JPS60145908A - 六塩化硅素の製造方法 - Google Patents

六塩化硅素の製造方法

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JPS60145908A
JPS60145908A JP79684A JP79684A JPS60145908A JP S60145908 A JPS60145908 A JP S60145908A JP 79684 A JP79684 A JP 79684A JP 79684 A JP79684 A JP 79684A JP S60145908 A JPS60145908 A JP S60145908A
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reaction
ferrosilicon
chlorine
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silicon
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JP79684A
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Masaaki Ito
正章 伊藤
Masayoshi Harada
勝可 原田
Osamu Hirano
治 平野
Nobuhiro Ishikawa
石川 延宏
Tatsuhiko Hattori
達彦 服部
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Toagosei Co Ltd
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Toagosei Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明はフェロシリコンと塩素を反応させて大塩化硅素
を製造する方法に関するもので、六塩化硅素を工業的に
高収率に製造することを目的とするものである。
六塩化硅素はジシラン等の硅素水素化物の原料となる非
常に有用な化合物である。この大塩化硅素を合成する従
来公知の方法としては、(1)金属硅素の塩素化法 (
2)フェロシリコン、カルシウムシリサイド等、硅素合
金の塩素化法 (3)四塩化硅素と硅素との反応による
方法等があるが、いずれの方法においても、工業上釉々
の問題点かあづ。
すなわち、例えば前記(2)の硅素合金の塩素化法の内
、フェロシリコンの塩素化法については、従来主に行な
われてい否方法として、フェロシリコンを充填した回置
層型の反応管に塩素を通じ、六塩化硅素金得る方法があ
るが、工業上次の様な問題点があることが判明した。
(1)反応が発熱反応である為、反応中反応管内に温度
分布が生じ、均一に温度をコントロールするのが難しい
。その為スケールアップが困難である。
(2)反応中に塩化第二鉄が生成するが、固定層では反
応波塩化第二鉄を含むフェロシリコン外査が固結化する
。その為反応後の7エロシリコン残査の取シ出しが困難
である。
(3) フェロシリコンの反応率が低い。
(4)六塩化硅素の選択率が低い。
なお、上記問題点のいくつかは米国特許2602728
号明細−゛に記載されでいる通り四塩化硅素を媒体と[
7て硅素合金を流動化し、塩素化する方法によりある程
度改善され得る。しかし、流動層法では流動化紀要する
ガス流量が必要であシ、多大な設備及び用役を必要とし
、工業上好ましくない。
本発明者らはフェロシリコンと塩素との反応により六塩
化硅素を製造する方法を鋭意検討した結果、上記問題点
を解決し、かつ工業的に操作が容易であり、経済的にも
有利な六塩化硅素の製造方法を見出し、本発明を完成す
るに至った。
すなわち、本発明はフェロシリコンと塩素を反応させて
六塩化硅素を製造するに際し、攪拌混合式横型反応管を
用い、反応温度120℃〜220℃で反応を行うことを
特徴とする六塩化硅素の製造方法である。
本発明におけるフェロシリコンは、硅素と鉄の合金であ
る。硅素含有量は特に限定するものではないが、40〜
80重量%が好ましい。40重量%未満では鉄の含有量
が多く、鉄を塩素化するに要する塩素が多大となり、塩
素原単位が犬となシ好まし、くない。80重量%を越え
ると六塩化硅素の収率が低くなり不利である。
フェロシリコンの粒度についても特に限定するものでは
ないが、あまり細かいものは適幽でなく、平均粒径d5
0で50〜1000μmが好ましい。
攪拌混合式横型反応管に供給するフェロシリコンの量は
、該反応管内で攪拌混合され得る量ならば倒ら差しつか
えないが、望ましくは該反応管内容量の1/2以下が好
ましい。1/2を越えるとフェロシリコンと塩素との反
応による発熱が除去しにくくなり、その結果反応温度を
コントロールしにくくなる。それ散大塩化硅素の収率の
低下にもつながり、又、攪拌に要する動力も多大となり
好ましいとはいえない。
本発明における塩素は、塩素単独でも、又、希釈ガスに
より希釈された塩素でも良い。この場合の希釈ガスは六
塩化硅素と反応しないガスならば例でもよく、例えばN
、、He+四塩化硅素等が4けられる。塩素の反応系へ
の供給速度は特に限定されるものではないが、フェロシ
リコン単位搦[有]g)当り2〜5Qt/hγが好まし
い。攪拌混合条件にもよるが、50t/hrを越えると
未反応塩素が出やすい。しかし未反応塩素が出ても反応
上は問題なく、未反応塩素を回収し再使用すれば塩素原
単位上も問題ない。2t/hγ未満では反応時間がかX
りすぎ好ましいとはいえない。
望ましい塩素の供給時間は、反応管からの廃ガス中の未
反応塩素濃度を測定することによって把握でき、該塩素
濃度の増加が検知されたときをもって塩素の供給を停止
すればよい。
本発明における攪拌混合式横型反応管とは、横型の反応
管であり、内部に供給されるフェロシリコンを攪拌混合
できる構造のものである。例えば横型反応管内に攪拌装
置が設置されているものがあシ、攪拌装置には羽根方式
、スクリュ一方式等がある。又、反応管自体が回転し、
反応管内の7エロシリコンを攪拌する型式のもの、例え
ばロータリーキルン方式のものでも良く、この場合内部
にリフター(掻上板)等の混合を良くする為の装僅か付
属されていても良い。上記以外のものでも、反応管内の
フェロシリコンを攪拌混合できる構造の装置であれば何
ら差しつかえなく、反応管の形状も問わない。又、横型
反応管は水平に設置しても若干傾斜を持たせても良い。
攪拌における回転数については装置の種類、太くり 小によシ異なるが、例えば攪拌羽根方式の場合5100
 rprnが好ましい。
塩素の供給口については該反応管のどの部分にあっても
良く、供給口が2ヶ以上あっても良い。
又、反応管内で分割供給される様な構造でも良い。
本発明における反応温度は120℃〜220°Cである
。120℃未満ではほとんど反応が起きない。220℃
を越えると六塩化硅素の収率が非常に低下する。好適な
温度としては150°C〜200℃である。
反応温度をコントロールする方法とじてに、反応管ジャ
ケッhK熱媒を通す方式、電気ヒーターによる方式、供
給する塩素又は塩素と希釈ガスとの混合ガスを予め加熱
しf後、反応管に供給する方法等が挙けられる。
本発明は例えば7エロシリコンを攪拌混合式C・5型反
応管に供給し、塩素供給口より塩素を供給しつつ、12
0°C〜2208Cの温度で行なうが、その際、反応前
にN3等の不活性ガスを通しながら加熱処理したフェロ
シリコンを用いると、更に六塩化硅素を高収率で得る事
ができる。
上記の如くしで生成した六塩化硅素を含む生成物は、1
ノド出管よシ液状又はガス状として排出され、冷却後生
成液として得られる。
+s’l+ ”A化反応終了後の7エロシリコン残査は
加熱処理すると、フェロシリコン残置中に残存している
六塩化硅素を回収することが可能となシ、非常に有利で
ある。
本発明は回分式反応のほか、連続反応にても実施できる
。連続反応の場合は攪拌混合式横型反応管に7エロシリ
コン連続供給装置及びフェロシリコン反応残置連続排出
装fQf設置すれば良い。なおこの場合の反応管内での
塩素とフェロシリコンの流れは、並流でも良く、向流で
も良い。六塩化硅素を含む反応生成物は排出管よシ液状
又はガス状で排出され、冷却後生成液として得られる。
本発明の優れた特長を従来公知の技術と比較して列準す
ると次の様な点か挙げられる。
即ち、従来のフェロシリコンと塩素との反応によシ得ら
れた塩素化硅素中の六塩化硅素の割合は、通常約30重
量%、最高でも米国特許2621111号明細書に見ら
れるごとくせいぜい約60重量係であるが、不発明によ
れは、生成した塩素化硅素中の六塩化硅素の割合を75
正貨乃以上にも高め得る。
又、フェロシリコンの反応率(塩素化されたフェロシリ
コンの割合)が向上するのも特長である。
従来公知の単なる固定層型の反応では約50係程度が未
反応の状態で残るのに対し、本発明では3゜チ未満程度
が残るにすぎない。これは撹拌によりフェロシリコン表
面が副反応生成物である塩化第二鉄等に覆われることが
なく、常に活性である為と推定される。
供給塩素に、敏についても、従来の如く攪拌しない場合
と比べて反応温度をコントロールしやすい為、年位時間
昌り、従来の6〜10倍以上の塩素流量を供給する事が
でき効率的である。
更に反応後のフェロシリコン残置についても固結するこ
となく粉状又は粒状でちシ、取シ扱いが非常に容易であ
る。
以下に本発明を実施例を挙げて具体的に説明するが、本
発明は実施例によシ限定されるものではない。
実施例1 第1図の様す100 mn0X 500 nn0回分式
のステンレス製攪拌混合式横型反応管1にフェロシリコ
ン(硅素含有率50重量%、40メツシュ通過品、平均
粒径t5o=230 A慾)を2゜5kg仕込み、該反
応管1内にN!を6t7hr流しながら160℃の温度
で5hr加熱処理した。 その後、反応温度を160’
Cにコントロールしながら塩素供給ログより塩素を37
1/hrで流し反応させた。
なお、攪拌混合式横型反応管における攪拌羽根2は10
mzの攪拌軸に42mmX42mの羽根を交互に取りつ
けたものであり、20rpmで回転させた。反応管1よ
り流出したガスを冷却管6の内管に通し、外管に通じた
0℃の冷媒にて冷却し、生成液受器7内に生成液を得た
。塩素の反応率は反応中はとんど100%であった。生
成液受器7に設けた廃ガス出口管8よシ未反応の塩素が
出始めた点で反応終了としたが、供給した塩素量は合計
1.62−であった。反応後前記反応管1にN! を6
1 / h r流しなから200 ’Cの温度で5hr
加熱処理し、流出ガスを0℃の冷媒にて冷却し上記生成
液上混合した。なお生成液受器7における廃ガスは廃ガ
ス出口管8よシ廃ガス処理装置(図示せず)に導いた。
得られた生成液量は合計4.34kgであり、その組成
は六塩化硅素SO,O重量%、四塩化硅素17.9重量
%、高次塩化物(六塩化硅素以上) 2. I Tg 
計チであった。
反応管中の7工ロシリコン反応残査の性状は粉状であり
、取り出しは容易であった。この反応残渣を分析した所
、主体は塩化第二鉄(無水)であす、ソの細末反応の7
エロシリコン、フェロシリコンの不純物に起因する塩化
アルミニウム等の金属塩化物が存在した。塩素化硅素は
ほとんど残存しなかった。未反応のフェロシリコンは7
49gあり、フェロシリコン反応率は70.0%であっ
た。
比較例1 実施例1の反応管に同量のフェロシリコンを仕込み、攪
拌しないこと及び塩素流量を3t/hrにしたととを除
いてはほぼ同じ条件で反応を行なった。塩素はフェロシ
リコン層の表面より反応する為に表面で局部的に温度の
高いゾーンが見られ、この温度を約160°Gにする為
には、塩素流量を31 / h r Lか流すことが出
来なかった。塩素反応率が100係より低下し始めた点
を反応終点としたが、合計の供給塩素量は]、21ゴで
あった。その後実施例1と同様にN、を流しながら加熱
処理した。
得られた生成液量は全部で3.25 kgであシ、その
組成は六塩化硅素55.5重量%、四塩化硅素43.0
重@チ、高次塩化物1.5*’!:%であった。
反応後のフェロシリコン残置は硬く圧密された状態であ
り、取り出しが非常に困難であった。フェロシリコン残
置を分析した所、成分的には実施例1と同様であった。
未反応フェロシリコンは1262g、iす、フェロシリ
コンの反応率tr:t 49゜5%であった。
比較例2 100馴@x500庫のステンレス製たて形反応管に実
施例1と同一の7エロシリコンを2.5 kg充填した
。なお、本反応管は猜拌装置がないもので、フェロシリ
コンは静置状態であった。実施例1と同様に予めフェロ
シリコンをN 、%’刺気下加熱処理した。その後反応
管上部よシ堤素を通じ、動し、反応部の最高温度を16
0〜170’Cにコントロールしながら反応を進める為
には、塩素(d:6t/hrしか流せなかった。反応管
の反応、中心部と壁部では温度差があシ、温度コントロ
ールは非常に困難であった。塩素反応率かioo%より
低下し始めた点を反応終点としたが、合ら1の供給塩素
量は1.2ばであった。反応後、実施例1と同号)F・
にフェロシリコン残査をN、を流しながら加熱処理した
得られた生成液量は全部で3.2 kgであり、その組
成は六塩化硅素59.5重#チ、四塩化硅素38,1重
量%、高次塩化物2.4重量%であった。
反応後のフェロシリコン残置は硬く圧密された状態でり
り、取り出しが非常に困難であった。フェロシリコン残
置を分析した所、成分的には実施例1と同様であった。
未反応フェロシリコンは1245gあり、フェロシリコ
ンの反応率は50.2係であった。
実施例2,3 反応温度を190℃にしたこと、または塩素および希釈
ガスとしてN!を併用したこと以外は実施例1と同様に
して、表1の如くの結果を得た。
反応後のフェロシリコン残置は実施例2.3共粉状で、
1、取り出しは実施例1と同じく容易であった。
表 1
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明方法を実施するだめの装置の一例の縦断
面図である。 1、#拌混合式横型反応管 2、攪拌羽根 3 フェロシリコン 4 塩素供給口 5、加熱用ジャケット 6、冷却管 7、生成液受器 8 屏ガス出口管 第1頁の続き 0発 明 者 服 部 達 彦 名古屋市港区舟会社研
究所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1、 フェロシリコンと塩素を反応させて六塩化・・硅
    素を製造するに際し、攪拌混合式横型反応管を用い、反
    応温度120℃〜220℃で反応を行うことを特徴とす
    る大塩化硅素の製造方法。
JP79684A 1984-01-09 1984-01-09 六塩化硅素の製造方法 Pending JPS60145908A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04103696U (ja) * 1991-02-12 1992-09-07 三洋電機株式会社 電気機器
US6846473B2 (en) 2000-08-02 2005-01-25 Mitsubishi Materials Polycrystalline Silicon Corporation Process for producing hexachlorodisilane
EP2067745A2 (en) 2007-11-30 2009-06-10 Mitsubishi Materials Corporation Method for seperating and recovering conversion reaction gas
WO2013057996A1 (ja) * 2011-10-18 2013-04-25 東亞合成株式会社 クロロポリシランの製造方法およびクロロポリシラン製造装置

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