JPS60114845A - アナモフイツク変倍複写方法 - Google Patents

アナモフイツク変倍複写方法

Info

Publication number
JPS60114845A
JPS60114845A JP22287683A JP22287683A JPS60114845A JP S60114845 A JPS60114845 A JP S60114845A JP 22287683 A JP22287683 A JP 22287683A JP 22287683 A JP22287683 A JP 22287683A JP S60114845 A JPS60114845 A JP S60114845A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
prism
magnification
slit
angle
anamorphic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP22287683A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroaki Nakauchi
中内 宏彰
Muneo Kuroda
黒田 宗男
Toshihiko Ueda
上田 歳彦
Haruhiro Hyodo
兵藤 晴洋
Akiyoshi Hamada
浜田 明佳
Hiroshi Nakamura
弘 中村
Nobuo Kanai
伸夫 金井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Minolta Co Ltd
Original Assignee
Minolta Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Minolta Co Ltd filed Critical Minolta Co Ltd
Priority to JP22287683A priority Critical patent/JPS60114845A/ja
Priority to US06/673,523 priority patent/US4583846A/en
Publication of JPS60114845A publication Critical patent/JPS60114845A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/04Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material
    • G03G15/041Apparatus for electrographic processes using a charge pattern for exposing, i.e. imagewise exposure by optically projecting the original image on a photoconductive recording material with variable magnification

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure Or Original Feeding In Electrophotography (AREA)
  • Lenses (AREA)
  • Variable Magnification In Projection-Type Copying Machines (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 技術分野 本発明はスリット露光型複写方式におけるアナモフィッ
ク変倍複写方法に閃する。アナモフィック変倍とは原稿
の縦横を夫々異なる倍率で複写する変倍方式を意味する
。このアナモフィック変倍は、文字1図形の縦横比を変
えるデザイン的な使い方や、コピーにとじ代をつ(るた
めの一方向のみの縮小、或いは強制分離方式を採用した
ときの画像欠損をなくすといった用途に有用である。そ
して、本発明は特にプリズムを用いたアナモフィック変
倍複写方法に係わる。
従来技術 原稿の縦横を共にβ倍する通常の変倍方式では、投影レ
ンズをβ倍の位置におき、走査速度をV/β(■:感光
体周速)とすることにより行こなわれる。
ここで、投影レンズの位置と走査速度の閃係を変えてや
れは縦横方向に異なる倍率て包写することかできる。例
えば、投影レンズをβ1倍の位置に置き、一方、走査速
度をV/ハβ2とすると、スリット長手方向にはβ1倍
、スリット幅方向にはβlβ2倍となったコピーを得る
ことができる。
しかし、上記の方法では、感光体周速と感光体上を移動
する像の速度が喰い違うので、像がボケ度であった。
上記の解像力低下を解決するためには像をスリット幅方
向にのみさらにβ2倍すればよく、このためにシリンド
リカルレンズの使用が考えられる。
しかし、長いシリンドリカルレンズの製作は難しく、ま
た、コスト的にも高くつ(ものである。
目的・要旨 本発明は上記に鑑みてなされたものであり、解像力を低
下させることなくアナモフィック変倍をおこなうことが
でき、しかも製作が容易で低コストなアナモフィック変
倍方法を提供することを目的とし、さらにはアナモフィ
ック倍率を任意に変更できるアナモフィック変倍方法を
提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明では平面で構成され
る三角プリズムを用い、この三角プリズムへの光の相対
入射角を変更するようにしている。
実施例 ます、前記した解像力の低下について第1図を用いて説
明する。第1図は原稿移動型のスリット露光複写方式を
示すもので、アナモフィック変倍をおこなうために投影
レンズ(1月よ倍率β1に対応する位置に置かれ、原稿
(2)は幅eのスリット(3)を速度V/791792
で移動し、一方、感光体(4)は速度■て移動するよう
に設定されている。
ここで、原稿(2)の点Aがスリット(3)を通過する
に要する時間tは、 となる。そして、この時間tで感光体(4)が移動する
距離りは、 L = Vt−β1β21 である。
一方、前記時間tの間に原稿(2)のA点はA′点まで
移動し、倍率β1の位置に置がれる投影レンズ(1)に
よって形成される像は図のB点からB′点まで移動する
。この像の移動量L′は、 L/=β11 となる。
従って、原稿(2)のA点からA′点への移動に対しイ
本 で、像は13点からBy点に移動し、一方、感光対(4
)の0点はC/点まで移動しく cc’ =L入この像
と感光体のずれが解像力の低下を招く。
そこで、像をスリット幅方向にのみβ2倍してやれは、
像移動量は、 β2L′=β1β21=L となり両者が一致する。
本発明は、このスリット幅方向のβ2倍の変倍に三角プ
リズムを用いるもので、第2図にこの本発明を適用した
複写機を模式的に示す。第2図の複写機は原稿台移動式
のものであり1.原稿は原稿台(11)上に載置され、
後述する速度で移動する。移動する原稿は照明袋fff
t(12)で照明され、その像は第lミラー(13)、
投影レンズ(14)、第2ミラー(15)。
プリズム(10)を介して感光体(4)に伝達される。
ここで投影レンズ(14)は指示される倍率位置に移動
できるように構成されており、また、第2ミラー(15
)は投影レンズ(14)の変倍移動に伴なう光路長の変
化を吸収するために偏位及び偏向するように構成される
。この投影レンズ(14)及び第2ミラー(15)の移
動機構は公知であるので説明を省略する。
ここで、プリズム(10)は感光体近傍に置かれるので
、はぼ感光体(4)の長さと同程度の長さを有し、この
方向(スリット長手方向)には屈折力をもたず、スリッ
ト幅方向にβ2の屈折力をもっており、後述するように
プリズム(+0)への光の相対入射角を変更される。
さて、このような構成において、投影レンズ(14)の
位置、及び感光体周速をVとしたときのlit稿台の走
査速度は次の表1のように設定される。
表 −1 ここで、ケースIはスリット長手方向にβ1倍、スリッ
ト幅方向にβlβ2倍する場合、ケース■は逆にスリッ
ト長手方向にβ1/β2倍、スリット幅方向にβ1倍す
る場合を示す。
本発明の特徴であるアナモフィック倍率β2の変更はプ
リズムへの光の相対入射角の変更によって達成される。
ここで、上記倍率β1は固定でもよいが、任意に変更で
きるようにすれば、アナモフィック倍率の任意の変更と
の組合せにより任意の縦横比で複写を得ることができる
さて、これまではプリズムが倍率β2の屈折力をもつと
して説明して来たが、以下にこの屈折力について%3,
4.5図を用いてまず説明し、その後、プリズムへの光
の相対入射角の変更について説明する。
、 第3図は、主光線間隔りの2本の平行な主光線L1
. L2が三角プリズム(lO)に角度θlで入射した
様子を示し、主光線L1. L2は図のように屈折して
進む。この2本の主光線とは2つの像点の各結像光束の
各主光線のことである。ここでは像倍率の説明なので主
光線のみで説明する。さて、このときスネルの法則より
次の関係が成り立つ。
sinθ1=nsinθ1’ ・・・・・@θ2 =(
1−θl′ ・・・・・Φ n5inθ2 =8 inθ2〆 ・曲[相]但し、 工1ニプリズムの屈折率 aニプリズムの頂角 θl:第1血入射角 θ1′:第1面屈折角θ2:第2
面入射角 θ2′:第2面屈折角h′:射出側主光線間
隔 次に、第4図において、J−はブ9ろ4.がなりときの
像の結像位置を示す。ここで、主光線に対し垂直な像I
の結像光が前記の関係でプリズム(10)に入射すると
、主光線Ll、 L2は夫々Pl−+Q1→R1→Sl
、P2→Q2→R2→S2の光路を通り■′の像となる
屈折率nの物質中を通過した光線は、空気中を通過した
光線に比べ結像点が遠方へ伸びる。これを示す換算間隔
の関係からQ I R1を次のように選ぶ。
QJR1=P2Q2/n −−−−−−■Q 2 R2
の換算間隔が一致する。即ち、プリズム通過後はRIR
2面がPIP2711Iと等(換算)距離の関係となる
ここで、主光線Ll、 L2上の主光線進行方向のずれ
を△とすると、プリズム(10)による倍率β2はとな
る。
次に、%5図において、プリズム通過後の主光線L2を
プリズム内に延長し、そのプリズムの第1面との交点を
02とするとともに、点R】からこの延長線に下した垂
線の足を■2とすると、第4図の△5xS2−r2と第
5図の△RI R2■2は相似であるから△=X十Q2
V2 ・・・・ ■ また、△l’ I P2 Q lより X=h tanθ工 ・・・・・■ さらに点Q2からプリズム通過後の主光線L1に下した
垂線の足をWlとすると Q2V2=llWt==QtWt−QIRI ・・・・
・・■ここで、QIWIはΔQ IQ 2W1よりQ 
IWI =h’ tanθ2′ さらに、■式を用いて、 −”cosθ+’ 5in(/2’ QIWx=h□ ・・・・・・・0 COSθi cosθ2 また、σは前記0式の関係かあるから1’ 2 Q 2
をめるにQxQz−にとおき、点Q2からプリズムの第
1面に下した垂線の足をA2とすると、△QIQ2A2
と△P2Q2A2より、 P 2 Q ” −k 、、、 o、。
にはk = h’ /CoaO2’と表わせるから、こ
れと0式を用いて、  1na P2Q2=h□ ・・・・・・0 COSθ1008θ2 以上の■、■、■、■、[F]、02式を用いて0式の
β2をめると、 上記0式において01′、θ2,02′は000式の関
係によりθ1と関連付けられる。従って、プリズムへの
入射角θ1.プリズムの頂角a、プリズムの屈折率nを
適切に設定することにより所望の倍率β2を定めること
ができる。
ところで、上述の説明では、説明の簡略化のために2本
の主光線を平行であるとした。しかし、平行でない一般
的な場合にも同様にプリズムによる変倍が生q1その倍
率も上述の考え方に従ってめることができることは勿論
である。
また、同様に、プリズム入射前の像は主光線に対し垂直
であるとしてあつがっているが、像が主光線に対し垂直
でない場合も同様にめることかできる。第4図において
点線Oi P 2で示すように像が角度φだけ傾いてい
るとすると、前記0式は下記のように修正される。
さて、上記のようにめられた0式、或いはσ式を見るに
、あるプリズムを用いることが決まると頂角aと屈折率
nは定まるから、結局式の変数は込射角θ1のみとなる
。従って、この人別角θlを変えてやればアナモフィッ
ク倍率β2を任意に変更することができる。ここで、プ
リズムに対する光の入射角の変更は相対的に同一な次の
2つの方法でおこなうことができる。即ち、第1の方法
はプリズム自体をスリットと平行な軸のまわりに回動す
る方法である。第6図にこの方法を模式的に示す。第6
図において、プリズム(l O)がAの位置からBの位
置に回動され、その角度がθlであるとすると、Aの位
置での入射角θ1aとBの位置での入射角θlbには次
の関係がある。尚、角度は反時計廻りの方向を正°とす
る。
θlb−θ1a−θL ・・・・・・Oこの式と■、■
、■式により、当初の入射角Ozaと回動角θLが決ま
れば、θlb’、 (J2b 、02t/がまり、これ
らを■又は07式に代入することにより11の位置の倍
率β2bをめることができる。尚、回動中心の選定は回
動による結像位置のズレ、像の傾き及び光路長の変化を
最小にするようにおこなうのが好ましい。
次に、第2の方法は、プリズム(10)を固定とし、こ
のプリズムに入射する光束の光路を変更して入射角を変
える方法である。第7図にこの方法を模式的に示す。第
7図においては、変更された光路、即ち主光線Ll”、
L2’はわかり・ハ騙のために垂直入射とされている。
このような光路の変更は、前方の反射系、例えは、第2
図の第2ミラー(15)を移動及び揺動させることによ
っておこなわれる。尚、この際も、結像位置のズレ、像
の傾き及び光路長の変化を最小とするようにするのが好
ましい。
勿論、上記第1及び第2の方法を組合せておこなうこと
もできる。
に記す。表において、プリズムlは頂角30’、プリズ
ム■は頂角15°であり、両者の屈折率nは1.516
8である。
表 −1 以上の例はプリズムを1個用いるものであるが2個用い
る方が種々の面で有利である。即ち、単プリズムの場合
は色収差、非点収差が発生し、また像の倒れも大きいが
、2個のプリズムを用い、その頂角を1個の場合より小
さくすることによって非点隔差を小さくすることができ
、また、2個のプリズムの頂角の向きを逆にして色収差
、像の倒れを互いに打消し合うようにすることができる
第8図は2個のプリズム(IOA)、 (IOB)を用
いた場合を示しており、プリズム(IOA)へ入射する
前の主光線間隔をhl、プリズム(IOA)内での主光
線リズムCl0B)を出射した主光線間隔をh5 とす
ると、夫々の主光線間隔には次の関係がある。尚、夫々
のプリズムの入射角、屈折角、頂角は11り記■。
■、■式の関係を満している。
そこで、上記の0式からh6をめると、プリズムBを出
射した主光線のずれΔ′とすれば、最終的な倍率β20
は でめることができる。また、主光線のずれ△′は前記し
た単プリズムの場合と同様にしてめることができる。図
中点線で示すEIE2. l匂F2. GIG2ハ像の
傾きを示すが、図から明らかな如く、最終的な像の傾き
はtliプリズムに比べ非常に小さくなっている。
$ 9.10.11図はこのような2個のプリズムを複
写機内に配置した例を示し、他の構成要素は第2図と同
一である。
さて、この2個のプリズムを用いる場合も単プリズムの
場合と同様にアナモフィック倍率を変更することができ
、その際、次の方法が考えられる。
プリズム(10A) プリズム(IOB)1) 固 定
 回 動 11) 回 動 固 定 プリズム(IOA) プリズム(IOB)111) 回
 動 回 動 iv) 固 定 入射角゛の変更 V) 入射角の変更 固 定 vi) 入射角の変更 入射角の変更 ここで、iv) 、 v) 、 vi)の入射角の変更
は、該当するプリズムを固定し、このプリズムに入射す
る光路を変更することを表わしており、第9,1o図の
ような2個のプリズムが近接する系では実質上困難であ
るので、第11図に示すように、2個のプリズムが離れ
て配置される場合に適用するとよい。
第11図においては、プリズム(IOA)が原稿台(1
1)き第】ミラー(13)の間に、プリズム(10B)
が第2ミラー(15)と感光体(4)の間に設けられる
上記の1)とii) 、 1ii)とiv) 、 v)
とvi)は相対的には同一条件とみなすことができる。
以下に、プリズム(IOA)(10B)のff4 角、
プリズム(IOA)への入射角を決め、これに対してプ
リズム(l OB)を回動してその入射角θ3を変更し
た場合の倍率β2と、像の倒れ角θGを示す。尚、像の
倒れ角θGは、プリズム系に入射する前の・像とプリズ
ム系を出射した像のなす角度、第8図で言えは、表−3 表−4 変倍率は、プリズムの頂角か大きい程、入射角が大きい
程太き(なる傾向を示し、2個のプリズムを使う場合は
後方のプリズムの頂角が前方より大きい方が変倍重大と
なる。
このように、本発明は1個又は2個以」二のプリズムを
用いておこなうアナモフィック変倍の倍率をプリズムへ
の光の相対入射角を変更することによって変更するもの
であるが、実施に際しては、物面に対し最終像面を平行
にする、複数個のプリズムの頂角を共通とする、入射角
を00とする等の配慮をはらうと精度上やコスト上で有
利となる。
ところで、前記@、■/式に戻ってアナモフィック変倍
率の変更を考えるに、アナモフィック友倍率は頂角の変
更によっても変更することができる。
即ち、頂角の異なる複数のプリズムを光路に対して切換
えることによっても皮史することかできる。
さらにまた、頂角が異なり、夫々相対入射角を変更可能
な複数のプリズム系を切換えるようにしてもよい。
尚、上記の実施例は1、スリット露光型複写型式として
原稿台移動型のものを用いて説明したが、光学系移動型
或いは原稿移動型においても本発明を適用できることは
明らかである。
【図面の簡単な説明】
第1図はアナモフィック変倍で解像力が低下することを
説明する図、第2図は本発明の一実施例を適用した複写
機を示す図、第3.4.5図は三角プリズムの屈折力を
めるための図、第6図はプリズムを回転させてアナモフ
ィック倍率を変更する場合を説明する図、第7図はプリ
ズムに入射する光の入射角を変更してアナモフィック倍
率を変更する場合の説明図、第8図は2枚のプリズムを
用いた場合の説明図、第9.10.11図は2枚のプリ
ズムをアナモフィック変倍糸として複写機に用いた本発
明の他の実施例を示す図である。 1、I4・・・・・・・投影レンズ、2・曲面原稿、4
・・・・・・・・・感光体、10.10へ1011・・
・・曲グリズム。 出願人 ミノルタカメラ株式会社 第2図 第3図 第4図 0 第5図 第9 図 第1I@ 第1頁の続き @発明者浜1)明佳 0発 明 者 中 村 弘 [相]発明者金井 伸夫 大阪市東区安土町2丁目3幡地 大阪国際ビル ミノル
タカメラ株式会社内 大阪市東区安土町2丁目3幡地 大阪国際ビル ミノル
タカメラ株式会社内 大阪市東区安土町2丁目3幡地 大阪国際ビル ミノル
タカメラ株式会社内

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、走査系によってスリット状に走査される原稿の像を
    投影レンズによって感光体上に投影するスリット露光型
    複写方式において、 投影光路中に、スリット長手方向には屈折力をもたずス
    リット幅方向には屈折力をもつプリズムを設け、該プリ
    ズムへの光の相対入射角を変更可能とするとともに、走
    査系と感光体の速度比と投影レンズの位置とをスリット
    長手方向とスリット幅方向の倍率が異なるように設定し
    、スリット長手方向とスリット幅方向で倍率が異なる複
    写をおこなう際のスリット長手方向とスリット幅方向の
    倍率の比を変更するようにしたことを特徴とするアナモ
    フィック変倍複写方法。
JP22287683A 1983-11-22 1983-11-25 アナモフイツク変倍複写方法 Pending JPS60114845A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22287683A JPS60114845A (ja) 1983-11-25 1983-11-25 アナモフイツク変倍複写方法
US06/673,523 US4583846A (en) 1983-11-22 1984-11-20 Slit exposure type copying machine capable of copying with anamorphic magnification

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP22287683A JPS60114845A (ja) 1983-11-25 1983-11-25 アナモフイツク変倍複写方法

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPS60114845A true JPS60114845A (ja) 1985-06-21

Family

ID=16789269

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP22287683A Pending JPS60114845A (ja) 1983-11-22 1983-11-25 アナモフイツク変倍複写方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS60114845A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0622897U (ja) * 1992-06-08 1994-03-25 株式会社ニッコー 炉底出鋼口開閉装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0622897U (ja) * 1992-06-08 1994-03-25 株式会社ニッコー 炉底出鋼口開閉装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TW466349B (en) Catadioptric optical system and exposure apparatus having the same
US4103991A (en) Optical system for scanning during reciprocal motion providing 180°r
JPS592009B2 (ja) 光学装置
US5947576A (en) Oblique projection optical apparatus
US2914997A (en) Combined range and view finder for cameras
US4387979A (en) Copying optical system
JPS60114845A (ja) アナモフイツク変倍複写方法
US4084894A (en) Array of optical projection devices
JPH08106065A (ja) 投影装置及び投影装置のピント調整方法
JPS6010234A (ja) 投影装置
JPH0363728B2 (ja)
JPS60114850A (ja) アナモフイツク変倍複写方法
JPH0416766B2 (ja)
US3912392A (en) Short focal length optical scanning system
US4571065A (en) Scale factor changing mechanism for copying machine
JPS59119342A (ja) 投影装置
JPH07119931B2 (ja) 複写機用光学系
US4447147A (en) Optical scanning device
JPH0253792B2 (ja)
JPS59159151A (ja) 複写装置
JPS595858Y2 (ja) スリット露光型複写機
JPS61284750A (ja) 複写装置
JPS5990839A (ja) レンズ光学装置
JPH0522224B2 (ja)
JPS6314138A (ja) 変倍複写装置