JPS60128267A - 無電解メツキ浴 - Google Patents
無電解メツキ浴Info
- Publication number
- JPS60128267A JPS60128267A JP23592783A JP23592783A JPS60128267A JP S60128267 A JPS60128267 A JP S60128267A JP 23592783 A JP23592783 A JP 23592783A JP 23592783 A JP23592783 A JP 23592783A JP S60128267 A JPS60128267 A JP S60128267A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- plating bath
- magnetic
- plating
- electroless plating
- malate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C18/00—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
- C23C18/16—Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating by reduction or substitution, e.g. electroless plating
- C23C18/48—Coating with alloys
- C23C18/50—Coating with alloys with alloys based on iron, cobalt or nickel
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Chemically Coating (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、ウインチェタ型ディスク等の磁気記録媒体を
作成する無電解メッキに関するものである。
作成する無電解メッキに関するものである。
近年磁気ディスク装置は、ヘッドの低浮上化、ヘッド特
性の向上、メカ、電子部の棺度向上、そして磁気ディス
クの向上等によ１高密度化を進めてきた。媒体について
みれば記録密度の向上はγ−Ｉ’ｌｌ 、Ｏ３塗布型デ
イスクで達成されておル、その主なる技術は媒体の簿膜
化、媒体表面の平滑化及び媒体粒子の配向化である、し
かし塗布型ディスクの高密度化に対し、媒体厚み、磁気
特性が限界に近づきつつある。高密度記録のために塗布
の薄層化はもつとも重要は因子である。現在ディスクに
使用されているγ−Ｆｅ２Ｏ３の膜厚は０．５〜０゜９
緬である。これ以上薄くするためには塗布液の低粘度化
、ピンホール等の欠陥対策等難しい問題がある。
性の向上、メカ、電子部の棺度向上、そして磁気ディス
クの向上等によ１高密度化を進めてきた。媒体について
みれば記録密度の向上はγ−Ｉ’ｌｌ 、Ｏ３塗布型デ
イスクで達成されておル、その主なる技術は媒体の簿膜
化、媒体表面の平滑化及び媒体粒子の配向化である、し
かし塗布型ディスクの高密度化に対し、媒体厚み、磁気
特性が限界に近づきつつある。高密度記録のために塗布
の薄層化はもつとも重要は因子である。現在ディスクに
使用されているγ−Ｆｅ２Ｏ３の膜厚は０．５〜０゜９
緬である。これ以上薄くするためには塗布液の低粘度化
、ピンホール等の欠陥対策等難しい問題がある。
またメッキ技術を用いたメッキディスクは長年研究され
てきては、いるもののメッキ液の安定性磁気特性の安定
性、ヘッドに対するクラッシュ、エラー５、特性などの
信頼性、等良好な品質のメッキ磁性薄膜が安定して得ら
れる製造プロセス等が未解決のため、使用されるに至ら
なかった。
てきては、いるもののメッキ液の安定性磁気特性の安定
性、ヘッドに対するクラッシュ、エラー５、特性などの
信頼性、等良好な品質のメッキ磁性薄膜が安定して得ら
れる製造プロセス等が未解決のため、使用されるに至ら
なかった。
本発明はこのような問題点を解決するもので、その目的
とすることは薄膜化が可能で磁気ディスクに適した磁気
特性を有する無電解メッキ液を提供することにある。
とすることは薄膜化が可能で磁気ディスクに適した磁気
特性を有する無電解メッキ液を提供することにある。
本発明のメッキ浴は、コバルト塩０．０８〜０゜０７ｍ
ｏｂ／Ｉｌｒ ｒニッケル塩０．０８〜０．ＯＴｍｏＡ
／Ａ 、次亜リン酸塩０．０８〜０．８０ ｍｏＡ／Ａ
、リンゴ酸塩０．２〜１．５ｍｏｂ／Ａ 、酒石酸塩０
．１〜０．８ ｍｏｂ／Ａ、ホウ酸０．０５〜０．４０
ｍ０ＪＶＩ／、硫酸アンモニウム０．０２〜０．６０ｍ
ｏｂ／Ａ 、硝酸鉛０．０１〜０．００５ ｆ／Ａを含
み、ＰＨを苛性アルカリで調整することを特徴とする。
ｏｂ／Ｉｌｒ ｒニッケル塩０．０８〜０．ＯＴｍｏＡ
／Ａ 、次亜リン酸塩０．０８〜０．８０ ｍｏＡ／Ａ
、リンゴ酸塩０．２〜１．５ｍｏｂ／Ａ 、酒石酸塩０
．１〜０．８ ｍｏｂ／Ａ、ホウ酸０．０５〜０．４０
ｍ０ＪＶＩ／、硫酸アンモニウム０．０２〜０．６０ｍ
ｏｂ／Ａ 、硝酸鉛０．０１〜０．００５ ｆ／Ａを含
み、ＰＨを苛性アルカリで調整することを特徴とする。
以下、本発明について実施例に基づき詳細に説明する。
実施例１
アルミ基板上に非磁性メッキを形成しその上に下記のメ
ッキ組成およびメッキ条件にてコバルト−ニッケルーリ
ン合金磁性膜を形成した。
ッキ組成およびメッキ条件にてコバルト−ニッケルーリ
ン合金磁性膜を形成した。
メッキ浴組成
硫酸コバルト ０．０８ ｔル０．θｒ硫酸ニッケル
０．０２ｍｏ！μ 次亜リン酸ナトリウム０．２ ｒｎｏ！μリンゴ酸ナト
リウム ０．６ ｒｎｏｌ！＝／Ａ酒石酸ナトリウム
９．２ ｍｏ！μ ホウ酸 ０．２ ｍｏ！μ 硫酸アンモニウム ０．２ ｒｎ、ｏ！μ硝酸鉛 ０．
００８２μ メッキ条件 ・Ｐ ）Ｉ ＝ ８，５ （２５℃） 水酸化ナトリウ
ム溶液でＰＨ調節 ・メッキ浴の温度 ８０℃ ・メッキ時間 ５０秒 上の組成、条件でメッキを行ったところ８００ｘの磁性
薄膜が得られた。磁性膜のＨｃは５８００ｅであり角型
比は、０．８５であった。
０．０２ｍｏ！μ 次亜リン酸ナトリウム０．２ ｒｎｏ！μリンゴ酸ナト
リウム ０．６ ｒｎｏｌ！＝／Ａ酒石酸ナトリウム
９．２ ｍｏ！μ ホウ酸 ０．２ ｍｏ！μ 硫酸アンモニウム ０．２ ｒｎ、ｏ！μ硝酸鉛 ０．
００８２μ メッキ条件 ・Ｐ ）Ｉ ＝ ８，５ （２５℃） 水酸化ナトリウ
ム溶液でＰＨ調節 ・メッキ浴の温度 ８０℃ ・メッキ時間 ５０秒 上の組成、条件でメッキを行ったところ８００ｘの磁性
薄膜が得られた。磁性膜のＨｃは５８００ｅであり角型
比は、０．８５であった。
第１図はメッキ時間とＨｃ、角型比（Ｓ）の関係を示し
たものである。メッキ時間が３０’以上でほぼ一定のＨ
ｃ、Ｓを示している。
たものである。メッキ時間が３０’以上でほぼ一定のＨ
ｃ、Ｓを示している。
実施例２
実施例１において次の条件を変化させた・次亜リン酸ナ
トリウム ０ 、１ｍｏＡ／Ａ・Ｐ Ｈ９，０（２５℃
）水酸化ナトリウム溶液でＰＨ調節 ・メッキ浴の温度 ７０℃ 上の条件でメッキを行ったところ、７５０Ｘの厚膜を得
るのに１５０秒要した。実際の量産性を考慮した場合、
メッキ時間の長１ｎｌｌうが膜厚の制御が簡単で、しか
も、高品質のものを生産しやすい。
トリウム ０ 、１ｍｏＡ／Ａ・Ｐ Ｈ９，０（２５℃
）水酸化ナトリウム溶液でＰＨ調節 ・メッキ浴の温度 ７０℃ 上の条件でメッキを行ったところ、７５０Ｘの厚膜を得
るのに１５０秒要した。実際の量産性を考慮した場合、
メッキ時間の長１ｎｌｌうが膜厚の制御が簡単で、しか
も、高品質のものを生産しやすい。
第２図にメッキ時間とメッキ膜厚の関係を示す。
本メッキ浴において、この結果の再現性は十分である。
また、メッキ時間とＨｃ、Ｓの関係を第８図に示す、Ｈ
ｃは５５００ｇで角型比も０．８５と良好である。メッ
キ表面も光沢面を有しており、メッキ浴の寿命も長い。
ｃは５５００ｇで角型比も０．８５と良好である。メッ
キ表面も光沢面を有しており、メッキ浴の寿命も長い。
実施例８
実施例２の組成、条件にお込て、メッキ液の長期安定化
、磁気特性の安定化をめざすため、メッキ液中の金属イ
オン、錯イオン等すべてのイオンの定量分析を行ない不
足分を補充しながら３０日日間側した結果を図−４に示
す、また、図−５はｃ。
、磁気特性の安定化をめざすため、メッキ液中の金属イ
オン、錯イオン等すべてのイオンの定量分析を行ない不
足分を補充しながら３０日日間側した結果を図−４に示
す、また、図−５はｃ。
、ｌＪ６イオンのみ補充した結果である。図−４、図−
５の結果より金属イオンはもちろん、錯化剤等の添加の
重要性が理解できる。又図には示して′ないがＰＨをア
ンモニア水で調整した場合、ＰＨの変動が大きく、磁気
特性は安定しないので適切でない。
５の結果より金属イオンはもちろん、錯化剤等の添加の
重要性が理解できる。又図には示して′ないがＰＨをア
ンモニア水で調整した場合、ＰＨの変動が大きく、磁気
特性は安定しないので適切でない。
以上述べたように本発明によれば、磁気ディスクとして
良好、磁気特性を有する磁性膜が荀られしかもメッキ速
度が遅く、膜厚制御が簡単で量産性が高いという効果を
有する。
良好、磁気特性を有する磁性膜が荀られしかもメッキ速
度が遅く、膜厚制御が簡単で量産性が高いという効果を
有する。
第１図は実施例１のメッキ浴におけるメッキ時間とＨｃ
、角型比Ｓの関係を示したものである。 記２図は実施例２のメッキ浴におけるメッキ時間と膜厚
の関係を示し、第３図はメッキ時間とＨ。 Ｓの関係を示したものである。 第４図、第５図は実施例８において、メッキ日数とＨｃ
、Ｅｌの関係を示したものである。 以 上 出願人 株式会社睡訪精工舎 代理人 弁理士最 上 務 第１回 第２図 メッキ１１問（Ｎ−ン クッキ庄１（Ｆｊ） 手続補正書（自発） ５Ｂ、 ５９．１０．１２１ ） 昭和５８年特ｒ１願第２３５９２７号 ２、発明の名称 無電解メッキ浴 ３、補正をする者 ４代理人 〒１０４ 東京都中央区京４ｆｉ２丁目６番２１＋ｊ５
、＠正により増加する発明の数 手続補正書（自発） １、 特許請求の範囲を別紙の如く、補正する。 Ｚ 明細書２頁下から７行目 「ヘッドに対するクラッシュ」とあるを、［ヘッドクラ
ッシュ］に補正する。 ３、 明細書６頁２行目 ［ｏ、 ０３〜Ｏ，０７ｊとあるを、［ｏ、 ｏ ｓ〜
０．０９Ｊに補正する。 ４、 明細４３頁６行目 「ｏ、ｏ３〜０．０７ Ｊとあるを、「ｏ、ｏ１〜ｏ、
ｏ ｓ Ｊに補正する。 ５、 明細書５頁４行目 「０．２〜１．５」とあるを、「０〜０．６」に補正す
る。 ６、 明細書３頁下から５行目 「０．２」とあるを、「０．１ Ｊに補１Ｆする。 ７、 明細＃６頁下から２行目 ［０，６ｊとあるを、「ｏ、１Ｊに補正する〇８、明細
書４頁５行目 「ｓ、ｓＪとあるを、ｌ−９，１Ｊに補正す、る。 ９． 明細書４頁７行目 「８０℃」とあるを、「７０℃」に補正する。 １０、明細書４頁下から４行目 「０．１」とあるを、「０．２ Ｊに補正する。 １１、明細書４頁最終行目 ［７０’Ｃｊとあるを、「６０℃」に補正する。 以上 特許請求の範囲 ０、３０ ｍｏｌ／ｌ 、リンゴ酸塩０〜０．６ ｍｏ
ｌ／Ｌ 。 酒石酸塩０．１〜（１８ｍ Ｏｌ−／Ｚ ＋−ホウ酸０
．０５〜０、４ ｍｏｔ／Ａ 、硫酸アンモニウム０．
０２〜０．６０ｍ Ｏｌ／Ｚ ＋硝酸鉛０．００１〜０
．００５Ｆ、／ｌを含み、ＦＴ（を、苛性アルカリで調
整することを特徴とする無電解メッキ浴。
、角型比Ｓの関係を示したものである。 記２図は実施例２のメッキ浴におけるメッキ時間と膜厚
の関係を示し、第３図はメッキ時間とＨ。 Ｓの関係を示したものである。 第４図、第５図は実施例８において、メッキ日数とＨｃ
、Ｅｌの関係を示したものである。 以 上 出願人 株式会社睡訪精工舎 代理人 弁理士最 上 務 第１回 第２図 メッキ１１問（Ｎ−ン クッキ庄１（Ｆｊ） 手続補正書（自発） ５Ｂ、 ５９．１０．１２１ ） 昭和５８年特ｒ１願第２３５９２７号 ２、発明の名称 無電解メッキ浴 ３、補正をする者 ４代理人 〒１０４ 東京都中央区京４ｆｉ２丁目６番２１＋ｊ５
、＠正により増加する発明の数 手続補正書（自発） １、 特許請求の範囲を別紙の如く、補正する。 Ｚ 明細書２頁下から７行目 「ヘッドに対するクラッシュ」とあるを、［ヘッドクラ
ッシュ］に補正する。 ３、 明細書６頁２行目 ［ｏ、 ０３〜Ｏ，０７ｊとあるを、［ｏ、 ｏ ｓ〜
０．０９Ｊに補正する。 ４、 明細４３頁６行目 「ｏ、ｏ３〜０．０７ Ｊとあるを、「ｏ、ｏ１〜ｏ、
ｏ ｓ Ｊに補正する。 ５、 明細書５頁４行目 「０．２〜１．５」とあるを、「０〜０．６」に補正す
る。 ６、 明細書３頁下から５行目 「０．２」とあるを、「０．１ Ｊに補１Ｆする。 ７、 明細＃６頁下から２行目 ［０，６ｊとあるを、「ｏ、１Ｊに補正する〇８、明細
書４頁５行目 「ｓ、ｓＪとあるを、ｌ−９，１Ｊに補正す、る。 ９． 明細書４頁７行目 「８０℃」とあるを、「７０℃」に補正する。 １０、明細書４頁下から４行目 「０．１」とあるを、「０．２ Ｊに補正する。 １１、明細書４頁最終行目 ［７０’Ｃｊとあるを、「６０℃」に補正する。 以上 特許請求の範囲 ０、３０ ｍｏｌ／ｌ 、リンゴ酸塩０〜０．６ ｍｏ
ｌ／Ｌ 。 酒石酸塩０．１〜（１８ｍ Ｏｌ−／Ｚ ＋−ホウ酸０
．０５〜０、４ ｍｏｔ／Ａ 、硫酸アンモニウム０．
０２〜０．６０ｍ Ｏｌ／Ｚ ＋硝酸鉛０．００１〜０
．００５Ｆ、／ｌを含み、ＦＴ（を、苛性アルカリで調
整することを特徴とする無電解メッキ浴。
Claims (1)
- コバルト塩０．０８〜０．０７ ｍｏｌ＝／Ａ 、 ＝
ツケル塩０．０８〜０．０７ｍｏ、ケｒ９次亜リン酸
塩０．０８〜０．８０ｍｏｌＶｉａリンゴ酸塩０．２〜
１．５ ｍｏｌ！／ｉ、酒石酸塩０．１〜０ 、８ ｍ
ｏＪｋ／Ａ、ホウ酸０．０５〜０．４ ｔｎｏＡ／Ａ
、硫酸アンモニウム０．０２〜０．６０ ｍｏ！／Ａ
、硝酸鉛０．００１゜〜０．００５ｒ／Ａを含み、ＰＨ
を、苛性アルカリで調整することを特徴とする無電解メ
ッキ浴。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23592783A JPS60128267A (ja) | 1983-12-13 | 1983-12-13 | 無電解メツキ浴 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23592783A JPS60128267A (ja) | 1983-12-13 | 1983-12-13 | 無電解メツキ浴 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60128267A true JPS60128267A (ja) | 1985-07-09 |
Family
ID=16993297
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23592783A Pending JPS60128267A (ja) | 1983-12-13 | 1983-12-13 | 無電解メツキ浴 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60128267A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62136574A (ja) * | 1985-12-10 | 1987-06-19 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 無電解めつき浴 |
| EP0322895A2 (en) * | 1987-12-28 | 1989-07-05 | Domain Technology | Methods and compositions for electroless plating of magnetic recording media |
| EP0359784A1 (en) * | 1987-05-12 | 1990-03-28 | McCOMAS, Charles Edward | Stabilized electroless baths for wear-resistant metal coatings |
-
1983
- 1983-12-13 JP JP23592783A patent/JPS60128267A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS62136574A (ja) * | 1985-12-10 | 1987-06-19 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 無電解めつき浴 |
| EP0359784A1 (en) * | 1987-05-12 | 1990-03-28 | McCOMAS, Charles Edward | Stabilized electroless baths for wear-resistant metal coatings |
| EP0322895A2 (en) * | 1987-12-28 | 1989-07-05 | Domain Technology | Methods and compositions for electroless plating of magnetic recording media |
| EP0322895A3 (en) * | 1987-12-28 | 1992-04-15 | Domain Technology | Methods and compositions for electroless plating of magnetic recording media |
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