JPS6013735A - ６―デオキシアントラサイクリノン類の製法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は６−ジオキシ−アントラサイクリノン類の製法
、ある種の６−ジオキシアントラサイクリノン類、それ
らから製造されるある種のアントラサイクリングリコシ
ド類、薬学的組成物の状態でのそれらアントラサイクリ
ングリコシド類およびそれらの製法に関する。

本発明は一般式Ｉ （式中、Ｒは水素原子、水酸基または低級アルコキシ基
を表わす）を有する６−ジオキシアン）２？イクリノン
類の製法を提供する。後記反応スキームで説明されるこ
の方法は （１）　ジメチル１．２，５．６−テトノヒドロー７タ
レー　）　（Ｊｌ”）を四塩化錫の存在下における酢酸
無水物での処理によジアセチル化し、ついで穏和な塩基
または穏オロな酸で処理すること、（１１ン　生成する
ジメチル１，２，３．６−チトラヒドロー４−アセチル
−７タレートψυをトシルヒト２ジンと反応させること
、 （１１０生成するジメチル１，２，３．６−チトラヒド
ロー４−（１−トシルヒドラゾノーエチル）７タレ一ト
帖をカテコールボランで還元しついで酢酸ナトリウムの
存在下において二重結合を環内から環外の位置に転位さ
せること、（ｉＶ）生成する１、２−ジー（メト中ジカ
ルボニル）−４−エチリデン−シクロヘキサンｑ）を過
マンガン酸カリウムで酸化しそして生成するα−ヒドロ
キシクトンを触媒量のｐ−トルエンスルホン酸の存在下
においてエチレングリコ−ルで処理すること、 （Ｖ）　生成する２−メトキシカルボニル−５−〔２−
メチル−ジオキソラン−２−イル）−６−オキサ−ビシ
クロ（３，２，１）オクタン−７−オン（ロ）を式中Ｒ
が前述の定義を有する一般式■の化合物（式中、Ｒが前
述の定義を有する一般式■の化合物にアルキルリチウム
を作用させることにより得られる）と縮合させること、
（ｖ＋１　ラクトン環を開環しそして式中Ｒが前述の定
義を有する一般式■の生成化合物におけるリオキソラン
保護されたケト基をメタツリシスにより脱保護（保護基
除去）すること、＆１〉Ｒが前述の定ｔｊａｋ有する一
般式Ｘの生成化合物のケト基をトリフルオロ酢酸の存在
下におけるピリジン−ボラン錯体での処理により還元し
そしてメトキクカルボニル基をフェニルジアゾメタンで
の処理によりペンジルオ午７カルボニル基に変換するこ
と、 （／ｉｉ）　４−ジメチルアミノピリジンの存在下にピ
リジン中において酢酸無水物で処理し、続いてＰｅＬ／
Ｃ触媒の存在下にシクロヘΦセント共に還流することに
より式中Ｒが前述の定義を有する一般式Ｘの生成化合物
における水欣基をエステル化しそしてベンジルオ千ゾカ
ルボニル基を脱エステル化すること、 Ｏｘ）　式中Ｒ′が水素原子、アセトキク基または低級
アルコキシ基を表わす一般式刈の生成化合物をトリフル
オロ酢酸無水物およびトリフルオロ酢酸の混合物で処理
することにより環化しぞしてアセトキシ基をナトリウム
メチシートで加水分解すること、 （Ｘ）　式中Ｒが前述の定義を有する一般式Ｘｌの生成
する化合物の１−ヒドロキシエチル基を炭酸銀で酸化し
そして生成する化合物をニトロベンゼン中において三塩
化アルミニウムで酸化的に脱メチル化すること、そして αＤ　一般式Ｘ■の生成化合物の１３−ケト基をエチレ
ングリコールでの処理によシ保護し、Ｃ−７において生
成する化合物を２．ｚ−アゾ−ビス（インブチロニトリ
ル）の存在下において臭素またはＮ−ブロモスクシンイ
ミドで処理することにより臭素化しそして７−ブロモ基
および１３−ケタール基を加水分解することからなる。

ｖ　’ｖｔ Ｒα刀込 ↓ Ｒ’　０ＯＨ３ ↓ ＲＱＣ）１３ ↓ 、に　υ ↓ 本発明による方法のための出発化合物は既知である。２
−ブロモ−１，４，５−）リメトキ７す７タレン（■、
　Ｒ＝ＯＣＨ５）はＲ，Ｌ、　Ｈａｍａｎ氏等によるｒ
　Ｊ、　Ｏｒｇ、　Ｃｈｅｍ、　Ｊ第４４巻第２１５３
頁（１９７９）に記載されていた。式Ｗの化合物と弐■
の化合物との間のカップリング反応は高収率で局部選択
的に進行して主要中間体■を与える。有機金属種はメチ
ルエステルのカルボニル基のみに影響し、ラクトンのそ
れには影響しない。

（×１）工程はＣ，Ｍ、　ＷＯｎｇ氏等による［Ｃａｎ
、　Ｊ。

Ｃ！ｈｅｍ、　Ｊ第５１巻第４４６頁（１９７３）に記
載の方法にしたがって実施されうる。すなわち２．２１
−アゾ−ビス（イソブチロニトリル）の存在下での臭素
による臭素化、引き続いての７−ブロモ誘導体の加水分
解およびケタール基の酸処理による除去によるか、ある
いはまた２、２’−アゾ−ビス（インブチロニトリル）
の存在下でノＩＪ−ブロモ−スクシンイミドによる臭素
化、照射、酢酸銀での処理、ケタール基の酸性処理によ
る加水分解および最後においての酢酸塩のナトリウムメ
トキッドによる加水分解によって実施されうる。

式■の化合物の光学分割はキラル分割剤を使用してのジ
アステレオ異性誘導体への慣用の変換方法によって実施
されうる。この点での分割では（＋）−４−デメト午シ
ー６−デオキクー４＝（Ｒ−置換）−ダウノマイシノン
Ｉを得ることが可能である。この６−ジオキシアントラ
サイクリノン■は、Ｒが水素原子を表わすものを除いて
は新規でありそして本発明の範囲内に包含される。異な
る方法で製造された４−デメトキシ−６−ジオキシダウ
ノマイシノンは本発明者等による英国特許第２，１００
，２５７号明細書く記載されている。本発明方法は前記
方法よりも効率がよくしかも大規模生産に適している。

また本発明は、一般式ＸＶ （式中、Ｒｉは水素原子または水酸基を表わし、Ｒ２お
よびＲ３のうちの一方は水素原子を表わし、他方は水素
原子または水酸基を表わしセしてＸは水素原子またはト
リフルオロアセチル基を表わすが、但しＸがトリフルオ
ロアセチル基を表わす場合にはＲ１は水素原子を表わす
）ｔ−有するアントラサイクリングリコシド類をも提供
する。

これらの化合物は以下のように命名されうる。

ＸＶａ　：　Ｒ１−Ｒ３−Ｈ％Ｒ２＝Ｏ１（、ｘ＝ａｏ
ｃＦ３４−デメチル−６−ゾオキシーＮ−トリ７ルオロ
アセチルーダウノルビ７ン、 ＸＶｂ　：　Ｒ４＝Ｒ３＝１（、Ｒ２−ＯＨ、Ｘ＝Ｉ（
４−デメチル−６−デオキクーダウノルビシン ＸＶＣ：　Ｒ１＝Ｒ２−ＯＨ、Ｒ５−Ｈ％Ｘ＝Ｈ４−デ
メチル−６−ゾオキシードキンルビシン ＸＶ（Ｌ　：　Ｒ１−１２＝Ｈ％　Ｒ５＝ＯＨ％　ｘ＝
ａｏｏｙ５４−デメチル−６−デオキクーＮ−）リフル
オロアセチル−４１−エピーダウノルビクン ＸＶｅ　：　Ｒｉ＝Ｒ２−■、　Ｒ３−ＯＨ、Ｘ＝Ｈ４
−デメチ／ｌ／−６−ゾオキシー４２−二ピーダウノル
ビ７ン、 ＸＶｆ　：　Ｒ１＝Ｒ３＝ＯＨ％　Ｒ２−Ｒ５ｘ＝”４
−デメチル−６−ジオキシ−４′−二ピ−ドキノルビシ
ン、 ）（ｖｇ　：　Ｒ１−Ｒ２＝Ｒ３＝Ｈ，Ｘ＝ＯＯＯＦ５
４−デメチル−６，４′−ジデオキクーＮ−トリノルオ
ロアセチルーダウノルビクン、ＸＶｈ　：　Ｒ１−Ｒ２
＝Ｒ５＝Ｘ＝Ｈ４−デメチル−６，４１−ジデオキシー
ダウノルビクン、 ）（■ｉ　：　Ｒ１＝ＯＨ％Ｒ２＝Ｒ３−Ｘ＝Ｈ４−デ
メチル−６，４′−ジデオキゾードキンルビシン。

これらのアントラサイクリングリコシド類は、４−デメ
チル−６−ジオキシ−ダウノマイシノン（Ｉ％Ｒ＝ＯＨ
）を一般式ｘｖｉ （式中、Ｒ２およびＲ３のうちの一方は水素原子を表わ
しそして他方は水素原子またはトリフルオロアセチル基
を表わしそしてＨａぷはハロゲン原子、好ましくは塩素
原子を表わす）を有する保護されたハロ糖と縮合させる
ことによシ製造されうる。この縮合は米国特許第４．１
０ス４２３号明細書に記載の方法にしたがってトリフル
オロメタンスルホン酸銀の存在下で進行して７日：９Ｂ
および７Ｒ：９Ｈの、α−グリコシドの０−トリフルオ
ロアセチル保護紡導体の容易に分離しうる混合物を与え
る。この反応のためにはハロ糖Ｘ’ｉ４Ｋ　ヨルＸＶａ
　、　ＸＶ（Ｌ　オヨＯ：　ＸＶｇ　力選択される。

前記の０−トリフルオロアセチル基はメタツリシスによ
り除去されて式ＸＶａ％ＸｖｄおよびＸＶｇの化合物に
なり、これらは穏和なアルカリ加水分解によってそれぞ
れ、式Ｘｖｂ％ＸＶｅおよびＸｖｈのグリコ７ドに変換
されうる。これらは米国特許第３，８０３，１２４号明
細書に記載の方法にしたがって１４−臭素化しセしてぎ
酸ナトリウム水溶液でム埋することにより対応する式Ｘ
ＶＱ　。

ＸＶｆおよびＸＶｉのドキソルビシン誘導体になる。

これらの方法は本発明の範囲内にある。

式Ｘ■のアントラサイクリングリコシド類は抗腫瘍性質
ｔ−有し、したがって本発明はさらに式中Ｘが水素原子
を表わす一般式Ｘ■のアントラサイクリングリコシドま
たはかかるグリコシドの薬学的に許容しうる塩を薬学的
に許容しうる稀釈剤または担体と一緒に含有する薬学的
組成物をも提供する。

以下に本発明を実施例により説明する。

実施例１　：）メチル１，２，３．６−テトラヒドロ−
４−アセチル−フタレート（ＩＩＩ） −５℃において１０ｆのジメチル１，２，３．６−テト
ラヒドロ−７タレート（Ｉｌ）を９−の四ｍ化ｕｙの存
在下に２５ｒＲ１の酢酸無水物で処理した。この反応混
合物を氷冷水中に注ぎそしてジエチルエーテルで抽出し
た。有機相を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液ついで水で
洗浄しそして真空下で蒸発乾固させた。得られた油状物
をベンゼンに溶解し、塩化水素のメタノール溶液で処理
した。この溶液を蒸発乾固させそして残留物をシリカゲ
ルのカラム上でのクロマトグラフィーにより精製して９
２の前記表題化合物をＺ５チ全収率で得た。

質量スペクトルニル／ｚ　２４０（Ｍ”）、工Ｒ（ＫＢ
ｒ）　：　１７２０　ｃｍ−’　（エステルのＣ＝０）
　ｓ　１６６０Ｃ＋＋−’（α、β−不飽和ケトンのＣ
＝０）、 ＰＭＲ（ｃＤｏＡｘ）：　とりわけδ２．５５　（ｅ、
Ｃ０ＣＨ５）、　＆７０（ｓ、−ｃｏｏ旦秩３ンおよび
６．９１（ｍ、ＨＯ＝０）。

実施例２１，２−ジー（メトキクカルボニル）−４−エ
チリデン−シクロヘキサン （Ｖ） 実施例１に記載のようにして製造された１７ｔのジメチ
ル１，２，３．６−テトラヒドロ−４−フセチルーフタ
レートを無水エタノール中において１４．６ｆのトシル
ヒドラジンと共に還流した。

溶媒の除去陵に２４１のジメチル１，２．３．６−チト
ラヒドロー４−（１−トシルヒドラゾノーエチル）−７
タレー）　（Ｖ）が水から晶出した。融点１６２°〜１
６３’Ｃ，ｍ／ｚ　４０８　（Ｍ”）。

この化合物をクロロホルムに溶解しセして０℃において
１４ｒｎｔのカテコールボランで処理・したう反応混合
物に酢酸ナトリウムを加え、ついでこれを還流した。水
洗後、溶媒を蒸発させそして残留物を７リカゲルのカラ
ム上でのクロマトグラフィーにより精製して１０Ｆの前
記表題化合物（収率８０チ）を得たＱ　ｒｗ／ｚ２２６
　（Ｍ＋）。

ＰＭＲ（ＯＤＯｊｉ５）　：　とりわけ　δ１．６　（
ｄ、Ｊ＝８Ｈ２，ＣＨ３−ＣＨ＝入５．３　（ｑ＋Ｊ−
８ｕｚ、Ｃｕ５−ｃａ＝）　。

実施例３２−メトキシカルボニル−５−（２−メチルジ
オΦノランー２−イル） −６−オΦサービシクロ［３，２，１）オクタン−７−
オン（Ｖｆｌ 実施例２に記載のようにして製造された８ｔの１．２−
ジー（メトキシカルボニル）−４−エチリデン−シクロ
ヘギサンを４．８−の酢酸を含有するアセトン水溶液中
に溶解した。過マンガン酸カリウムの水溶液を加えそし
てその混合物を室温で６０分間放置した。ついで過剰の
酸化剤を破壊しそして反応混合物を水で希釈し、酢酸エ
チルで抽出した。有機相を水洗し、無水硫酸ナトリウム
上で乾燥させついで真空下で蒸発乾固させた。残留物（
９２）をベンゼンに溶解しそして触媒量のｐ−）ルエン
スルホン酸の存在下で６０分間還流した。４−のエチレ
ングリコールを加えそしてその反応混合物をさらに２時
間還流した。通常の後処理をした後に、溶媒を蒸発させ
て得られた残留物を溶離剤としてトルエン／アセトン混
合物（１５：１容量比）を使用してシリカゲルのカラム
上でクロマトグラフィーにかけることにより精製した。

１ｆｆ（収率３幻１の前記表題化合物が単離された。

融点６９°〜７１℃、ｍ／ｚ　２７１　（Ｍ”）。

ＩＲ（ＫＢｒ）　：　１７９０ｃｍ−’　（Ｃ＝０５員
環２クトン）、１７３５ｃｍ−’　（０＝Ｏエステル）
、１７２　［ｋｍ−’（Ｃ＝０ケトン）、 ＰＭＲ（Ｃ！Ｄ（１１５）　：　とシわけδ　１．２５
　（ｓ、（ＥＨ５）、３．６５（’＋ａｏｏｃａ５）、
オヨび３．９　（ｓ、−０−ＣＨ２−ＯＨ２−０−）、
。

実施例４　２−　（１，４，５−）ジメトキシ−３−ナ
フチルカルボニル）−５−（２− メチル−ジオキソラン−２−イル） −６−オキサ−ビシクロ［３，２，１）オクタン−７−
オン（ＩＸ　、　Ｒ＝ＯａＨｓ　）７−の１．６５Ｍｎ
−ブチルリチウムへキサン溶液を３０−の無水テトラヒ
ドロフランに溶解した。−７８℃においてこの溶液に３
０ｍの無水テトラヒドロフラン中におけるＡ３ｆの１．
４．５−トリメトキシ−３−プロモーナフタレン（■、
Ｒ−００Ｈ３）の溶液を加えた。実施例３に記載のよう
にして製造された２、５ｔの２−メトキシカルボニル−
５−（２−メチル−ジオキソラン−２−イル）−６−オ
キサ−ビシクロ［３，２，１）オクタン−７−オンを５
０−の無水テトラヒドロフランに溶解し、これを前記反
応混合物に加−えたこの反応混合物を一７８℃で１時間
放置しついで酢酸で急冷した。溶媒は真空中で除去した
。残留物を７リカゲルカラムクロマトグラフイーにより
精製して５ｔ（７５％収率）の前記表題化合物を得た。

ψ４５６　（Ｍ”）、 １６８０ｃ＋＋＋−’　（０＝Ｏベンジルケトン）、Ｐ
ＭＲ（ｃｐｃＡ３）　：　とりわけ８１．５　（ｅ　＋
　ＯＨｓ　）、五７５　（ｓ。

ｏｃＨ３）、３．９’ｒ−４，０５（ｍ、２個のＯＯＨ
！１および一〇−０Ｈ２−四２−０−）、６゜８（θ。

芳香族匹）および６．ト８．１　（ｍ、５個の旦）。

実施例５　１−（１，４，５−トリメトキシ−３−ナフ
チルメチル−２−ベンジルオキ ７カルボニル）−４−（１−ヒドロ キシエチル）−４−ヒドロキシ−シ クロヘキサン（Ｍ％Ｒ＝ＯＯＨ５） 実施例４に記載のようにして製造された１、６２の２−
　（１，４，５−）ジメトキシ−２−ナフチルカルボニ
ル）−５−（２−メチル−ジオキソラン−２−イル）−
６−オキサ−ビシクロ（３，２，１）オクタン−７−オ
ンをメタノールに溶解しそして室温において１時間、無
水メタノール中における塩化水素の１Ｍ溶液で処理した
。溶媒を蒸発させた後にほぼ定量収率で１．５ｔの１−
（１，４，５−トリメトキシ−３−す７チルカルボニル
）−２−メトキシカルボニル−４−７＊ｆｋ−４−ヒド
ロキシ−シクロヘキサン（Ｘ　、　Ｒ＝Ｏ（！Ｈ５）　
ヲ得た。ψｕｓ　（Ｍ”）、 工Ｒ（フィルム）：　３４６０ｃｍ−’　（ＯＨ）、　
１７３０ｃｍ−’（０＝Ｏニスｆル）、１７１０ａｎ−
’（Ｃ＝Ｏケトン）および１６６５ｃｍ　（０−０ベン
ジルケトン）、ＰＭＲ（ｃＤａＡ５）　：　とりわけδ
２３　（ａ、Ｃ！Ｈ３Ｏ０）、五７５〜４．０５　（’
＊４個のＯ忠９）　、６．８　（θ、芳香族Ｈ）および
６Ｂ５〜ａＯ（ｍ、５個の芳香族Ｈ）。

１．５２のこの化合物を１５ｄのトリフルオロ酢酸に溶
解しそして１．４１１ｔのピリジン−ボラン錯体と共に
還流した。溶媒の除去後に残留物を１０チ水酸化ナトリ
クム水溶液で処理した。穏和な酸性化の後にその遊離酸
を酢酸エチルで袖山した。溶媒を蒸発させそして残留物
をフェニルジアゾメタンのエーテル溶液で直接処理して
前記表題生成物を得た。これをクロマトグラフィーによ
シＮ製した。ｍ／ｚ　５０８　（”十ン。

ＰＭＲ（ａＤａｌｌｓ）　：とシわけδ１．２５　（ａ
、ｃｕ３−ｃｕ）　、３．７０〜＆９５　（８，３個の
ｏｃａｓ）　、５．１５　（ａ。

ｏａ２ｐｈ）および６．４〜ａ１　（ｍ、９個の芳香族
Ｈ）。

実施例６　１，２，３．４＋４ａ、５，１２．１２ａ−
オクタヒドロ−２−（１−ヒドロキシエチル・） −２−ヒドロキシ−６，７，１１−）リフトキク−１２
−オキソナフタセン （Ｘｆｌｌ、　Ｒ＝ＯＯＨ３） 実施例５に記載のようにして製造された０、４８２の１
　”　（１，４，５−トリフトキシ−６一ナフチルメチ
ル）−２−ベンジルオキシカルボニル−４−（’１−ヒ
ドロキシエチル）−４−ヒドロキシーシクロヘキサンを
４−ジメチルアミノピリジンの存在下において酢酸無水
物およびピリジンで処理した。室温で一夜経過後にその
反応混合物を氷冷水中に注ぎついで酢酸エチルで抽出し
た。有機層を水洗しそして濃縮した。粗生成物をメタノ
ールに溶解しそして１０重量−壓の存在下でシクロヘキ
センと共に還流した。ついで触娯を戸去しそして溶液を
小容量に濃縮１０℃で６０分間、トリフルオロ酢酸無水
物およびトリフルオロ酢酸で処理した。ついでこの溶液
を酢酸エチルで希釈し、飽和炭酸水素す）　ＩＪウム水
溶液および水で洗浄し、乾燥させついで真空下で濃縮乾
固させた。残留物を触媒量のナトリウムメチラートの存
在下でメタノール中に溶解した。慣用手段で後処理しそ
してクロマトグラフィーにより精製した後にｏ、１ａｒ
（収率４９チ）の前記表題化合物を得た。ψ４００（Ｍ
＋）。

工Ｒ（ＫＢｒ）　：　３４５ｒＪＣｍ−’　（ＯＨ）、
１６７５ｍ−’　（Ｃ＝Ｑ、ベンジルケトン）、 ＰＭＲ（ＣＤ１４３）：とりわけδ！、１．２　（ｃｌ
、ＣＨ３−ＯＨ入　３．７〜１９（ｇ４個の〇四３）お
よび６．４〜ａ、ｏ　（ｍ＋　３個の芳香族水素）。

実施例７　１，２，３，４，４ａ、５，１２，１２ａ−
オクタヒドロ−２−アセチル−２−ヒドロキシ −６，７，１１−）ジメトキシ−１２−オ午ノーナフタ
セン 実施例６に記載のようにして製造されたαｏ９２の１．
２，３，４．４ａ、５，１２，１２ａ−オクタヒドロ−
２−（１−ヒドロキシエチル）−２−ヒドロキシ−６，
７，１１−トリメトキク−１２−オキソ−ナフタセンの
にンゼン中における溶液に０．８ｆの炭酸銀を加えそし
てその混合物を還流した。固体を戸去しそして溶媒を真
空中で蒸発させｆｃ後にα０８Ｆ（９０％収率）の前記
表題化合物が得られた。

工Ｒ（ＫＢｒ）：　３３６０ｃｍ−’（ＯＨ）、　１７
０５ｃｍ−’　（０−０ケトン）、１６８０α−’（ｃ
＝ｏ、ベンジルケトン）。

ＰＭＲ（ＯＤＯｊ２３）　：　とりわけδ２．２　（ｓ
、ＯＨ５（！Ｏ）、　＆６５〜３．９０　（ｓ、３個の
０ＯＨ３）。

実施例８　６．７−：）デオキクカルミノマイクノン（
ＸｉＶ、Ｒ−ＯＨン 実施例７に記載のようにして製造された０、０６２の１
，２，３，４，４ａ、５，１２，１２ａ−オクタヒドロ
−２−アセチル−２−ヒドロ今シー６．７．１１−　）
リメトキ７−１２−オキソナフタセンをニトロベンゼン
中に溶ｊｌＦしそして０．１２Ｆの三塩化アルミニウム
で処理した。この混合物をもはや出発物質が検出され得
なくなるまで７０℃に保持した。

この反応混合物としゅう酸の飽和水溶液中に注ぎそして
酢酸エチルで抽出した。有機相を分離し、水洗し、乾燥
させついで蒸発乾固させた。

シリカゲルの力２人上でｆ＃製した残留物よシ、純粋な
６，７−シデオキシカルミノマイシノンを４０　ｆｌｚ
収１＝ｃ’Ｎ＊。”　３５２　（Ｍ＋）、工Ｒ（ＫＢｒ
）：　３４２Ｃｋｒｎ−’（ＯＨ）、　１７０５ｍ−’
（（！＝Ｏケトン）および１６２シｍ−’（０−０，キ
レート化されたキノン）、 ＰＭＲ（ＯＤＯ４３）　：　とりわけδ　１．７〜２．
２　（ｍ、０Ｈ２）、　２．３（＋３．ＯＨ！ｔｏｏ）
、２Ｂ〜３．２　（ｍ、　２個のベンジルＯＨ２）、　
７．０〜７．９（ｍ、４個の芳香族Ｈ）、１２．６（θ
、フェノー＃ＯＨ）および１２．９　（ｓ　、　７　ｘ
　／−ルＯＨ）。

実施例９６−ゾオキシカルミノマイシノン（１：　Ｒ＝
ＯＨ） 実施例８に記載のようにして製造された６、７−ジデオ
キクカルミノマイシノンのベンゼン中に訃ける溶液を！
Ｉｔ流温度で４時間触媒量のｐ−トルエンスルホン酸の
存在下において１．２　ｄのエチレングリコールで処理
して対応する１３−ケタール誘導体を得た。この化合物
を四塩化炭素に溶解しそして２．２′−アゾ−ビス（イ
ソブチロニトリル）の存在下において４５℃で６時間３
２−の四塩化炭素中における５、２ｔの臭素の溶液２１
１１ｔで処理し７′ｃ、、反応混合物を冷却し、これを
１Ｎ水酸化ナトリウム水溶液で抽出しそしてその着色し
た水性相をｐＲａ５に調整しついでクロロホルムで抽出
した。有機抽出物を蒸発乾固させて６−ジオキシ−１３
−ケタール−カルミノマイジノンを得九。これを塩化水
素含有のアセトン（３００−のα２５Ｎ溶液）に溶解し
そしてケタール基を加水分解させるために室温で３時間
保持した。所望の６−ジオキシカルミノマイ／ノンが得
られた。

（別　法） １１４ミリモルのＮ−プμモスククンイミドおよび０．
０６ミリモルの２，２′−アゾ−ビス（イソブチロニト
リル）ｔ−含有する２０ゴの四塩化炭素中における５０
ｇｖ（０，１２５ミリモル）の６．７−シデオキシカル
ミノマイシノンの１３−ケタール誘導体の溶液を２５分
間還流した。真空下で溶媒を蒸発させて得られた残留物
を氷酢酸に溶解し、ついで８０キの酢酸銀で処理した。

この混合物を５時間室温で攪拌した。溶媒を蒸発させ、
残留物を酢酸エチルに溶解しついで濾過した。ｐ液を飽
和Ｐ酸水素ナトリウム水溶液および水で洗浄し、乾燥さ
せついで濃縮した。

残留物を０℃で酢酸水溶液（９０容量チ）中に溶解しそ
して９０分間攪拌した。溶媒の除去後、残留物をメタノ
ールに溶解し、ナトリウムメトキクドを加えそしてその
混合物を９０分間攪拌した。これを中和し、抽出しそし
て水洗した後に残留物をメチレンジクロライド／アセト
ン（１６：１容量比）で２ラツシユクロマドグ２フイー
によシ精製した。所望の６−ジオキシカルミノマイ／ノ
ンが３４チの全収率で得られ九ψ５６Ｂ　（Ｍ＋）、融
点２１１〜２１３℃。溶離溶媒としてトルエン／アセト
ン（４：１容量比）を使用しての珪藻土プレート（メル
クＦ２５４　）上でのＴＬＯにおけるＲｆ−α３゜ ＰＭＲ（２００ＭＨｚ　、　０ＤＯＱ５）　：　δ２．
１〜２．５（ｍ、２Ｈ，Ｈ−８）、２．３（ｅ、３１１
．−０００Ｈｓ）、２．７〜五１（ｃｔ、２Ｈ，Ｈ−１
０）、４．１（ｄ。

１）１．０Ｈ−７）、　４ＡＣＢ＃　ＩＨ，０Ｈ−９）
、４．８（ｄｌ　ＩＨ，Ｈ−７）％　７．５（ｄｌｌＨ
，Ｈ−３）、７．７（ｔ、ＩＨ，Ｈ−２人Ｚ８（＋Ｌ、
ＩＨ，Ｈ−１）、＆１（ｓ、ＩＨ，Ｈ−６）、　１２Ｊ
Ｂ（ｓ、ＩＨ，０Ｈ−４）、１＆２（ｓ、ＩＨ，０Ｈ−
１１）。

実施例ｆ　０　２−　（１，４−ジメトキシ−３−す７
チルカルボニル）−５−（２− メチル−ジオキソラン−２−イル） −６−オキサ−ビシクロ［３，２，１）オクタン−７−
オン（■％　Ｒ＝Ｈ） 実施例４に記載の方法にしたがって無水テトラヒドロン
シン中における３、２ｆの１，４−ジメトｉシー６−プ
ロモーナ７タレンの溶液を一７８℃においてｎ−ブチル
リチウムで処理しついでこれを２．７ｔの実施例６で製
造された化合物の無水テトラヒドロ７２ン中における溶
液に加えた。７９力ゲルカ２人での精製後に２．８ｔの
前記表題化合物が得られた（６５チ収草）。

い４２６　（Ａ（＋）　。

工Ｒ（フィルム）　：　１７８０ｃｍ−’　（（！＝Ｏ
，５員環う’）　トン＞、・１６７０（１）　（ｃ＝ｏ
　、ベンジルケトン）、ＰＭＲ（ｃＤｏｌｇ）　：　と
りわけδ１．４　（ｅ、０Ｈ５）、６．ａｓ（ｓ、　２
伽のＯ髭す入　３．９（θ、−ｏ−り壮−四組−０→、
・６．９　（ｓ　、芳香原品）および７．４〜ａ４（ｍ
、４個の芳香族Ｈ）。

実施例１１　１−　（１，４−ジメトキシ−３−ナフチ
ルメチル）−２−ベンジルオ キシカルボニル−４−（１−ヒド ロキシエチル）−４−ヒドロキシ 一シクロヘキサン（ＸＩ、Ｒ＝Ｈ） 実施例５に記載のように操作して２−　（１，４−ジメ
トキ′シー３−す７チルカルボニル）−５−（２−メチ
ル−ジオキシ２ン−２−イル）−６−オキサービ７クロ
Ｃｓ　ｔ　２　ｔ　１’３オクタン−７−オン（実施例
１０の記載により製造）ｔメタノール中における塩化水
素の溶液で処理してｉｔ　ｔ”ｔ’定量的収率で１−　
（１，４−ジメトキシ−６−ナフチルカルポニｖ）−２
−メトキクカルボニル−４−アセチル−４−ヒドロキシ
−フクロヘキサン（Ｘ％Ｒ＝Ｈ）を得た。

ψ４１４　（Ｍ＋）、 工Ｒ（フィルム）　：　３４６０ｃｍ−’（ＯＨ）、　
１７３０ｃｍ−’（Ｃ＝Ｏエステル）、１７１０ｚ−’
　（０−０ケトン）および１６バｋｍ−’　（Ｃ−０ベ
ンジルケトン）、ＰＭＲ（ＯＤＣＪ！５）　：　とりわ
け：δ２３（ｓ、０Ｈ５００）、２．ト３ｔ６（ＩＩＩ
、２個のＨ）、　五７〜３．９　（ｓ　、　３個の咀）
、６．９　（８、芳香族Ｈ）および７．４〜ａ４（ｍ、
４個の芳香族Ｈ）。

この化合物１２はピリジン−ボラン錯体で還元し、塩基
処理しそして最後にフェニルジアゾメタンでエステル化
することによシ前記表題化合物に変換された（　０．７
　ｆ、全収率６３チ）。

φ４７Ｂ　ＣＭ＋）、 工Ｒ（フィルム）　：　３４５０ｚ−’（ＯＨ）、　１
７２　”ｙｙｎ−’　（０＝Ｏ、エステル）、 ＰＭＲ（ｃｐｃｎ５ン　：　とりわけＩｊ　ｉ、３．（
ｄ、Ｊ＝４Ｈ２，０Ｕ５−（Ｈ入３．８５〜３．９　（
ｓ　、　２個の０ｔ３１（３人５．１　（ｓ　、　ＩＥ
ＩＩ２−ベンジル）、６．６　（ｅ　、芳香族Ｈ）およ
びＺ２〜８．４（ｍ、９個の芳香族水素）。

実施例１２　１，２，３，４，４ａ、５，１２，１２ａ
−オクタヒドロ−２−（１−ヒドロキシエチ ル）−２−ヒドロヤシ−６，１１−ジメトキシ−１２−
オ午ソーナフタセン （Ｘｎ１％Ｒ−Ｈ） 実施例６に記載のように操作して１１４４ｔの１−　（
１，４−ジメトキシ−６−す７チルメチル）−２−ベン
ジルオキシカルボニル−４−（１−ヒドロキクエチル）
−４−ヒドロキシ−フクロヘキサン（実施例１１の記載
によシ製造）を４−ジメチルアミノ−ピリジンおよびピ
リジンの存在下において酢酸無水物で処理した。相当す
る酢酸塩をそのベンジル基の除去のために１゜Ｘ　ｉｔ
　ｆｂ　Ｐｄ１０の存在下においてシクロヘキセンで処
理した。この酸を０℃においてトリフルオロ酢酸無水物
およびトリフルオロ酢酸の混合物で処理することにより
環化した。最後にナトリウムメチラートでの処理により
アセチルロー保膜基を除去し、シリカゲルカラム上での
クロマドグ２フイーにより精製した後にα２２５ｔの前
記表題化合物を得た（全収率６６％）。

工Ｒ（フィルム）二　３４５０ｃｍ−’（ＯＨ）、　１
６７５ｍ−’（０−０、ベンジルケトン）。

ＰＭＲ（ＣＤＣｌ２）：　とりわけδ　１−５　（ｄ　
Ｔ　；ｆ＝４　Ｈｚ　ｒ　ＣＨｓ　−ＣＨ）、１．６〜
ｉ５（ｍ、３Ｈ）、　３．８５　（ｓ　、　００■３）
、３．９０（ａ、ＱＣ！Ｈ３）、７．卜ａ４（ｍ、４個
の芳香族Ｈ）。

実施例１３　１，２，３，４，４ａ、５，１２．１２＆
−オクタヒドロ−２−アセチル−２−ヒドロ キク−６，１１−ジメトキシ−１２ −オキソーナ７タセン ベンゼン中における０、１２の１．２，３，４，４ａ、
５，１２，１２ａ−オクタヒドロ−２−（１−ヒドロキ
シエチル）−２−ヒドロキシ−６，１１−ジメトキシ−
１２−オキソーナ７タセン（実施例１２の記載により製
造）を還流温度において１２の炭酸銀で処理した。無機
固体分ｔ−戸去しそして溶媒を除去した後にα１ｆの前
記表題生成物が得られた。

ＩＲ（フィルム）　：　３４６ｒｋｒＲ−’　（ＯＨ）
、　１７１（ｋｍ−’（０＝Ｏ’１トン）、１６８０ｃ
ｙ＋＋−’（０＝Ｏベンジルケトン）、ＰＭＲ（ＯＤＯ
λ５）：　とりわけδ２．４（ｓ、ＯＨｇＯＯ）、３Ｊ
３５（ｓ。

ｏｏＨｓ）、　１９０（ａ、０ＯＨｓ）、７．２Ｓ−δ
４（ｍ。

４個の芳香族Ｈ）。

実施例１４４−デメトキ７−６．７−ジデオΦクダウノ
マイシノン（ＸＩＶ、　Ｒ＝Ｈ）実施例８に記載のよう
に操作して３ｔｎｔのニトロベンゼン中における０、１
ｔの１．２，３，４．４ａ、５゜１２．１２ａ−オクタ
ヒドロ−２−アセチル−２−ヒドロキシ−６，１１−ジ
メトΦシー１２−オキソーナフタセン（実施例１３の記
載により製造）の溶液を室温で一夜０．２５２の三塩化
アルミニウムで処理した。これを７リカメルカ２ムでの
クロマドグシフイーＫかけた後にα０５５２　（６５俤
収率）の前記表題化合物を得た。融点２０６〜２０４ｃ
。

実施例１５６−ジオキシ−４−ブメチルダウノルビシン
（ＸＶＩ）　） 実施例９に記載のようにして製造された９０ｑ（α２４
ミリモル）のラセミ６−ゾオキシーカルミノマイ７ノン
を無水ジクロロメタンに溶解しそしてその溶液を５〜１
０℃に冷却した。

「ｃａｎｃｅｒ　Ｃｈｅｍｏｔｈｅｒａｐｙ　Ｒｅｐｏ
ｒｔｓＪ第３部第６巻第２り第１２３頁に記載の操作に
したがって製造された２、４■（０，６ミリモル）の１
−クロロ−Ｎ、Ｏ−ジトリフルオロアセチル−ダウノサ
ミンのジエチルエーテル中における溶液およびジクロロ
メタン中における１５４■（α６ミリモル）のトリフル
オロメタンスルホン酸銀の溶液を激しい攪拌下に同時か
つ迅速に加えた。

５分′ｆｉｉ、、さらに別のα３ミリモルのノ・口糖お
よびａ５ミリモルのトリフルオロメタンスルホン酸銀を
加えた。５分後、この反応をコリジンで急冷させた。こ
の混合物を濾過し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液およ
び水で洗浄し、乾燥させそして真空下で鹸縮した。得ら
れた帯赤色油状物を１００ｍのメタノールで希釈しそし
て室温で一夜放置して０−）ｌＪ７ＡＩオロアセチル基
を除去した。生成する粗生成物をジクロロメタン／メタ
ノール／アセトン（２０：１：１容量比）を用いてのシ
リカゲル上での７ラツシユクロマトグラフイーにより精
製して式Ｘｖａのアントラサイクリンα−グリコシド（
７８：９８）を得た。２０キ、融点２１０〜２１２℃。

溶離剤としてメチレンジクロライド／アセトン（４二１
容量比）を使用しての珪藻土プレート（メルクＦ２５４
）上のＴＬＯにおけるＲｆ−δ２７゜ｍ／ｚ　５９３　
（”）。

ＰＭＲ（２０００Ｍｕｇ、０ＤＯｊＬ５）　二とりわけ
δ１．４４（ａ、Ｊ＝６．６Ｈｚ　。

３Ｈ，０Ｈ５−５’入　２．４２（ｓ、３Ｈ，ｃ！０Ｏ
Ｈ３）、３．２５〜３．０５（ｔｗｏ　ａ＋、Ｔ＝１９
Ｈ２，２Ｈ，Ｈ−１０）、４．２２（ｓ、ＩＨ，０Ｈ−
９）、５．０１（ｔｅＪ＝５．６１１ｒｓ、　１）１＋
Ｈ−７）、　５．２０（ｔ、Ｊ＝２．７Ｈｚ、　ＩＨ，
Ｈ−１’入６．６６（ｂｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、ＩＨ，ＮＨ）
、７．８０（ｓ、１１．Ｈ−６）、１２−６２　（ｓ　
ｒ　Ｉ　Ｈ＋０Ｈ−４）、１５．０６（θ、ＩＨ，０Ｈ
−１１）：ψ５９３　（Ｍ＋）　７Ｒ：９Ｒ２５ｑ％ｍ
、ｐ、１７４〜１７８℃。

溶離剤としてメチレンジクロ２イド／アセトン（４：１
容量比）を使用しての珪藻土プレート（メルクＦ２５４
　）上のＴＬＯにおけるＲｆ＝０．２３゜０５９３　（
Ｍ＋）　。

ＰＭＲ（２００Ｍ廓、ｃＤｃ１５）：　とりわけδ１．
４４　（ｄ、　Ｊ＝６．５Ｈｇ１゜ろＪ　ｃｎ３−５　
’　）％　２．４１　（８２３Ｈ＋　ｃｏｃａ５　）、
２−９６　（ｄｅ　に１９　Ｈｚ　＄ｉＨ，Ｈ−１０　
ａｘ）、３ｈ３０（ｄａ、Ｊ＝１．１９Ｈｚ、ＩＨ，Ｈ
−１０ｅｑ）、４．２５（ｓ、　ＩＨ，０Ｈ−９）、５
．０７（ｔ、Ｊ＝３．３Ｈｚ、　ＩＨ，Ｈ−７）、５，
２７（ｔ、Ｊ＝ａ１．８Ｈｚ、ＩＨ，Ｈ−１’　）、６
．６４（ｂｄ、Ｊ＝９Ｈｚ、ＩＨ，ＮＨ）、７．７４（
Ｂ、ＩＨ，Ｈ−６）、１ｕ６（ｓ、ＩＨ，０Ｈ−４人１
３．１０（ｓ、ＩＪＯＨ−Ｉｆ　）。

式ＸＶａの化合物を穏和なアルカリ加水分解に付してＮ
　−）　１ｊフルオロアセチル基金除去することによシ
前記表題化合物が定量的収率で得られた。溶離剤として
メチレンジクロ２イド／メタノール／酢酸／水（８０：
２０　ニア　：３容量比）を使用しての珪藻土プレート
（メルクＦ２５４　）上ノＴＬＯ（７）　Ｒｆ−ｃＬ４
７゜ 実施例１６　６−チオキシ−４−デメチルードキソルビ
フン（ＸＶＣ） メタノールおよびジオキサンの混合物中における６−ジ
オキシ−４−ブメチルーダウノルビシン（実施例１５の
記載により製造）の溶液を臭素で処理して１４−ブロモ
鍔導体を生成させた。この１４−ブロモ銹導体を室温に
おいて１００時間ぎ酸ナトリウム水溶液で処理して６−
ジオキシ−４−ブメチルードキソルビシンを得た。融点
１６７〜１７０℃。

ｈ媒系　（ｊＨ２０Ｊ２２／Ｍ１３０Ｈフイ入ＱＯＨフ
イｍ２ｏ　（８：２二［Ｌ７　：　０．５ｖ／ｖ）を使
用してのＴＬＣ（メルクＦ２５４　）上のクロマトグラ
フィーにょるａｆ＝　０．４７゜ 特許出願人　７アーミタリア・カル口・エルバ・ンシエ
タ・ベル・アツイオー二 第１頁の続き ｏ発　明　者　フエデリコ・アルカモーネイタリア国２
００１４ネルヴイアー ノ・ヴイアクアトロノヴエンブ レ２６

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）式… のジメチ／ｌ／　１，２，３．６−チトラヒドロンタレ
   ートを四塩化錫の存在下において酢酸無水物で処理し、
   続いて穏和な塩基ま友は穏和な酸で処理することにより
   弐■ Ｈ３Ｏ００Ｃ！ のジメチル１，２．３．６−テトラヒドロ−４−アセチ
   ルフタレートに変換し、これをトシルヒト２ジンと反応
   させて対応する式■ のジメチル１，２，３．６−チトラヒドロー４−（１−
   トシルヒドラゾノーエチル）−７タレートを得、これを
   カテコールボランで還元しセして引き続いて酢酸ナトリ
   ウムの存在下で二重結合を環内から環外位置に転位させ
   て式■の１，２−ジ（メトキシカルボニル）−４−エチ
   リデン−シクロヘキサンと得、これより過マンガン酸カ
   リウムでの酸化処理後に対応するα−ヒドロキシヶトン
   を得そして引き続いて触媒量のｐ−）ルエンスルホン酸
   の存在下においてエチレングリコールと反応させて式の
   ２−メトキシ−５−〔２−メチル−ジオキソラン−２−
   イルシー６−オキサ−ビシクロ［３，２，１）−オクタ
   ン−７−オンを得、これを無水テトラヒドロフランに溶
   解して一７８℃の温度で１時間式■ ０Ｈ５ （式中、Ｒは水素原子、水酸基または低級アルコΦゾ基
   を表わす）のアルキルリチウム誘（式中、Ｒは前述の定
   義を有するρラクトンを得、この化合物の２クトン環を
   メタツリシスにより開環しそして同時に酸性処理によシ
   ジオキソシン保護ケト基を脱保賎して式Ｘ（式中、Ｒは
   前述の定義を有する）の化合物を得、この化合物のケト
   基をトリフルオロ酢酸の存在下におけるピリジンーボン
   ン錯体での処理により還元しそしてメトキシカルボニル
   基をフェニルジアゾメタンでの処理によりベンジルオキ
   ７カルボニル基（（変換して式Ｘｋ （式中、Ｒは前述の定義を有する）の化合物を得、つい
   で４−ジメチルアミノ−ピリジンの存在下でのピリジン
   中における酢酸無水物での処理、続いてのｐａ／炭素触
   媒の存在下におけるシクロヘキセンとの還流によりこの
   化合物の水酸基をエステル化しそしてベンジルオキ７カ
   ルボニル基を脱エステル化して式刈（式中、Ｒ′は水素
   原子、アセトキク基または低級アルコヤシ基を表わす）
   の化合物を得、これをトリフルオロ酢酸無水物およびト
   リフルオロ酢酸の混合物で処理することにより環化しつ
   いでアセトキシ基をナトリウムメチラートで加水分解し
   て成層 Ｒ０ＣＨ５ （式中、Ｒは前述の定義を有する）の化合物を得、これ
   より１−ヒドロキシエチル基を炭酸銀で酸化処理しそし
   て生成する化合物をニトロベンゼン中において三塩化ア
   ルミニウムで脱メチル化して式Ｗ （式中、Ｒは前述の定義を有する）の化合物を得、これ
   よシラ３−ケト基をエチレングリコールでの処理によシ
   保護した後にＣ−７において生成する化合物を２．２−
   アゾ−ビス（インブチロニトリル）の存在下において臭
   素で臭素化し、続いて７−ブロモ誘導体を加水分解しつ
   いでケタール基を酸処理により除去するかあるいはまた
   ２、２′−アゾ−ビス（インブチロニトリル）の存在下
   においてＮ−プロモ−スフクンイミドで臭素化し、照射
   し、酢酸銀で処理し、ケタールを酸処理によシ加水分解
   しそして最後に酢酸塩をナトリウムメトキッドで加水分
   解して最終的に所望の式Ｉ（式中、Ｒは前述の定義を有
   する）の化合物を得ることを特徴とする、上記一般式Ｉ
   を有する６−ジオキシアントラサイクリノン類の新規な
   製法。 ２）４−デメチル−６−ジオキシ−ダウノマイシノンで
   ある、前記特許請求の範囲第１項の記載により製造され
   る式夏の化合物。 ３）６−ジオキシ−ダウノマイシノンである、前記特許
   請求の範囲第１項の記載により製造される式Ｉの化合物
   。 ４）一般式Ｗ （式中％Ｒ１は水素原子または水酸基を表わし、Ｒ２お
   よびＲ３のうちの一方は水素原子を表わし、他方は水素
   原子または水酸基を表わし、又は水素原子またはトリフ
   ルオロアセチル基を表わすが、但しＸがトリフルオロア
   セチル基を表わす場合にはＲ１は水素を表わす）を有す
   るアントラサイクリングリコシド類。 ５）４−デメチル−６−デオキゾーＮ−）リフルオロア
   セチルーダウノルビクンである、前記特許請求の範囲第
   ４項に記載の式Ｘｖによる化合物。 ６）４−デメチル−６−デオキゾーダウノルビシンであ
   る、前記特許請求の範囲第４項に記載の式ＸＶによる化
   合物。 ７）４−デメチル−６−ゾオキシード、キソルビシンで
   ある、前記特許請求の範囲第４項に記載の式Ｘ■による
   化合物。 ８）４−デメチル−６−デオキクーＮ−）リフルオロア
   セチル−４１−二ピーダウノルビシンである、前記特許
   請求の範囲第４項に記載の式Ｘ■による化合物。 ９）４−デメチル−６−ジオキシ−４′−エピーダウノ
   ルビシンである、前記％、ｆｆ請求の範囲第４項に記載
   の式ＸＶＫよる化合物。 １０）４−デメチル−６−チオキク−４′−エピードキ
   ソルビクンである、前記特許請求の範囲第４項に記載の
   弐茸による化合物。 １１）４−デメチル−６，４′−ジデオキシ−Ｎ−）リ
   フルオロアセチル−ダウンルビシンである、前記特許請
   求の範囲第４項に記載の式Ｘｖによる化合物。 １２）４−デメチル−６，４１−ジデオキシ−ダウノル
   ビシンである、前記４！杵請求の範囲第４項に記載の式
   Ｘ′ｖＫよる化合物。 １３）４−デメチ／Ｉ／−６．４’−ジデオΦジ−ドキ
   ソルビシンである、前記特許請求の範囲第４項に記載の
   式Ｘｖによる化合物。 １４）前記特許請求の範囲第１項の記載により製造され
   九一般式■ （式中、Ｒは水酸基である）の２セミ６−ジオキシアン
   ト２サイクリノンを無水ジクロ口メタンに溶解して、ト
   リフルオロメタンスルホン酸銀の存在下で５〜１０℃の
   温度において一般式ＸＶＩ （式中、　Ｒ２およびＲ５のうちの一方は水素原子を表
   わしそして他方は水素原子またはトリフルオロアセトキ
   シ基を表わし、　Ｈａｄはハロゲン原子、好ましくは塩
   素原子を表わす）の保護されたハロ糖と縮合させて一般
   式Ｘ■のα−グリコシドの７８：９Ｂおよび７Ｒ：９Ｒ
   のＩＪ、Ｏ−）　９フルオロアセチル保護誘導体の混合
   物を得、そのＯ−）リフルオロアセチル保５基をメタノ
   ール処理して除去し、得られたＮ−）リフルオロアセチ
   ル保護グリコクドのジアステレオマー混合物を溶離系と
   してジクロロメタン／メタノール／アセトン（２０：１
   　：　１　ｖ／ｖ　）混合物を使用してのシリカゲルカ
   ラム上でのクロマトグラフィーに付して相自する純粋な
   ７Ｂ：９８　Ｎ　−トリノルオロアセチル保睦グリコ７
   ドを得、これよシ穏和なアルカリ加水分解の後に式中Ｒ
   １が水素である一般式Ｘ■の所望７Ｂ：９８α−グリコ
   クドを得ついで所望によりこの得られたα−グリコシド
   をクロロホルム中において臭素で処理してそれらの対応
   する１４−ブロモ誘導体を得、これより引き続いてぎ酸
   ナトリウム水溶液で加水分解してそれらの対応するドキ
   ソルビ７ン同族体（Ｒ１−ＯＨ）を最終的に得ることを
   特徴とする、式Ｘ■ （式中ｖ　Ｒｌｓ　Ｒ２％　Ｒ５およびＸは前記第４項
   における定義を有する）の化合物の製法。