JPS6013245A - 光学異方性測定装置 - Google Patents

光学異方性測定装置

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JPS6013245A
JPS6013245A JP12032483A JP12032483A JPS6013245A JP S6013245 A JPS6013245 A JP S6013245A JP 12032483 A JP12032483 A JP 12032483A JP 12032483 A JP12032483 A JP 12032483A JP S6013245 A JPS6013245 A JP S6013245A
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JP
Japan
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light
optical anisotropy
linearly polarized
passes
rotated
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JP12032483A
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JPS644140B2 (ja
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Takashi Nishikawa
孝 西川
Morio Yoda
依田 守生
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Mitsubishi Kasei Corp
Original Assignee
Mitsubishi Kasei Corp
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Publication date
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Publication of JPS644140B2 publication Critical patent/JPS644140B2/ja
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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/21Polarisation-affecting properties
    • G01N21/23Bi-refringence

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、高分子材料よりなるフィルム等の光学異方性
測定装置に関するものである。
高分子材料よりなるフィルム等は光学異方性を有するが
、この光学異方性を測定する従来の方法は、アツベの屈
折計等のように測定に時間を要するものである。1だフ
ィルムの熱処理の場合、フィルムにテンションをかけて
行なわれるがこの場合も光学異方性が生ずることになる
。この光学異方性を測定しテンション等をコントロール
する場合も連続測定を行なう必要がある。しかし従来の
測定方法では連続測定が出来ない。
本発明は、偏光面が時間と共に回転変化する直線偏光の
光を6411定光として用い、この測定光が被検物体を
通過する時の偏光面のくずれの状態より被検物体の光学
異方性の測定を行なうようにしたもので連続測定も可能
にした光学異方性測定装置を提供するものである。
以下図示する一実施例にもとづいて本発明の連続光学異
方性測定装置の詳細な内容を説明する。
第1図は本発明装置の構成を示す図で、この図において
lは直線偏光のレーザー光を発振するレーザー光源、2
はビームスプリッタ−13はビームスグリツタ−により
分岐された一方の光路中に配置された1/4波長板、4
は同党路中に配置されパルスモータ−6によシ回転され
る1/4波長板で、これら二つの/4波長板によシ偏光
回転装置を構成してしる。5はビームスプリッタ−2に
よシ分岐された他の光路中におかれその光を検出するデ
ィティクター、7は光束を拡げるビームエキスパンダー
、8は集光装置、9は前記の二つの1/4波長板よりな
る回転偏光装置を出た直線偏光に常に直交するようにパ
ルスモータ−11により回転される偏光板、10は偏光
板10を透過した光を検出するディティクター、13は
パルスモータ−6およヒ11をコントロールスルモータ
ーコントロー ター 、 14はピークホルダー、15
はコンピューター、】6は表示装置、17はプリンター
、18は試料である。
このような構成の本発明の測定装置の作用について説明
する。レーザー光源1より発振される直線偏光のレーザ
ー光は、ビームスプリッタ−2によシ二つの光路に分岐
され、そのうちのこれを透過する一方の光は、ティティ
クター5に入射し検出されこれによって光源の出力変動
による影響が除去される。一方ビームスプリッター2に
て反射されたレーザー光は、二つの1/4波長板3,4
よシなる偏光回転装置を通過する。前述のように一波長
板4はパルスモータ−6により一定の回転速度で回転さ
れるのでこれを出る直線偏光は、その直線性を保ち々か
ら一定速度でその偏光面が回転する。この直線偏光は、
ビームエキスパンダー7によってそのビーム径が拡大さ
れてから試料8を通過する。この時試料の光学異字異方
性によって直巌偏光がみだされる。続いて集光レンズ8
によイ リデイテへクター10に集光されて入射するが、その時
パルスモータ−11によシ回転されている偏光板9を〃
i過する。この偏光板9が前述のように1/4波長板4
を透過した直線偏光と常に直交するように回転されるよ
うにモーターコン]・ローラ」3によってパルスモータ
−6および11が制御される。
ディティクター10は検出された光に応じた出力信号を
発しピークホルダー14に入力される。ピークホルダー
14にて・出られたピーク値とその時のモーターの回転
角は、コントローラー13よりコンピューター15に入
力される。このピーク値やその時の回転角と光学異方性
を示す複屈折や屈折率楕円体の主軸前との間には次に示
す関係がある。
ここで△nは複屈折、dは膜厚、mは試料の吸収率、λ
はレーザー光の波長、Aはレーザー光の出力、pはピー
ク値、ψは主軸と座標軸のなす角、θはピーク値を得た
角、αは比例定数である。
し〆ヒがってレーザー光の波長、出力等は既知の値であ
るので、コンピューター15に入力されたピーク値pと
ピーク値を得た角(モーターの回転角)θにもとづいて
複屈折△nや屈折率楕円体の主軸と座標軸とのなす角ψ
がめられる。これらの値は表示装置16に表示されプリ
ンター17に記録される。更にΔ11 、ψ等の値は、
図示してないが制御系へ出力される。制御系に入力され
ノ辷チーターにもとづいて、例えば熱処理が行なってい
るフィルムのテンション等の制御が行なわれる。
第1図に示す実施例においては、光源]、ディティクク
ー5よシなる光源部と、−波長板3,4、パルスモータ
−7よりなる偏光回転装置と、ビームスフリック〜2+
 ビームエキスパンダー7が保持台I2の上部に保持さ
れ、又集光レンズ8.偏光板9.ディティクター10 
、パルスモータ−II 等ヨりなる検出部は、保持台の
下部に保持されている。
そして保持台12は軸12 aのまわりに回動するよう
にしであるので、との回動により保持台の上部。
下部に保持されている前記の谷要素よりなる測定系が移
動される。したかって試料の幅方向(試料の移動方向に
直角な方向)の谷位置での測定が可能である。
第2図は前記の様子を示す図で、軸12 aを中心にア
ーム12が回動することによって符号20にて示す測定
系は矢印Aにて示す範囲を移動する。
この測定系の移動は、試料の移動方向Bに直角に移動さ
せる他の適宜な移動機構によってもよい。
以上説明したように本発明の光学異方性測定装置によれ
ば、被測定試料である例えば隅分子材料よりなるフィル
ムを移動中に直ちに1lfJ定し、コンピューターの処
理によって即座に必要とするデーターが得られ表示装置
に表示されまたプリンターに記録される。したがって極
めて短時間に連続しての測定が0]′能である。更にコ
ンピューターで処理されたチーターに木とづいて制御系
にてコントロールするようにすれば、フィルム等の重合
や熱処ノji等のコントロールが可能である。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の測定装置dの構成を示す図、第2図は
前記測定装置の測定系の回動状態を示す図である。 ■・・・・し〜ザー光m、2−1−ビームスプリッタ−
,3,4・・・・−11−長4L6・・・・パルスモー
ク−、9・・・・偏光板、 10・・・・ディティクタ
ー、11・・・・パルスモータ=、13・・・・モータ
ーコントロー−7−,14・・・・ピークホルダー、1
8・・・・試料。 出願人 三菱化成工業株式会社 代理人 向 寛 ニ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 光源よりの光を回転する直線偏光にするための偏光回転
    装置と、前記偏光回転装置を通過した直線偏光と常に直
    交するように回転する偏光板とディティクターとを有す
    る検出装置とを備え、前記偏光回転装置と検出装置の間
    の光路中に試料を配置し該偏光回転装置よシの光で試料
    および偏光板を通ってディティクターにて検出された光
    の強度のピーク値と該ピーク値の時の偏光装置又は偏光
    板の回転角とにもとづいて試料の光学異方性を測定する
    ことを特徴とする光学異方性測定装置。
JP12032483A 1983-07-04 1983-07-04 光学異方性測定装置 Granted JPS6013245A (ja)

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JP12032483A JPS6013245A (ja) 1983-07-04 1983-07-04 光学異方性測定装置

Applications Claiming Priority (1)

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JP12032483A JPS6013245A (ja) 1983-07-04 1983-07-04 光学異方性測定装置

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Publication Number Publication Date
JPS6013245A true JPS6013245A (ja) 1985-01-23
JPS644140B2 JPS644140B2 (ja) 1989-01-24

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ID=14783429

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JP12032483A Granted JPS6013245A (ja) 1983-07-04 1983-07-04 光学異方性測定装置

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JP (1) JPS6013245A (ja)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS62157549A (ja) * 1985-12-30 1987-07-13 Kanzaki Paper Mfg Co Ltd シート状透光性試料の異方性測定方法
JPS62180242A (ja) * 1986-02-05 1987-08-07 Daicel Chem Ind Ltd 複屈折測定装置
JPH05209823A (ja) * 1991-12-02 1993-08-20 Kanzaki Paper Mfg Co Ltd 複屈折測定装置
JP2001343329A (ja) * 2000-05-31 2001-12-14 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd フィルムまたはフィルムパッケージ検査装置及び検査方法

Cited By (5)

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JPH0478137B2 (ja) * 1985-12-30 1992-12-10 Kanzaki Paper Mfg Co Ltd
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JP2001343329A (ja) * 2000-05-31 2001-12-14 Sumitomo Osaka Cement Co Ltd フィルムまたはフィルムパッケージ検査装置及び検査方法

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Publication number Publication date
JPS644140B2 (ja) 1989-01-24

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