JPS60145519A - 薄膜磁気ヘツド - Google Patents
薄膜磁気ヘツドInfo
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- JPS60145519A JPS60145519A JP138584A JP138584A JPS60145519A JP S60145519 A JPS60145519 A JP S60145519A JP 138584 A JP138584 A JP 138584A JP 138584 A JP138584 A JP 138584A JP S60145519 A JPS60145519 A JP S60145519A
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- Japan
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- magnetic head
- thin film
- substrate
- adhesive
- adhesive agent
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/33—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only
- G11B5/39—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects
- G11B5/3903—Structure or manufacture of flux-sensitive heads, i.e. for reproduction only; Combination of such heads with means for recording or erasing only using magneto-resistive devices or effects using magnetic thin film layers or their effects, the films being part of integrated structures
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/313—Disposition of layers
- G11B5/3133—Disposition of layers including layers not usually being a part of the electromagnetic transducer structure and providing additional features, e.g. for improving heat radiation, reduction of power dissipation, adaptations for measurement or indication of gap depth or other properties of the structure
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- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔技術分野〕
本発明は薄膜磁気ヘッドに1m l〜、特にha t/
h膜からなる素子を設けた基板上に接着剤“k介して保
護板を接合した薄膜磁気ヘッドに関する。
h膜からなる素子を設けた基板上に接着剤“k介して保
護板を接合した薄膜磁気ヘッドに関する。
一般に薄暎遊気ヘッドは、フェライトなどの基板−ヒに
セノダストやパーマロイなとの磁性膜や、A、U 、
CU 、 AL等の導電膜をスパッタリングや蒸着など
の薄膜堆積法により形成し、これらの薄膜をフォトエツ
チング工程を経て記録再生を行なう素子を構成する磁気
回路及び記録再生信号を導く電気回路のパターンを形成
している。
セノダストやパーマロイなとの磁性膜や、A、U 、
CU 、 AL等の導電膜をスパッタリングや蒸着など
の薄膜堆積法により形成し、これらの薄膜をフォトエツ
チング工程を経て記録再生を行なう素子を構成する磁気
回路及び記録再生信号を導く電気回路のパターンを形成
している。
そしてこれらの回路パターンを保護すると共に磁気記録
媒体摺動而を形成するためにノくターン上にフェライト
やガラス、アルミナなどの保護板を低触点ガラスやエポ
キシ系接着剤、水ガラスなとの接着剤を用いて貼シ合わ
せ、磁気記録媒体摺動面側を研削して完成した薄膜磁気
ヘッドを得ている。
媒体摺動而を形成するためにノくターン上にフェライト
やガラス、アルミナなどの保護板を低触点ガラスやエポ
キシ系接着剤、水ガラスなとの接着剤を用いて貼シ合わ
せ、磁気記録媒体摺動面側を研削して完成した薄膜磁気
ヘッドを得ている。
このような薄膜磁気ヘッドを製造する工程の途中で、基
板上のパターンに保護板を貼り合わせる際、前述したよ
うに接着剤を介して保護板を重ね、十分に加圧しながら
加熱し、接着剤の硬化を行っている。
板上のパターンに保護板を貼り合わせる際、前述したよ
うに接着剤を介して保護板を重ね、十分に加圧しながら
加熱し、接着剤の硬化を行っている。
ところで、接着剤を用いて保護板を接着させる構j責を
採用すると、接着剤の硬化時の加熱により接着剤中の溶
剤が揮発したり、保護板の貼り合わせの際に外気が接着
剤中に取り込まれる等の原因で接着剤中に気泡が生じる
。
採用すると、接着剤の硬化時の加熱により接着剤中の溶
剤が揮発したり、保護板の貼り合わせの際に外気が接着
剤中に取り込まれる等の原因で接着剤中に気泡が生じる
。
丑だ一般的な炉により硬化の加熱を行なうと、接着剤層
の外部と内部で温度勾配が生じ、接着剤層の外部から硬
化が始捷るので、上記の原因により発生した気泡が接着
剤層中に閉じ込められてしまう。
の外部と内部で温度勾配が生じ、接着剤層の外部から硬
化が始捷るので、上記の原因により発生した気泡が接着
剤層中に閉じ込められてしまう。
このように保護板を接合する接着剤層中に気泡が存在す
ると次のような各種の問題が生じる。
ると次のような各種の問題が生じる。
(1)薄膜磁気ヘッドの磁性膜から形成された素子部近
傍、特に磁気記録媒体摺動面付近に気泡が存在すると、
磁気記録媒体摺動面測針円筒面を形成するように研削す
る際に接着剤層に研削だ八が生じ、スペーシング損失を
引き起こす原因となったり、接着剤層のクラックやチッ
ピング等が発生し、磁気ヘッドの特性を著しく劣化させ
てしまう。
傍、特に磁気記録媒体摺動面付近に気泡が存在すると、
磁気記録媒体摺動面測針円筒面を形成するように研削す
る際に接着剤層に研削だ八が生じ、スペーシング損失を
引き起こす原因となったり、接着剤層のクラックやチッ
ピング等が発生し、磁気ヘッドの特性を著しく劣化させ
てしまう。
(2)薄膜磁気ヘッドの基板又は保護板と、接着剤層の
境界面に気泡が発生すると接着面積が減少し、接着強I
Lが低下し、保護板が剥iv+i Lで)〜壕う。
境界面に気泡が発生すると接着面積が減少し、接着強I
Lが低下し、保護板が剥iv+i Lで)〜壕う。
(3)封じ込められた気泡中の気体が温度変化によって
膨張あるいは収縮し、磁気ヘッドの信頼性を低下させる
。
膨張あるいは収縮し、磁気ヘッドの信頼性を低下させる
。
(i16a気記録媒体1習動面側に気泡か存在すると磁
気記録媒体側の磁!’:t%分が四部となった気泡の跡
(・こ溜ってしまう。
気記録媒体側の磁!’:t%分が四部となった気泡の跡
(・こ溜ってしまう。
(5)磁気記録媒体摺動面側に存在する気泡の後から水
が浸入して磁性膜から成る素子の腐食が発生し易くなる
。
が浸入して磁性膜から成る素子の腐食が発生し易くなる
。
本発明は上記の各問題を解決するためになされたもので
、上述の保護板を基板上に接合する接着剤層中に気泡が
存在することのないように構成することにより種々の特
性および信頼性を向上させた薄膜磁気ヘッドの提供を目
的とする。
、上述の保護板を基板上に接合する接着剤層中に気泡が
存在することのないように構成することにより種々の特
性および信頼性を向上させた薄膜磁気ヘッドの提供を目
的とする。
以下、添付図面を参照して本発明の実施例を詳細(・こ
説明する。なおここでは記録再生用の素子として磁気抵
抗効果素子(以下M R素子と呼ぶ)を用いた磁気抵抗
効果型の薄膜磁気ヘッドに本発明を適用しブこ例)C実
施例とする。
説明する。なおここでは記録再生用の素子として磁気抵
抗効果素子(以下M R素子と呼ぶ)を用いた磁気抵抗
効果型の薄膜磁気ヘッドに本発明を適用しブこ例)C実
施例とする。
〔第1実施例〕
第1図および第2図は本発明の第1実施例による薄膜磁
気ヘッドの構造を示すもので、第1図は保護板接合後の
状態、第2図は保護板接合後の状態を示している。
気ヘッドの構造を示すもので、第1図は保護板接合後の
状態、第2図は保護板接合後の状態を示している。
第1図において符号1で示すものは矩形の平坦なプレー
トに形成されたガラス基板で、このガラス基板1」二に
は、磁気記録媒体との摺動面側となる図中上側縁に寄っ
た側に細長い矩形の磁性膜からなる3個のM R素子2
が所定間隔で一直線状に並んで設けられている。
トに形成されたガラス基板で、このガラス基板1」二に
は、磁気記録媒体との摺動面側となる図中上側縁に寄っ
た側に細長い矩形の磁性膜からなる3個のM R素子2
が所定間隔で一直線状に並んで設けられている。
捷だ基板1上には、MR素子2の信号を導く一直線状の
信号電極3が互いに平行に15本設けられており、それ
ぞれの先端は3個のM R素子2の両端部に一本ずつ接
続されており、後端は図中下11(1、すなわち摺動面
の反対411]に導かれている。こえしらの信号電極は
例えばアルミニウム薄膜から形成される。
信号電極3が互いに平行に15本設けられており、それ
ぞれの先端は3個のM R素子2の両端部に一本ずつ接
続されており、後端は図中下11(1、すなわち摺動面
の反対411]に導かれている。こえしらの信号電極は
例えばアルミニウム薄膜から形成される。
また本実施例i/Cあっては基板1上に符号4で示す略
コの字状の発熱用パターンが形成されている。
コの字状の発熱用パターンが形成されている。
同図に示されるように発熱用パターン41は3周のM
R素子2の上側(摺動面側)近傍および6本の信号電極
3の両側吐傍に沿って設けられている。
R素子2の上側(摺動面側)近傍および6本の信号電極
3の両側吐傍に沿って設けられている。
この発熱用パターン4は例えばアルミニウム薄膜から形
成される。
成される。
そして第2図に示すように3個のMR素:r−+の全体
、6本の信号電極3の上部および発熱用パターン4の上
部を覆って矩形の保護板5がガラス基板1上に接着剤を
介して接合さ九る。保護板5は例えばフェライトやガラ
ス、アルミナ等からなり、まだ接着剤としては例えば水
ガラス等が用いられる。
、6本の信号電極3の上部および発熱用パターン4の上
部を覆って矩形の保護板5がガラス基板1上に接着剤を
介して接合さ九る。保護板5は例えばフェライトやガラ
ス、アルミナ等からなり、まだ接着剤としては例えば水
ガラス等が用いられる。
本実施例にあっては接着剤により保護板5を接合する際
に接着剤を硬化させるために発熱用パターン4を発熱さ
ぜ、それにより接着剤層中に発生した気泡が閉じこめら
れない状態で接着剤層を硬化させる。
に接着剤を硬化させるために発熱用パターン4を発熱さ
ぜ、それにより接着剤層中に発生した気泡が閉じこめら
れない状態で接着剤層を硬化させる。
以下にその接合工程も含む薄膜j曲気ヘッドの製造工程
を、第3図を参照して詳細に説明する、同図に示される
製造工程における最初のステップS1においては先述の
ガラス基板1を洗浄する。。
を、第3図を参照して詳細に説明する、同図に示される
製造工程における最初のステップS1においては先述の
ガラス基板1を洗浄する。。
の磁性膜と、信号電極3および発熱用パターン41でな
るアルミニウム膜とを、蒸着あるいはスパッタリング等
の方法により唯積して形成する。この場合これらの磁性
膜とアルミニウム膜は相互に連続した状態で形成される
。
るアルミニウム膜とを、蒸着あるいはスパッタリング等
の方法により唯積して形成する。この場合これらの磁性
膜とアルミニウム膜は相互に連続した状態で形成される
。
次にステップS3において上記のアルミニウム膜に対し
てフォトリソグラフィによりエツチングを施こすことに
より信号電極3および発熱用、<ターン4を形成する。
てフォトリソグラフィによりエツチングを施こすことに
より信号電極3および発熱用、<ターン4を形成する。
続いてステップS4において上記の磁性膜に対してフォ
トリソグラフィによりエツチングを施こすことによりM
R素子2を形成する。
トリソグラフィによりエツチングを施こすことによりM
R素子2を形成する。
さらにステップS5においてMR素子2と信号電極3を
被覆するように基板1上に二酸化ケイ素(SIO2)を
スパッタリングすることにより、MIN礒 素子2と信号電極2とを保護し磁気ヘッドの耐還境i生
を向上させるだめの保護層を形成する。
被覆するように基板1上に二酸化ケイ素(SIO2)を
スパッタリングすることにより、MIN礒 素子2と信号電極2とを保護し磁気ヘッドの耐還境i生
を向上させるだめの保護層を形成する。
続いてステップ56iCおいて基板1の表面上の摺動面
側、すなわち第1図中に示す上部で上記の保護層と発熱
用パターン4の−に部を覆うよう(で、接着剤てあろ水
ガラスを適量塗布する。
側、すなわち第1図中に示す上部で上記の保護層と発熱
用パターン4の−に部を覆うよう(で、接着剤てあろ水
ガラスを適量塗布する。
次にステップS7でガラス基板1上の上記の水ガラス塗
布部分、すなわち第2図+IC示す位置に保護板5を取
ね、貼り合わせる。
布部分、すなわち第2図+IC示す位置に保護板5を取
ね、貼り合わせる。
続くステップS8においては先のステップS7で貼り合
わせた保護板5を基板1方向に加圧するとともに、発熱
用ノリーン4に通電させ、同)くターンを発熱させる。
わせた保護板5を基板1方向に加圧するとともに、発熱
用ノリーン4に通電させ、同)くターンを発熱させる。
この発熱により保護板5と基板1間の水ガラスの層が内
部から硬化さぜられる。したがって発熱により水ガラス
中の溶剤が揮発したり、保護板5の貼り合わせの際に外
気が水ガラス層中に敗り込丑れだりして水ガラス層中に
気泡が発生した場合には、発生した気泡は水ガラス層中
から外部へ逃げることができ、水ガラス層中に閉じ込め
られることはない。
部から硬化さぜられる。したがって発熱により水ガラス
中の溶剤が揮発したり、保護板5の貼り合わせの際に外
気が水ガラス層中に敗り込丑れだりして水ガラス層中に
気泡が発生した場合には、発生した気泡は水ガラス層中
から外部へ逃げることができ、水ガラス層中に閉じ込め
られることはない。
従って続くステップS9において発熱用ノーターン4の
発熱により水ガラス層の硬化が完了し、保護板5の接合
が完了した場合に、硬化した水ガラス層中に気泡が存在
することはない。
発熱により水ガラス層の硬化が完了し、保護板5の接合
が完了した場合に、硬化した水ガラス層中に気泡が存在
することはない。
私に発熱用パターン4の一部は摺動面側V′こ沿って設
けられているのでこの部分での気泡の存在が特に防11
ニされる。
けられているのでこの部分での気泡の存在が特に防11
ニされる。
以−にの如くして第2図に示される状態の薄膜磁気ヘッ
ドが得られる。さらにこの薄膜磁気ヘッドの磁気記録媒
体摺動面側に研削加工、仕上加工を施すことにより完成
品が得られるー 以上のように本実施例では接着剤の水ガラスは硬化時に
内部側から硬化させられるので硬化完了後に水ガラス層
中に気泡が存在することはない。
ドが得られる。さらにこの薄膜磁気ヘッドの磁気記録媒
体摺動面側に研削加工、仕上加工を施すことにより完成
品が得られるー 以上のように本実施例では接着剤の水ガラスは硬化時に
内部側から硬化させられるので硬化完了後に水ガラス層
中に気泡が存在することはない。
また特に重要な摺動面近傍部分の接着剤層中での気泡の
存在が効果的に防屯される。
存在が効果的に防屯される。
なお発熱パターンの形状および配置i+:i:ヒ記実施
例のそれに限るものではなく、この点の構成が異なる実
施例?11−以下に説明する。
例のそれに限るものではなく、この点の構成が異なる実
施例?11−以下に説明する。
〔第2実施例〕
第4図(lよ本発明の第2実施例を示すものである。
同図に示されるよう(c本実施例にあっては符号6で示
す発熱用パターンは、第1実施例の発熱用・ζターフ4
と同じ形状と配置のパターンに、31固のM R素子2
の下側近傍に沿って一直線状に形成されたパターン部分
6aが加えられた・ぐターンとして形成されている。
す発熱用パターンは、第1実施例の発熱用・ζターフ4
と同じ形状と配置のパターンに、31固のM R素子2
の下側近傍に沿って一直線状に形成されたパターン部分
6aが加えられた・ぐターンとして形成されている。
以上の構、・亀によれば発熱用・ζターフ6の成膜ち・
よびエツチングプロセスは第1実施例に比較して増加す
るが、3個のM R素子2全体のごく近傍が発熱用パタ
ーン6によって包囲される配置となるため、上述の製造
工程における発熱用パターン60発熱による水ガラス層
の硬化の際に、M1?素子2の近傍の加熱がより均一に
行なわれる。このため、加熱時にこのM R素子2周辺
部に発生する温度勾配がより低くなり、特に重要なこの
部分で発泡のない接着をより効率的に行なえる。またよ
り広い領域で均一な硬化による接着が行なわれるため接
着強度がより向上する。
よびエツチングプロセスは第1実施例に比較して増加す
るが、3個のM R素子2全体のごく近傍が発熱用パタ
ーン6によって包囲される配置となるため、上述の製造
工程における発熱用パターン60発熱による水ガラス層
の硬化の際に、M1?素子2の近傍の加熱がより均一に
行なわれる。このため、加熱時にこのM R素子2周辺
部に発生する温度勾配がより低くなり、特に重要なこの
部分で発泡のない接着をより効率的に行なえる。またよ
り広い領域で均一な硬化による接着が行なわれるため接
着強度がより向上する。
〔第3実施例〕
第5図は本発明の第3実施例の構造を示すものである。
同図に示さ汎るように本実施列にあっては符号7で示さ
れる発熱用パターンは形状が第1実施例と同様に略コの
字状に形成さ汎ているが、上側の直線パターン部分は3
個のM R素子2と重ねられ、両側の直線パターン部分
は6本の信号電極3の両側υヱ傍に沿うように配置され
ている。
れる発熱用パターンは形状が第1実施例と同様に略コの
字状に形成さ汎ているが、上側の直線パターン部分は3
個のM R素子2と重ねられ、両側の直線パターン部分
は6本の信号電極3の両側υヱ傍に沿うように配置され
ている。
このような構造において、発熱用ノZターン7は接着剤
硬化の加熱用として用いられるとともに、完成した薄膜
磁気ヘッドの構成においてM R素子2のバイアス用電
極として用いられる。
硬化の加熱用として用いられるとともに、完成した薄膜
磁気ヘッドの構成においてM R素子2のバイアス用電
極として用いられる。
このように発熱用パターンとバイアス用電極を一体に形
成する構造により、接着hすの硬化時Vこ最も重要なM
8素子2部分での発泡を最大限に防止できるとともに、
第1および第2実施例に比(咬してバイアス用電極形成
のだめの工程を減らすことができる。
成する構造により、接着hすの硬化時Vこ最も重要なM
8素子2部分での発泡を最大限に防止できるとともに、
第1および第2実施例に比(咬してバイアス用電極形成
のだめの工程を減らすことができる。
なお以」二に説明した構成における基板1、MR素子2
、信号電極3、保護板5、接着剤および保護層の形成材
料、形状数、配置等の構成が上記実施例のものと異なる
薄膜、磁気ヘッドについても本発明を適用できるのは勿
論であり、発熱用パターンの形成材料、形状配置、数等
の構成も上記実施例に1辰るものではない。
、信号電極3、保護板5、接着剤および保護層の形成材
料、形状数、配置等の構成が上記実施例のものと異なる
薄膜、磁気ヘッドについても本発明を適用できるのは勿
論であり、発熱用パターンの形成材料、形状配置、数等
の構成も上記実施例に1辰るものではない。
またM R素子を用いず、磁気コアを構成する磁性膜と
コイルの導体パターンによるインダクアイブ型の薄膜(
6気ヘッドについても本発明を適用できるのも勿論であ
る。
コイルの導体パターンによるインダクアイブ型の薄膜(
6気ヘッドについても本発明を適用できるのも勿論であ
る。
以上の説明から明らかなように本発明の薄膜磁気ヘッド
によれば、素子を構成する磁性膜を形成した基板上に、
保護板の接合時に接着剤を加熱する発熱用パターンを形
成した構造を採用したので、基板と保護板間の接着剤層
中の発泡を防止することができ、接着剤層中に気泡が存
在した場合に発生する先述の各問題を解決することがで
きる。すなわち、接着剤層の研削、lビれによるスペー
シング損失、接着剤層のクラックやチッピングによる磁
気ヘッドの特性の劣化、接着強度の低下による保護板の
剥離、気泡の膨張収縮による磁気ヘッドの信頼性の低下
、摺動面の気泡の四部への磁性粉等のゴミの(=J着、
水の浸入による素子の腐蝕等の各問題が解決さハ、諸・
特性に優几、信頼性の向上した薄膜(磁気ヘッドを提供
することができる。
によれば、素子を構成する磁性膜を形成した基板上に、
保護板の接合時に接着剤を加熱する発熱用パターンを形
成した構造を採用したので、基板と保護板間の接着剤層
中の発泡を防止することができ、接着剤層中に気泡が存
在した場合に発生する先述の各問題を解決することがで
きる。すなわち、接着剤層の研削、lビれによるスペー
シング損失、接着剤層のクラックやチッピングによる磁
気ヘッドの特性の劣化、接着強度の低下による保護板の
剥離、気泡の膨張収縮による磁気ヘッドの信頼性の低下
、摺動面の気泡の四部への磁性粉等のゴミの(=J着、
水の浸入による素子の腐蝕等の各問題が解決さハ、諸・
特性に優几、信頼性の向上した薄膜(磁気ヘッドを提供
することができる。
第1図〜第3図は本発明の第1実施例を説明するもので
、第1図は保護板抜a前の構造を示す平面図、第2図は
保護板接合後の構造を示す平面図、第3図は製造工程を
示す流れ図、第4図は本発明の第2実施例の構造を示す
平面図、第5図は本発明の第3実施例の構造を示す平面
図である。 1・・・基板 2・・M R素子 3・・・信号電’it 4 + 617・・・発熱用パ
ターン5・・・保護板 特許出j頚人 キャノン電子 株式会社、2.− 代 理 人 弁理士 加 藤 卓 j、1第1図 第2
図 第4図1 節5図 第3図
、第1図は保護板抜a前の構造を示す平面図、第2図は
保護板接合後の構造を示す平面図、第3図は製造工程を
示す流れ図、第4図は本発明の第2実施例の構造を示す
平面図、第5図は本発明の第3実施例の構造を示す平面
図である。 1・・・基板 2・・M R素子 3・・・信号電’it 4 + 617・・・発熱用パ
ターン5・・・保護板 特許出j頚人 キャノン電子 株式会社、2.− 代 理 人 弁理士 加 藤 卓 j、1第1図 第2
図 第4図1 節5図 第3図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)素子を構成する磁性膜を形成した基板−にに接着/
Illを介して保護板を接合した薄膜磁気ヘッドにおい
て、前記接合時に接着剤を加熱する発熱用パターンを前
記基板上に形成したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。 2)前記発熱用パターンを前記素子の近傍に配f’c
シたことを特徴とする特許請求の範囲第1項に記載(′
)薄膜磁気ヘッド。 3)前記素子近傍を包囲するように前記発熱用パターン
を形成したことを特徴とする特許請求の範囲第1項また
は第2項eζ記載の薄膜磁気ヘッド。 4)前記素子は磁気抵抗効果素子であることを特徴とす
る特許請求の範囲第1項から第3項)Fでのいずれか1
項に記載の薄膜磁気ヘッド。 5)前記発熱用パターンを前記磁気抵抗効果素子のバイ
アス用電極と一体に形成したことを特徴とする特許請求
の範囲第4項に記載の薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP138584A JPS60145519A (ja) | 1984-01-10 | 1984-01-10 | 薄膜磁気ヘツド |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP138584A JPS60145519A (ja) | 1984-01-10 | 1984-01-10 | 薄膜磁気ヘツド |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60145519A true JPS60145519A (ja) | 1985-08-01 |
JPH0556562B2 JPH0556562B2 (ja) | 1993-08-19 |
Family
ID=11500014
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP138584A Granted JPS60145519A (ja) | 1984-01-10 | 1984-01-10 | 薄膜磁気ヘツド |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60145519A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62267915A (ja) * | 1986-05-16 | 1987-11-20 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
-
1984
- 1984-01-10 JP JP138584A patent/JPS60145519A/ja active Granted
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62267915A (ja) * | 1986-05-16 | 1987-11-20 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0556562B2 (ja) | 1993-08-19 |
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