JPS6013431B2 - 金属被膜を金属基体へ施こす方法および装置 - Google Patents
金属被膜を金属基体へ施こす方法および装置Info
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- JPS6013431B2 JPS6013431B2 JP55041932A JP4193280A JPS6013431B2 JP S6013431 B2 JPS6013431 B2 JP S6013431B2 JP 55041932 A JP55041932 A JP 55041932A JP 4193280 A JP4193280 A JP 4193280A JP S6013431 B2 JPS6013431 B2 JP S6013431B2
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、金属被膜を金属基体へ施こすことに関する。
基本の基体材料の性質に悪影響を及ぼしうる攻撃的条件
に金属基体材料が直面するような場合、金属基体に金属
の保護被膜を施こすことはよく知られている。このよう
な保護被膜は、たとえば、火炎またはプラズマの吹付け
として普通に知られている技術によって施こすことがで
きる。それらの技術において、熱いガスまたはプラズマ
の環境中に同伴された合金粒子は被覆すべき支持体上へ
向けられる。粒子は基体の表面へ衝突するとき溶融状態
または半溶融状態であり、それから冷却および固化して
基体との結合を形成する。粒子と基体表面との間の結合
は、本質的に性質が機械的であり、結局、たとえば、衝
撃力や摩擦力が被膜に加わるとき、破壊しやすい。金属
被膜と金属基体との間の改良された結合は、被膜をロッ
ドの形で基体へ施こし、同時に施こす領域を高い強さの
熱源、たとえば、酸素−アセチレン火炎またはプラズマ
もしくはアルゴンシールドァークで溶融することによっ
て、達成できる。
に金属基体材料が直面するような場合、金属基体に金属
の保護被膜を施こすことはよく知られている。このよう
な保護被膜は、たとえば、火炎またはプラズマの吹付け
として普通に知られている技術によって施こすことがで
きる。それらの技術において、熱いガスまたはプラズマ
の環境中に同伴された合金粒子は被覆すべき支持体上へ
向けられる。粒子は基体の表面へ衝突するとき溶融状態
または半溶融状態であり、それから冷却および固化して
基体との結合を形成する。粒子と基体表面との間の結合
は、本質的に性質が機械的であり、結局、たとえば、衝
撃力や摩擦力が被膜に加わるとき、破壊しやすい。金属
被膜と金属基体との間の改良された結合は、被膜をロッ
ドの形で基体へ施こし、同時に施こす領域を高い強さの
熱源、たとえば、酸素−アセチレン火炎またはプラズマ
もしくはアルゴンシールドァークで溶融することによっ
て、達成できる。
被覆材料および基体の両方が溶融するので、それらの間
である程度の混合が起こり、その結果生ずる結合は通常
ひじように強い。しかしながら、この技術は精確にコン
トロールすることが困難であり、結局変化するコンシス
テンシーおよび深さの被膜が生じやすい。金属被膜と金
属基体との間の結合を改良する別の方法は、被覆材料を
基体材料へ粉末の形で施こして、粉末の層を形成し、こ
れを引き続いてし−ザービームの使用により溶融するこ
とからなる。
である程度の混合が起こり、その結果生ずる結合は通常
ひじように強い。しかしながら、この技術は精確にコン
トロールすることが困難であり、結局変化するコンシス
テンシーおよび深さの被膜が生じやすい。金属被膜と金
属基体との間の結合を改良する別の方法は、被覆材料を
基体材料へ粉末の形で施こして、粉末の層を形成し、こ
れを引き続いてし−ザービームの使用により溶融するこ
とからなる。
改良された結合が生ずるが、被覆領域と深さを精確にコ
ントロールすることは困難である。本発明の目的は、金
属被膜を金属基体へ施こすための、改良された方法およ
び装置を提供することである。
ントロールすることは困難である。本発明の目的は、金
属被膜を金属基体へ施こすための、改良された方法およ
び装置を提供することである。
第1の発明よれば、レーザービームと、同伴された金属
の被覆材料の粒子を含有するガス流とを金属基体の同じ
領域上へ同時に向けて、該レーザービームが該粒子を溶
融して該基体上の該し−ザービームの衝突する領域にお
いて該金属被覆材料の溶融プールを形成し、そして議し
ーザービームと基体とを相対的に動かし、同時に該粒子
運搬ガス流をレーザービームの衝突領域に向け続け、こ
れによって該レーザービームの衝突領域、それゆえ該熔
融した金属被覆材料のプールが、該金属基体と該溶融金
属被覆材料との間で融合が起こるような速度で、該基体
を横切るようにすることを特徴とする金属被覆を金属基
体へ施こす方法が提供される。
の被覆材料の粒子を含有するガス流とを金属基体の同じ
領域上へ同時に向けて、該レーザービームが該粒子を溶
融して該基体上の該し−ザービームの衝突する領域にお
いて該金属被覆材料の溶融プールを形成し、そして議し
ーザービームと基体とを相対的に動かし、同時に該粒子
運搬ガス流をレーザービームの衝突領域に向け続け、こ
れによって該レーザービームの衝突領域、それゆえ該熔
融した金属被覆材料のプールが、該金属基体と該溶融金
属被覆材料との間で融合が起こるような速度で、該基体
を横切るようにすることを特徴とする金属被覆を金属基
体へ施こす方法が提供される。
該基体上の該レーザービームの衝突領域における議しー
ザービームの直径は、好ましくは1〜4肋の範囲内であ
る。
ザービームの直径は、好ましくは1〜4肋の範囲内であ
る。
議しーザービームと該基体との間の相対運動は、好まし
くは4〜離職/秒の相対速度とする。
くは4〜離職/秒の相対速度とする。
該ガス流の流速は、好ましくは2〜5夕/分の範囲内と
する。該基体上への該ガス流中に同伴された金属被覆粒
子の放出速度は、好ましくは45〜55の9/秒とする
。
する。該基体上への該ガス流中に同伴された金属被覆粒
子の放出速度は、好ましくは45〜55の9/秒とする
。
該ガス流はアルゴンであることが好ましい。
第2の発明によれば、被覆すべき基体上へレーザービー
ムを向けるレーザーと:該基体上の議しーザーピーム衝
突領域上へガス流を向ける袋瞳と;該ガス流中に同伴す
る金属被覆材料粒子の量を一定にするため、該粒子を計
算して該ガス流中に導入する装置と:及び該レーザービ
ーム衝突領域において該金属基体と該溶融金属被覆材料
との間に融合を起こすべく議しーザービームと該基体と
の間で相対運動を行わせる装置と;からなる金属被覆を
金属基体に施すための装置が提供される。レーザーの出
力は800〜2250ワットの範囲のものが好ましい。
ムを向けるレーザーと:該基体上の議しーザーピーム衝
突領域上へガス流を向ける袋瞳と;該ガス流中に同伴す
る金属被覆材料粒子の量を一定にするため、該粒子を計
算して該ガス流中に導入する装置と:及び該レーザービ
ーム衝突領域において該金属基体と該溶融金属被覆材料
との間に融合を起こすべく議しーザービームと該基体と
の間で相対運動を行わせる装置と;からなる金属被覆を
金属基体に施すための装置が提供される。レーザーの出
力は800〜2250ワットの範囲のものが好ましい。
本発明を図面を参照しながら説明する。
図面は1例を示すものであり、被覆を施すべき金属基体
10をキャリャー11上に置く。このキャリャ−11は
図示しない手段によって矢印12で示す方向に一定速度
で移動させる。レーザー13はキャリャー11の垂直上
方に設置されているので、そのビーム14はキャリャー
の移送方向12に対して直角である。煩斜管15はしー
ザー13に隣接して取り付けられており、下部出口16
は金属基体10上のレーザービーム14の衝突領域11
に向けられる。
10をキャリャー11上に置く。このキャリャ−11は
図示しない手段によって矢印12で示す方向に一定速度
で移動させる。レーザー13はキャリャー11の垂直上
方に設置されているので、そのビーム14はキャリャー
の移送方向12に対して直角である。煩斜管15はしー
ザー13に隣接して取り付けられており、下部出口16
は金属基体10上のレーザービーム14の衝突領域11
に向けられる。
管16の上部入口18はアルゴン源に接続されているの
で、アルゴンは矢印19で示す方向に、管15を通って
、レーザービームの衝突領域17上へ流れる。管の入口
18と出口16との中間の部分20‘こおいてもう1本
の管21を管15に接続させる。
で、アルゴンは矢印19で示す方向に、管15を通って
、レーザービームの衝突領域17上へ流れる。管の入口
18と出口16との中間の部分20‘こおいてもう1本
の管21を管15に接続させる。
この管21はホツパー22を備え、このホッパ−22に
は基本10上に被覆するための金属粒子23を収容する
。粒子23は重力により管21に入り、管21に設置さ
れた計量装置21aで計量されて、一定速度で、管15
を通過すアルゴン流中に入る。粒子23は管15へ入る
とすぐに、アルゴン流中に同伴され、これによりレーザ
ービームの衝突領域17上へ向けうれる。粒子23はし
ーザービームの衝突領域17へ到達するとすぐに、レー
ザービーム14により溶融されて溶融被覆金属のプール
24を形成する。
は基本10上に被覆するための金属粒子23を収容する
。粒子23は重力により管21に入り、管21に設置さ
れた計量装置21aで計量されて、一定速度で、管15
を通過すアルゴン流中に入る。粒子23は管15へ入る
とすぐに、アルゴン流中に同伴され、これによりレーザ
ービームの衝突領域17上へ向けうれる。粒子23はし
ーザービームの衝突領域17へ到達するとすぐに、レー
ザービーム14により溶融されて溶融被覆金属のプール
24を形成する。
基体のキャリャー11を矢印12で示す方向に一定速度
で移動することにより溶融金属のプール24も同様に移
動されて、固化した金属の被膜25が得られる。この際
金属基体10もしーザービーム14により加熱され、溶
融した被覆金属24と基体10との間で融合が起こるの
で、最終の固化した被膜25と基体10との間の結合は
きわめて強い。上の説明から明らかなように、被覆金属
の溶融プール24が形成されるとその後に続くすべての
粒子23はその溶融プール24中へ向けられるので、溶
融プール24の位置づけとその結果生ずる被膜25の位
置づけの非常に正確なコントロールが可能となる。
で移動することにより溶融金属のプール24も同様に移
動されて、固化した金属の被膜25が得られる。この際
金属基体10もしーザービーム14により加熱され、溶
融した被覆金属24と基体10との間で融合が起こるの
で、最終の固化した被膜25と基体10との間の結合は
きわめて強い。上の説明から明らかなように、被覆金属
の溶融プール24が形成されるとその後に続くすべての
粒子23はその溶融プール24中へ向けられるので、溶
融プール24の位置づけとその結果生ずる被膜25の位
置づけの非常に正確なコントロールが可能となる。
さらに、基体のキャリャ−11は一定速度で移動し、そ
して粒子23は一定速度で熔融プール24へ向けられる
ので、生ずる被膜25は実質的に一定の深さである。レ
ーザービーム14と相対的に行われる基体10の移動は
、被膜25を部分的に凝集したビーズ26の形で析出す
る効果をもつので、被覆表面27は外観が多少不均一で
ある。
して粒子23は一定速度で熔融プール24へ向けられる
ので、生ずる被膜25は実質的に一定の深さである。レ
ーザービーム14と相対的に行われる基体10の移動は
、被膜25を部分的に凝集したビーズ26の形で析出す
る効果をもつので、被覆表面27は外観が多少不均一で
ある。
従って、表面27を平らにしたい場合、研削のような普
通の機械加工技術を用いてこの目的を達成できる。本発
明による一実施例において、ニモニック(Nimonj
c)75として知られるニッケルをベースとする合金の
基体10を矢印12で示す方向に10〜12側/秒の速
度で移動させた。
通の機械加工技術を用いてこの目的を達成できる。本発
明による一実施例において、ニモニック(Nimonj
c)75として知られるニッケルをベースとする合金の
基体10を矢印12で示す方向に10〜12側/秒の速
度で移動させた。
1900ワットの出力をもつレーザー13を、基体10
上の衝突領域17のビーム直径が2肌であるように、基
体上ヘビーム14を向けた。
上の衝突領域17のビーム直径が2肌であるように、基
体上ヘビーム14を向けた。
アルゴンを傾斜管15に3夕/分の流速で通過させ、そ
して200〜400メッシュの粒度の金属の被覆粒子2
3を計量してアルゴン中に入れて50のタノ秒の粒子の
放出速度を得た。粒子はステラィト(Stellite
)12として知られているコバルトをベースとする合金
であり、そして次の組成を有した:成 分
重量%炭素
1.70〜1.95ケイ素
最高 1.5マンガン
最高 1.5アルミニウム 最
高 1.0クロム
27.0〜31鉄
最高 2.5モリブデン 最
高 2.5ニッケル 最高
1.5チタン 最高 1.
0タングステン 最高 8.0〜1
0.0コバルト 残部縛
られる被膜は厚さが1凧であり、そして硬度が560H
Vであった。
して200〜400メッシュの粒度の金属の被覆粒子2
3を計量してアルゴン中に入れて50のタノ秒の粒子の
放出速度を得た。粒子はステラィト(Stellite
)12として知られているコバルトをベースとする合金
であり、そして次の組成を有した:成 分
重量%炭素
1.70〜1.95ケイ素
最高 1.5マンガン
最高 1.5アルミニウム 最
高 1.0クロム
27.0〜31鉄
最高 2.5モリブデン 最
高 2.5ニッケル 最高
1.5チタン 最高 1.
0タングステン 最高 8.0〜1
0.0コバルト 残部縛
られる被膜は厚さが1凧であり、そして硬度が560H
Vであった。
一般に、満足すべき結果を達成するためには、次のパラ
メーターを用いることが好ましい:レーザーの出力:8
00〜2250ワット基体表面におけるレーザービーム
の直径:1〜4基体の移送速度:4〜22脚/秒隣接ビ
ーズのピッチング:50% アルゴンの流速:2〜5と/分 金属粒子の放出速度:45〜55雌/秒。
メーターを用いることが好ましい:レーザーの出力:8
00〜2250ワット基体表面におけるレーザービーム
の直径:1〜4基体の移送速度:4〜22脚/秒隣接ビ
ーズのピッチング:50% アルゴンの流速:2〜5と/分 金属粒子の放出速度:45〜55雌/秒。
これらのパラメータを満足すると、前述のニッケルをベ
ースとする合金の基体とコバルトをベースとする粒子を
用いて、生ずる被膜は厚さが0.35〜1.9豚であり
、そして硬度が450〜60皿Vであることがわかった
。
ースとする合金の基体とコバルトをベースとする粒子を
用いて、生ずる被膜は厚さが0.35〜1.9豚であり
、そして硬度が450〜60皿Vであることがわかった
。
本発明をアルゴン中の金属の被覆粒子の同伴について説
明したが。
明したが。
かならずしも不活性でなくてもよい他のガスを用いるこ
とができるであろう。その上、ニッケルをベースとする
合金およびコバルトをべ−スとする合金から形成された
もの以外の金属基体および被膜を本発明の方法において
使用できる。
とができるであろう。その上、ニッケルをベースとする
合金およびコバルトをべ−スとする合金から形成された
もの以外の金属基体および被膜を本発明の方法において
使用できる。
図面は、本発明による装置の線図である。
10・・◆・・・金属基体、11・・・・・・キャリヤ
ー、12・・・・・・キャリャーの移送方向、13・・
・・・・レーザー、14・・・・・・レーザービーム、
15・・・・・・傾斜管、16・・・・・・下の出口、
17・・・・・・衝突領域、18・・・・・・上の入口
、19・・…・アルゴンの流れの方向、20・・・・・
・ホツパー取付位置、21・・・・・・ホツパ一連続管
、21a・・・・・・計量装置、22・・・・・・ホッ
パー、23・…・・粒子、24・・…・溶融被覆金属プ
ール、25・…・・固化した金属の被覆、26…・・・
部分的に凝集したビーズ、27・・・…被覆表面。
ー、12・・・・・・キャリャーの移送方向、13・・
・・・・レーザー、14・・・・・・レーザービーム、
15・・・・・・傾斜管、16・・・・・・下の出口、
17・・・・・・衝突領域、18・・・・・・上の入口
、19・・…・アルゴンの流れの方向、20・・・・・
・ホツパー取付位置、21・・・・・・ホツパ一連続管
、21a・・・・・・計量装置、22・・・・・・ホッ
パー、23・…・・粒子、24・・…・溶融被覆金属プ
ール、25・…・・固化した金属の被覆、26…・・・
部分的に凝集したビーズ、27・・・…被覆表面。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 金属被膜を金属基体へ施こす方法において、レーザ
ービームと、同伴された金属の被覆材料の粒子を含有す
るガス流とを金属基体の同じ領域上へ同時に向け、これ
により、該レーザービームが該粒子を溶融して該基体上
の該レーザービームの衝突する領域において該金属被覆
材料の溶融プールを形成し、そして該レーザービームと
基体とを相対的に動かし、この間該粒子運搬ガス流をレ
ーザービームの衝突領域に向け続け、これによってレー
ザービームの該衝突領域、それゆえ該溶融金属被覆材料
のプールを、該基体と該溶融金属被覆材料との間で融合
が起こるような速度で、該基体を横切らせることからな
る方法。 2 該基体上の該レーザービーム衝突領域における該レ
ーザービームの直径が1〜4mmの範囲内である特許請
求の範囲第1項記載の方法。 3 該レーザービームと該基体との間の該相対運動が4
〜22mm/秒の相対速度である特許請求の範囲第1項
記載の方法。 4 該ガス流の流速が2〜5l/分の範囲内である特許
請求の範囲第1項記載の方法。 5 該ガス流中に同伴された金属被覆材料の該粒子の該
基体上への給送速度が45〜55mg/秒の範囲内であ
る特許請求の範囲第1項記載の方法。 6 該ガス流がアルゴン流である特許請求の範囲第1項
記載の方法。 7 被覆すべき基体上へレーザービームを向けるレーザ
ーと;該基体上の該レーザービーム衝突領域上へガス流
を向ける装置と;該ガス流中に同伴する金属被覆材料粒
子の量を一定にするため、該粒子を計量して該ガス流中
に導入する装置と;及び該レーザービーム衝突領域にお
いて該金属基体と該溶融金属被覆材料との間に融合を起
こすべくレーザービームと該基体との間で相対運動を行
わせる装置と;かるなる金属被覆を金属基体に施すため
の装置。 8 該レーザーが出力が800〜2250ワツトの範囲
内である特許請求の範囲第7項記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
GB7911294 | 1979-03-30 | ||
GB7911294 | 1979-03-30 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS55131164A JPS55131164A (en) | 1980-10-11 |
JPS6013431B2 true JPS6013431B2 (ja) | 1985-04-06 |
Family
ID=10504244
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP55041932A Expired JPS6013431B2 (ja) | 1979-03-30 | 1980-03-31 | 金属被膜を金属基体へ施こす方法および装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US4269868A (ja) |
JP (1) | JPS6013431B2 (ja) |
DE (1) | DE3011022C2 (ja) |
FR (1) | FR2452528A1 (ja) |
GB (1) | GB2052566B (ja) |
IT (1) | IT1130987B (ja) |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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