装置に関する。
返して加工する放電加工装置に関する。
放電加工はパルス放電の電気ェネルギによる放電点の熔
解、飛散作用を繰返して加工するもので、１発１発のパ
ルス放電が重要であり、単一パルスの加工量、放電痕等
はパルス中７。ｎ、放電々流波高値ｌｐによって決まる
。このような放電条件は電源側出力を制御しても加工間
隙における放電は半導体スイッチ回路、リード線導通回
路、接続ケーブル、機械装置の回路を含める全体放電回
路の特性により変化してしまう。従来放電加工機におけ
る電源及び機械装置の浮遊静電容量についてはあまり問
題にされなかったが、実はこの浮遊容量により加工間隙
のパルス放電が大きな影響を受けるものである。一般に
浮遊容量は電圧源をオン・オフスィッチングして加工パ
ルスを発生するスイッチのトランジスタ自体、ェミツタ
とポデー間、プリント坂平行導体、リード線ケーブル、
電極支持ヘッドの絶縁部分、被加工体支持台の絶縁部分
等に生じる。
解、飛散作用を繰返して加工するもので、１発１発のパ
ルス放電が重要であり、単一パルスの加工量、放電痕等
はパルス中７。ｎ、放電々流波高値ｌｐによって決まる
。このような放電条件は電源側出力を制御しても加工間
隙における放電は半導体スイッチ回路、リード線導通回
路、接続ケーブル、機械装置の回路を含める全体放電回
路の特性により変化してしまう。従来放電加工機におけ
る電源及び機械装置の浮遊静電容量についてはあまり問
題にされなかったが、実はこの浮遊容量により加工間隙
のパルス放電が大きな影響を受けるものである。一般に
浮遊容量は電圧源をオン・オフスィッチングして加工パ
ルスを発生するスイッチのトランジスタ自体、ェミツタ
とポデー間、プリント坂平行導体、リード線ケーブル、
電極支持ヘッドの絶縁部分、被加工体支持台の絶縁部分
等に生じる。
全体では通常の機械で０．１仏Ｆ前後、小さく考慮され
たもので０．０１〆Ｆ程度になっている。これらの各部
に発生する浮遊静電容量は加工間隙に並列な分布回路を
形成している。第１図は分布回路の等価回路で、１は電
極、２は被加工体で、相対同して加工間隙を形成する。
たもので０．０１〆Ｆ程度になっている。これらの各部
に発生する浮遊静電容量は加工間隙に並列な分布回路を
形成している。第１図は分布回路の等価回路で、１は電
極、２は被加工体で、相対同して加工間隙を形成する。
３は電源で、この間で浮遊容量による分布回路が存在す
る。
る。
今全浮遊静電容量を０．０１奴Ｆとすれば、例えばＣ，
＝０．００かＦ、Ｃ２＝０．００秋Ｆ、Ｃ３＝０．００
７仏Ｆ程度となる。Ｌ：０．１仏日、Ｌ２＝Ｌ３＝１仏
日程度となる。この分布回路の各静電容量Ｃ，〜Ｃ２〜
Ｃ３による放電周波数は５０ＭＨｚ〜１４ＭＨｚ〜１１
ＭＨｚ程度のもので、これらの放電波形は第２図のよう
になり、合成波の波高値ｌｐ，は極めて大きなものとな
る。電源電圧９０Ｖの場合約ｌｐュ＝９Ａ程度となり、
？。山は０．５〜ｌｒｓ程度である。第３図はトランジ
スタスイッチによる放電パルスで矩形波となり、これに
第２図の浮遊容量による放電々流が加わり、加工間隙に
行われる放電波形は第４図のようになり、各スイッチン
グパルスの放電初期に浮遊容量による放電が加わり、波
高値はｌｐ＋ｌｐ，となる。なお図におけるｌｐ，ィ。
＝０．００かＦ、Ｃ２＝０．００秋Ｆ、Ｃ３＝０．００
７仏Ｆ程度となる。Ｌ：０．１仏日、Ｌ２＝Ｌ３＝１仏
日程度となる。この分布回路の各静電容量Ｃ，〜Ｃ２〜
Ｃ３による放電周波数は５０ＭＨｚ〜１４ＭＨｚ〜１１
ＭＨｚ程度のもので、これらの放電波形は第２図のよう
になり、合成波の波高値ｌｐ，は極めて大きなものとな
る。電源電圧９０Ｖの場合約ｌｐュ＝９Ａ程度となり、
？。山は０．５〜ｌｒｓ程度である。第３図はトランジ
スタスイッチによる放電パルスで矩形波となり、これに
第２図の浮遊容量による放電々流が加わり、加工間隙に
行われる放電波形は第４図のようになり、各スイッチン
グパルスの放電初期に浮遊容量による放電が加わり、波
高値はｌｐ＋ｌｐ，となる。なお図におけるｌｐ，ィ。
ｎはスイッチのオン・オフによるパルスの波高値及びパ
ルス中、浮遊容量によるそれはｌｐ，，７ｏｎ，で、次
式で与えられ、Ｉｐ，のＥノＣ／Ｌ ………（
１｝Ｃ；浮遊容量７０ｎのＥノＬＣ …
，．，，．，【２｝Ｌ；インダクタンスＥ；電源電圧 浮遊容量Ｃに比例して増大し、大きな浮遊容量を有する
機械であると、ｌｐ，による影響が極めて大きくなる。
ルス中、浮遊容量によるそれはｌｐ，，７ｏｎ，で、次
式で与えられ、Ｉｐ，のＥノＣ／Ｌ ………（
１｝Ｃ；浮遊容量７０ｎのＥノＬＣ …
，．，，．，【２｝Ｌ；インダクタンスＥ；電源電圧 浮遊容量Ｃに比例して増大し、大きな浮遊容量を有する
機械であると、ｌｐ，による影響が極めて大きくなる。
またこの浮遊容量が変化すると、ｌｐ，が変化するので
それによる影響も大きい。即ち放電加工の加工特性の加
工面粗さＲはＲ＝ＫＲｂ〇．４７。
それによる影響も大きい。即ち放電加工の加工特性の加
工面粗さＲはＲ＝ＫＲｂ〇．４７。
ｎ。．３ ………【３’ＫＲ；定数であり「
また加工速度Ｗは ＶＶ＝ＫＷ・Ｐｌ．４７ｍ１．１ ………■Ｋ
Ｗ：定数で求められる。
また加工速度Ｗは ＶＶ＝ＫＷ・Ｐｌ．４７ｍ１．１ ………■Ｋ
Ｗ：定数で求められる。
前記ｌｐは浮遊静電容量によるｌｐ．を含むから、ｌｐ
，によって加工面粗さＲ及び加工速度Ｗが影響を受ける
ことがわかる。しかるに目的加工を行なうために浮遊容
量による波高値ｌｐ，を見込んで加工パルス条件を定め
ても加工中浮遊容量が変化すると目的加工ができなくな
る。
，によって加工面粗さＲ及び加工速度Ｗが影響を受ける
ことがわかる。しかるに目的加工を行なうために浮遊容
量による波高値ｌｐ，を見込んで加工パルス条件を定め
ても加工中浮遊容量が変化すると目的加工ができなくな
る。
通常浮遊容量は種々の外的条件によって変化するもので
あり、例えば電極寸法の変化、被加工体との対向面積の
変化、材質変化、加工中の温度変化、加工液の汚れ変化
、トランジスタの石数の切換変化、その他によって変化
する。したがって本発明は前記の浮遊容量の加工への影
響、そして浮遊容量が変化することに鑑み、浮遊容量を
見込んだパルス条件の制御及び浮遊容量の変化によるパ
ルス条件の制御を行なうことによって目的とする安定加
工ができるよう発明されたものである。
あり、例えば電極寸法の変化、被加工体との対向面積の
変化、材質変化、加工中の温度変化、加工液の汚れ変化
、トランジスタの石数の切換変化、その他によって変化
する。したがって本発明は前記の浮遊容量の加工への影
響、そして浮遊容量が変化することに鑑み、浮遊容量を
見込んだパルス条件の制御及び浮遊容量の変化によるパ
ルス条件の制御を行なうことによって目的とする安定加
工ができるよう発明されたものである。
以下図面の−実施例により本発明を説明すると、第５図
において、１は電極、２は被加工体、３は直流電圧源で
、出力電圧の変更制御ができ、最適電圧が前記電極１、
被加工体２の加工間隙に供給できるよう構成されている
。
において、１は電極、２は被加工体、３は直流電圧源で
、出力電圧の変更制御ができ、最適電圧が前記電極１、
被加工体２の加工間隙に供給できるよう構成されている
。
４はトランジスタのスイッチで、パルサ５の発生する制
御パルスによってオン・オフスィッチングし、所要のパ
ルス中丁。
御パルスによってオン・オフスィッチングし、所要のパ
ルス中丁。
ｎ、休止中７皿を有する加工パルスを加工間隙に供給す
る。６は前記電圧源３の電圧変更制御を行なう制御装置
で、入力信号に応じて電圧の増減制御を行なう。
る。６は前記電圧源３の電圧変更制御を行なう制御装置
で、入力信号に応じて電圧の増減制御を行なう。
７はスイッチ４のオン・オフによって加工間隙に発生す
る放瞥々流の検出用抵抗、８は間隙電圧の検出抵抗、９
は抵抗８の電圧により放電開始を検出する回路、１０は
パルサ５の出力パルスと検出回路９の論理積をとるアン
ドゲート、１ １はゲート出力、即ち放電開始初期に短
い時間のチェックパルスを出力する回路、１２はチェッ
クパルスによって前記抵抗７より放電々流を検出する回
路、１３はその検出信号を判別する判定回路で、判別は
段階的判別を行ない、出力を制御信号６に加えて作動制
御する。
る放瞥々流の検出用抵抗、８は間隙電圧の検出抵抗、９
は抵抗８の電圧により放電開始を検出する回路、１０は
パルサ５の出力パルスと検出回路９の論理積をとるアン
ドゲート、１ １はゲート出力、即ち放電開始初期に短
い時間のチェックパルスを出力する回路、１２はチェッ
クパルスによって前記抵抗７より放電々流を検出する回
路、１３はその検出信号を判別する判定回路で、判別は
段階的判別を行ない、出力を制御信号６に加えて作動制
御する。
スイッチ４のオン・オフ制御によって加工間隙に加工パ
ルスを加え、それにより加工間隙に放電が行なわれるが
、放電の開始初期に回路に存在する浮遊静電容量に蓄え
られたェネルギが放電することによって放電波高値はｌ
ｐ＋ｌｐ，になり、浮遊容量に応じて大きくなることは
既でに第４図によって説明した。
ルスを加え、それにより加工間隙に放電が行なわれるが
、放電の開始初期に回路に存在する浮遊静電容量に蓄え
られたェネルギが放電することによって放電波高値はｌ
ｐ＋ｌｐ，になり、浮遊容量に応じて大きくなることは
既でに第４図によって説明した。
ｌｐ，は浮遊容量に比例して増大するから、このｌｐ，
を検出することによって浮遊容量の変化を検出すること
ができる。放電が起動すると間隙電圧は急激に低下する
からこれを検出回路９が検出してゲート１０から信号を
回路１１に加える。回路１１は同期して短いチェックパ
ルスを出力する。チェックパルスは第４図７。ｎ，相当
のものとし、これを検出回路１２に加えて抵抗７から放
電々流の信号を検出して判定回路１３に加える。判別回
路１３は段階的判別を行ない、検出信号がｌｐ十ｌｐ，
でまたはｌｐ，であり、この変化を判別することができ
る。判別により波高値ｌｐ＋ｌｐ，（又はｌｐ，）が増
大していれば、これは前記式（１め）ら浮遊容量が増大
したことがわかり、反対にｌｐ十ｌｐ，（又はｌｐ，）
が低減していれば浮遊容量の減少がわかる。そこで判定
回路１３の判別出力は装置６に加わり、電源３の電圧制
御をする。ｌｐ＋ｌｐ，が増大したときは電圧Ｅを減少
し、ｌｐ＋ｌｐ，が減少したときは電圧Ｅを増加する方
向に制御する。電圧制御はデジタルな切換による場合、
またはアナログ的連続変更制御のいずれでもよいが、こ
の電圧Ｅ変更制御をｌｐ＋ｌｐ，（又はｌｐ，）が一定
になる程度に制御する。パルサ５によりスイッチ４がオ
ン・オフして放電する加工間隙の各放電パルスの初期に
発生する浮遊容量によるｌｐ，が回路１１のチェック信
号によって検出回路１２及び判定回路１３によって検出
判別され、装置６によって露源３の電圧制御をし、ｌｐ
，を一定に制御する。このようにして放電回路の浮遊容
量が外的条件により変化しても電源電圧Ｅの制御によっ
て放電々流波高値ｌｐ＋ｌｐ，（又はｌｐ，）を常に一
定に保つことができるから、前式｛３’及び■のｌｐ＝
ｌｐ＋ｌｐ，を−定にすることができ、加工面粗さＲ、
加工速度Ｗを定めて値に加工することができる。したが
ってこの本発明装置によれば、放電加工装置の放電回路
には浮遊静電容量が存在することは必然的であるけれど
も、これによって目的加工ができないことがなくなり、
外的条件により浮遊容量が変化してもそれによって放電
々流波高値が変化しないように、電圧源を制御したこと
により、常に目的とする加工面粗さで、且つ加工速度を
もって安定した放電加工を行なうことができる。
を検出することによって浮遊容量の変化を検出すること
ができる。放電が起動すると間隙電圧は急激に低下する
からこれを検出回路９が検出してゲート１０から信号を
回路１１に加える。回路１１は同期して短いチェックパ
ルスを出力する。チェックパルスは第４図７。ｎ，相当
のものとし、これを検出回路１２に加えて抵抗７から放
電々流の信号を検出して判定回路１３に加える。判別回
路１３は段階的判別を行ない、検出信号がｌｐ十ｌｐ，
でまたはｌｐ，であり、この変化を判別することができ
る。判別により波高値ｌｐ＋ｌｐ，（又はｌｐ，）が増
大していれば、これは前記式（１め）ら浮遊容量が増大
したことがわかり、反対にｌｐ十ｌｐ，（又はｌｐ，）
が低減していれば浮遊容量の減少がわかる。そこで判定
回路１３の判別出力は装置６に加わり、電源３の電圧制
御をする。ｌｐ＋ｌｐ，が増大したときは電圧Ｅを減少
し、ｌｐ＋ｌｐ，が減少したときは電圧Ｅを増加する方
向に制御する。電圧制御はデジタルな切換による場合、
またはアナログ的連続変更制御のいずれでもよいが、こ
の電圧Ｅ変更制御をｌｐ＋ｌｐ，（又はｌｐ，）が一定
になる程度に制御する。パルサ５によりスイッチ４がオ
ン・オフして放電する加工間隙の各放電パルスの初期に
発生する浮遊容量によるｌｐ，が回路１１のチェック信
号によって検出回路１２及び判定回路１３によって検出
判別され、装置６によって露源３の電圧制御をし、ｌｐ
，を一定に制御する。このようにして放電回路の浮遊容
量が外的条件により変化しても電源電圧Ｅの制御によっ
て放電々流波高値ｌｐ＋ｌｐ，（又はｌｐ，）を常に一
定に保つことができるから、前式｛３’及び■のｌｐ＝
ｌｐ＋ｌｐ，を−定にすることができ、加工面粗さＲ、
加工速度Ｗを定めて値に加工することができる。したが
ってこの本発明装置によれば、放電加工装置の放電回路
には浮遊静電容量が存在することは必然的であるけれど
も、これによって目的加工ができないことがなくなり、
外的条件により浮遊容量が変化してもそれによって放電
々流波高値が変化しないように、電圧源を制御したこと
により、常に目的とする加工面粗さで、且つ加工速度を
もって安定した放電加工を行なうことができる。
外的条件、例えば材質の切換、電極の寸法切換変更、ま
たは加工中変化する液質、液温、加工面積の変化等に対
して常に定められた加工特性をもって放電加工すること
が可能となるものである。特に水を加工液とするワイヤ
カットにおいて効果が大きい。なお以上の実施例は浮遊
静電容量に関連して変化する放電々流波高値を信号とし
て検出したが、浮遊静電容量に対応する信号を検出して
もよく、例えばＱメータ、万能ブリッジ等により放電の
休止中、もしくは時々放電を中止して放電回路の浮遊容
量を検出し、電源電圧の制御信号とすることができる。
たは加工中変化する液質、液温、加工面積の変化等に対
して常に定められた加工特性をもって放電加工すること
が可能となるものである。特に水を加工液とするワイヤ
カットにおいて効果が大きい。なお以上の実施例は浮遊
静電容量に関連して変化する放電々流波高値を信号とし
て検出したが、浮遊静電容量に対応する信号を検出して
もよく、例えばＱメータ、万能ブリッジ等により放電の
休止中、もしくは時々放電を中止して放電回路の浮遊容
量を検出し、電源電圧の制御信号とすることができる。
また本発明放電加工装置は前記第５図実施例に限らず実
施することができる。
施することができる。
第１図は浮遊静電容量にもとずく等価分布回路、第２図
はその放電々流波形図、第３図はスイッチパルスの放電
々流波形図、第４図はその合成放電々流波形図、第５図
は本発明の一実施例回路構成図である。 １は電極、２は被加工体、３は電圧源、４はスイッチ、
５はパルサ、６は電圧制御装置、７は電流検出抵抗、８
は電圧検出抵抗、９は放電検出回路、１０はアンドゲー
ト、１１はチェックパルス発生回路、１２は電流検出回
路、１３は判定回路、ｌｐ，は浮遊容量による放電々流
波高値、ｌｐはスイッチングパルスによる放電々流波高
値である。 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図
はその放電々流波形図、第３図はスイッチパルスの放電
々流波形図、第４図はその合成放電々流波形図、第５図
は本発明の一実施例回路構成図である。 １は電極、２は被加工体、３は電圧源、４はスイッチ、
５はパルサ、６は電圧制御装置、７は電流検出抵抗、８
は電圧検出抵抗、９は放電検出回路、１０はアンドゲー
ト、１１はチェックパルス発生回路、１２は電流検出回
路、１３は判定回路、ｌｐ，は浮遊容量による放電々流
波高値、ｌｐはスイッチングパルスによる放電々流波高
値である。 第１図 第２図 第３図 第４図 第５図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 電極と被加工体の加工間隙、電圧源を半導体スイツ
チのオン・オフ制御に加工パルスを発生する加工用電源
を接続した放電加工装置において、前記電圧源を制御す
る装置を設けると共に、前記加工用電源、加工間隙、及
び接続回路を含む放電回路の浮遊静電容量に対応する信
号もしくは浮遊静電容量に関連して変化する信号を検出
する検出回路を設け、該検出回路の検出信号により前記
電圧源を制御する装置を作動させるようにしたことを特
徴とする放電加工装置。 ２ 放電々流波高値を検出する検出回路を設けたことを
特徴とする特許請求の範囲第１項に記載の放電加工装置
。
Priority Applications (6)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10616479A JPS6014652B2 (ja) | 1979-08-21 | 1979-08-21 | 放電加工装置 |
| GB8024220A GB2054436B (en) | 1979-07-25 | 1980-07-24 | Electrical discharge machining using controlled low stray capacitances |
| US06/171,943 US4335294A (en) | 1979-07-25 | 1980-07-24 | EDM Method and apparatus having a gap discharge circuit constructed with limited stray capacitances |
| FR8016540A FR2462229A1 (fr) | 1979-07-25 | 1980-07-25 | Procede et appareil d'usinage par decharges electriques |
| IT49351/80A IT1128661B (it) | 1979-07-25 | 1980-07-25 | Metodo e dispositivo di lavorazione a scarica elettrica con un circuito di scarica attraverso l'interspazio avente capacita' parassite limitate |
| DE19803028309 DE3028309A1 (de) | 1979-07-25 | 1980-07-25 | Verfahren und vorrichtung zum elektroerosiven bearbeiten |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10616479A JPS6014652B2 (ja) | 1979-08-21 | 1979-08-21 | 放電加工装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5633235A JPS5633235A (en) | 1981-04-03 |
| JPS6014652B2 true JPS6014652B2 (ja) | 1985-04-15 |
Family
ID=14426633
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10616479A Expired JPS6014652B2 (ja) | 1979-07-25 | 1979-08-21 | 放電加工装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6014652B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63309779A (ja) * | 1987-06-09 | 1988-12-16 | ザ ボーイング カンパニー | 可変慣性エネルギー貯蔵装置 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6279914A (ja) * | 1985-10-04 | 1987-04-13 | Mitsubishi Electric Corp | 放電加工用電源 |
-
1979
- 1979-08-21 JP JP10616479A patent/JPS6014652B2/ja not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63309779A (ja) * | 1987-06-09 | 1988-12-16 | ザ ボーイング カンパニー | 可変慣性エネルギー貯蔵装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5633235A (en) | 1981-04-03 |
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