JPS60113237A - 感光性樹脂組成物 - Google Patents

感光性樹脂組成物

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Publication number
JPS60113237A
JPS60113237A JP22174783A JP22174783A JPS60113237A JP S60113237 A JPS60113237 A JP S60113237A JP 22174783 A JP22174783 A JP 22174783A JP 22174783 A JP22174783 A JP 22174783A JP S60113237 A JPS60113237 A JP S60113237A
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JP
Japan
Prior art keywords
photosensitive resin
manufactured
phosphoric acid
resin composition
copper foil
Prior art date
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Pending
Application number
JP22174783A
Other languages
English (en)
Inventor
Hajime Tokumitsu
徳光 始
Hirobumi Makino
博文 牧野
Masami Ishii
正美 石井
Yuji Ikegami
池神 雄司
Kenji Osawa
健治 大沢
Masayuki Osawa
大沢 正行
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
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Publication of JPS60113237A publication Critical patent/JPS60113237A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/085Photosensitive compositions characterised by adhesion-promoting non-macromolecular additives

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 する感光性樹脂糺成物に関するものであり、特にプリン
ト配線基板の半田マスクとして被着形成される所謂ソル
ターレジストの如きカノ・−コート層に用いて好適な感
光性樹脂組成物に関するものである。
一般にプリント配線基板においては、銅箔をパターンエ
ソチンクして形成される配線パターンの保護及び絶縁を
図り、また、半田テイツプの際の半田マスクとして作用
するソルグーレジスト等のカバーコート層がその表面に
被着形成されている。
そして、このカバーコート層にあっては、例えば接続用
ランド部等に半田が被着するように上記配線パターンの
所定の部分を露出させるための窓部を設ける必要があり
、このためパターン露光による現像が可能な感光性樹脂
組成物が広く用いられている。
ところが、上記感光性樹脂組成物は41・j箔との密着
性が悪いので、そのまま力ハーコート層に用いると簡単
に剥離してしまったり半田テイツプを施した後にカバー
コート層にふくれが生じる等の問題かある。
そこで従来は、ベンゾトリアソール、ヘンズイミタノー
ル、ヘンズチアゾール等の感光性樹脂にリン酸化合物を
添加したり、ハルヒト−ル誘導体やヒタントイン誘導体
等の感光性樹脂に表面処理タルクを混入する等の方法に
より、IL銅箔との密着性を改善することが試みられて
いる。しかしなから、このような多官能成分が多い樹脂
に対しては、上記リン酸化合物や表面処理タルクを併用
しても光分な効果が得られず、そこでさらに多官能モノ
マーを減らして単官能上ツマ−を増やし樹脂中の多官能
成分を減少して密着性を確保するという試みもなされて
いるが、この場合には光硬化性すなわち光に対する感度
が低下したり得られる塗膜の強度や耐薬品性が低下する
等の欠点が生じてしまっている。
このためさらに従来は、あらかじめ上記釦1箔表面に対
してカップリンク剤処理を施したり、熱へ一キンクによ
りカバーフート層の応力の緩和を図る等の方法も考えら
れているが、この場合には工程の複雑化による生産性の
低下や銅箔の劣化、基板の熱による反り、ねじれ等カシ
問題となる。
そこで本発明は、光硬化性を低下することなく銅箔との
密着性を向上することが可能な感光性樹脂組成物を提供
することを目的とし、さらにプリント配線基板のカバー
コート層に適用してこのプリント配線基板の品質や生産
性を向上することが可能な感光性樹脂組成物を提供する
ことを目的とする。
本発明者等は、上述の如き目的を達成せんもの性に優れ
た感光性樹脂にリン酸化合物と有機過酸化物を併用添加
することにより、この樹脂の光硬化性を損なうことなく
銅箔に対する密着性を向上することができることを見出
し本発明を完成したものであって、末端に二重結合を2
以1−有する第1の不飽和化合物と、末端に二重結合を
イ1する嬉2の不飽和化合物と、光重合増加剤と、リン
酸化合物と、有機過酸化物とを含有してなるものである
上記末端に二重結合を2以上有する第1の不飽和化合物
としては、少なくとも分子の両末端にアクリロイル基や
メタクリロイル基等を有する化合物が挙げられ、例えば
、 (li式 (式中、nは整数を表わし、またR1は−H1CHs等
を表わし、R2は−H、CHs 。
−Br、−Ce等を表わす。) で示されるフェノールノボラックエポキシアクリレート
あるいはメタクリレート (2)式 (式中、nは整数を表わし、またR1は−H。
−CHJ等ヲ表ワシ、R2バーH、CH3。
−Br、−C1等を表わす。) で示されるビスフェノールA 型エポキシアクリレート
あるいはメタクリルレート (31式 (式中、R+は−H,−CII3等を表わし、R・3は
2価の炭化水素基を表わす。) で示される脂環型エポキシアクリレ−1・あるいはメタ
クリルート 等が挙げられる。この第1の不飽和化合物はヘースレソ
ンであり、本発明の感光性(ゐ1脂組成物が硬化した際
に骨格となる成分である。
まt二、本発明による感光性樹脂組成物には、その粘性
や形成される塗膜の物性を調整するために、末端に二重
結合を有する第2の不飽和化合物が希釈モノマーとして
加えられる。この第2の不飽和化合物としては、多官能
アクリレ−1直あるいはメタクリレート)や2官能アク
リレ−1・(あるいはメタクリレート)、単官能アク’
II/−ト(あるいはメタクリルート)等が挙げられる
が、目的に応じて・これらを単独あるいは2種以上混合
して使用することができる。
そして、上記多官能アクリレート(あるいはメタクリル
−1〜)さしては、オリゴエステルアクリレート(例え
ば東亜合成社製、M8060.M3[+30.M710
0.M8100)やトリメチロールプロパントリアクリ
レート、ペンタエリスリトール1ヘリアクリレート、ジ
ペンタエリスリトールへキサアクリレート、テトラヒI
・ロフリルアクリレート等が挙げられる。また、上記2
官能アクリレート(あるいはメック1月/−1・)とし
ては、]、]3−ブクンンオールジアクリレート1,6
−ヘキサンシオールジアクリレート、ジエチレングリコ
ールジアクリレート、ネオペンチルクリコールジアクリ
レート、ポリエチレンクリコールジアクリレート、ヒド
ロキシピバリン酸エステルネオペンチルクリコールシア
クリレート等が挙げられ、商品名ビスコ−1−#、 3
70υ、#7[10(大阪有機社製)や商品名MAND
A(日本化薬社製)、商品名7o=ツクスM6100 
、 M6200 、 M625(1,M63(lIl、
M65(1(1(東亜合成社製)等が市販されている。
さらに、−に記単官能アクリレート(あるいはメダクリ
レ−1・)としては、亭 ヒトロキエチルアクリレート、ヒドロキシエチルメタク
リレ−1〜、商品名110A−MPE(共栄社製)、商
品名アロエックスM5700 (東亜合成社製)等が挙
げられる。
上記第1の不飽和化合物及び第2の不飽和化合物の混合
針は適宜変更することが可能であるが、第1の不飽和化
合物は10〜100]tnt部、嬉2の不飽和化合物は
30〜210重量部の範囲であることが好ましい。
さらtこ、上記感光性樹脂組成物には、紫外線を照射し
たときに上記第1の不飽和化合物や第2の不飽和化合物
か光励起されて容易に光コ1(合反応を開始するように
光重合増加剤が添加される。この光重合増加剤としては
、一般に重合開始剤として使用されているものであれば
いかなるものであっても使用することができるが、例え
ば次式に示す化合物が挙げられる。
il Hj H (a) O0 (9)O Ql 0 0CH(CHs)2 (Ill 0 04 0 (1勇 O 04 0 0CzHs OCzHi l θ呻 0 1 上記光重合増加剤はl−10重量部の割合で添加される
。添加量が1重箇′部未満では感光性樹脂組成物が光に
よって硬化しにくく、また添加量が10重量部を越える
と感光性樹脂組成物の塗膜物性が低下してしまう。
さらに、本発明において重要なこ吉は、上記感光性樹脂
組成物にはリン酸化合物と有機過酸化物が併用添加され
ていることである。上KL ’Jン酸化合物や有機過酸
化物の果す役割の詳細については不明であるが、これら
リン酸化合物と有機過酸化物を添加することにより上記
感光性樹脂組成物の光硬化性や得られる塗膜の銅箔に対
する密着性が大幅に改善されるので、上記リン酸化合物
や有機過酸化物が重合反応の促進や金属との′Iit和
力等の点で関与しているものと考えられる。
ところで、上に’Jン酸化合物としては、第1表に示す
化合物が挙げられ、それぞれ給1表中右側に示す商品名
で市販されている。
/′ / 、/′ / 7/ 第1表 上記リン酸化合物は1〜lO重量部0)割合で添カロ(
ただし、式中)1.]−4及び1tはそれぞれ1価の炭
化水素基を表イつす。) で示されるバーオキシケタール、例えば商品名バー・\
キサ3M(日本油脂社製)等 (3)式 %式% (たたし、式中11は1価の炭化水素基を表わす。) で示されるハイドロバーオキサイl’、例えば商品名バ
′−ブチル1−■(日本油脂社製)、商品名バ′−クミ
ルH(日本油脂社製)等 (4)式 1七−〇−〇−ル (たたし、式中11及び比はそれぞれ1価の炭化水素基
を表わす。) で示されるジアルキルパーオキサイド、例えば商品名バ
ーブチルD(日本油脂社製)、商品名バークミルD(日
本油脂社M)等 (5)式 C> 0 11L −C−0−0−C−1( (たた゛し、式中Rは1価の炭化水素基を表わす。) で示されるジアシルパーオキサイド、例えは商品名バー
ロイルP(日本油脂社製)、商品名ナイバ−B(日本油
脂社製)等 (6)式 %式% (ただし、式中R及びILf才1価の炭化水素基を表わ
す。) で示されるパーオキシエステル、例えば商品名バーブチ
ルIB(日本油脂社製)、商品名バーへキサ25Z(=
EI本油脂社製)等 (7)式 %式% (1 (たたし、式中Rは1価の炭化水素基を表わす。) て示されるバーオキシジカーボ不−1・、例えば商品名
バーロイルIPP(日本油脂r1−製)、商品名バーヘ
キサAC8(日本油脂社製)等 等が挙げられる。この有機過酸化物も1〜10重量部の
範囲で添加することが好ましい。上記有機過酸化物の添
加量か1重量部未満であると充分な効果が得られない。
また、添加量が10重量部を越えると、ゲル化や気泡が
発生し、硬化が不光分なものとなって塗膜強度が低下し
たり、密着性が悪化する等の悪影響を及ぼず。
さらにまた、上記感光性樹脂組成物には、用途に応じて
無機フィラーやレー・リンク剤、着色料等を加えてもよ
い。
以上述べたような組成を有する本発明の感光性樹脂組成
物は、銅箔に対する密着性が良好で、プリント配線基板
のカバーコート層として用いた場合に、常温での密着性
が良好であるのはもちろんのこと、半田ディツプ等の半
田処理後にもふくれや密着性の低下が生ずることはない
さらに、本発明による感光性樹脂組成物は光硬化性にお
いても優れ、例えば窒素雰囲気中で波長355+1mの
紫外線を40mJ/−照射することにより100μピツ
チの微細パターンをイIIることができた。
このように、本発明によれば感光性イ61脂組成物の光
硬化性や銅箔との密着性を大幅に改善することができ、
この感光性樹脂組成物をプリント配線基板のソルダーレ
ジストの如きカバーコート層に適用することによりこの
プリント配線基板の品質や生産性等を向上することが可
能とt゛っている。
以下、本発明の具体的な実施例について説明するが、本
発明がこれら実施例に限定されるものでないことは言う
までもない。
実施例1 甲− フェノールボフックエポキシアクリレ−126重量部(
商品名 EPPNアクリレート、11本化某社製)多官
能アクリレート 24重量部 (商品名 アロエックスM8060.東1f’合成社製
)2′自能アクリレート 30重量部 (商品名 ビスコート3700.大阪有機社製)2丘能
アクリレート 26重量部 (商品名 MANDA、日本油脂社製)ヘンジルメチル
ケタール 4重量部 (商品名 イルカキュア651.チハカイギー社製)リ
ン酸エステルメタクリレート 3重量部(商品名 PM
−2,日本化薬社製) メチルエチルケトンパーオキサイド 2重量部(商品名
 バーメックN1日本油脂社製)タルク 3o重量部 (商品名 ファインタルクP−32日本タルク社製)レ
ヘリンク剤 1重量部 (商品名 フェレノールl−3.ヘンケル社製)レヘリ
ンク剤 0.1重量部 (商品名 BYKO20、BYK社製)着色料 0.1
重量部 (商品名 ヘリオゲンクリーン、BASF社製)上記組
成物を光分攪拌した後、大理石製のロールを通して分散
を行ない感光性樹脂組成物を調製した。
次に、得られた感光性樹脂組成物を、ローラコータ(サ
ーマトロニクス社製)を用いてエソチンク処理され銅箔
パターンが形成されるノJラスエポキシ基板上に全面塗
布した。さらに、この基板を上面が不ノJパターンが形
成さ′4したバイレックスカラスで覆われる窒素雰囲気
ボックス内に入れ、このボックス内の窒素濃度が99φ
以にとなったことを確認して、超高圧水欽灯(ウシオ電
機社製)を点光源として用いて半行光による露光を行な
った。
上記平行光を照射するたy)には、第1図に示すようt
j゛平行光諒装置を用いた。この平行光源装置lJは、
極間が極めて狭い点光源1て発生する光を楕円ミラー2
て集光し、第1の反射ミラー3によりインチクI/−タ
ーレンズ群4に24いて光強度の分布を一様とした後、
第20)反則ミラー5によりコリメータレンズ6に導い
て平行jtを得るというものである。この平行光の平行
度は視角で±3°以内であることが望ましく、平行度か
悪いと位置すれや像の太りを生じて鞘厚の艮いパターン
の形成が困t1#なものとなってしまう。なお、上記露
光時の露光量は、2 m W / o’Aの照度で20
秒間の照射とした。
続いて、超音波洗浄槽を用いて1分間現像を施し、さら
に水洗、乾燥した後、水銀メタ/)ラランブ(アイクラ
フィック社製)3灯を用いて100W10nの光量で紫
外線によるアフターキュアを行なった。なお、上記現像
時の現像液としては共栄社製ユニクリソC50%水溶液
を50℃に加温したものを用いた。
以上の工程を経て、上記ガラスエポキシ基板上に上記感
光性樹脂組成物からなるノノハーコ−1・層を形成した
こυ〕カバーコート層に対してクロスカットピーステス
トを行なったところ、銅箔パターン上においてもガラス
エポキシ基板上においても上Rt Jツバ−コート層の
剥離は見られなかった。なお、上記クロスカッ1−ピー
ステストは、上記ノノハーコ−1・層を刃物を用いて銅
箔パターンあるいはカラスエポキシ基板に達するまてl
 mA X l hta+の基盤目状にクロスノノソ1
−シ、粘着テープをこすり付けた後、この粘着テープを
」二方にひき剥がし、上記クロスカットされたカバーコ
ート層切片100個のうちイI】目固争1 +aするか
によってその’2Fiメ゛N(’14g、 +量定ずろ
ものである。
次に、上記基板上にイソブロヒ□+1’H′11’、1
 ル希釈したフラックスを塗布し、25(じL:(i+
゛4−目1ソ1〕−に]゛0秒間接触させて耐熱性’q
’ ;J、、l・、八3にころ、」ニ記カバーコート層
にふくれや亀裂H牛じちかった。さらにこの半田フロー
に接1lIll!さ一1!1.:f麦、再ひ」こh己り
ロスカッ[・ピーステストを”(j/+’−vた力)、
カバーコ−1・層の剥離は見られず、こυ〕ノノノ・−
コートj・−の密着性が低下していないことか確認され
た。
実施p2す2 先の実施し1]■の感光性4MJ脂組成物0)ツら、リ
ン酸化合物であるリン酸エステルメタクリレート及び有
(Q過酸化物であるジメチルケトノバーオキサイドの添
加量を変えて、実施例1と同様にカバーコート層を形成
した。
リン酸化合物の祭加蓄、有機過酸化物の添加量″及び得
られるカバーコート層の!1も一性庖第2表に示す。な
お、第2表中、常温ての蕾オイ1牛、耐μす(性及び半
H」フロー後の密着性は先の実姉1’)II Iとト】
ロポの方法で判定し、カバーコ−1・層の剥離や熱によ
るふくれ、亀裂等が生じなかった場合を○、生じた場合
を×で評価L7た。また、半田フロー後の密着性におい
て、△は半田フローの熱によりふくれか生した部分以外
の部分ではカバーコート層の剥離が生じなかったこ“♂
を示す。
第 2 表 この第2表より、カバーツー1〜層の密着性を向上する
ためには、リン酸化合物と有機過酸化物を併用添加する
必要があることか分かる。
【図面の簡単な説明】
第1図は感光性樹脂組成物の露光に用いられる平行光源
装置の一例を示す概略構成図である。 特許出願人 ノニー株式会社 代理人 弁理士 小 池 晃 同 1) 村 榮 −

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 末端に二重結合を2以上有する第1の不飽和化合物と、
    末端に二重結合を有する第2の不飽和化合物と、光重合
    増加剤と、リン酸化合物と、有機過酸化物とを含有して
    なる感光性樹脂組成物。
JP22174783A 1983-11-25 1983-11-25 感光性樹脂組成物 Pending JPS60113237A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02285352A (ja) * 1989-04-27 1990-11-22 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
JPH05181281A (ja) * 1991-11-01 1993-07-23 Fuji Photo Film Co Ltd フオトレジスト組成物及びエツチング方法

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH02285352A (ja) * 1989-04-27 1990-11-22 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性平版印刷版
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