JPS60118227A - 撹拌装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔技術分野〕 この発明は、製造工程中の樹脂、塗料等のような粘性体
を攪拌しつつその粘度を測定する機能を有する攪拌装置
に関する。

〔背景技術〕

製造工程中の粘性体を攪拌しながら、同時に粘性体の粘
度を測定する装置は、従来もあった。これらの装置は、
粘度をめる要素として攪拌機軸の回転数と回転に要する
電流量や電圧量を用いていた。そこで、これらの測定値
（回転数や電流量・電圧量）を粘度の値に換算するため
には、予め測定実験を行い、測定値と粘度との関係をめ
ておく必要があった。

なお、粘性体を攪拌する機能は持たないが、粘性体の粘
度を測定する装置もあった。これらの装置は、トーショ
ンバーという軸径を特別に細くした部分を有する特別な
軸を用いるか軸間にコイルばねを介在させるようにし、
軸の先端に設けられているロータを粘性体の中につけて
回転させた時に生じるトーションバーやコイルばねのね
じれを検出し、そのねじれ量から粘度を測定するもので
ある。しかし、樹脂製造時のように粘性体に急激な粘度
の変化が発生する場合には、１種類のトーションバーや
コイルばねでは粘度を連続的かつ迅速にめることが不可
能である。また、トーションバーやコイルばねを介在さ
せた軸ではロータを回転させることができても攪拌翼を
駆動させることができない。

他方、ねじれによって発生した位相差の検出手段として
電磁方式を採用した装置があったが、電磁方式では応答
速度が最高でも数マイクロ秒であり、最高応答速度が数
ナノ秒である光電方式に比べ、応答性能や微小な変化を
把える性能が劣っていた。

〔発明の目的〕

そこで、この発明は、１本の軸体で粘度の急激な変化や
微小な変化にも対応して粘度を連続的かつ迅速にめるこ
とができる攪拌装置を提供することを目的とする。

〔発明の開示〕

発明者らは、以上の目的を達成するため鋭意検討を重ね
、この発明を完成した。

この発明は、機軸に設置された攪拌翼によって粘性体の
攪拌を行う攪拌手段と、前記機軸の上下２個所に設けら
れ機軸とともに回転するマークと、これらマークを光学
的に検出する上下二つの検出手段とをそれぞれ備え、前
記機軸は、トーションバーとなる細径部を備えず、前記
検出手段の出力によってその回転速度が検出されるとと
もに、これにねじれが生じた時前記二つの検附手段から
得られる出力信号の時間差が変化することに基づいてね
じれが検出されるようになっており、これら、回転速度
とねじれ量の検出結果に基づいて粘性体の粘度が測定さ
れるようになっている攪拌装置をその要旨とする。以下
、これを、その実施例をあられす図面に基づいて詳しく
説明する。

第１図にみるように、槽１内には製造中の粘性体７が入
っている。この粘性体７には、攪拌翼２がつかつており
、この攪拌翼２はモータ４を駆動源とし、モータ４から
同径のまま延びる機軸３の先端に装着されている。すな
わち、粘性体７の製造の一工程である攪拌はこの攪拌翼
２によって行われるのである。機軸３は同径のまま延び
ている、すなわち、トーションバーを備えていないので
ある。機軸−３には、高さ方向の同一直線上において適
当な間隔を隔てた２個所に光を反射する反射マーク５ａ
、５ｂが装着されている。これら反射マーク５ａ、５ｂ
のそれぞれに対応する高さ位置には、これら反射マーク
５ａ、５ｂに近接して光学的検出手段である光電カプラ
６ａ、６ｂが設置されている。光電カプラ６　ａ　＊　
５　ｂはそれぞれ、対応する反射マーク５ａ、５ｂの装
着されている機軸３に向かって連続的に光を照射する発
光部と、反射マーク５ａ、５ｂがらの反射光を検出し、
すばやく電気信号に変えて出力する高速の受光部とから
なっている。

粘性体の粘度測定においては、機軸の回転速度とねじれ
を検出し、これら検出結果を基にして演算部が演算を行
う。機軸のねじれの検出には、反射マークと光電カプラ
を二組とも使用する。すなわち、第１図および第２図に
みるように、一方の反射マーク５ａの反射光を検出した
光電カプラ６ａが出力する電気信号が、増幅回路９およ
びコンパレータ１０を経由してゲート回路１１に入力さ
れ、ゲート回路１１がゲートを開く。他方、攪拌翼２は
、粘性体７内を回転することによって機軸３にねじれを
発生させているため、もう一方の反射マーク５ｂからの
反射光と前記一方の反射マーク５ａの放つ反射光との間
には時間のずれが発生している。そこで、他方の光電カ
プラ６ｂは一方の光電カプラ６ａとは時間的にずれた状
態で反射マーク５ｂの反射光を検出して信号を出力する
。

その出力信号は増幅回路９およびコンパレータ１０を経
由してゲート回路１１に入力され、ゲート回路１１はゲ
ートを閉じるのである。このようなゲート回路のゲート
の開閉によってパルス発生器１７の出力信号が接続され
たり遮断されたりする。パルス発生器１７は一定周波数
のパルスを発生している。そのため、ゲート回路のゲー
トが開いている間に発せられたパルスの数が、そのまま
機軸３のねじれの度合を示すのである。パルスの数は、
カウンタ１２によって計算され、インターフェース１３
を介してマイクロコンピュータ１４まで転送される。マ
イクロコンピュータ１４はパルスの数から再反射マーク
５ａ、５ｂ間のおくれ時間（ねじれ量に対応している）
を算出する。なお、増幅回路９．コンパレータ１ｏおよ
びカウンタ１２にはそれぞれ高速の素子が使用されてい
る。

他方、機軸の回転速度の検出に際しては、まず、どちら
か一方の光電カプラ６ａ（または６ｂ）が回転する機軸
３上の反射マーク５ａ（または５ｂ）から反射光を検出
し、検出した光を電気信号に変換して出力する。そして
、その出方された信号が、増幅回路９およびコンパレー
タ１ｏを経由してゲート回路１１′に入力される。第４
図はその出力信号の波形をあられしている。ゲート回路
１１′は、出力信号の立ち上がり部Ａが生じた時点でゲ
ートを開き、降下部Ｂが生じた時点でゲートを閉じる。

ゲート回路１１′には、パルス発生器１７から絶えずパ
ルスが送り続けられている。そのため、ゲート回路１１
′のゲートが開いている間に発せられたパルスの数（Ｐ
）は、前記出刃信号の幅Ｗ′をあられす。機軸の回転周
期（回転速度）は、このパルス数（Ｐ）を基ばして次の
ようにめられる。第５図にみるように、機軸３の軸心Ｏ
からの距離Ｒ１の地点にある反射マーク５ａ（または５
ｂ）が１回転する間のパルス数（Ｓ）、すなわち機軸の
回転周期（回転速度）は下式でめられる。

上記式中、Ｗｌは反射マークの幅、すなわち反射マーク
上における光電カプラの軌跡である。演算に際しては、
ゲート回路１１′のゲート開放中のパルス数（Ｐ）がカ
ウンタ１２′によって計算され、インターフェース１３
を介してマイクロコンピュータ１４まで転送される。マ
イクロコンピュータ１４は、このパルス数（Ｐ）を前記
演算式にあてはめて、機軸の１回転間の回転速度に対応
するパルス数（Ｓ）を算出する。

一般に、攪拌翼が１周する間において接触する粘性体の
粘度は一様でない。すなわち、１周期内においては粘度
むらがある。したがって、このような現象に起因して、
機軸の回転速度は１回転内（１周期内）においても微妙
に変化する。そのため、反射マーク５ａ（または５ｂ）
が１回転する間を通じて測定される回転速度は、平均的
なものであるに過ぎない。これに対して、ねじれの測定
は機軸１周期内でのごく限られた時間内の測定結果であ
るため、このねしれ測定結果とあわせて測定されるべき
回転速度は、ねじれ測定と同時点かつほぼ近い測定時間
間隔内のものであることが望ましい。その点、上記のよ
うにしてめられる機軸の回転速度は、ねじれの測定と同
時点での測定により得られたものであり、かつ、機軸上
に装着されている反射マークを光が反射する間というご
（短い区間において測定されたものであるため、機軸が
回転する間にしばしば生ずる回転速度むら、すなわち、
粘性体の粘度むら等によって発生ずる機軸の回転むらに
影響されることなく、非常に精度の高いものになるので
ある。

なお、上記測定方法の他に、機軸上に装着されている反
射マークの近距離にもう１個の反射マークを設け、２個
所の反射マークから反射する光め時間差内にカウントさ
れるパルスの数を基にして回転速度をめたり等すること
もできる。もつとも、この発明においては、反射マーク
が１回転する間にカウントされたパルスの数からそのま
ま回転速度をめるという測定方法を除外しているわけで
はない。

以上のように、機軸のねじれ量と回転速度は同時に検出
されるようになっているのである。

第３図は、この発明にかかる攪拌装置の別の実施例をモ
デル的にあられしている。この図にみるように、前記実
施例と同様、槽１内には製造中の粘性体７が入っている
。この粘性体７には、攪拌翼２がつかつており、この攪
拌翼２はモータ４を駆動源とし、モータ４から同径のま
ま延びる機軸３の先端に装着されている。機軸３には、
高さ方向における適当な間隔を隔てた２個所の周囲に円
盤１３ａ、８ｂか設けられている。これら円盤８ａ、Ｂ
ｂそれぞれには、高さ方向の同一直線上における位置に
これら円盤８ａ、８ｂを貫通する孔２１ａ、２１ｂがマ
ークとして穿設されている。なお、図面では孔の様子を
わかりやすくするため誇張して表現しているが、実際は
微小な孔である。

前記孔２１ａ、２１ｂの描く円軌道を通る高さ方向の同
一直線上には、円盤８ａ、８ｂそれぞれを挟む位置に発
光素子１９と高速の受光素子２０とからなる透過型光電
カプラ１８ａ、１８ｂが設置されている。

このような装置を用いて行う粘性体の粘度測定において
は、前記実施例と同様、機軸の回転速度とねじれを検出
し、これら検出結果に基づいて粘度測定を行う。機軸の
回転速度の検出に際しては、第３図にみるように、２組
の透過型光電カプラ１８ａ、１８ｂの発光素子１９．１
９が回転する円盤８ａ、８ｂに向かって連続的に光を照
射する。この光は、その進路上に円盤８ａ、８ｂに設け
られている孔２１ａ、２１ｂが来た時、その孔２１ａ、
２１ｂを通過して受光素子２０．２０に検出される。受
光素子２０．２０は検出した光をすばやく電気信号に変
換して出力する。そして、第２図および第３図にみるよ
うに、どちらか一方の透過型光電カプラ１８ａ　（また
は１８ｂ）から出力された信号は、増幅回路９′に入力
され、コンパレータ１０′を経てゲート回路１１′に入
力される。第４図はその出力信号の波形をあられしてい
る。ゲート回路１１′は、出力信号の立ち上がり部Ａが
生じた時点でゲートを開き、降下部Ｂが生じた時点でゲ
ートを閉じる。ゲート回路１１’には、パルス発生器１
７から絶えずパルスが送り続けられている。そのため、
ゲート回路１１’のゲートが開いている間に発せられた
パルスの数（Ｐ）は、前記出力信号の幅Ｗ′をあられす
。機軸の回転周期（回転速度）は、前記実施例と同様、
このパルス数（Ｐ）を基にして次のようにめられるＪ第
６図にみるように、機軸３の軸心０からの距離Ｒ２の地
点にある孔２１ａ　（または２１ｂ）が１回転する間の
パルス数（Ｓ）、すなわち機軸の回転周期（回転速度）
は下式でめられる。

上記、式中、Ｗ２は円盤上の孔内における透過型光電カ
プラおよび受光素子の軌跡である。演算に際しては、ゲ
ート回路１１′のゲート開放中のパルス数（Ｐ）がカウ
ンタ１２′によって計算され、インターフェース１３を
介してマイクロコンピュータ１４まで転送される。マイ
クロコンピュータ１４は、このパルス数（Ｐ）を前記演
算式にあてはめて、機軸の１回転間の回転速度に対応す
るパルス数（Ｓ）を算出する。

上記のようにしてめられる機軸の回転速度は、後述する
ねじれの測定と同時点での測定により得られたものであ
り、かつ、円盤上に設けられている孔を光が透過する間
というごく短い区間において測定されたものであるため
、円盤が回転する間にしばしば生ずる回転速度むら、す
なわち、粘性体の粘度むら等によって発生する円盤の回
転むらに影響されることなく、非常に精度の高いものに
なるのである。

なお、上記測定方法の他に、円盤上に穿設されている孔
の近距離にもう１個の孔を設け、２個所の孔を透過する
光の時間差内にカウントされるパルスの数を基にして回
転速度をめたり等することもできる。もつとも、この発
明においては、円盤上の孔が１回転する間にカウントさ
れたパルスの数からそのまま回転速度をめるという測定
方法を除外しているわけではない。他方、機軸のねじれ
の検出は、円盤と透過型光電カプラを二組とも使用する
。すなわち、第２図および第３図にみるように、一方の
透過型光電カプラ１８ａの受光素子２０が光を検出して
出力する電気信号が、増幅回路９およびコンパレータ１
０を経由してゲート回路１１に入力され、ゲート回路１
１がゲートを開く。この時、機軸３はねじれを発生させ
ており、一方の透過型充電カプラ１８ａの検出する光と
もう一方の透過型光電カプラ１８ｂが検出する光との間
には時間のずれが発生している。そこで、前記実施例と
同様、もう一方の透過型光電カプラ１８ｂの受光素子２
０が光を検出して出力する電気信号は、一方の透過型光
電カプラ１８ａの受光素子２０が出力する電気信号と同
じような径路を経たのち遅れてゲート回路１１に入力さ
れるのである。ゲート回路１１は後に到着した電気信号
を受けてゲートを閉じるのである。パルス発生器１７は
、ゲート回路に対して絶えずパルスを送り続けている。

ゲート回路のゲート開放中に流れたパルスは、カウンタ
１２によって計算され、その数値がインターフェース１
３を介してマイクロコンピュータ１４まで転送される。

マイクロコンピュータ１４は、転送されたパルスの数か
ら両回盤８ａ、８ｂ間、すなわちそれらが装着されてい
る機軸３の２個所間に発生したおくれ時間（ねじれ量に
対応する）を算出するのである。第２図中、１５は表示
部、１６ばプリンタである。

上記ふたつの実施例で説明したようにしてめた機軸の回
転速度とねじれ（機軸２（１１１Ｉ所間のお（ｈ時間）
は、マイクロコンピュータに入力され以下の関係式にあ
てはめられる。なお、マイクロコンピュータには、粘性
体の密度（ρ）および深さくＨ）、マーク間の距離（１
、機軸の径（ａ）および剛性率（Ｅ）、攪拌翼の長さく
ｄ）および幅（ｂ）、槽の径（θ）が既知の値として予
め入力されている。

（以　下　余　白） Ｋ１＝ｄ’ｎρ ｎ　：回転速度（回／秒） Ｔ：おくれ時間 つぎに、実際に実験を行い上記の関係式に基づいて導き
出した粘度とレオメータによる計測を行って得た粘度を
示す。

〔実験１〕 ρ−１，０００２ｇ／ａｉ、Ｈ＝　７５ｍｍ、ｊ！　＝
　６５ｎｕｎａ−４ｍｍ、ｄ＝１１０ｍｍ、ｂ＝５０ｍ
ｍ、θ＝１２０ｍｍ、ｎ−１，７９ｊ’秒、Ｔ＝３．４
７μ秒レオメータ　−　σ１　＝２．５２ｇ／ｃｍ・秒
実験粘度　σ２　＝　２．５６　ｇ　／　ｃｍ　・秒〔
実験２〕 ｆ）　＝０．９９５　ｇ／ｃｆｆｌ、ｎ　＝　２　／秒
、Ｔ＝１．５６μ秒　他の要素は実験１と同じである。

レオメ一タ　σｔ　＝　０．２８２３　ｇ　／　ｃ＋ａ
　・秒実験粘度　σｔ　＝０．２８６７ｇ　７ｃｍ　・
秒〔実験３〕 ｎ＝１．７９！／秒、Ｔ＝５．４３．！１秒他の要素は
実験１と同じである。

レオメータ　σ１−５．０９ｇ　／　ｃｍ　・秒実験粘
度　’ｚ　＝５．１２ｇ　７ｃｍ　・秒〔実験４〕 ｎ　＝１．７９μ秒、Ｔ＝２．４３μ秒他の要素は実験
１と同じである。

レオメータ　σ１　＝１．２３ｇ　７ｃｍ　・秒実験粘
度　σｔ　＝１．２８ｇ　７ｃｍ　・秒〔実験５〕 ρ＝０．９　ｇ／ｃＩＡ、　Ｈ＝　５５ｍｍ、Ｚ　＝　
６５ｍｍａ＝４ｎ＋ＩＩ１．　ｄ＝５０ｍｍ、ｂ＝２５
ｍｍ、θ＝１１０ｉＩＩＩ、ｎ＝５／秒、Ｔ＝４７２．
’ｌｎｌｎオレオメータσ１＝８．３１ｇ／ｃＩ１１・
秒実験粘度　’　２　＝９．０９　ｇ　／　ａｍ　・秒
〔実験６〕 ｎ＝１０／秒、Ｔ＝６１１．８ｎ秒 他の要素は実験５と同じである。

レオメータ　σ１　＝８．６１ｇ／ａｍ・秒実験粘度　
’　２　＝９．０９ｇ　／ａｍ−秒実験１〜６に示すよ
うに、前記関係式に基づいて算出した粘度はレオメータ
による測定粘度と非常に近似している。また、実験５お
よび実験６に示すように、機軸上の２個所間のおくれ時
間がナノ　（ｎ）秒の値で示されるような微小な値にな
ることがある。このような微小な値を捕捉することは、
従来の装置では不可能であり、高速の受光素子を備える
光電カプラと高速の駆動素子を用いたねじれ量（おくれ
時間）検出システムとの組合わせからなるこの発明にか
かる装置によってこそ可能になるのである。

この発明にかかる攪拌装置を構成する光学的検出手段は
、実施例では、発光部と受光部が一体になっていて発光
部の放つ光の反射光を受光部が検出する光電カプラや、
発光素子と受光素子との間に回転する障害物があってそ
の障害物の一部を光が透過する時に受光素子が光を検出
するものであった。これらのほかにも、例えば、光電カ
プラと反射ミラーとを対向させその光路上にある回転す
る障害物の一部を光が透過するようになっているもので
あっても構わない。

前記光学的検出手段を構成する発光部や発光素子の種類
に特別の制限はない。また、受光素子としては高速動作
を行うＰＩＮフォトダイオードが好ましいが、特にこれ
に限られるものではない。

この発明にかかる攪拌装置において、機軸の回転速度を
検出する過程や機軸のねじれ量を検出する過程の中にノ
イズ成分を除去する手段が設けられていても構わない。

上記ノイズ除去手段は、たとえばマークを検出した時の
出力レベルにおいては出力させるが、それより低いレベ
ルの出力（ノイズ）は出力させないようなコンパレータ
等で構成される。

この発明にかかる攪拌装置は、機軸の回転周期（回転速
度）とねじれによる機軸２個所間の時間差（おくれ時間
）とが同時測定されるようになっているため、機軸に発
生したねじれの角度（ねじれ角）を正確にめることもで
きる。すなわち、′　機軸の回転周期１こ対するおくれ
時間の比率が機軸の円周に対するねしれ角の比率と同じ
であることから以下の式によってめられるのである。

〔発明の効果〕

以上のように、この発明にかかる攪拌装置は、機軸に設
置された攪拌翼によって粘性体の攪拌を行う攪拌手段と
、前記機軸の上下２個所に設けられ機軸とともに回転す
るマークと、これらマークを光学的に検出する上下二つ
の検出手段とをそれぞれ備え、前記機軸は、トーション
バーとなる細径部を備えず、前記検出手段の出力によっ
てその回転速度が検出されるとともに、これにねじれが
生じた時前記二つの検出手段から得られる出力信号の時
間差が変化することに基づいてねじれが検出されるよう
になっており、これら、回転速度とねじれ量の検出結果
に基づいて粘性体の粘度が測定されるようになっている
ので、攪拌用の機軸１本で製造中の粘性体の急激な粘度
の変化や微小な粘度の変化にも対応して連続的にねじれ
量の検出、ひいては粘度の測定を行うことができるよう
になるという効果がもたらされるのである。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明にかかる攪拌装置の一実施例をモデル
的にあられす部分的側面図、第２図は第１図の攪拌装置
における電気回路の簡略図、第３図はこの発明にかかる
攪拌装置の他の実施例をモデル的にあられす部分的側面
図、第４図は光電カプラの出力信号の波形をあられす図
面、第５図は第１図の攪拌装置の機軸をモデル的にあら
れす平面図、第６図は第３図の攪拌装置を構成する円盤
をモデル的にあられす平面図である。 −２・・・攪拌翼　３・・・機軸　４・・・駆動源　５
ａ、５ｂ・・・反射マーク　ｊａ、６ｂ・・・光電カプ
ラ　７・・・粘性体　３ａ、８ｂ−円ｉ　１２．１２’
　・・・カウンタ　１４・・・マイクロコンピュータ　
１７・・・パルス発生器１３ａ、１８ｂ・・・透過型光
電カプラ　２１ａ、２１ｂ・・・円盤の孔 代理人　弁理士　松　本　武　彦 第３図 第４図 第５図 第６図 手続補正書（帥 昭和５８年１２月３１日 昭和５８年特鋪梯２２５２９８号 ２、発明の名称 住　所　大阪市大淀区大淀北２丁目１番２号名　称　日
本ペイント株式会社 代表者　イ懺卵没鈴木政夫 ４、代理人 ６、補正の対象 明細書 ７、補正の内容 （１１明細書第９頁第８行に「９」とあるを、「′」と
訂正する。 （２）明細書第９頁第８行に「１０」とあるを、ｒｌＯ
’Ｊと訂正する。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 ＋１１　機軸に設置された攪拌翼によって粘性体の攪拌
   を行う攪拌手段と、前記機軸の上下２個所に設けられ機
   軸とともに回転するマークと、これらマークを光学的に
   検出する上下二つの検出手段とをそれぞれ備え、前記機
   軸は、トーションバーとなる細径部を備えず、前記検出
   手段の出方によってその回転速度が検出されるとともに
   、これにねじれが生じた時前記二つの検出手段から得ら
   れる出力信号の時間差が変化することに基づいてねじれ
   が検出されるようになっており、これら、回転速度とね
   じれ量の検出結果に基づいて粘性体の粘度が測定される
   ようになっている攪拌装置。 （２）　上下二つの光学的検出手段から発せられる出力
   信号がゲート回路に入力されて、このゲート回路力伸方
   の検出手段から出方信号を受けた時開き、他方の検出手
   段から出方信号を受けた時閉じるように動作し、この動
   作によって上記ゲート回路が開いている間パルス発生器
   から出力されるパルスが高速カウンタに送られてカウン
   トされ、このカウント数によって機軸のねじれ量（出力
   信号の時間差）が表示されるようになっている特許請求
   の範囲第１項記載の攪拌装置。 （３）　どちらか一方の光学的検出手段から発せられる
   出力信号が、ゲート回路に入力されることによってゲー
   ト回路が開き、前記一方の光学的検出手段から発せられ
   る次の出力信号が上記ゲート回路に入力されることによ
   ってこのゲート回路が閉じるように動作し、この動作に
   よって上記ゲート回路が開いている間パルス発生器から
   出力されるパルスが高速カウンタに送られてカウントさ
   れ、このカウント数によって機軸の回転速度がめられる
   ようになっている特許請求の範囲第１項または第２項記
   載の攪拌装置。 （４）高速カウンタによって同時に測定された機軸のね
   じれ量と回転速度とから機軸に生じたねじれ角がめられ
   るようになっている特許請求の範囲第３項記載の攪拌装
   置。 （５）光学的検出手段が光を発しかつ検出する光電カプ
   ラであり、マークが機軸の周面に付着され前記光電カプ
   ラの光を受けてこれをこの光電カプラに反射する反射マ
   ークである特許請求の範囲第１項ないし第４項のいずれ
   かに記載の攪拌装置。 （６）　マークが機軸に設けられた円盤に形成されてい
   る微小な孔であり、光学的検出手段は、前記孔が描く円
   軌道を挟んで上下に配置された発光素子と受光素子とか
   らなり、発光素子は前記円盤に向けて光を発し、受光素
   子は円盤の孔を通過する光を検出するようになっている
   特許請求の範囲第１項ないし第４項のいずれかに記載の
   攪拌装置。