JPS60140825A - フオトマスク欠陥修正方法および装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、フォトマスクのパターン面に発生する欠落欠
陥の修正方法とその装置に係り、特に、短時間で且つ容
易に前記欠落欠陥を修正するためのフォトマスク欠陥修
正方法およびその装置に関するものである。

〔発明の背景〕

フォトマスクに発生する欠陥には、黒点欠陥（残留欠陥
ともいわれている）と欠落欠陥（白点欠陥ともいわれ、
正常なパターンの一部分が欠除するような欠陥）とがあ
る。

これらの欠陥修正方法とｌ〜で、黒点欠陥については、
レーザによる修正方法を採用することにより、欠陥修正
の工程が大幅に短縮できるようになった。一方、欠落欠
陥については、リフトオフ法が用いられている。この方
法は、次の（＋＋、　（２＋、　（３）。

（４Ｌ　（５１の工程から々るものである。すなわち、
（１）欠落欠陥を有するフォトマスク全面にポジ型のレ
ジストを塗布する。

（２）部分露光法を用いて、欠落欠陥部のみに露光を行
なう。

（３）現像処理により欠落欠陥部に窓をあける。

（４）真空蒸着技術により、欠落欠陥部とその周辺のレ
ジスト上、あるいはフォトマスク全面のレジスト上に金
属膜を形成する。

（５）　レジスト除去を行ない、同時にレジスト上に形
成されている金属膜も除去する。

このように多くの工程からなるこの欠陥修正方法は、欠
陥修正に時間がかかるという欠点があった。

最近、レーザ光照射により、有機金属溶液など、金属を
析出する溶液から金属を堆積する方法が報告されており
、この方法を欠落欠陥の修正に適用することができる。

第１図は、レーザ光照射により有機金属溶液から金属を
堆積する方法を説明するだめの略示図である。

この第１図において、Ｃｒ錯体またはＭＯ錯体のベンゼ
ン溶液１を、２枚のガラス窓２ａ、２ｂを持つセル３に
入れ、一方のガラス窓２ａの内側に、対物レンズ５で集
光したレーザ光４を照射して、金属６を堆積させるもの
である。これを応用し、ガラス窓２ａの代りに、欠落欠
陥を有するフ第１・マスクを、そのパターン面がベンゼ
ン溶液１側に向くようにして装着し、前記欠陥のある部
分ヘレーザ光４を照射することにより、欠落欠陥の修正
を行なうことができる。しかし、ここで用いられている
Ｃｒ錯体またはＭＯ錯体は、非常に不安定で大気に触れ
ると大気中の酸素と反応し酸化物を形成してしまうため
、取扱いが難しく、欠落欠陥の修正に、レーザ光照射に
より金属を析出する溶液を使用することが困難であると
いう欠点があった。

〔発明の目的〕

本発明は、上記した従来技術の欠点を除去し、短時間に
且つ容易に欠落欠陥を修正することができるフ第１・マ
スク欠陥修正方法、およびその実施に直接使用されるフ
ォトマスク欠陥修正装置の提供を、その目的とするもの
である。

〔発明の概要〕

本発明に係るフォトマスク欠陥修正方法の構成は、ビス
・ベンセン・メタルのベンゼン溶液を供給された修正容
器に、外気と密閉状態を保持し、パターン面が前記修正
容器内側に向き、且つ前記パターン面の欠落欠陥部分が
前記溶液に浸るようにして装着された被修正フォトマス
クの前記欠落欠陥部分へ、レーザ光を照射してそこに前
記溶液中の金属を析出させることにより、前記欠落欠陥
を修正するようにしたものである。

また、本発明に係るフォトマスク欠陥修正装置の構成は
、レーザ光を発生するレーザ光発生手段と、被修正フォ
トマスクを外気と密閉状態で装着することができ、且つ
前記レーザ光を透過するレーザ透過用窓を備えだ修正容
器と、前記レーザ光発生手段から発生したレーザ光を前
記被修正フォトマスクの欠落欠陥部分に集光し、且つこ
れを観察することができるレーザ照射・観察光学系と、
前記修正容器の内部を排気する排気手段と、前記レーザ
光の照射により金属を析出する溶液を貯蔵する溶液貯蔵
手段と、この溶液貯蔵手段から前記修正容器内へ前記溶
液を供給・排出する溶液供給・排出手段と、前記修正容
器内へ、前記溶液に影響を及ぼさない不活性ガスを供給
する不活性ガス供給手段と、前記修正容器内を洗浄する
だめの洗浄液を貯蔵する洗浄液貯蔵手段と、この洗浄液
貯蔵手段から前記修正容器内へ前記洗浄液を供給・排出
する洗浄液供給・排出手段とを有せしめるようにしたも
のである。

さらに詳しくは、レーザ光照射により金属を析出する溶
液として、ビス・ベンゼン・クロムｔｉはビス・ベンゼ
ン・モリブデンのベンゼン溶液を用い、この溶液を大気
に直接触れることのないようにして供給することができ
る修正容器に、被修正フォトマスクのパターン面が前記
ベンゼン溶液に浸るようにして当該修正容器に装着し、
前記パターン面の欠落欠陥部分ヘレーザ光を照射してそ
こに金属を析出させることにより欠陥を修正したのち、
前記ベンゼン溶液を前記修正容器から排出させ、さらに
ベンゼン洗浄を行なったのち、前記被修正フ第１・マス
クを取外すようにしたものである。

〔発明の実施例〕

以下、本発明を実施例によって説明する。

第２図は、本発明の一実施例に係るフォトマスク欠陥修
正方法の実施に供せられる装置の一例を示す略示図、第
３図は、第２図における、被修正フォトマスクを装着し
た修正容器を示す詳細断面図である。

第２図において、２１は、その前方にシャッタ２３を配
設した、レーザ光に係るＡｒレーザ光２２を発生するレ
ーザ発生手段に係るＡｒレーザ発振器、８は、そのレー
ザ透過用窓５０に、パターン面７ａが容器内側に向くよ
うにして被修正フォトマスク７を、外気と密閉状態で装
着することができる修正容器（詳細後述）、４０は、対
物レンズ２５とＡｒレーザ発振器２１との間に、矩形開
口部３５ａの寸法ａを変えることができる可変矩形開口
スリット３５を具備し、被修正フォトマスク７のパター
ン面７ａと、対物レンズ倍率Ｍの（９） 逆数１／Ｍの大きさに縮小した矩形開口部３５ａの実像
面とが一致するように、対物レンズ２５゜可変矩形開口
スリット３５を配設することにより、Ａｒレーザ発振器
２１から発生したＡｒし〜ザ光２２をパターン面７ａの
欠落欠陥部分に集光するようにしたレーザ照射・観察光
学系、１２ば、修正容器８内を排気する排気手段に係る
真空ポンプ、１６は、ビス・ベンゼン・クロムのベンゼ
ン溶液を貯蔵する溶液貯蔵手段に係るベンゼン溶液タン
ク、１３，１４．１５は、このベンゼン溶液タンク１６
から修正容器８内へ前記溶液を供給・排出する溶液供給
・排出手段に係るバルブ、バルブ。

ポンプ、９，１０は、修正容器８内へ、前記溶液に影響
を及はさない不活性ガス（窒素ガス）を供給する不活性
ガス供給手段に係るバルブ、窒素ボンベ、２０は、修正
容器８内を洗浄するだめの洗浄液に係るベンゼンを貯蔵
する洗浄液貯蔵手段に係るベンゼンタンク、１７，１８
．１９は、このベンゼンタンク２０から修正容器８内へ
前記ベンゼンを供給・排出する洗浄液供給・排出手段に
係（１０） るバルブ、バルブ、ポンプである。そして２９は、前記
バルブ９，１．１，１３，１４，１７．１８の開閉、お
よび真空ポンプ１２．ポンプ１５．１９の０Ｎ−ＯＦＦ
、ならびにシャッタ２３の開閉全制御することができる
制御装置である。

前記修正容器８について、第３図を使用して詳細に説明
すると、この修正容器８は、底板８ｂにねじ４１および
ＯＩＪング４２で、上部にレーザ透過用窓５０を開口し
た容器本体８ａを締結してなるものであり、前記レーザ
透過用窓５ｏには、被修正フォトマスク７自身が窓材と
なる様に、マスク押え４３．ＱＩＪング４４およびねじ
４５で固定される。このとき、被修正フォトマスク７は
、そのパターン面７ａが容器内側を向く様に固定され、
Ａｒレーザ光２２はマスク基板を透過して、パターン面
７ａの欠落欠陥部分に照射されるものである。そして、
この修正容器８は、バルブ９を介し□て窒素ボンベ１０
と、バルブ１１を介して真空ポンプ１２と、バルブ１３
，１４．ポンプ１５を介してベンゼン溶液タンク１６と
、バルブ１７゜１８、ポンプ１９を介してベンゼンタン
ク２０と、それぞれ配管によって接続されており、この
修正容器８はＸ−Ｙステージ（図示せず）上に載置され
ている。

再び第２図へ戻って、前記レーザ照射・観察光学系４０
について詳細に説明すると、３０は、Ａｒレーザ光２２
のビーム径を拡げるビームエキスパンダ、３１は、参照
光光源、３２は、干渉フィルタ、３３は、Ａ−ｒレーザ
光２２の波長と対物レンズ２５による色収差が出す、且
つ結合光学系３４で結合できる程度に、Ａｒレーザ光２
２と波長がわずかに累々るように、前記干渉フィルタ３
２で選択された参照光、３６は、Ａｒレーザ光２２の波
長に対しては十分高い反射率をもち、参照光３３に対し
ては５０％程度の反射率をもち、他の波長に対しては十
分高い透過率をもつダイクロイックミラーである。２６
は照明光学系、３７はハーフミラ−１３８は、レーザ光
カットフィルタ、３９はプリズム、２８は接眼レンズで
ある。

このように構成したフォトマスク欠陥修正装置の動作を
説明する。

すべてのバルブ９，１１，１３，１４，１．７゜１８が
閉じられ、ベンゼンおよびビス・ベンゼン・クロムのベ
ンゼン溶液がそれぞれベンゼンタンク２０．ベンゼン溶
液タンク１６に密閉された状態で貯蔵されている。被修
正フォトマスク７を、そのパターン面７ａが容器内側へ
向くようにして修正容器８に取り付け、容器内を密閉状
態にする。

ここで、フォトマスク欠陥修正装置をＯＮにすると、制
御装置２９が作動してバルブ１１が開き、真空ポンプ１
２が駆動され、この真空ポンプ１２により修正容器８内
を排気し、バルブ１１が閉じる。次にバルブ１３が開き
、ポンプ１５によシ修正容器８内へビス・ベンゼン・ク
ロムのベンゼン溶液が供給されて満たされ、バルブ１３
が閉じて、フォトマスク欠陥修正装置が−ＨＯＦＦにな
る。

ここで、レーザ照射・観察光学系４ｏへ通電すると、Ａ
ｒレーザ発振器２１からＡｒレーザ光２２が発振され、
このＡｒレーザ光２２はビームエキスパンダ３０により
ビーム径を拡げられ、参照光光源３１．干渉フィルタ３
２からの参照光３３と結合光学系３４により同一光軸に
結合されて、可変矩形開口スリット３５に照射される。

シャッタ２３を閉じた状態で、作業者が対物レンズ２５
、ダイクロイックミラー３６．ハーフミラ−３７、照明
光学系２６．レーザ光カットフィルタ３８、プリズム３
９．接眼レンズ２８を介して、修正容器８に取り付けら
れた被修正フォトマスク７を観察しながら、前記Ｘ−Ｙ
ステージで修正容器８を移動させ、参照光３３による矩
形開口部３５ａの像を、欠落欠陥の位置および大きさに
合せる。このとき、可変矩形開口スリット３５．対物レ
ンズ２５．被修正フォトマスク７は、対物レンズ倍率を
Ｍとして、矩形開口部３５ａの像が１／Ｍの大きさに被
修正フォトマスク７上に結像される位置関係に配置され
ている。

ここで再びフォトマスク欠陥修正装置をＯＮにすると、
シャッタ２３が一定時間だけ開くことにより、欠落欠陥
の大きさ９位置に合わせられた参照光３３による矩形開
口部３５ａの像と全く同じ大きさ、同じ位置にＡ−ｒレ
ーザ光２２が照射され、このＡ、　ｒレーザ光２２が照
射された部分のみにクロムが析出して、欠落欠陥が修正
される。

つぎに、バルブ１４，９が開き、窒素ボンベ１０から窒
素を注入しながら、ビス・ベンゼン・クロムのベンゼン
溶液がベンゼン溶液タンク１６へ排出される（このとき
、バルブ１３を同時に開くようにしてもよい）。つぎに
バルブ９，１４゜および１３が閉じ、真空ポンプ１２が
作動し、バルブ１１が開いて修正容器８内の窒素が排出
される。その後、バルブ１１が閉じ、バルブ１７が開い
てポンプ１９により修正容器８内がベンゼンで満たされ
る。これは、修正容器８内に残留しているビス・ベンゼ
ン・クロムを洗浄するだめである（必要に応じて、バル
ブ１８を開いて、ベンゼンを循環させるようにしてもよ
い）。ポンプ１９が停止し、バルブ１８が開き、修正容
器８内のべ／ゼンがベンゼンタンク２０へ戻る。修正容
器８内が大気圧と同程度に調整されたのち、すべてのバ
ルブが閉じ、フ第１・マスク欠陥修正装置が０ＦＦ（１
５） になる。ここで、被修正フォトマスク７を取外せば、欠
落欠陥を修正した所望のフォトマスクが得られる。

以上説明した実施例によれば、取扱いが難しいビス・ベ
ンゼン・クロムのベンゼン溶液ヲ使用しても、容易に且
つ短時間、短工程で、被修正フォトマスク７のパターン
面７ａに発生した欠落欠陥を修正することができるとい
う効果がある。

また、第３図に係る修正容器８は、そのレーザ透過用窓
５０に被修正フォトマスク７を装着することができるよ
うにしたので、その着脱が容易であるとともに、作動距
離の短いこの種の対物レンズ２５を使用するものでも、
矩形開口部３５ａの実像を、被修正フォトマスク７のパ
ターン面７ａに容易に位置合わせすることができるとい
う利点がある。加うるに、矩形開口部３５ａの寸法ａを
可変にすることができる可変矩形開口スリット３５を使
用するようにしたので、任意の大きさの矩形領域にクロ
ムを析出させることが可能であり、被修正フォトマスク
７のパターン面７ａに発生した（１６） いろいろの大きさの欠落欠陥を高精度に、且つ容易に修
正することができるという効果もある。

なお、本実施例においては、偏光のないＡｒレーザ光を
使用するようにしたが、直線偏光のレーザ光を用いても
よく、この場合には、結合光学系３４として、偏光ビー
ムスプリッタを用い、結合された後のレーザ光と参照光
３３とは、波長が全く同じで、偏光方向のみ直交させる
ようにする。

そして、ダイクロイックミラー３６として、前記レーザ
光の偏光方向の光を十分高く反射し、それと直交する偏
光成分に対しては反射率５０％に近いものを、またレー
ザ光カットフィルタ３８として、前記レーザ光の偏光方
向の光を反射もしくは吸収する特性のものを使用するこ
とにより、前記レーザ光と参照光３３の色収差を全くな
くすことができる。

第４図は、第２図における、被修正フォトマスこの第４
図において、第３図と同一番号を付しだものは同一部分
である。

この修正容器８Ａは、被修正フォトマスク７を修正容器
８Ａ内に、パターン面７ａを容器内側に向けて装着し、
マスク押え４８．ねじ４９によシこれを固定するように
したものである。まだ、修正容器８Ａの上部には、Ａｒ
レーザ光２２を透過するレーザ透過用窓５０Ａに窓ガラ
ス４６が、０リング５２．窓押え５１．ねじ５３により
固定されるようになっており、この窓ガラス４６を取り
はずしたのち、被修正フォトマスク７の着脱を行なう。

本実施例の修正容器８Ａを使用したものは、Ａｒレーザ
光２２は、窓ガラス４６およびビス・ベンゼン・クロム
のベンゼン溶液を透過して被修正フォトマスク７の表面
に照射される。修正容器８Ａの深さは、対物レンズ２５
の作動距離より小さくなるように、しかも、可能な範囲
で大きくすることにより、窓ガラス４６へのクロムの析
出を防止することができる。

第５図は、第２図におけるレーザ照射・観察光学系の他
の実施例を示す略示図である。

この第５図において、第２図と同一番号を付したものは
同一部分である。そして、２４は、Ａｒレーザ光２２を
反射するダイク「ｌイックミラー（このダイクロイック
ミラー２４は、前記ダイクロイックミラー３６と光学的
特性を異にするものである）、２７はハーフミラ−であ
る。

このレーザ照射・観察光学系４０Ａは、照明光学系２６
．ハーフミラ−２７，接眼レンズ２８゜および対物レン
ズ２５により観察しながら、Ａｒレーザ光２２の集光点
と欠落欠陥位置とを位置合わせするものであシ、その他
はすべて第２図におけるレーザ照射・観察光学系４０を
使用したものと同様に動作する。

第６図は、フォトマスク欠陥修正装置の他の実施例を示
す要部略示図である。

この第６図において、第２図と同一番号を利したものは
同一部分である。

この第６図には、レーザ照射・観察光学系の図示を省略
しであるが、前記レーザ照射・観察光学系４０もしくは
４０Ａを使用すればよい。

（１９） この実施例は、修正容器８Ｂを、駆動装置４７で矢印５
４方向へ駆動して、そのレーザ透過用窓５０Ｂを、被修
正フォトマスク７のパターン面７ａへ装着（すなわち押
付けて装着）もしくは取外すことができるようにしたも
のである。そして、６０ば、Ｘ−Ｙに移動可能で、且つ
下方が開放状態のＸ−Ｙステージ（ただし、Ｘ−Ｙ移動
装置の図示省略）で、とのＸ−Ｙステージ６０」二に、
マスク押え６１．ねじ６２によって、被修正フォトマス
ク７が、そのパターン面７ａを下向き（すなわち修正容
器８Ｂの容器内側に向くように）して固定されるように
なっている。Ｘ−Ｙステージ６０の下方には、駆動装置
４７により矢印５４方向に移動可能な修正容器８Ｂが配
設されており、この修正容器８Ｂは、前記駆動装置４７
によって上方へ移動し、そのレーザ透過用窓５０Ｂを被
修正フォトマスク７のパターン面７ａに押しつけ、０リ
ング６５によって密閉状態にすることができる。昔だ、
この修正容器８Ｂ内には、ノズル６６が設けられている
。さらに、この修正容器８Ｂか（２０） う、バルブ］１を介して真空ポンプ１２へ、バルブ９を
介して窒素ボンベ１０へ、ポンプ５９．三方向バルブ６
３，６４．バルブ６７．６８を介してベンゼン溶液タン
ク１６およびノズル６６へ、ポンプ５９．三方向バルブ
６３，６４．バルブ６９．７０を介してベンゼンタンク
２０およびノズル６６へ、それぞれ配管されている。

このように構成したフォトマスク欠陥修正装置の動作を
説明する。

前記レーザ照射・観察光学系へ通電し、被修正フォトマ
スク７のパターン面７ａの欠落欠陥トレーザ照射位置と
が一致するように、Ｘ−Ｙステージ６０で位置合わせし
たのち、このフォトマスク修正装置をＯＮにすれば、修
正容器８Ｂが被修正フォトマスク７に押付けられた状態
で、バルブ１１が開いて、真空ポンプ１２により修正容
器８Ｂ内が排気される。バルブ１１が閉じた後、修正容
器８Ｂ内が大気圧と同程度になるまで、バルブ９が開い
て窒素ボンベ１０から窒素が導入される。その後バルブ
９が閉じ、バルブ６７．６８が瀾Ｎ、（２１） ベンゼン溶液タンク１６と修正容器８Ｂとが連通ずるよ
うに、三方向バルブ６３．６４が切換えられて、ポンプ
５９により、ビス・ベンゼン・クロムのベンゼン溶液が
ノズル６６から噴出され、被修正フォトマスク７の欠落
欠陥部分とその周辺にふきかけられ、常に新しい液を供
給される。この状態で、Ａ−ｒレーザ光２２が所定時間
照射される。

レーザ照射が終了すると、バルブ９が開いて、修正容器
８Ｂ内のベンゼン溶液がベンゼン溶液タンク１６内に排
出され、バルブ９，６７．６８が閉じる。バルブ１１が
開いて、真空ポンプ１２により修正容器８Ｂ内が排気さ
れた後、修正容器８Ｂとベンゼンタンク２０とが連通ず
るように三方向バルブ６３．６４が切換えられ、バルブ
６９゜７０が開いて、ポンプ５９の駆動により修正容器
８Ｂ内がベンゼンで洗浄される。この洗浄後、バルブ９
が開いて、修正容器８Ｂ内へ窒素が導入され、ベンゼン
がベンゼンタンク２０内へ戻る。その後、バルブ９，６
９．７０が閉じ、駆動装置４７により修正容器８Ｂが下
方へ後退し、欠落欠（２２） 陥の修正が完了し、フォトマスク欠陥修正装置がＯＦ　
Ｆになる。なお、前記欠落欠陥の他にも欠落欠陥が存在
する場合には、Ｉ４］びその欠陥位置とレーザ照射位置
とを位置合ぜした後、同じ手順を繰返せば良い。

以上説明した第６図に係る実施例によれば、前記第２９
４１”図に係る実施例の効果に加えて、■使用するビス
・ベンゼン・クロノ・のベンゼン溶液、およびベンセン
の液量が少なくてもよい。■欠格欠陥部分のみを前記液
体に浸せばよいので、パターン面７ａの他の部分には全
く影響がない、という利点がある。

なお、本実施例においては、ノズル６６からビス・ベン
ゼン・クロムのベンゼン溶液ヲ噴出すセるようにしだが
、ノズル６６を使用せず、修正容器８Ｂ内を前記ベンゼ
ン溶液で満たして修正するようにしても」：い。また、
被修正フォトマスク７を、そのパターン面７ａが」二向
きになる様に設置して、修正容器８Ｂを上から押しつけ
、Ａ４レーザ光２２を下方から照射しても、全く同様に
修正（２３） を行なうことができることは明らかである。

さラニ、ビス・ベンゼン・クロムのベンゼン溶液の循環
経路は、第６図のものに限るものではなく、たとえば第
２図に示したように、ベンゼンの循環経路と独立するよ
うに構成してもよい。

第７図は、フ第１・マスク欠陥修正装置のさらに他の実
施例を示す要部略示図である。

この第７図において、第２図と同一番号を付したものは
同一部分である。

この第７図には、レーザ照射・観察光学系の図示を省略
しであるが、前記レーザ照射・観察光学系４０もしくは
４ＯＡを使用すればよい。

この第７図に係るものと、第２図との相異点は、ベンゼ
ン溶液タンク１６およびベンゼンタンク２０が、バルブ
５５．５６およびバルブ５７゜５８を介して、それぞれ
窒素ボンベ１０および真空ポンプ１２に配管されている
ことである。

このように構成したフォトマスク欠陥修正装置の動作を
説明する。

すべてのバルブが閉じられた状態で、修正容器（２４） ８に、欠落欠陥部分を有する被修正フォトマスク７を数
句ける。

ここでフォトマスク欠陥修正装置をＯＮにするト、バル
ブ１１が開き、真空ポンプ１２により、修正容器８内が
排気され、バルブ１１が閉じる。

次に、バルブ１３．バルブ５５が開き、ポンプ１５によ
り、修正容器８内がビス・ベンゼン・クロムのベンゼン
溶液で満たされる。このとき、バルブ５５を開いて窒素
をベンゼン溶液タンク１６内に導入するようにしたのは
、ベンゼン溶液タンク１６内が陰圧となるのを防止し、
ポンプ１５の過負荷を防ぐためであり、窒素圧が十分に
高ければ、ポンプ１５を使用しなくとも、修正容器８を
ビス・ベンゼン・クロムのベンゼン溶液で満たすことが
できる。また、このとき、修正容器８内が一定の高さく
バルブ１１の数句は位置より低いレベル）までベンゼン
溶液で満たされるまで、真空ポンプ１２で排気を続けて
も良い。この後、バルブ１３が閉じ、真空容器８をベン
ゼン溶液で満たしたｉｔ密閉状態、あるいはバルブ１３
．１４を（２５） 開いて、ポンプ１５によりベンゼン溶液を循環させなが
ら、欠落欠陥部分にＡｒレーザ光２２を照射する。レー
ザ照射が全て終了すると、バルブ１４が閉じている場合
には開き、さらにバルブ９およびバルブ５７が開き、バ
ルブ５５が閉じて、修正容器８内へ窒素が導入されると
ともに、ベンゼン溶液タンク１６内を排気して、ベンゼ
ン溶液がベンゼン溶液タンク１６内へ戻る。これは修正
容器８内の圧力とベンゼン溶液タンク１６内の圧力との
差によって行なわれる。（必要に応じて、ビス・ベンゼ
ン・クロムのベンゼン溶液排出用のポンプを設けても良
く、さらに、バルブ１３が開いた状態でも良い。）次に
、バルブ９，１３，１４゜５７が閉じ、バルブ１１が開
いて、真空ポンプ１２によシ修正容器８内を排気する。

バルブ１１が閉じた後、バルブ１７およびバルブ５６が
開いて、ベンゼンタンク２０内へ窒素を導入しつつ、ポ
ンプ１９により、修正容器８内がベンゼンで満たされる
。（必要に応じて、バルブ１８を開いて、ベンゼンを循
環させながら修正容器８内を洗浄す（２６） ツ、ベンゼンタンク２０内を真空ポンプ１２によす排気
しながら、ベンゼンがベンゼンタンク２゜内へ戻る。こ
れは修正容器８内の圧力とベンゼンタンク２０内の圧力
との差によって行なわれる。

（必要に応じてベンゼン排出用のポンプを設けても良い
し、また、バルブ１８を開いた状態で行なっても良い。

）修正容器８内の圧力を大気圧と同程度としたのち、す
べてのバルブが閉じ、フォトマスク欠陥修正装置がＯＦ
Ｆになる。そして、被修正フォトマスク７を取りはずし
て、欠落欠陥の修正は完了する。

なお、前記第２．４．７図に係る実施例においては、い
ずれも、修正容器内がベンゼン溶液で満たされた状態で
Ａｒレーザ光を照射するものであったが、それぞれに示
した修正容器を上下逆に設置して、被修正フォトマスク
７のパターン面７ａが下向きとなる状態で、Ａｒレーザ
光を下から照射することも可能であり、この場合には修
正容器（２７） 内をベンゼン溶液で満たす必要はなく、被修正フォトマ
スク７のパターン面７ａがベンゼン溶液に浸されていれ
ば十分である。

まだ、前記各実施例においては、レーザ光照射により金
属を析出する溶液としてビス・ベンゼン・クロムのベン
ゼン溶液を使用するようにしだが、この他ビス・ベンゼ
ン・モリブデン、ビス・ベンゼン・タングステン、ビス
・ベンゼン・鉄々どのビス・ベンゼン・メタルのベンゼ
ン溶液ヲ使用シてもよい。

さらに、前記各実施例においては、不活性ガスとして、
窒素を使用するようにしだが、窒素に限らず、ベンゼン
溶液と反応（特に０２と反応して、金属酸化物とベンゼ
ンに分解する）を防ぐものであれば良＜、Ｈｅｌ　Ｎｅ
、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅなどの不活性ガスを使用することも
できる。

さらにまた、前記各実施例においては、レーザ光として
Ａｒレーザ光２２を使用するようにしたが、Ａｒレーザ
光に限るものではなく、被修正フォトマスクの基板を透
過できる波長のもの（第２゜（２８） ５．６．７図の実施例）、あるいは修正容器の窓ガラス
４６．ベンゼン溶液を透過できる波長のもの（第４図の
実施例）であればよく、たとえはＹＡＧレーザの基本波
あるいはその高調波、各種励起法による色素レーザを使
用しても同様の効果を奏するものである。

〔発明の効果〕

以上詳細に説明したように本発明によれば、短時間に且
つ容易に欠落欠陥を修正することができるフォトマスク
欠陥修正方法、およびその装置を提供することができる
。

【図面の簡単な説明】

第１図は、レーザ光照射により有機金属溶液から金属を
堆積する方法を説明するための略示図、第２図は、本発
明の一実施例に係るフォトマスク欠陥修正方法の実施に
供せられる装置の一例を示す略示図、第３図は、第２図
における、被修正フォトマスクを装着した修正容器を示
す詳細断面図、第４図は、第２図における、被修正フォ
トマスクを装着した修正容器の他の例を示す詳細断面図
、（２９） 第５図は、第２図におけるレーザ照射・観察光学系の他
の実施例を示す略示図、第６図は、フ第１・マスク欠陥
修正装置の他の実施例を示す要部略示図、第７図は、フ
ォトマスク欠陥修正装置のさらに他の実施例を示す要部
略示図である。 ７・・・被修正フォトマスク、７ａ・・・パターン面、
８゜８Ａ、８Ｂ・・・修正容器、９・・・バルブ、１０
・・・窒素ボンベ、１１・・・バルブ、１２・・・真空
ポンプ、１３゜１４・・・バルブ、１５・・・ポンプ、
１６・・・ベンゼン溶液タンク、１７．１８・・・バル
ブ、１９・・・ポンプ、２０・・・ベンゼンタンク、２
１・・・Ａｒレーザ発振器、２２・・・Ａｒレーザ光、
３５・・・可変矩形開口スリット、３５ａ・・・矩形開
口部、４０．４ＯＡ・・・レーザ照射・観察光学系、４
７・・・駆動装置、５０．５ＯＡ。 ５０Ｂ・・・レーザ透過用窓、６６・・・ノズル。 代理人　弁理士　福田幸作 （ほか１名） （３０） 第　４　目 ＄ｓ　図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、ビス・ベンゼン・メタルのベンゼン溶液を供給され
   た修正容器に、外気と密閉状態を保持し、パターン面が
   前記修正容器内側に向き、且つ前記パターン面の欠落欠
   陥部分が前記溶液に浸るようにして装着された被修正フ
   ォトマスクの前記欠落欠陥部分へ、レーザ光を照射して
   そこに前記溶液中の金属を析出させることにより、前記
   欠落欠陥を修正することを特徴とするフ第１・マスク欠
   陥修正方法。 ２、ビス・ベンゼン・メタルのベンゼン溶液を、ビス・
   ベンゼン・クロムのベンゼン溶液にしたものである特許
   請求の範囲第１項記載のフォトマスク欠陥修正方法。 ３、ビス・ベンゼン・メタルのベンゼン溶液を、ビス・
   ベンゼン・モリブデンのベンゼン溶液にしたものである
   特許請求の範囲第１項記載のフォトマスク欠陥修正方法
   。 ４゜レーザ光を発生するレーザ光発生手段と、被修正フ
   ォトマスクを外気と密閉状態で装着することができ、且
   つ前記レーザ光を透過するレーザ透過用窓を備えた修正
   容器と、前記レーザ光発生手段から発生しだレーザ光を
   前記被修正フォトマスクの欠落欠陥部分に集光し、且つ
   これを観察することができるレーザ照射・観察光学系と
   、前記修正容器の内部を排気する排気手段と、前記レー
   ザ光の照射により金属を析出する溶液を貯蔵する溶液貯
   蔵手段と、この溶液貯蔵手段から前記修正容器内へ前記
   溶液を供給・排出する溶液供給・排出手段と、前記修正
   容器内へ、前記溶液に影響を及ぼさない不活性ガヌを供
   給する不活性ガス供給手段と、前記修正容器内を洗浄す
   るだめの洗浄液を貯蔵する洗浄液貯蔵手段と、この洗浄
   液貯蔵手段から前記修正容器内へ前記洗浄液を供給・排
   出する洗浄液供給・排出手段とを有することを特徴とす
   るフォトマスク欠陥修正装置。 ５゜修正容器を、そのレーザ透過用窓に、パターン面が
   容器内側に向くようにして被修正フォトマスクを着脱可
   能に装着できるようにしたものである特許請求の範囲第
   ４項記載のフォトマスク欠陥修正装置。 ６、修正容器を、駆動して、そのレーザ透過用窓を、被
   修正フォトマスクのパターン面へ装着することができる
   駆動装置を設けるようにしたものである特許請求の範囲
   第４項記載のフォトマスク欠陥修正装置。 ７、レーザ照射・観察光学系を、対物レンズとレーザ発
   生手段との間に、矩形開口部の寸法を変えることができ
   る可変矩形開口スリットを具備せしめ、被修正フォトマ
   スクのパターン面と、対物レンズ倍率の逆数の大きさに
   縮小した前記矩形開口部の実像面とが一致するように前
   記対物レンズ。 可変矩形開口スリットを配設することにより、前記レー
   ザ発生手段から発生したレーザ光を前記パターン面の欠
   落欠陥部分に集光させるようにしたものである特許請求
   の範囲第４項記載のフォトマスク欠陥修正装置。