JPS60138936A - 半導体ウエ−ハ移し替え装置 - Google Patents
半導体ウエ−ハ移し替え装置Info
- Publication number
- JPS60138936A JPS60138936A JP25139183A JP25139183A JPS60138936A JP S60138936 A JPS60138936 A JP S60138936A JP 25139183 A JP25139183 A JP 25139183A JP 25139183 A JP25139183 A JP 25139183A JP S60138936 A JPS60138936 A JP S60138936A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chuck
- semiconductor wafer
- wafer
- chucks
- motor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67778—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving loading and unloading of wafers
- H01L21/67781—Batch transfer of wafers
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
本発明は、例えば、ウェーハキャリアとウェーハボート
との間で、半導体ウェーハ(以下単にウェーハ、と言う
)を相互に移し替える半導体ウェーハ移し、替え装置に
関する。
との間で、半導体ウェーハ(以下単にウェーハ、と言う
)を相互に移し替える半導体ウェーハ移し、替え装置に
関する。
〔発明の技術的背景およびその問題点〕=般、5(、、
半導体装置の製造工程ではウェーハキャリア、を用いて
多数のウェーハを纏めて移送する1111 一方、酸化拡散等、炉体で高温処理を竹うには、多数の
、ウェーハを並べて一括処理し得る耐熱性のウェーハボ
ートが用いられるため、これらの工程で半導体ウェーハ
移し替え装置か必要になる。
半導体装置の製造工程ではウェーハキャリア、を用いて
多数のウェーハを纏めて移送する1111 一方、酸化拡散等、炉体で高温処理を竹うには、多数の
、ウェーハを並べて一括処理し得る耐熱性のウェーハボ
ートが用いられるため、これらの工程で半導体ウェーハ
移し替え装置か必要になる。
この:::半導体ウェーハ移し替え装置は多数のウェー
ハを“ニ括して着脱させ得る櫛歯状保持部や、ウェーハ
を1枚づつ着脱する真空吸引盤勢でなるチャック、と、
このチャックを保持して移動操作するチャフ、′□、り
移動装餉とを具えている。
ハを“ニ括して着脱させ得る櫛歯状保持部や、ウェーハ
を1枚づつ着脱する真空吸引盤勢でなるチャック、と、
このチャックを保持して移動操作するチャフ、′□、り
移動装餉とを具えている。
この・うち、櫛歯状保持部を有するチャックを用いた従
、来の半導体ウェーハ移し替え装置lh、その側面を第
7図に、その正面を第2図にそれぞれ示すように、l対
の支持部/コにはそれ櫛歯状保持部//が互いに対向す
る状態で固定されており、さらに、これらの支持部/ユ
は駆動部/3によって摺動自在に支持されると共に、図
示しないモータまたはエアシリンダ叫によりA矢印方向
に開閉操作される。
、来の半導体ウェーハ移し替え装置lh、その側面を第
7図に、その正面を第2図にそれぞれ示すように、l対
の支持部/コにはそれ櫛歯状保持部//が互いに対向す
る状態で固定されており、さらに、これらの支持部/ユ
は駆動部/3によって摺動自在に支持されると共に、図
示しないモータまたはエアシリンダ叫によりA矢印方向
に開閉操作される。
また、駆動部/3は取付部材/4’を介してチャック移
動手段としての2本の支持棒ユ0の端部に取付けられて
おり、この支持棒Jを例えばB矢印で示した如く往復移
動場せると共に、櫛歯状保持部//を連動して開閉操作
することによって、ウェーハlをウェーハボートλから
ウェーハキャリア3に移し替えたり、反対に、ウェーハ
キャリア3からウェーハボートコに移し替えたりするこ
とができる。
動手段としての2本の支持棒ユ0の端部に取付けられて
おり、この支持棒Jを例えばB矢印で示した如く往復移
動場せると共に、櫛歯状保持部//を連動して開閉操作
することによって、ウェーハlをウェーハボートλから
ウェーハキャリア3に移し替えたり、反対に、ウェーハ
キャリア3からウェーハボートコに移し替えたりするこ
とができる。
第3図および第μ図は駆動部/3の細部の構成例で、こ
のうち、第3図ではモータ3/の軸端にベベルギヤ3.
1.が取飼けられ、送りねじ3Sおよび3tの軸端にそ
れぞれベベルギヤ33および31/−が取付けられてお
り、さらに、対をなす支持部lユには送りねじ3Sおよ
び3/Jと螺合する雌ねじ、?7および3gが固定され
ている。ここで、送りねじ、?j 、 34は互いに逆
向きにねじ切りされており、ベベルギヤ32にそれぞれ
ベベルギヤー33 、31Aを噛み合わせてモータ3/
全回動させると、その回転方向に応じて支持部7.2の
相互間隔が変化し、この結果、櫛歯状保持9//がウェ
ーハ/全着脱することができる。
のうち、第3図ではモータ3/の軸端にベベルギヤ3.
1.が取飼けられ、送りねじ3Sおよび3tの軸端にそ
れぞれベベルギヤ33および31/−が取付けられてお
り、さらに、対をなす支持部lユには送りねじ3Sおよ
び3/Jと螺合する雌ねじ、?7および3gが固定され
ている。ここで、送りねじ、?j 、 34は互いに逆
向きにねじ切りされており、ベベルギヤ32にそれぞれ
ベベルギヤー33 、31Aを噛み合わせてモータ3/
全回動させると、その回転方向に応じて支持部7.2の
相互間隔が変化し、この結果、櫛歯状保持9//がウェ
ーハ/全着脱することができる。
次に、第1図ではモータt/の軸に平歯車’A2とベル
ト車が取付けられ、また、この軸と平行な軸にはこの平
歯車ダ2に噛み合うもう一つの平歯車≠3とベルト車が
取付けられている。一方、支持部1−!にはそれぞれラ
ックψgおよび≠9が取付けられ、且つ、これらのラッ
クに噛み合うビニオンt6およびI/−7の軸にもベル
ト車が取付けられ、こねらのベルト車はそれぞれモータ
弘/の軸、および、平歯車+Jの軸に取付けられたベル
ト車とタイミングベルト件。
ト車が取付けられ、また、この軸と平行な軸にはこの平
歯車ダ2に噛み合うもう一つの平歯車≠3とベルト車が
取付けられている。一方、支持部1−!にはそれぞれラ
ックψgおよび≠9が取付けられ、且つ、これらのラッ
クに噛み合うビニオンt6およびI/−7の軸にもベル
ト車が取付けられ、こねらのベルト車はそれぞれモータ
弘/の軸、および、平歯車+Jの軸に取付けられたベル
ト車とタイミングベルト件。
弘Sで結合されている。
ここで、モータ弘/全回動させるとタイミングベルト件
、4c5は互いに逆方向に回転し、したがって、モータ
tlの回転方向を変えることによって支持部7.2の相
互間隔が変化し、上述したと同様にウェーハlを着脱す
ることができる。
、4c5は互いに逆方向に回転し、したがって、モータ
tlの回転方向を変えることによって支持部7.2の相
互間隔が変化し、上述したと同様にウェーハlを着脱す
ることができる。
以上は櫛歯状保持部/へ支持s/、2および駆動部/3
からなるチャック10について説明したが、このチャッ
ク10の代わりに、真空吸引盤からなるチャックを支持
棒20に取付けるようにしてもウェーハ/の移し替えは
可能である。
からなるチャック10について説明したが、このチャッ
ク10の代わりに、真空吸引盤からなるチャックを支持
棒20に取付けるようにしてもウェーハ/の移し替えは
可能である。
ところで、上述したウェーハ移し替え装置は、3〜弘本
の炉芯管(以下チー−ブと言う)を有する炉体毎に設置
される一方、1台のウェーハ移し替え装置が7組のチャ
ックしか持たなかった。しまたがって、3〜j個のチー
ーブに対して同一のテ:ヤックが混用されることになり
、このとき、各ヂ:−−ブが清浄度の略等しい処理を行
うものとすれ□ば何等の問題も発、生しない。しかしな
がら、各−−−ブが清浄度の異る処理を行うときには、
低惰:浄度のウェーハに付着していた埃、不純物等がテ
1ヤックを介して高清浄度のウェーハに付着してつ□・
ニームの特性を急止させることがあった。
の炉芯管(以下チー−ブと言う)を有する炉体毎に設置
される一方、1台のウェーハ移し替え装置が7組のチャ
ックしか持たなかった。しまたがって、3〜j個のチー
ーブに対して同一のテ:ヤックが混用されることになり
、このとき、各ヂ:−−ブが清浄度の略等しい処理を行
うものとすれ□ば何等の問題も発、生しない。しかしな
がら、各−−−ブが清浄度の異る処理を行うときには、
低惰:浄度のウェーハに付着していた埃、不純物等がテ
1ヤックを介して高清浄度のウェーハに付着してつ□・
ニームの特性を急止させることがあった。
)−41−う−一&dlr+−r//?1xrJlピず
−)+s、In+IA−ノ+−1ツクと交換しているが
、効率が極めて悪く、しかも、実用的ではなかった。
−)+s、In+IA−ノ+−1ツクと交換しているが
、効率が極めて悪く、しかも、実用的ではなかった。
本発明は上記事情を考慮してなされたもので、清浄度の
異る処理を行うウェーハに対して混用可能な半導体ウェ
ーハ移し替え装置の提供を目的とする。
異る処理を行うウェーハに対して混用可能な半導体ウェ
ーハ移し替え装置の提供を目的とする。
この目的を達成するために本発明の半導体ウェーハ移し
替え装置は、半導体ウェーハの着脱が自在な複数のチャ
ックと、これらのチャックを一体的に支持すると共に′
移動操作するチャック移動手段と、前記複数のチャック
から所望のチャックを選択して前記チャック移動手段の
所定位置に入替固定するチャック入替手段とを具備した
ことを特徴としている。
替え装置は、半導体ウェーハの着脱が自在な複数のチャ
ックと、これらのチャックを一体的に支持すると共に′
移動操作するチャック移動手段と、前記複数のチャック
から所望のチャックを選択して前記チャック移動手段の
所定位置に入替固定するチャック入替手段とを具備した
ことを特徴としている。
第!図り本発明の一実施例の主要部の構成を示す側面図
で、第1図と同一の符号を付したものは千fLPa固−
σ)扉彎を云I−イbスー矛Iイー堪歯状保持部l/を
それぞれ固定した2組の支持部lコが駆動T!lB/J
aによって摺動自在に支持され、実質的に2組のチャッ
クを具えていること、駆動部/Jaに取付けられたラッ
クis、この駆動s/Jaを図面の左右方向に摺1i7
1させるガイド/l、およびこのガイド16によって支
持された状態でラック15に噛み合わされ、且つ図示し
ないモータに結合されたビニオン/7でなるチャック入
替製置が新たに付加されていることが第1図と異ってい
る。
で、第1図と同一の符号を付したものは千fLPa固−
σ)扉彎を云I−イbスー矛Iイー堪歯状保持部l/を
それぞれ固定した2組の支持部lコが駆動T!lB/J
aによって摺動自在に支持され、実質的に2組のチャッ
クを具えていること、駆動部/Jaに取付けられたラッ
クis、この駆動s/Jaを図面の左右方向に摺1i7
1させるガイド/l、およびこのガイド16によって支
持された状態でラック15に噛み合わされ、且つ図示し
ないモータに結合されたビニオン/7でなるチャック入
替製置が新たに付加されていることが第1図と異ってい
る。
なお、チャック入替装置を付加したことに伴って、ガイ
ド16が取付部材/4’を介して一本の支持棒Jに固定
されている。
ド16が取付部材/4’を介して一本の支持棒Jに固定
されている。
第5図において、駆動部/Jaはその内部に第3図1た
ね:第す図で示−した駆動機構を2組備えており、4a
J itか任意の一方を選択してウェーハ着脱操作を行
なわせ得るものであり、また、ラック/S。
ね:第す図で示−した駆動機構を2組備えており、4a
J itか任意の一方を選択してウェーハ着脱操作を行
なわせ得るものであり、また、ラック/S。
ガイド16およびビニオン17%でなるチャック入替装
置は、例えば、2本の支持棒Iの中間位置に、所望とす
るチャックを移動させるものでおる。
置は、例えば、2本の支持棒Iの中間位置に、所望とす
るチャックを移動させるものでおる。
かかる構成によれは、押釦スイッチとリミットスイッチ
とを適切に組合せた回路によって所望とするチャックを
所定の位置に固定し得るので、例えば、高清浄度を要求
される処理と、低清沖度でも支障のない処理とにチャッ
ク全便い分けることができる。このことは従来!4[の
欠点、すなわち、埃、不純物等がチャックを介し、1高
清浄度のウェーハに付着するという事態全未然に防ぎ得
ることに他ならない。
とを適切に組合せた回路によって所望とするチャックを
所定の位置に固定し得るので、例えば、高清浄度を要求
される処理と、低清沖度でも支障のない処理とにチャッ
ク全便い分けることができる。このことは従来!4[の
欠点、すなわち、埃、不純物等がチャックを介し、1高
清浄度のウェーハに付着するという事態全未然に防ぎ得
ることに他ならない。
次に、第6図(a)およびlbJは本発明の他の実施例
の構成を示す側面図および動作状態説明図で、支持棒J
にアームS/が取付けられ、このアームSlには関節9
.3.2を介してチャックとしての3個の真壁吸引盤3
3 、 評、 33が取付けられている@ここで関節部
Saは、例えはモータと減速機構とでなるチャック移動
装fljboを備え、真空吸引@s3.3e 、 !−
e;を所定の角度だけ同時に回転させることができる。
の構成を示す側面図および動作状態説明図で、支持棒J
にアームS/が取付けられ、このアームSlには関節9
.3.2を介してチャックとしての3個の真壁吸引盤3
3 、 評、 33が取付けられている@ここで関節部
Saは、例えはモータと減速機構とでなるチャック移動
装fljboを備え、真空吸引@s3.3e 、 !−
e;を所定の角度だけ同時に回転させることができる。
この回転の結果、アームS/が延出する方向の真空吸引
盤によってウェーハの着脱を行なわせるもので、この場
合もまた、押釦スイッチとリミットスイッチとを適切に
組合わせた回路によって所望の真空吸引盤すなわちチャ
ックを選択し得、これによって高清浄度側のウェーハの
汚染を防ぐことができる。
盤によってウェーハの着脱を行なわせるもので、この場
合もまた、押釦スイッチとリミットスイッチとを適切に
組合わせた回路によって所望の真空吸引盤すなわちチャ
ックを選択し得、これによって高清浄度側のウェーハの
汚染を防ぐことができる。
なお、上記2つの実施例のうち、櫛歯状保持部を用いた
チャックは多数のウェーハを同時に移し替えるのに適し
ているが、構造的に若干他軸になり、これに対して、真
空吸引盤で遍るチャックはウェーハを1枚づつしか移し
赫えヵ;できない□が1ヤ、1゜。、18イ、わ、。ア
カ1門、よ。、イ。jゎ置7、□ヶ4 v *’jD’
?j。よい。 11ところで、櫛歯状保持部はウェーハ
の端縁m′f::・□支持するのでその材質としてはテ
フロン、ステン;レス晰を用い得るが真空吸引盤はクエ
ーへの平面亭部に■1接接触するので、不純物等の付着
し難い石:1英が卵ましい。 I なおまた上記実加1例で扛つ、ニーく\キャリ、しおシ
トよびウェーハボート相互間で9ウェーハ移し、替え1
1:じいて説明したが本発明はこれに限定されるも、□
1のではなく、ウェーハの移し替えが不可欠な工程(の
(t”lれにも適用することができる・。
チャックは多数のウェーハを同時に移し替えるのに適し
ているが、構造的に若干他軸になり、これに対して、真
空吸引盤で遍るチャックはウェーハを1枚づつしか移し
赫えヵ;できない□が1ヤ、1゜。、18イ、わ、。ア
カ1門、よ。、イ。jゎ置7、□ヶ4 v *’jD’
?j。よい。 11ところで、櫛歯状保持部はウェーハ
の端縁m′f::・□支持するのでその材質としてはテ
フロン、ステン;レス晰を用い得るが真空吸引盤はクエ
ーへの平面亭部に■1接接触するので、不純物等の付着
し難い石:1英が卵ましい。 I なおまた上記実加1例で扛つ、ニーく\キャリ、しおシ
トよびウェーハボート相互間で9ウェーハ移し、替え1
1:じいて説明したが本発明はこれに限定されるも、□
1のではなく、ウェーハの移し替えが不可欠な工程(の
(t”lれにも適用することができる・。
さらに、上記実施例ではチャック入替製箔としてモータ
を用いているがこのモータの代ゎt)Vcxアーシリン
ダ−を用いることも勿tjAM DJ能でめる。
を用いているがこのモータの代ゎt)Vcxアーシリン
ダ−を用いることも勿tjAM DJ能でめる。
以上の説明によって明らかな如く、本発明の半導体ウェ
ーハ移し替え装置にょnは、清浄度の異る処理を行う場
合でも、1台で対応可能であり、ウエニハ特性に悪影v
を与えることのない好適な処理を行い得ると19優れた
効果が得ら扛ている、
ーハ移し替え装置にょnは、清浄度の異る処理を行う場
合でも、1台で対応可能であり、ウエニハ特性に悪影v
を与えることのない好適な処理を行い得ると19優れた
効果が得ら扛ている、
第1図および第°λ図ば従来の半導体ウェーハ林し替え
装置の要部の構成を示す正【釦図おまひ側面図、緋3図
および第1図はこの装置の要部の詳細な檜屋を示す平面
図、第5図れ本発明に係る半導体ウェーハ移し替え装置
の一実施例のaback示す側面−1第6図は他の実施
例の構成を示す側面図である。 ハ・・半導体ウェーハ、//・・・櫛歯状保持部、12
・・・支持部、/J 、 /J a・・・駆動部、 /
3・・・ラック、16・・・ガイド、17・・・ビニオ
ン、J・・・支持棒、33〜SS・・・真空′吸引盤、
卯・・・チャック移動装置。 出願人代理人 猪 股 清 算1II 第2図 第3図 38 37 第4図 1
装置の要部の構成を示す正【釦図おまひ側面図、緋3図
および第1図はこの装置の要部の詳細な檜屋を示す平面
図、第5図れ本発明に係る半導体ウェーハ移し替え装置
の一実施例のaback示す側面−1第6図は他の実施
例の構成を示す側面図である。 ハ・・半導体ウェーハ、//・・・櫛歯状保持部、12
・・・支持部、/J 、 /J a・・・駆動部、 /
3・・・ラック、16・・・ガイド、17・・・ビニオ
ン、J・・・支持棒、33〜SS・・・真空′吸引盤、
卯・・・チャック移動装置。 出願人代理人 猪 股 清 算1II 第2図 第3図 38 37 第4図 1
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1/l半導体ウェーハの着脱が自在な複数のチャックと
、これらのチャックを一体的に支持すると ・共に移動
操作するチャック移動手段と、前記複 :数のチャック
から所望のチャックを選択して前 1記チャック移動手
段の所定位置に入替固定する 1′チャック入替手段と
を具備したことを特徴とす 111: る半導体ウェーハ移し替え装置。、1:(21前記チヤ
ツクは対向配置されたl対の櫛歯状 i□、1′。 保持部と、仁れらの櫛歯状保持部の相互間隔tl1 変化烙せる間隔調節手段とを具えたことを特徴 ::1
・ とする特許請求の範囲第1項記載の半導体ウニ :、1
゜ −ハ移し替え装置′61・ 、:1・ (3111+記チャック社真空吸引盤でなる特許請求の
′1:[・ 静菌tIp、1項記載の半導体ウニ〒ハ移し替え装置。 1
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25139183A JPS60138936A (ja) | 1983-12-26 | 1983-12-26 | 半導体ウエ−ハ移し替え装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP25139183A JPS60138936A (ja) | 1983-12-26 | 1983-12-26 | 半導体ウエ−ハ移し替え装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60138936A true JPS60138936A (ja) | 1985-07-23 |
Family
ID=17222140
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP25139183A Pending JPS60138936A (ja) | 1983-12-26 | 1983-12-26 | 半導体ウエ−ハ移し替え装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60138936A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114914182A (zh) * | 2022-07-18 | 2022-08-16 | 浙江晶睿电子科技有限公司 | 一种半导体封装加工用硅片处理装置 |
-
1983
- 1983-12-26 JP JP25139183A patent/JPS60138936A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN114914182A (zh) * | 2022-07-18 | 2022-08-16 | 浙江晶睿电子科技有限公司 | 一种半导体封装加工用硅片处理装置 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2808826B2 (ja) | 基板の移し換え装置 | |
US5584647A (en) | Object handling devices | |
US5273244A (en) | Plate-like member conveying apparatus | |
CN107351071B (zh) | 一种重载机械手夹持车轮翻转机构 | |
TW200834784A (en) | Substrate processing apparatus and reversing device | |
CN107039323A (zh) | 搬送装置 | |
JP2004106167A (ja) | 基板搬送ロボット | |
TW200834805A (en) | Substrate processing apparatus | |
JP6295037B2 (ja) | 産業用ロボット | |
JPS60138936A (ja) | 半導体ウエ−ハ移し替え装置 | |
JP2004288720A (ja) | 基板搬送装置及び基板処理装置 | |
JPH0430552A (ja) | 板状体搬送装置 | |
JPH09285982A (ja) | 薄型ワーク搬送装置 | |
JP4222068B2 (ja) | 被処理体の搬送装置 | |
JPH07227777A (ja) | 被処理物の搬送装置および処理装置 | |
JP5279554B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP2000042952A (ja) | 搬送装置及び搬送方法 | |
JPH11286325A (ja) | 電子部品用基板の表裏反転装置 | |
JP5330031B2 (ja) | 基板処理装置 | |
JP3085969B2 (ja) | 板状体搬送装置 | |
TW200407944A (en) | Apparatus and method for processing substrate | |
JPH09234681A (ja) | 搬送装置 | |
JP7347892B2 (ja) | 搬送ロボットおよびこれを備えたワーク搬送システム | |
JP2013158895A (ja) | 板状部材を搬送するエンドエフェクタ及び該エンドエフェクタを備える基板搬送用ロボット | |
JP2002164407A (ja) | レーザアニール処理装置及び方法 |