JPS60109530A - ブタジエンに富むc↓4炭化水素留分のアセチレン系化合物の液相における選択的水素化方法 - Google Patents

ブタジエンに富むc↓4炭化水素留分のアセチレン系化合物の液相における選択的水素化方法

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JPS60109530A
JPS60109530A JP59225628A JP22562884A JPS60109530A JP S60109530 A JPS60109530 A JP S60109530A JP 59225628 A JP59225628 A JP 59225628A JP 22562884 A JP22562884 A JP 22562884A JP S60109530 A JPS60109530 A JP S60109530A
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ブタジェンに富むC4炭化水素留分のアセチ
レン系化合物の液相における選択的水素化方法に関する
ものである。
従来技術およびその問題点 水蒸気タラツキングのような高温での変換方法は、例え
ばエチレン、プロピレン、ブタジェンおよびブテン類の
ような通常気体の不飽和炭化水素または例えば熱分解ガ
ソリンの一部をなすC5、C6、C7オレフィン類のよ
うな液体の不飽和炭化水素の広範囲な種類を生じる。
単なる分留により、これらの生成物をそれらの蒸留範囲
に従って分離することができ、このようにしてC2、C
3、C4留分およびガソリンを得ることができる。
それにもかかわらず、これらの留分の各々は、パラフィ
ン系、モノオレフィン系、ジオレフィン系およびアセチ
レン系炭化水素の混合物である。
例えばC4留分の典型的な組成は以下のとおりである。
ブタジェン :20〜50重量係 フタ7 : 10〜20tlfffi%ブテン類 :2
0〜50重量% ブチン類 :0.05〜0.2重量% ビニルアセチレン=1〜3重量% ある場合には、C4留分はC3またはc5炭化水素の小
さな割合、例えば5重31%までを含んでいることもあ
る。
との留分に含まれるブタジェンの高付加価値化は、ブチ
ンおよびビニルアセチレンの除去後にしか成し得ない。
この精製は、2つの連続するまたは同時に行なわれる方
法すなわち抽出蒸留および/または通釈的水素化により
成されうる。
抽出蒸留により、100重量ppm以下のビニルアセチ
レンを含むブタジェンを(尋ることができるが、この仕
様値は、ブタジェンの少なからぬ損失を伴なってしか得
られない。事実この留分の分留により、一般には蒸留さ
れる二次流出物中のアセチレン系化合物を濃縮して、ブ
タジェンが精製される。
この高濃度の二次流出物は特有の爆発性を有するため、
ブタジェンおよびブ、テン類のような高付加価値化しう
る生成物を用いて、これを希釈せざるをえない。このた
め装置の収率が大幅に減じる。
それ故に一般に抽出装置の上流側に、分離される混合物
のアセチレン含量を低下させる選択的水素化装置を追加
する。これにより、希釈によるブタジェン損失が相対的
に減じられる。
それにもかかわらずブタジェン収率のこの改善は、水素
化が実際に選択的である場合しか有意なものではない。
この水素化は、一般に液相で10〜80℃の温度、4〜
10バールの圧力下、パラジウムを含む触媒上で行なわ
れる。
現在使われてい、る既知の方法は、このような水素化の
追加によりなされる全体的な経済性が限界的なものであ
るようなブタジェン収率を有するだけである。
本発明の目的は、穏やかな条件下で操作が行なえるだけ
でなく、特に触媒の活性と選択性を改善しうるような、
液相での新規選択的接触水素化方法を提供することであ
る。
問題点の解決手段 本発明の方法は、アルミナ上のパラジウム触媒の存在下
に、少なくとも1つの芳香族炭化水素を含みかつ溶液状
のアミン化合物を含有する液相すなわち希釈剤中で、C
4留分の選択的水素化を行なうことから成る。アミンの
存在は、触媒の活性と選択性を改善し、驚くべきことに
、パラフィン系溶媒の場合にすでに明らかなこの助触媒
の効果は、芳香族溶媒を用いた場合さらに際立っている
。液相または希釈剤相IJ少なくとも1つの芳香族炭化
水素を5〜100重量係含む。
液相すなわち希釈剤相の1つの炭化水素(または複数の
炭化水素)は、水素化に対して実質的に不活性な炭化水
素である。少なくとも1つの芳香族炭化水素を、単独で
または1つまたは複数のパラフィン系または環式飽和炭
化水素と混合して用いる。モノオレフィン系炭化水素も
また反応の良好な選択性の作用によって使用しうる。芳
香族でない炭化水素の例として、ヘプタン、ドデカン、
イソオクタン、シクロヘキサン、テトラヒドロナフタレ
ン、ナフサ留分またはケロシン留分が挙げられる。芳香
族炭化水素の例として、ベンゼン、トルエン、エチルベ
ンゼンが挙げられる。
好ましくは、水素化の生成物から容易に分離されうるよ
うな1つまたは複数の液相の炭化水素を通釈する。好ま
しくは、これらの炭化水素は処理された留分より明らか
に高い沸点、例えば少なくとも10℃好ましくは少なく
とも50℃の沸点を有する。
アミン化合物は、液相の全体(C4留分十希釈剤)の重
量の0.01〜10%、好ましくは0.1〜2%の割合
で使用される。アミン化合物はアミンまたはポリアミン
である。アミンは好ましくは第一または第三アミン、脂
肪族または環式アミンである。アミンはまた第三アミン
であってもよい。アミンとは異なる置換基または官能基
であって反応を阻害しないもの、例えばアルコールまた
はエーテル基を含んでいてもよい。
アミン化合物の例として、メチルアミン、エチルアミン
、ジエチルアミン、トリメチルアミン、ピペリジン、モ
ルホリン、ピペラジン、エチレン・ジアミン、ジエチレ
ントリアミン、1.3−プロパツールアミン、エタノー
ルアミン、ジェタノールアミン、ビス(アミノ・エチル
)エーテル、アニリン、ブチルアミンがある。
複素環式構造を有する(キノリンまたはピリジン型)の
アミン類は、本発明の一部ではない。
水素化触媒は相持パラジウムから成る。パラジウムは、
一般にアルミナ担体上に0.01〜1重量%の割合で担
持される。アルミナは好ましくは、5〜100d/lの
比表面積を有する。
パラジウムに、例えば銀または金のような1つまたは複
数のその他の金属を、例えば触媒の0゜01〜1重量%
であってもよい台皿で組合わせてもよい。好ましくは−
またはAgの重量比Pd Pd は1以下である。金が特に有利な結果を生じる。
水素化を触媒が固定床に配置されている反応器内で行な
ってもよい。図面は本発明の1つの希釈剤を反応器(2
)に導入する。
熱交換器(3)での冷却後、液体・気体混合物を導管α
ηを経て、脱離槽(4)に導入する。この槽は、液体の
希釈剤および水素化された留分(11Bから過剰の気体
水素(5)を脱離する。液相は熱交換器α2で一部気化
し、脱離槽(131に導入される。この槽は液体希釈剤
から精製された気体留分を脱離する。精製された留分は
、導管(15Iを経てブタジェンの抽出装置へ送られる
。液体希釈剤は、熱交換器(14)での冷却後、導管(
161を経て、ポンプ(7)を通って再循環される。導
管(11)により溶媒の一部をパージすることができ、
導管(9)によって新鮮な溶媒の補給をすることができ
る。
水素化の操作条件は以下のとおりである。
触媒l容につき毎時の液体炭化水素留分の容積流量で表
示された空間速度(液体VVH):0.5〜30 好ましくは1〜10/時 全圧=5〜50バール 温度=20〜150 ℃ 1モルにっきモルで表示されたアセチレン系化合物に対
する水素の比=1〜1゜ 好ましくは 1〜2 溶媒(希釈剤士アミン化合物)流量は、水素化すべき留
分の流量に対して調整されるのが有利である:この流量
の5〜50重量% 好ましくは10〜30重量%。
アミン含量は、炭化水素の全体(不活性炭化水素(希釈
剤)+C4留分)の重量のo、o1〜10%に調整され
る。好ましくはこの重量の0.1〜2%である。
発明の効果 本発明によるC4炭化水素留分のアセチレン系化合物の
液相における選択的水素化方法は以上のとおり構成され
ているので、水素化操作を穏やかな条件下で行なうこと
ができる上に、特鴇 に触媒の活性と選択性を大観に改善することができる。
実施例 以下の実施例は非限定的なものとして示したが、本発明
の効果を例証する。
実施例1 従来技術を示すこの実施例においては、下記の重量組成
を有するC4ジオレフィン糸留分の水素化を行なう。
ブタジェン : 46% ブタン : 11% ブテン類 :41.55% ビニルアセチレン: 1.45% 触媒は、比表面積70rrt/Fと細孔容積0.6cd
/9を有するア)レミナ担体上に担持されたパラジウム
0.2重量%を含む。触媒は固定床として管状反応器内
に配置される。液体C4留分をこの反応器内において次
の条件で通過させる。
液体VVH: 8/時 圧 力 : 5バール 湿度 =25℃ H2/ビニルアセチレン=1〜2モル1モル・水素/ビ
ニルアセチレン比は、水素化留分が各々1000または
i o o ppmの残留ビニルアセチレンを含むよう
に調整される。
表1は得られた結果を示す。この表には、ビニルアセチ
レンの変換率の6値についてのブタジェンの収率をまと
めた。これらの収率は、水素化すべき留分中に含まれる
ブタジェンに対して、水素化された留分中のブタジェン
の百分率として表わした。
表 1 実施例2 この実施例では、実施例1と同じC4留分の水素化を行
なうが、水素化すべき炭化水素留分に、n−へブタン1
0重fi%とアミン化合物1.3重fi%を添加する。
この後者の割合は、液体流量の全体すなわちC4留分十
n−ヘプタンに対して表わされる。
水素化後、流出物を一部分蒸発させて、C4留分がn−
ヘプタン士アミン混合物から分離するようにする。この
混合物は、図面に示されているように再循環される。
操作条件は実施例1と同じである。表2は次の3つの場
合において得られた結果を示す:10%のn−へブタン
の添加、10%のn−へブタン+1.3%のピペリジン
の添加および10%のn−へブタン+1.3チのブチル
アミンの添加。
これらの結果は、実施例1のようにブタジェン収率で表
わされている。
表 2 反応媒質中のアミン添加により、ブタジェン収率がすで
にかなり増加されていることカくわ力する。
実施例3 本発明に従うこの実施例において、実施例1と同じC4
留分の水素化を行なうが、水素化すべき炭化水素留分に
、10重M%のトルエンと1.3重量係のアミン化合物
を添加する。この後者の割合は、液体流量の全体すなわ
ちC4留分+トルエンに対して表わされている。
操作条件は前と同じである。表3は次の3つの場合に得
られた結果を示す210%のトルエンの添加、10%の
トルエン+1.3チのピペリジンの添加および10%の
トルエン+1.3チのブチルアミンの添加。
これらの結果は実施例1のようにブタジェン表 3 芳香族溶媒中のアミン添加はパラフィン系溶媒中より有
利であることがわかる。
実施例4 この実施例4では、前の実施例と同じ条件下で水素化を
行なうが、溶媒としてはn−へブタンとトルエンが重量
で50150の混合物を用いる。得られた結果を表4に
示す(この表にはブタジェン収率が示されている)。
表 4 実施例5 この実施例では、実施例3と同じ条件下で水素化を行な
うが、液体流量の全体すなわちC4留分十トルエンに対
して0.1%のアミン化合物を添加する。使用されるア
ミン化合物はピペリジンとブチルアミンである。結果を
表5に示すこの表にはブタジェン収率が示されてl、N
る。
以下余白 表 5 実施例6(本発明に一致しない) この実施例では、実施例3と同じ条件下で水素化を行な
うが、液体流量の全体すなわちC4留分十トルエンに対
して1.3重量係の窒素化合物を添加する。使用される
窒素化合物は、ここではピリジンとキノリンである。得
られた結果を表6に示す。この表にはブタジェン収率が
示、されている。
以下余白 表 6 実施例7 この実施例では、ピペリジンを使用して実施例5と同じ
条件下で水素化を行なう。ただし70rri/7の比表
面積と0.6 cd/ Pの細孔容積を有するアルミナ
担体上に担持された0、2%のパラジウムと0.1%の
金とを含む触媒上で行なう。水素化すべきC4留分に、
液体流量の全体すなわちC4留分十トルエンに対して0
.1重量係のピペリジンを添加する。結果を表7に示す
【図面の簡単な説明】
図面は本発明の方法を示すフローシートである。 (2)・・・反応器、+41 +13)・■脱離器。 以 上

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. (1) ブタジェンと、ブチンおよびビニルアセチレン
    から成る群の少なくとも1つのアセチレン系炭化水素と
    を含むC4炭化水素留分の液相における選択的水素化方
    法であって、液相の前記留分をアルミナ上に担持された
    パラジウム触媒と接触させる方法において、前記C4留
    分を、少なくとも1つの芳香族炭化水素および少なくと
    も1つのアミン化合物と混合した状態で水素により処理
    し、前記芳香族炭化水素が、水素化に対して実質的に不
    活性でありかつ後に反応生成物から分離しうるものであ
    ることを特徴とする方法。
  2. (2) アミン化合物が、第一または第二アミンである
    ことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の方法。
  3. (3) アミン化合物が、液相の全体(C4留分十希釈
    剤)の重量の0.01〜10%の割合で存在することを
    特徴とする特許請求の範囲第1または2項記載の方法。
  4. (4) アミン化合物の割合が、液相の全体(C4留分
    十希釈剤)の重量の0.1〜2%であることを特徴とす
    る特許請求の範囲第3項記載の方法。
  5. (5)実質的に不活性な炭化水素(希釈剤)とアミン化
    合物との混合物が、C4留分の重量の5〜50重ffi
    %を示すことを特徴とする特許許請求の範囲第1〜4項
    のうちいずれか1項記載の方法。
  6. (6) アミン化合物が、メチルアミン、エチルアミン
    、ジエチルアミン、トリメチルアミン、ピペリジン、モ
    ルホリン、ピペラジン、エチレン・ジアミン、ジエチレ
    ントリアミン、1゜3−プロパツールアミン、エタノー
    ルアミン、ジェタノールアミン、ビス(アミノ・エチル
    )エーテル、アニリン、ブチルアミンから成る群から選
    択される、特許請求の範囲第1項記載の方法。
  7. (7)触媒が、5〜1ood/S’の比表面積を有する
    アルミナ上のパラジウム0.01〜1重量%から成るこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1〜6項のうちいずれ
    か1項記載の方法。
  8. (8)触媒がその他に0.01〜1重量%の金を含むこ
    とを特徴とする特許請求の範囲第1〜7項のうちいずれ
    か1項記載の方法。
  9. (9)操作条件が、 触媒1容につき毎時のC4留分の容積流量=0.5〜3
    0/時、 温度:20〜150℃、 全圧:5〜50バール、 アセチレン系炭化水素に対する水素のモル比:l〜10 であることを特徴とする特許請求の範囲第1〜8項のう
    ちいずれか1項記載の方法。 flol 容積流量が1〜10/時であり、アセチレン
    系炭化水素に対する水素のモル比が1〜2であることを
    特徴とする特許請求の範囲第9項記載の方法。
JP59225628A 1983-10-25 1984-10-25 ブタジエンに富むc↓4炭化水素留分のアセチレン系化合物の液相における選択的水素化方法 Granted JPS60109530A (ja)

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FR8316943A FR2553760B1 (fr) 1983-10-25 1983-10-25 Procede d'hydrogenation selective en presence de solvant des composes acetyleniques d'une coupe d'hydrocarbures c4 riche en butadiene

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EP (1) EP0151356B1 (ja)
JP (1) JPS60109530A (ja)
KR (1) KR910008366B1 (ja)
AU (1) AU574414B2 (ja)
BR (1) BR8405409A (ja)
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