JPS6011695B2 - 非環式、脂環式及び芳香族n−置換ハロ−2−ピロリジノン並びに防草剤としてのそれらの利用 - Google Patents

非環式、脂環式及び芳香族n−置換ハロ−2−ピロリジノン並びに防草剤としてのそれらの利用

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JPS6011695B2
JPS6011695B2 JP51030778A JP3077876A JPS6011695B2 JP S6011695 B2 JPS6011695 B2 JP S6011695B2 JP 51030778 A JP51030778 A JP 51030778A JP 3077876 A JP3077876 A JP 3077876A JP S6011695 B2 JPS6011695 B2 JP S6011695B2
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Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、新規な方法によって作られ且つ除草剤として
有用なある種の新規なN−置換ハロ−2ーピロリジノン
(アザシクロベンタンー3−オンとしても知られている
)に関する。
より特定的には、本発明はある種の非環式、脂環式及び
単環式芳香族即ちフェニル2−またはN−置換ハロー2
ーピロリジノン、それらの製造及び除草剤としてのその
化合物の利用に関する。本発明の非環式及び脂環式タイ
プ化合物のクラスを包含する化合物は次の一般式に相当
する:式中Qは酸素または硫黄であり、Rは低級アルキ
ル、アルケニル、ハロアルキル、シクロアルキル、シク
ロアルキルアルキル、ベンジルまたはクロルベンジルで
あり、Xは水素または塩素であり、Yは塩素または臭素
であり、Zは塩素または臭素であり、但しRがアリルで
ある時にはY及びZがそれぞれ塩素または臭素であり、
またRがシクロヘキシルである時にはXは塩素以外であ
る。
本発明の単環式芳香族則ちフヱニルタィプ化合物のクラ
スを包含する化合物は次の一般式に相当する:式中×は
水素、塩素またはメチルであり、Yは水素、塩素または
臭素であり、Zは塩素または臭素であり、R2はアルキ
ルまたは水素であり、Rは水素、アルキル、ァセチル、
塩素、臭素、発素、沃素、トリフルオルメチルけニトロ
、シアノ、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフ
イニル、アルキルスルホニル、トリフルオルメチルチオ
、トリフルオルメチルスルフイニル、トリフルオルメチ
ルスルホニル、ベンタフルオルプロピオンアミド、また
は3ーメチルウレイドであり、R,は水素、アルキル、
塩素またはトリフルオルメチルである。
上記の記載において、種々の置換基については以下の好
ましい具体例が意図される:低級アルキルとしては好ま
しくは、他にことわらない限りは、直鎖及び枝分れ鎖の
両形状で1〜6個の炭素原子を含有するもの、例えばメ
チル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、nープチ
ル、イソブチル、アミル、イソアミル、ヘキシル及びイ
ソヘキシル等があり用語「ハロアルキル」は1〜6個の
炭素原子を持つ上記のアルキルが更にモノー、ジー、ト
リ−、テトラ−及びペルーフルオル、フロル、ブロモま
たはヨードの如き1個以上のハロゲン置換基を持つもの
を意味し;ァルケニルとしては好ましくは、他にことわ
らない限りは、少なくとも1個のオレフイン系二重結合
を含有し、且つ3〜6個の炭素原子を含有するもの、例
えばアリル、メタリル、エタリル、1ーブテニル、3−
ブテニル、2ーメチルー1−ブテニル、1−ペンテニル
、2−ペンテニル、3ーベンテニル、2−メチル−1−
ペンテニル、1ーヘキセニル、2−へキセニル、3−へ
キセニル等があり;シクロアルキルとしては好ましくは
3〜7個の炭素原子を含有するもの、例えばシクロプロ
ピル、シク。
ブチル、シクロベンチル、シクロヘキシル等があり;シ
クロアルキルアルキルとしては好ましくは合計炭素原子
数が4〜8個であるもの、例えばシクロプロピルメチル
、シクロプロピルエチル、シクロブチルメチル、シクロ
ベンチルメチル、シクロヘキシルメチル等がある。アル
キルを持つ種々の置換基、即ちアルコキシ、アルキルチ
オ、アルキルスルフイニル、またはアルキルスルホニル
におけるようなアルキルについては、それらは1〜4個
の炭素原子を直鎖及び枝分れ鎖の両形状で含有しており
、例えばメチル、エチル、n−プロピル、ィソブロピル
、n−ブチル、ィソブチル等がある。本発明の範囲内の
ある種の化合物においては非対称に置換した炭素中心が
存在する結果として、シスートランス即ち幾何異性が存
在し得ることが認識される。
そのようなシスートランス異性体は、構造が特定の基準
平面に関してのある種の「不動的に」位置した原子また
は基の配置に関してのみ異なっている立体異性体である
。ここでいう基準平面はピロリジノン環である。単環式
化合物におけるシスートランス形状を特定する際には、
非同一基を持つ任意の環位置は相対的形状を指定するも
のと考えられる。構造式におけるこれらの相対的位置を
表わすのに図式を用いると、ピロリジノン環系は平面図
と考えられる。考慮中の原子または基は、それらがその
平面の同じ側にある時にはシスまたそれらがその平面の
両側にある時にはトランスと考えられる(Oilman
の功鉾micChmistry、第1巻、477頁を参
照のこと)。本発明の化合物は一般タイプの活性除草剤
であることが見出された。
即ち、そのクラスのものは広範囲の植物種に対して除草
的に有効であることが見出された。望ましくない植物を
防除する本発明の方法は、除草的に有効量の上記の化合
物を防除の望まれる領域または植物位置に付与すること
を含む。本明細書において除草剤とは、植物の生長を抑
制または変更する化合物を意味する。
「生長抑制量」は植物の生長に対して変更効果を引起す
化合物量を意味する。そのような変更効果としては自然
発生からの全ての逸脱例えば枯死、遅延、落葉、乾燥、
制限、発育阻害、ひこばえ化、刺激、わし、性化等があ
る。「植物」とは発芽種子、実生及び確立した植物(根
及び地上部分を含む)を意味する。N−単環式芳香族ハ
ロ−2ーピロリジノンを作るための中間体は適当な不飽
和Nーアルケニルアニリドのアシル化によって得られる
不飽和Nーアルケニルハロアシルアニリドである。
通したアニリド(商業的に入手できない)はその主題に
ついての種々の化学文献及び種々の報告書、例えば、W
agner及びZook著、“Synthetic ○
r雛nにChemistry”、24章 John W
ileyandSons社(米国)、1961年発行に
報告されている多数の方法によって作ることができる。
後記の例において、中間体である不飽和Nーアルケニル
ハロアシルアニリドの製造の特定例を記載する。単環式
芳香族N−置換ハロー2ーピロリジノンは、出発物質及
び所望生成物の性質に依存して穣種かの方法で作られる
今までに発表されていないまたは従釆技術で知られてい
ない好ましい方法はNーアルケニル含有ハロアシルアミ
ドを触媒量の第一鉄イオンの存在下で転位反応させるこ
とである。その反応の処理を容易にし且つ適当容量を与
えることによって蝿拝を助け、並びに試薬を可溶化する
ために、溶媒を使用することが望ましい。好ましい溶媒
としては高沸点であり且つ反応を妨害しないもの、例え
ばジェチレングリコールジメチルエーテル、ジメチルホ
ルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキ
シド、メシチレン等がある。第一鉄イオン触媒源は種々
の試薬、例えば塩化第一鉄、臭化第一鉄、鉄金属、フェ
ロセン、第一鉄ァセトニルアセトネート等から提供し得
る。N−置換ハロ−2ーピロリジノンを製造するための
中間体は適当な不飽和ァミンのアシル化によって得られ
る不飽和ハロアシルアミドである。
不飽和アミン(商業的に入手できない)はその主題につ
いての種々の化学文献及び種々の報告書、例えばWa飢
er及びZook著、“S如仇etic○r鱗nlcC
hemisUy’’2虹章、JhonWileyand
Sons社(米国)1961年発行に報告されている方
法によって作ることができる。後記の例において、中間
体である不飽和ハロァシルアミドの製造の特定例を記載
する。非環式及び脂環式N−置換ハロ−2−ピロリジノ
ンは、出発物質及び所望生成物の性質に依存して幾種か
の方法によって作られる。
今までに発表されていないまたは従釆技術で知られてい
ない好ましい方法はNーアルケニル含有ハロアセトアミ
ドを触媒量の第一鉄イオンの存在下で転位反応させるこ
とである。その反応の処理を容易にし且つ適当容量を与
えることによって鷹梓を助け、並びに試薬を可溶化する
ために溶媒を用いることが望ましい。好ましい溶媒とし
ては高沸点であり、且つ反応を妨害しないもの、例えば
ジェチレングリコールジメチルエーテル、ジメチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシ
ド、メシチレン等がある。第一鉄イオン触媒源は種々の
試薬、例えば塩化第一鉄、臭化第一鉄、鉄金属、フェロ
セン、第一鉄アセトニルアセトネート等から提供し得る
。その反応は触媒量の第一鉄イオンの存在下での不飽和
ハロアシルアミドの転位反応であるので、各試薬の量は
臨界的ではない。
その反応は好ましくは還流温度で実施される。その反応
についての温度はほぼ室温と溶媒を用いる場合にはその
溶媒の還流温度との間で最良に限定される。好ましくは
、反応温度は約50〜約190午0であり、より好まし
くは、その温度範囲は約125〜約17び0である。高
温においては、上記のような反応は迅速に進行して所望
の生成物を与える。各場合においてその反応が完了した
後に、その回収は普通の処理法、例えば晶出、昇華、蒸
留等によって実施される。一般的には、本発明の非環式
及び脂環式N−置換化合物についての反応は次の反応式
によって示すことができる:上記の各式中×、Y、Z及
びRは前記で定義した通りである。
一般的に、本発明の単環式則ちフェニルN−層換化合物
についての反応は次の反応式によって示すことができる
:上記の各式中×、Y、Z、R、R,及びR2は前記で
定義した通りである。
本発明の化合物及びそれらの中間体は、それらの製造を
記載する以下の各例によってより特定的に説明される。
以下の各例は本明細書で記載した方法に従って作られる
化合物の一覧である。例Aアリル−n−ブチルアミンか
らの中間体N−アリルーN−ブチルジクロルアセトアミ
ドの製造アリルーnーブチルアミンの製造アリルアミン
と塩化ブチルとの反応によって作られたNーアリルブチ
ルアミド50夕をベンゼン100の‘中に溶解し、そし
てベンゼン300奴‘中の水素化ナトリウムビス(2−
メトキシエトキシ)アルミニウム(RedAI)■16
8夕の縄梓溶液に窒素雰囲気下の還流条件で滴下させた
添加が完了した後還流を1時間維持し、その後その混合
物を冷却し、そして50%水酸化ナトリウム200の‘
と破砕氷300夕とから作られた溶液に滴下した。その
水性層をそれぞれ100の‘のベンゼンで3回抽出し、
その一緒にしたベンゼン抽出物を硫酸マグネシウムで乾
燥させ、その生成物を20%過剰のエーテル性塩酸で塩
酸塩に変換させた。その塩酸塩を渡別し、乾燥した。収
量は35.4夕であった。その塩酸塩を更に精製するこ
となしで用いた。Nーアリル−N−プチルジクロルアセ
トアミドの製造アリルーnープチルアミン塩酸塩10.
5夕を塩化メチレン100泌中に添加し、次いでトリヱ
チルアミン14.5夕を添加した。
その混合物を室温の水浴中で燈拝し、その間に塩化ジク
ロルアセチル10.4夕を滴下し、また添加が完了した
後、櫨拝を3正片間続けた。その混合物を洗い、その溶
媒を真空下でストリツプした。収量は13夕であり、n
801.4603であった。その中間体を更に精製する
ことなしで化合物No.12の製造(例7)に用いた。
例1Nーアリル−3−クロル−4ークロルメチルー2ー
ピロリジノンの製造N・Nージアリルジクロルアセトア
ミド12.8夕をジエチレングリコールジメチルエーテ
ル(ジグリム)25夕と混合し、塩化第一鉄(FeC1
2・虹LO)1夕を加え、その混合物を30分間還流加
熱した。
その転化を、赤外吸収における〜5.8仏での新たらし
いカルボニルピークの出現によって監視した。塩化第一
鉄(FeC12・4も0)を追加し、加熱を更に30分
間続けた。その反応混合物を塩化メチレンで希釈し、水
洗し、乾燥し、ストリップした。その暗黒色の液体生成
物を真空下で蒸留して、0.25肌Hgで沸点124〜
127℃、n轡1.4850の淡黄色油を8.4タ得た
。そのプロトン及び炭素−13のNMRスペクトルは、
その生成物がシスー異性体とトランス−異性体との2:
1混合物であることを示す。
例2 1−アリルー3ーフロムー4−フロムメチル−2ーピロ
リジノンの製造N・N−ジアリルージブロムアセトアミ
ド10.9夕をジグリム15の‘に添加し、次いで無水
臭化第一鉄1夕を添加した。
その混合物を還流加熱し、ピロリジノンへの転化をGL
PCによって点検した。転化が完了した時に、その生成
物を塩化メチレンで希釈し、水洗し、無水硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、シリカゲルで処理してタール状物を除去
した。その溶媒を真空下でストリップしてn旨01.5
350の生成物を8.1多得た。例3 N−アリルー3ークロル−4−クロルメチルー2ーピロ
リジノンチオンの製造N−アリル−3−クロル−4−ク
ロルメチルー2−ピロリジノン6.2夕を塩化メチレン
100の【中に溶解し、五硫化燐10夕を2つの5タ部
分にして約1時間離して添加し、またその混合物を室温
で一夜燈拝した。
その混合物を漁遇して固形物を除去し、ストリップして
幾らかの沈澱固形物を含有する液体5夕を得た。これは
ペンタン中に取り入れ、櫨過して固形物を除去し、スト
リップした。n台ol.5487の油生成物を3タ得た
。赤外スペクトル検査では〜5.8山におけるカルボニ
ル吸収をほとんど示さなかった。例4 Nーブロピルー3ークロル−4−クロルメチルー2−ピ
ロリジノンの製造この化合物はNーアリルーNープロピ
ルジクロルアセトアミドの転位によってあるし、は以下
に示すようにNーアリルー3−クロルー4ークロルメチ
ル−2−ピロリジノンの還元によって作ることができる
Nーアリル−3−クロル−4−クロルメチル−2ーピロ
リジノン20.8夕をエタノール150叫中に溶解し、
酸化白金150の9を添加した。
水素の吸収が完了するまで(22分間)、その混合物を
3.37k9/係(48psi)の水素ガス雰囲気下で
振とうした。その混合物を少量のダィカラィト(Dic
alite)で処理し、櫨過してその触媒を除去し、そ
の溶媒を真空下でストリツプした。n台ol.4748
の生成物の収量は21夕であった。例5 N−ペンジル−3ークロルー4ークロルメチル−2ーピ
ロリジノンの製造NーアリルーNーベンジルジクロルア
セトアミド11.1夕をジグリム12肌【中に溶解し、
無水塩化第一鉄1夕を添加した。
ピロリジノンへの転化がGLPCによって示されるよう
に完了するまでその混合物を窒素雰囲気下で還流加熱し
た。その混合物を塩化メチレンで希釈し、5%塩酸で洗
い、分離し、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭及
びフロリシル(F1orisil)で処理し、真空下で
ストリップした。n旨ol.5387の表題の化合物を
6夕の収量で得た。例6 Nーシクロプロピルメチルー3ークロルー4‐クロルメ
チル−2−ピロリジノンの製造NーアリルーN−ジクロ
プロピルメチルジクロルアセトアミド12.1夕をジグ
リム15の‘中に溶解し、無水塩化第一鉄1夕を添加し
た。
その混合物を窒素雰囲気下で25分間還流加熱し、転化
をGLPCによって検査した。転化が完了した時に、そ
のジグリムを真空下でストリップし去り、その混合物を
ベンゼン中に溶解し、5%塩酸で洗い、分離し、無水硫
酸マグネシウムで乾燥し、活性炭で処理し、フロリシル
を通して櫨過し、その溶媒を真空下で除去した。n轡1
.4922の生成物を8.8タ得た。例7 Nーブチルー3−クロルー4ークロルメチルー2−ピロ
リジノンの製造N−アリルーN−ブチルジクロルアセト
アミド11夕をジグリム15泌中に溶解し、無水塩化第
一鉄1夕を添加した。
その混合物を窒素雰囲気中で25分間加熱還流し、その
転化を気−液分配クロマトグラフ(GLPC)によって
監視した。そのジグリムを真空下でストリツプし去り、
その混合物をベンゼンで希釈し、5%塩酸で洗い、無水
硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭で処理してタール状
副生物を除去し、フロリシルを通して猿過した。その溶
媒を真空下でストリップしてn旨。1.4731の生成
物を8.1タ得た。
例B m−トリフルオルメチルアセトアニリドからの中間体N
−アリル−mートリフルオルメチルアニリンの製造Nー
アリルーmートリフルオルメチルアニリンの製造mート
リフルオルメチルアセトアニリドを無水酢酸との反応に
よってアニリンから作った。
そのアセトアニリド192夕をテトラヒドロフラン(T
HF)300地中に溶解し、蝿拝しながらTHF200
の【中の水素化ナトリウム24夕のスラリーに窒素雰囲
気下周囲温度で滴下した。水素の発生が止まった時に、
臭化アリル121夕を添加し、その混合物を1時間還流
させ、一夜蝿拝した。その混合物を猿過し、真空下でス
トリップし、その残留物を塩化メチレンで希釈し、水洗
し、乾燥し、真空下でストリップした。n旨ol.45
32の生成物N−アリルーmートリフルオルメチルアセ
トアニリドを205タ得た。その生成物は更に精製する
ことなしで次の工程に用いるのに十分な純度であった。
その生成物を水250奴と共に濃塩酸200の【1こ添
加した。
その2−相系を、約2時間で透明な溶液が生じるまで麓
拝しながら加熱還流した。その混合物を冷却し、その生
成物を晶出させた。その混合物を冷却しながら50%水
酸化ナトリウムで処理してNーアリルアニリドを解放さ
せ、そのN−アリルアニリドを塩化メチレンで抽出し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、ストリップして生成物を1
70タ得た。気−液分配クロマトグラフィー(GLPC
)がわずかに85%の純度を示したので、その物質をエ
ーテル中に溶解し、20%エーテル性塩酸で塩酸塩とし
て再沈澱させた。収量は173夕、融点は104〜10
が0であった。N−アリル−m−トリフルオルメチル−
ジクロルアセトアニリドの製造Nーアリルーmートリフ
ルオルメチルアニリン塩酸塩23.8夕を塩化メチレン
20物上中に懸濁させ、トリヱチルアミン21夕を添加
し、その混合物を室温の水浴中で燈拝し、同時に塩化ジ
クロルアセチル152を滴下した。
約3雌ご間縄拝した後、添加が完了した後、その混合物
を希〜1%水酸化ナトリウム、希〜1%塩酸及び水で洗
い、分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、その溶媒を真
空下でストリツプした。その生成物をエーテル中に溶解
し、20%エーテル性塩酸10夕で処理し、その沈澱物
を櫨別し、そのエーテルを真空下でストリップしてn客
1.4740の生成物を25多得た。例8N一mートリ
フルオルメチルフエニルー3ークロルー4ークロルメチ
ルー2ーピロリジノンの製造エチレングリコールジメチ
ルヱーテル(ジグリム)30の‘を塩化第一鉄(FeC
12・4QO)2夕に添加し、窒素雰囲気下で沸点まで
加熱し、水ジグリム混合物10夕を除去した。
これにN−アリルーmートリフルオルメチルジクロルア
セトアニリド12.5夕を添加し、還流加熱を18分間
続け、生成物への転化をGLPCによって求めた。転化
が完了した時に(約30分の還流)、その混合物を冷却
し、塩化メチレンで希釈し、5%塩酸で洗い、分離し、
硫酸マグネシウムで乾燥し、活性炭及びフロリシルで処
理し、櫨過し、その溶媒を真空下で除去した。n轡1.
5032の油を10タ得た。前記したように、結合した
非同一基を持つ炭素原子をピロリジ/ン環中に持つ化合
物においては立体異性体が可能である。この例の化合物
はそのような化合物の一つであり、シス及びトランス形
状の分類、同定及び後の除草活性の例として用いられる
。上記方法からのn台ol.5032の油化合物を一夜
静遣し、一部を晶出させた。
この物質を二硫化炭素と共に粉砕し、結晶のスラリーを
得た。そのスラリーを猿過することによってその結晶を
取り出した。これはNMRによってトランス形状(1)
、融点54〜55ooであると同定された。その二硫化
炭素櫨液を冷却して、更に結晶群を得た。
分離及び乾燥の後、これらの結晶はNM旧によってシス
形状(0)、融点79〜80午0を持つと同定された。
例9 N一m−クロルフエニル−3ークロルー4−クロルメチ
ルー2−ピロリジノンの製造2夕のFeC12・岬20
をジグリム30の‘中に懸濁させ、窒素気下で加熱還流
し、その間に水−ジグリム混合物10夕を留出させた。
Nーアリル−m−クロルジクロルアセトアニリド11.
1夕を添加し、加熱を20分間続け、その反応程度をG
LPqこよって求めた。転化が完了した時(20分間)
、その混合物を冷却し、塩化メチレンで希釈し、5%塩
酸で洗い、分離し、硫酸マグネシウムで乾燥し、フロリ
シル及び活性炭で処理し、櫨適し、その溶媒を真空下で
ストリツプした。静層によって濃暗黒色油生成物が晶出
した。それを四塩化炭素から再晶出させることによって
精製した。融点93〜94qoの生成物を2.9タ得た
。例10 N−フエニル−3・3−ジクロルー4ークロルメチル−
2ーピロリジノンの製造1夕のFeC12・伍20をジ
グリム25泌中に懸濁させ、N−アリル−トリクロルア
セトアニリド20夕を添加し、その混合物を窒素雰囲気
下で還流加熱した。
15分後、生成物への転化が完了し、その混合物はベン
ゼンで希釈し、水洗した。
その生成物はベンゼン溶液から晶出し、それでそれを櫨
則した。サンプルをエタノールから再晶出させて融点1
33〜134qoのものを得た。例11 N一mートリフルオルメチルフエニル−3−フロムー4
ーブロムメチル−2−ピロリジノンの製造1夕の無水臭
化第一鉄(FeBr2)をジグリム15の‘中に懸濁さ
せ、N−アリル−m−トリフルオルメチルジブロムアセ
トアニリド9.6夕を添加し、その混合物を窒素雰囲気
下で15分間加熱還流した。
その混合物を冷却し、塩化メチレンで希釈し、水及び5
%塩酸溶液で抽出し、乾燥し、フロリシルで処理し、猿
過し、その溶媒を真空下でストリツプした。暗黒色の液
体を7.6?得た。例12N−m−ニトロフヱニル−3
−クロルー4ークロルメチルー2ーピロリジノンの製造
Nーアリル−m−ニトロージクロルアセトアニリド10
.1夕、ジグリム15奴及び無水塩化第一鉄(FeC1
2)1夕の混合物を窒素雰囲気下で1時間還流加熱し、
それから冷却した。
その混合物をベンゼンで希釈し、5%塩酸で洗い、その
溶液を硫酸マグネシウム及び活性炭で処理し、フロリシ
ルのパッドを通して猿過し、その溶媒を真空下でストッ
プした。その濃厚油生成物6のま瀞層で固化した。エー
テルと共に粉砕して融点102〜104qoの結晶固形
物を3タ得た。下記の表は前記の方法に従って作られる
化合物の表である。
化合物には化合物No.が与えられており、以下の記載
において同認のために用いられている。第1表 以下の各化合物は次の一般式に相当する:第1表の2 *=赤外分析によって確証された構造 前記の各化合物は次のように称される: 1 1ーアリルー3−クロルー4−クロルメチルー2−
ピロリジノン2 1−アリルー3・3ージクロル−4ー
クロルメチルー2−ピロリジノン3 1ーエチルー3ー
クロルー4−クロルメチルー2ーピロリジノン4 1ー
エチルー3・3ージクロルー4ークロルメチル−2ーピ
ロリジノン5 1−シクロヘキシルー3ークロルー4−
クロルメチル−2ーピロリジノン6 1−アリルー3−
クロル−4ークロルメチル−2ーピロリジノンチオン7
1−メチル−3ークロルー4−クロルメチル−2ーピ
ロリジ/ン8 1ープロピルー3−クロル・‐4−クロ
ルメチルー2−ピロリジノン9 1−アリルー3ープロ
ムー4−プロムメチルー2ーピロリジノン10 N一2
・3−ジブロムプロピルー3ークロルー4ークロルメチ
ルー2ーピ旧リジノン11N−アミルー3ークロル−4
ークロルメチル−2ーピロリジノン12 N−ブチルー
3ークロルー4ークロルメチルー2−ピロリジ/ン13
N−イソブチルー3−クロルー4−クロルメチルー2
−ピロリジノン14 N一シクロプロピルメチル・‐3
−クロルー4ークロルメチルー2−ピロリジノン15
N−ペンジルー3−クロル・一4ークロルメチル−2ー
ピロリジノン16 N−pークロルベンジルー3ークロ
ル−4ークロルメチルー2ーピロリジノン17 1−フ
ヱニル−3ークロル・一4−クロルメチルー2ーピロリ
ジノン18 1ーフエニル−3・3ージクロルー4ーク
ロルメチルー2−ピロリジノン19 1一(2′・6ー
ジメチルフニ【ニル)一3ークロルー4ークロルメチル
ー2ーピロリジノン20 1一mークロルフエニル−3
−クロル−4ークロルメチルー2ーピロリジノン21
1一pークロルフエニルー3ークロルー4−クロルメチ
ルー2ーピロリジノン22 1一mートリフルオルメチ
ルフエニルー3一クロルー4ークロルメチルー2ーピロ
リジノン23 1−フエニルー3ークロル−3ーメチル
ー4ークロルメチルー2−ピロリジノン24 1一(3
′・4′ージクロルフエニル)一3・3−ジクロルー4
ークロルメチルー2ーピロリジノン25 1一mートリ
フルオルメチル一3・3−ジクロルー4−クロルメチル
ー2−ピロリジノン26 N一m−トリフルオルメチル
フエニルー3−クロルー3ーメチルー4ークロルメチル
−2−ピロリジノン27 1−p−トリル−3ークロル
ー4ークロルメチル−2ーピロリジノン28 1一m−
フルオルフヱニルー3ークロルー4−クロルメチルー2
−ピロリジノン29 N一mートリフルオルメチルフエ
ニル−3−ブロム−4ーブロムメチルー2ーピロリジノ
ン30 N一3′・4′−ジクロルフエニル−3ークロ
ル−4−クロルメチルー2−ピロリジノン31 N−m
ーニトロフエニル−3ークロルー4ークロルメチルー2
−ピロリジノン32 N一3′・5ージクロルフエニル
−3ークロル−4ークロルメチルー2−ピロリジノン3
3 N一m−トリフルオルメチルフヱニルー3ークロル
−4一(1−クロルエチル)一2ーピロリジノン34
N−m−シアノフエニルー3ークロルー4ークロルメチ
ルー2ーピロリジノン35 N一3・6ージクロルフエ
ニルー3・3ージクロルー4−クロルメチルー2ーピロ
リジノン36 N一m−トリフルオルメチルフエニルー
3・3ージクロル−4一(1−クロルエチル)一2ーピ
ロリジノン37 N一m−シアノフエニルー3・3ージ
クロルー4ークロルメチルー2ーピロリジノン38 N
−3−トリフルオルメチル−4′ークロルフエニルー3
ークロルー4ークロルメチルー2ーピロリジノン39
Nー3′ートリフルオルメチルー4′ークロルフエニル
−3・3−ジクロルー4ークロルメチル−2ーピロリジ
ノン40 N−(mートリフルオルメチルチオフエニル
)一3−クロルー4ークロルメチル−2−ピロリジノン
41N−(m−メチルチオフエニル)−3−クロル−4
−クロルメチルー2ーピロリジノン42 N一(mート
リフルオルメチルスルフイニルフエニル)一3ークロル
ー4−クロメチル−2ーピロリジノン43 N−(m−
メチルスルフイニルフエニル)−3ークロル−4−クロ
ルメチルー2ーピロリジノン44 N−(m−メチルス
ルホニルフエニル)一3−クロル−4−クロルメチル−
2−ピロリジノン45 N一(mートリフルオルメチル
スルホニルフエニル)−3−クロル−4ークロルメチル
−2ーピロリジノン46 N一(3・6−ビスートリフ
ルオルメチルフエニル)一3−クロルー4ークロルメチ
ルー2−ピロリジノン47 N−m−メトキシフヱニル
ー3ークロルー4ークロルメチル−2−ピロリジノン4
8 N一mーアセチルフエニル−3−クロルー4−クロ
ルメチル−2ーピロリジノン49 N−m−トリルー3
−クロルー4−クロルメチルー2ーピロリジノン50
N−mートリフルオルメチルフエニルー4−クロルメチ
ルー2ーピロリジノン51 N一mーブロムフエニル−
3ークロル−4ークロルメチル−2ーピロリジノン52
N一oークロルフエニル−3ークロル−4ークロルメ
チルー2ーピロリジノン53 N−mーヨードフエニル
ー3ークロルー4−クロルメチル−2ーピロリジノン5
4 N一p−メトキシフエニルー3−クロル−4−クロ
ルメチルー2ーピロリジノン55 N一oートリフルオ
ルメチルフエニル−3ークロルー4−クロルメチルー2
ーピロリジノン56 N一(mーベンタフルオルプロピ
オンアミドフエニル)一3ークロルー4−クロルメチル
−2ーピロリジノン57 N一(mーメチルウレイドフ
ヱニル)−3−クロルー4ークロルメチルー2−ピロリ
ジノン斑 シス1一m−トリフルオルメチルフエニル−
3ークロルー4ークロルメチルー2−ピロリジノン59
トランス1一mートリフルオルメチルフエニルー3ー
クロルー4ークロルメチルー2−ピロリジノン除草スク
リーニング試験 前記したように、前記の方法で作られた本発明の化合物
は、種々の植物種を防除するのに有用且つ有益な植物毒
性化合物である。
除草剤としての本発明の化合物を次の方法で試験する。
出現前の除草剤スクリーニング試験 化学天秤を用いて、試験化合物20の9をグラシン秤量
紙片上で秤量する。
その紙及び化合物を30の‘の広口ビンに入れ、トウイ
−ン(Tween)20■(ポリオキシエチレンソルビ
タンモノラウレート)を1%含有するアセトン3の【を
加えてその化合物を溶解させる。その物質がアセトンに
可溶でない場合には、代りに水、アルコールまたはジメ
チルホルムアミド(DMF)の如き他の溶媒を用いる。
DMFを用いる時には、わずかに0.5の【以下を用い
てその化合物を溶解させ、次いで他の溶媒を用いてその
容量を3の上にする。その溶液3の‘を、小さな平箱の
土壌に雑草の種子を蒔いた1日後にその平箱中に含まれ
ている土壌に均一に階霧する。0.35k9/地(5p
si)の圧力の圧縮空気を用いて噴霧器で頃霧する。
その付与割合は0.40小a(1エーカー)当り3.6
29kg(8 1b)であり、噂霧容量は0.40他a
(1エーカー)当り541〆(143ガロン)である。
処理の前日に、長さ17.78伽(7インチ)中12.
7肌(5インチ)、深さ6.99cm(2.75インチ
)の平箱に5.1肌(2インチ)の深さでローム質砂土
壌を詰める。
7種の雑草種の種子を、平箱の中を横切った1列当り1
種を用いて個々の列に蒔く。
その種子に、それらが1.27肌(0.5インチ)の深
さで蒔かれるように土壌をかける。植物の大きさに依存
して出現後に1列当り約20〜50の実生となるように
十分な種子を蒔く。用いた種子はフオツクステイル(f
o丸ail)(seねria spp)−FT;ウオー
ターグラス(肌tergass)(Eehin比hlo
achus雛lli)‐WG;赤からす麦(redoa
t)(Ave雌sativa)−RO;レッドルートピ
グウイード(redrootpigweed)(Ama
ran比us retronex瓜)−PW;たかな(
musねrd)(BrasslcaJ皿cea)−MD
;カーリードック(c川ly dock)(R山mex
crispus)一CU:及びヘアリークラプグラス
(halひcrabgass)(DIg口riasan
guin:11is)−CGである。
処理の後、その平箱を21〜3の〕(70〜8yF)の
温室に入れ、散水によって水をかける。
処理の2週間後に、同じ令の非処理査照植物と比較する
ことによって損傷度則ち防除度を求める。各植物種につ
いて%防除として0〜100%の損傷評価を記録する。
0%は損傷のないことを表わし、100%は完全な枯死
を表わす。
出現後の除草剤スクリーニング試験 ヘアリークラブグラス(CG)、ウオーターグラス(W
G)、赤からす麦(RO)、たかな(MD)、カーリー
ドッグ(CD)及びピントビーンズ(Pintobea
ns)(Phaseolusoul岬ris)(BN)
の6種の植物種の種子を、出現前のスクリーニングにつ
いて上記したように平箱に蒔く。
その平箱を21〜30こ○(70〜850F)の温室に
入れ、毎月散水器で水をかける。蒔いてから約10〜1
4日後に、その豆植物の初生葉がほとんど十分に広がり
且つ第一三出葉がまさに形成されはじめる時に、その植
物に噴霧する。その際霧は、試験化合物20の9を秤量
し、それをトウイーン(Tween)20■(ポリオキ
シヱチレンソルビタンモノラウレート)を1%含有する
アセトン5の中に溶解させ、次いで水5叫を添加するこ
とによって作る。その溶液を、0.35kg/の(5p
si)の空気圧の噴霧器を用いて葉の上に噴霧する。そ
の贋霧濃度は0.2%であり、付与割合は0.404h
a(1エーカー)当り3.629k9(8 1b)であ
る。その頃霧容量は0.40独a(1エーカー)当り1
802そ(476ガロン)である。これらの試験の結果
を第2表に示す。船 糠 9 略 船 球 選 S L き髭髭 、/ へ も 蔓^入 N ’l ーl トll 0ココ dへへ QXX 即QQ 雷 対pA Gシシ 寸コ。
。 NN寸)) OSg 蓮ここ 窓。
コ日33 るQQ 蓋無知 窓ーー 日やb 心÷ 増【【 ト)) ?貫責 l寸寸 ll つ。
へ寸ゴ KOO il ll‘! 渋ぞ失 ¥ぞ ¥ 化合物58(シス)及び59(トランス)を出現前表面
技術を用いる除草剤スクリーンで生物検定した。
0.25 0.5及び1.01b/Aの付与割合で下記
の第3表に示す結果を得た。
比較のために且つシス形状の好ましい活性を示すために
ほぼ40%のシスと60%のトランスとの混合物も含ま
れている。第 3 土CG、FT、WG及びWO=クラ
ブグラス(cMb餌ass)、フオツクステイル(fo
xail)、ウオーターグラス(waにrgass)及
び野生からす麦(Midoats)PB、AMC及びC
OT:ピントピーン(pinto戊an)、アニユアル
モーニング グローリ−(anualmominggl
oひ)(lpomoea pmpmea)及び綿(co
tton)(lpomoeatrichocarpa)
本発明の化合物は出現前及び出現後の除草剤として用い
られ、種々の方法で種々の濃度で付与される。
実際には各化合物は当業者には周知の方法を利用して不
活性担体と共に処方され、それによって徴粉、噴霧、ま
たは水剤等として所望の形態及び方法で付与するのに通
したものとなる。その混合物は湿潤剤の助けで水中に分
散させることができ、あるいは湿潤剤、分散剤または乳
化剤の添加でまたは添加なしで有機液体組成物、水中油
ェマルジョン、油中水ェマルジョンとして用いることが
できる。除草的に有効な量は防除すべき種子または植物
の性質に依在し、また付与割合は0.40池a(1エー
カー)当り0.他5〜約22.680k9(0.10〜
約501b)である。発表されている利用における最良
の付与方式において有効量を構成する本発明の化合物の
濃度は当業者によって容易に求められる。除草的に有効
量の本発明の化合物を用いる本発明の植物毒性組成物は
慣用法で植物に付与される。
本発明は、除草的に有効な量即ち毒性量の特定の活性化
合物を単独であるし、は担体または助剤と共に‘a}雑
草及び{b}その生育地、即ち保護すべき場所の少なく
とも1つに付与することを包含する、望ましくない植物
を選択的に枯死させるか、これと抗争するか、または防
除する方法を意図する。従って、微分及び液体組成物を
、粉末散布器、ブーム及び手持噴霧器並びに噴霧散布器
の使用によって植物に付与することができる。その組成
物は非常に少ない付与量で有効であるので徴粉または噴
霧として飛行機から付与することもできる。発芽してい
る種子または出現実生の生長を変更または抑制するため
に、代表的な例として、徴粉及び液体組成物が慣用法に
従って土壌に付与され、土壌表面下少なくとも1.27
伽(0.5インチ)の深さで±嬢に分配される。その植
物毒組成物が土壌粒子と混和されることは必要ではなく
、それでこれらの組成物は土壌表面に噴霧または散布す
るだけで付与することができる。本発明の植物毒性組成
物は処理すべき場所に供給されるかんがい水に加えるこ
とによって付与し得る。この付与法は、その水が土壌に
吸収されるにつれてその組成物が士嬢中に浸透するよう
にする。土壌表面に付与される徴粉組成物、粉状組成物
または液体処方物は、耕し、すきならしまたは混合作業
の如き慣用法によって土壌表面下に分配し得る。本発明
の植物毒性組成物はその他の付加物、例えば、助剤とし
てあるいは前記した任意の助剤との組合せで用いられる
肥料、農薬等も含有し得る。
前記した化合物との組合せで有用なその他の植物毒性化
合物としては、例えば次のものがある:2・4ージクロ
ルフェノキシ酢酸、2・4・5一トリクロルフェノキシ
酢酸、2ーメチル−4ークロルフェノキシ酢酸及びそれ
らの塩、ェステル及びアミド;トリアジン議導体、例え
ば2・4ービス(3−メトキシプロピルアミ/)−6ー
メチルーチオーsートリアジン、2ークロルー4ーエチ
ルアミノー6ーイソプロピルアミノ一sートリアジン及
び2−エチルアミノー4ーイソプロピルアミノ−6ーメ
チルメルカプトーsートリアジン;尿素誘導体、例えば
3一(3・4ージクロルフェニル)−1・1ージメチル
尿素;アセトアミド、例えばN・N−ジアリルーQーク
ロルアセトアミド、N−(Qークロルアセチル)へキサ
メチレンイミン、N・NージエチルーQーフロムアセト
アミド等;安息香酸、例えば3−アミノ−2・5−ジク
ロ安息香酸;チオカルボメート、例えばSーブロピルジ
プロピルチオカルバメート、S−エチルジプロピルチオ
カルバメート、Sーヱチルヘキサヒドロ−IHーアゼピ
ンー1ーカルボチオェート等。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 次の一般式を持つ化合物: ▲数式、化学式、表等があります▼ 式中Qは酸素または硫黄であり、Rは低級アルキル、
    アルケニル、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロア
    ルキルアルキル、ベンジルまたはクロルベンジルであり
    、Xは水素または塩素であり、Yは塩素または臭素であ
    り、Zは塩素または臭素であり、但しRがアリルである
    時にはY及びZはそれぞれ塩素または臭素であり、Rが
    シクロヘキシルである時にはXは塩素以外であり、また
    Qが硫黄である時にはRはアルケニルでありXは塩素以
    外である。 2 Qが酸素であり、Rが低級アルキルであり、Xが水
    素であり、Yが塩素であり、Zが塩素である特許請求の
    範囲第1項記載の化合物。 3 Qが酸素であり、Rがアルケニルであり、Xが水素
    であり、Yが塩素であり、Zが塩素である特許請求の範
    囲第1項記載の化合物。 4 Rがアリルである特許請求の範囲第3項記載の化合
    物。 5 Qが酸素であり、Rがアルケニルであり、Xが塩素
    であり、Yが塩素であり、Zが塩素である特許請求の範
    囲第1項記載の化合物。 6 Qが酸素であり、Rがアルキルであり、Xが塩素で
    あり、Yが塩素であり、Zが塩素である特許請求の範囲
    第1項記載の化合物。 7 Qが酸素であり、Rがシクロアルキルであり、Xが
    水素であり、Yが塩素であり、Zが塩素である特許請求
    の範囲第1項記載の化合物。 8 Qが硫黄であり、Rがアルケニルであり、Xが水素
    であり、Yが塩素であり、Zが塩素である特許請求の範
    囲第1項記載の化合物。 9 Qが酸素であり、Rがアルケニルであり、Xが水素
    であり、Yが臭素であり、Zが臭素である特許請求の範
    囲第1項記載の化合物。 10 Qが酸素であり、Rがベンジルであり、Xが水素
    であり、Yが塩素であり、Zが塩素である特許請求の範
    囲第1項記載の化合物。 11 Qが酸素であり、Rがハロアルキルであり、Xが
    水素であり、Yが塩素であり、Zが塩素である特許請求
    の範囲第1項記載の化合物。 12 Qが酸素であり、Rがシクロアルキルアルキルで
    あり、Xが水素であり、Yが塩素であり、Zが塩素であ
    る特許請求の範囲第1項記載の化合物。 13 Qが酸素であり、Rがクロルベンジルであり、X
    が水素であり、Yが塩素であり、Zが塩素である特許請
    求の範囲第1項記載の化合物。 14 化合物がシス−異性体形状を持っている特許請求
    の範囲第1項記載の化合物。 15 化合物がトランス−異性体形状を持っている特許
    請求の範囲第1項記載の化合物。 16 望ましくない植物又はそれらの生育地に、除草的
    に有効量の次の一般式を持つ化合物を付与することを特
    徴とする望ましくない植物の生長を抑制する方法:▲数
    式、化学式、表等があります▼ 式中Qは酸素または硫黄であり、Rは低級アルキル、
    アルケニル、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロア
    ルキルアルキル、ベンジルまたはクロルベンジルであり
    、Xは水素または塩素であり、Yは塩素または臭素であ
    り、Zは塩素または臭素であり、但しRがアリルである
    時にはY及びZはそれぞれ塩素または臭素であり、Rが
    シクロヘキシルである時にはXは塩素以外であり、また
    Qが硫黄である時にはRはアルケニルでありXは塩素以
    外である。 17 Qが酸素であり、Rが低級アルキルであり、Xが
    水素であり、Yが塩素であり、Zが塩素である特許請求
    の範囲第16項記載の方法。 18 Qが酸素であり、Rがアルケニルであり、Xが水
    素であり、Yが塩素であり、Zが塩素である特許請求の
    範囲第16項記載の方法。 19 Rがアリルである特許請求の範囲第18項記載の
    方法。 20 Qが酸素であり、Rがアルケニルであり、Xが塩
    素であり、Yが塩素であり、Zが塩素である特許請求の
    範囲第16項記載の方法。 21 Qが酸素であり、Rがアルキルであり、Xが塩素
    であり、Yが塩素であり、Zが塩素である特許請求の範
    囲第16項記載の方法。 22 Qが酸素であり、Rがシクロアルキルであり、X
    が水素であり、Yが塩素であり、Zが塩素である特許請
    求の範囲第16項記載の方法。 23 Qが硫黄であり、Rがアルケニルであり、Xが水
    素であり、Yが塩素であり、Zが塩素である特許請求の
    範囲第16項記載の方法。 24 Qが酸素であり、Rがアルケニルであり、Xが水
    素であり、Yが臭素であり、Zが臭素である特許請求の
    範囲第16項記載の方法。 25 Qが酸素であり、RがベンジルでありXが水素で
    あり、Yが塩素であり、Zが塩素である特許請求の範囲
    第16項記載の方法。 26 Qが酸素であり、Rがハロアルキルであり、Xが
    水素であり、Yが塩素であり、Zが塩素である特許請求
    の範囲第16項記載の方法。 27 Qが酸素であり、Rがシクロアルキルアルキルで
    あり、Xが水素であり、Yが塩素であり、Zが塩素であ
    る特許請求の範囲第16項記載の方法。 28 Qが酸素であり、Rがクロルベンジルであり、X
    が水素であり、Yが塩素であり、Zが塩素である特許請
    求の範囲第16項記載の方法。 29 一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼ (式中Rは低級アルキル、ハロアルキル、アルケニル、
    シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ベンジルま
    たはクロルベンジルであり、Xは水素または塩素であり
    、Yは塩素または臭素であり、Zは塩素または臭素であ
    る)を持つ非環式及び脂環式N−置換ハロ−2−ピロリ
    ジノンの製造法において、一般式▲数式、化学式、表等
    があります▼ (式中、R、X、Y及びZは上記で定義した通りである
    )を持つN−アルケニルハロアシルアミドを触媒量の第
    一鉄イオンの存在下で約50〜約190℃の温度に加熱
    した後生成物を回収することを特徴とする製造法。 30 第一鉄イオンが塩化第一鉄、臭化第一鉄、鉄金属
    、フエロセン及び第一鉄アセトニルアセトネートからな
    る第一鉄イオン源から選ばれたものである特許請求の範
    囲第29項記載の製造法。 31 Rがアリルであり、Xが水素であり、Yが塩素で
    あり、Zが塩素である化合物を、ジエチレングリコール
    ジメチルエーテルの存在下で▲数式、化学式、表等があ
    ります▼ から製造する特許請求の範囲第30項記載の製造法。
JP51030778A 1975-03-28 1976-03-19 非環式、脂環式及び芳香族n−置換ハロ−2−ピロリジノン並びに防草剤としてのそれらの利用 Expired JPS6011695B2 (ja)

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