JPS60109009A - マルチトラック型薄膜磁気ヘッドの製造方法 - Google Patents
マルチトラック型薄膜磁気ヘッドの製造方法Info
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- JPS60109009A JPS60109009A JP21734683A JP21734683A JPS60109009A JP S60109009 A JPS60109009 A JP S60109009A JP 21734683 A JP21734683 A JP 21734683A JP 21734683 A JP21734683 A JP 21734683A JP S60109009 A JPS60109009 A JP S60109009A
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- Japan
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- thin film
- film magnetic
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- type thin
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/29—Structure or manufacture of unitary devices formed of plural heads for more than one track
- G11B5/295—Manufacture
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
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- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3109—Details
- G11B5/3116—Shaping of layers, poles or gaps for improving the form of the electrical signal transduced, e.g. for shielding, contour effect, equalizing, side flux fringing, cross talk reduction between heads or between heads and information tracks
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（イ）産業上の利用分野
本発明は、トラ・ソグピリチの狭小化を比較的簡単に行
なうことが出来るマルチトラック型薄膜磁気ヘイドの製
造方法に関するものである。
なうことが出来るマルチトラック型薄膜磁気ヘイドの製
造方法に関するものである。
（ロ）従来技術
例えば、コンパクト・カセクト用ＰＯＭ録音機の記録用
として使用されるマルチトラリフ型薄膜磁気へ噌ドでは
一高密度記録を行なうためにそのトラークピ呼チを狭小
化して限られたスペース内に多くのトラ吋りを形成する
必要がある。ところが、従来の薄膜磁気へラドではその
へりドパターンとコイルパターンとが同一平面上にトラ
ツク数に見合った数だけ一連に並べて形成されるため。
として使用されるマルチトラリフ型薄膜磁気へ噌ドでは
一高密度記録を行なうためにそのトラークピ呼チを狭小
化して限られたスペース内に多くのトラ吋りを形成する
必要がある。ところが、従来の薄膜磁気へラドではその
へりドパターンとコイルパターンとが同一平面上にトラ
ツク数に見合った数だけ一連に並べて形成されるため。
そのトラ呼りビ雫チの狭小化には目ずと限度があシ、特
に斯る薄膜磁気へ・ソドの起磁力を晶めるべくコイルパ
ターンを多数巻きに１例えば多数巻きの構造としてスパ
イラル型にした場合にはその巻き数が増えるに従ってト
ラヴクピヴチの狭小化に大きな制限を受けるものであっ
た。尚、多数巻きの構造としてスパイラル型のようにコ
イルパターンかへ・シトパターン両側に広がらないヘリ
カル型−１Ｐジグザグ型等があるが、斯る構造のものは
コイルパターンに段差部分が生じるため、該段差部分で
の絶縁不良並びに電流密度の増大等の間届かあり、信頼
性に欠けるものであった。また−多数巻きにすることな
くコイルに大電流を流すことで起磁力を太き（する方法
もあるが、斯る方法では電流密度の増大により斯る薄膜
磁気〜噌ドのドライブ用ＩＣの負担が大きくなると共に
発熱ｔが太きくなる等の問題がある。
に斯る薄膜磁気へ・ソドの起磁力を晶めるべくコイルパ
ターンを多数巻きに１例えば多数巻きの構造としてスパ
イラル型にした場合にはその巻き数が増えるに従ってト
ラヴクピヴチの狭小化に大きな制限を受けるものであっ
た。尚、多数巻きの構造としてスパイラル型のようにコ
イルパターンかへ・シトパターン両側に広がらないヘリ
カル型−１Ｐジグザグ型等があるが、斯る構造のものは
コイルパターンに段差部分が生じるため、該段差部分で
の絶縁不良並びに電流密度の増大等の間届かあり、信頼
性に欠けるものであった。また−多数巻きにすることな
くコイルに大電流を流すことで起磁力を太き（する方法
もあるが、斯る方法では電流密度の増大により斯る薄膜
磁気〜噌ドのドライブ用ＩＣの負担が大きくなると共に
発熱ｔが太きくなる等の問題がある。
しＱ 発明の目的
本発明は斯る点に鑑み成されたもので、トラ９クピ噌チ
の狭小化を°比較的簡単に行なうことが出来るマルチト
ラ噌り型薄膜融気〜づドの製造方法を提供しようとする
ものであり、特にコイルパターンがスパイラル型になっ
たマルチトラ・ソゲ型薄膜磁気へラドに適用して好適な
るものである。
の狭小化を°比較的簡単に行なうことが出来るマルチト
ラ噌り型薄膜融気〜づドの製造方法を提供しようとする
ものであり、特にコイルパターンがスパイラル型になっ
たマルチトラ・ソゲ型薄膜磁気へラドに適用して好適な
るものである。
（ロ）発明の構成
即ち、本発明は基板の上面側に、逆二等辺三角形状の切
１１ζをその頂角が９０°〜１２０になるように複数個
連続して設けると共に、訪客り、ｌｊ屑の一方の斜面に
〜〜ドパターンを夫々形成して、切溝９ピヴチがトラ噌
りピ９チとなるようにしたものである。
１１ζをその頂角が９０°〜１２０になるように複数個
連続して設けると共に、訪客り、ｌｊ屑の一方の斜面に
〜〜ドパターンを夫々形成して、切溝９ピヴチがトラ噌
りピ９チとなるようにしたものである。
（弱芙施例
以下１本発明の具体的な製造方法について図面と共に説
明する。
明する。
先ず、下部コアとしての基板（１１にはＮ ｉ −Ｚ
ｎフェライト等のフェライト材を用い、この基板の上面
側に逆二等辺三角形状の切溝（２）全基板（１１のテー
プ対接面側である側面に対して直交する方向で且つその
頂角が９０°〜１２０°になるように複数個連続して設
ける（第１目参照）。ここで、切／ＩＩ＋￥（２）は直
接ダイアモンドホイールにて研削すると刃先のブレによ
って直線性の不良や溝ピ・・チの精度が悪くなるので、
一旦熱リン酸等の工ヴチングにて大まかな断面形状ケ作
成した後、所定の角度にドレ・ソシングしたダイアモン
ドホイールにて整形することで形成される。そして、そ
の後訪客切溝（２）の一方の斜面にマスク蒸着等の工程
によｐ ／（ターン化した磁性体）飴よ）なる上部コア
（３）を形成せしめるようにしたものである。
ｎフェライト等のフェライト材を用い、この基板の上面
側に逆二等辺三角形状の切溝（２）全基板（１１のテー
プ対接面側である側面に対して直交する方向で且つその
頂角が９０°〜１２０°になるように複数個連続して設
ける（第１目参照）。ここで、切／ＩＩ＋￥（２）は直
接ダイアモンドホイールにて研削すると刃先のブレによ
って直線性の不良や溝ピ・・チの精度が悪くなるので、
一旦熱リン酸等の工ヴチングにて大まかな断面形状ケ作
成した後、所定の角度にドレ・ソシングしたダイアモン
ドホイールにて整形することで形成される。そして、そ
の後訪客切溝（２）の一方の斜面にマスク蒸着等の工程
によｐ ／（ターン化した磁性体）飴よ）なる上部コア
（３）を形成せしめるようにしたものである。
尚、第２図に示すようにパターン化した専心体層よシな
るコイル部（４）については、上部コア（３）と同様に
マスク蒸着で形成することは精度上不可能 “であるた
め、フォトレジストヲ使用した工・シチング法かリフト
オフ法を用いなければならない。但し、フォトエ９チン
グの場合１回転塗布方式によってフォトレジストヲ塗布
すると溝部にレジストかたまるのでこれについては高粘
度レジストを静電塗布方式により行い、また露光に２い
ても通常のマスクアライメントでは溝斜面の位置によｐ
フォトマスクのパターンにボケが生じるので電子線描画
装置を用いて行なう必要がある。
るコイル部（４）については、上部コア（３）と同様に
マスク蒸着で形成することは精度上不可能 “であるた
め、フォトレジストヲ使用した工・シチング法かリフト
オフ法を用いなければならない。但し、フォトエ９チン
グの場合１回転塗布方式によってフォトレジストヲ塗布
すると溝部にレジストかたまるのでこれについては高粘
度レジストを静電塗布方式により行い、また露光に２い
ても通常のマスクアライメントでは溝斜面の位置によｐ
フォトマスクのパターンにボケが生じるので電子線描画
装置を用いて行なう必要がある。
具体的には、切溝形成後、基板−コイル間絶縁層形成−
コイル部形成−上部コアーコイル間絶縁層形成−ギャッ
プ層形成−上部コツ形成等の工程を行ない、その上面に
カバーガラスを溶着し切断等の外形処理’ｃＭＭして工
程を完了する。
コイル部形成−上部コアーコイル間絶縁層形成−ギャッ
プ層形成−上部コツ形成等の工程を行ない、その上面に
カバーガラスを溶着し切断等の外形処理’ｃＭＭして工
程を完了する。
尚、第２図では切溝の一方の斜面の幅全体をト次に、ト
ラックピッチ並びにトラック幅が同じでそのコイル部を
スパイラル型にした、本発明製部ち、スパイラル型のコ
イル部を一層のみとして形成し、そのコイル部の幅を５
μｍ１コイル部間の幅を６μｍにすると共に、そのトラ
９クピ噌チヲ各々１２０μｍ−１６０μｍとしトラック
幅をその２とした場合１本発明のものと従来例のものと
ではそのコイル巻回数の差が下表のようになる。
ラックピッチ並びにトラック幅が同じでそのコイル部を
スパイラル型にした、本発明製部ち、スパイラル型のコ
イル部を一層のみとして形成し、そのコイル部の幅を５
μｍ１コイル部間の幅を６μｍにすると共に、そのトラ
９クピ噌チヲ各々１２０μｍ−１６０μｍとしトラック
幅をその２とした場合１本発明のものと従来例のものと
ではそのコイル巻回数の差が下表のようになる。
尚、第３図はそのトラ９クビーチＴＯが１６０μｍ、）
ラダク幅Ｔ１が８０μｍで、切溝頂角が９イの場合の本
発明〜ラド（同図（ｍｌ）全従来例（同図［ｂｌ）のも
のと比較した模式肉で、コイル部が形成されるスペース
幅Ｓ１が従来例のスペース幅Ｓ２よシも大きくなってい
ることが判る。尚、（Ｈｌ）（Ｈ２）は上部コアである
。
ラダク幅Ｔ１が８０μｍで、切溝頂角が９イの場合の本
発明〜ラド（同図（ｍｌ）全従来例（同図［ｂｌ）のも
のと比較した模式肉で、コイル部が形成されるスペース
幅Ｓ１が従来例のスペース幅Ｓ２よシも大きくなってい
ることが判る。尚、（Ｈｌ）（Ｈ２）は上部コアである
。
以上の様（二１本発明製造方法に依れば、限定されたト
ラダクビヴチ内にてスパイラル型コイル部一層に付き、
１〜２タ一ン巻回数を増やすことが出来るので、同トラ
噌グピツチ、同トラづグ幅の従来製造方法によるマルチ
トラ噌グ型薄膜（ａ恋〜曜ドよりも高い起磁力を得るこ
とが出来る。即ち。
ラダクビヴチ内にてスパイラル型コイル部一層に付き、
１〜２タ一ン巻回数を増やすことが出来るので、同トラ
噌グピツチ、同トラづグ幅の従来製造方法によるマルチ
トラ噌グ型薄膜（ａ恋〜曜ドよりも高い起磁力を得るこ
とが出来る。即ち。
同起磁力であれば、従来例のものよりもそのトラ噌りピ
イチの狭小化を計ることが出来る。
イチの狭小化を計ることが出来る。
次に１本発明で用いる切溝が逆二等辺三角形状である必
要性について、第４図ｆａｌ［ｂ）ｔ：用いて説明する
。
要性について、第４図ｆａｌ［ｂ）ｔ：用いて説明する
。
先ず、第４図［ａｌに示すような形状に切溝全形成し一
一方の斜面に上部コア（ＨＡ）ｋ形成した場合、確かに
トラダグ幅Ｔ２を大きくとることが出来るが１反対にス
ペース幅Ｓ５が小さくなるため。
一方の斜面に上部コア（ＨＡ）ｋ形成した場合、確かに
トラダグ幅Ｔ２を大きくとることが出来るが１反対にス
ペース幅Ｓ５が小さくなるため。
本発明の目的であるスパイラル型のコイル部を形である
。また、仮り１−トラ９７幅ｉＴｚと小さくした場合、
スパイラル型のコイル部を形成するスペース幅が広くな
るが、鋭角状になった基板の頂上部を跨ぐ構造になるた
め、斯る頂−上部でパターン切７″Ｌを起こす（即ち、
頂上部では導電体膜が堆積されにくいため）可能性があ
る。１局、（ＴＯ）はトラヴ・クビ・ソチである。
。また、仮り１−トラ９７幅ｉＴｚと小さくした場合、
スパイラル型のコイル部を形成するスペース幅が広くな
るが、鋭角状になった基板の頂上部を跨ぐ構造になるた
め、斯る頂−上部でパターン切７″Ｌを起こす（即ち、
頂上部では導電体膜が堆積されにくいため）可能性があ
る。１局、（ＴＯ）はトラヴ・クビ・ソチである。
次に、第４図ｆｂｌに示すような形状に切１ｔＲｋ形成
した場合には、コイル部が形成゛されるスペース幅Ｓ４
ｉ広く取ることが出来るが１反対に−Ｌ部ココアＨ４）
のトラ・ツク幅Ｔ５が図示の如く小さくなり、十分な〜
９ド出力金得ることが出来ない。更に、上部コア側の基
板傾斜角度が急になるので、上部コｒとし′Ｃの磁性体
膜の形成とそのパターン化が困難になる。
した場合には、コイル部が形成゛されるスペース幅Ｓ４
ｉ広く取ることが出来るが１反対に−Ｌ部ココアＨ４）
のトラ・ツク幅Ｔ５が図示の如く小さくなり、十分な〜
９ド出力金得ることが出来ない。更に、上部コア側の基
板傾斜角度が急になるので、上部コｒとし′Ｃの磁性体
膜の形成とそのパターン化が困難になる。
以上の理由から１本発明ではその切溝を逆二等辺形状と
し、且つその頂角ヲ９０′〜１２０にしたものである。
し、且つその頂角ヲ９０′〜１２０にしたものである。
Ｎ 発明の効果
上述した如く本発明のマルチトラヴク型薄膜磁気へ噌ド
は一基板の上面側に一逆二等辺三角形状の切溝をその頂
角が９０〜１２０になるように複数個連続して設けると
共に、該各切溝の一方の斜面にへ噌ドパターンを夫々形
成して、切溝のピヴチがトラ呼グビヅチとなるようにし
たので、同トラ噌グビ９チの従来製造方法によるマルチ
トラ９り型薄膜磁気°へラドに比較して、コイル部の巻
回１ｉ１１多くすることが出来、そのトラダクピヴチを
狭小化しても十分な起磁力を得ることが出来る。
は一基板の上面側に一逆二等辺三角形状の切溝をその頂
角が９０〜１２０になるように複数個連続して設けると
共に、該各切溝の一方の斜面にへ噌ドパターンを夫々形
成して、切溝のピヴチがトラ呼グビヅチとなるようにし
たので、同トラ噌グビ９チの従来製造方法によるマルチ
トラ９り型薄膜磁気°へラドに比較して、コイル部の巻
回１ｉ１１多くすることが出来、そのトラダクピヴチを
狭小化しても十分な起磁力を得ることが出来る。
第１図は本発明で用いる基板を示す図、第２図は本発明
によるマルチトラダク型薄膜磁気〜９ドを示す斜視図、
第３図ｆａｌｆｂｌは夫々本発明によるものと従来方法
によるものとを比較するための模式図、第４図ｆａＨｂ
ｌは夫々切溝の形状を変えた場合の模式図である。 （１１・・・Ｆ部コアとしての基板、 （２）・・・切
溝−（３）・・・上部コア、 （４）・・・コイル部。 ゝ（）／
によるマルチトラダク型薄膜磁気〜９ドを示す斜視図、
第３図ｆａｌｆｂｌは夫々本発明によるものと従来方法
によるものとを比較するための模式図、第４図ｆａＨｂ
ｌは夫々切溝の形状を変えた場合の模式図である。 （１１・・・Ｆ部コアとしての基板、 （２）・・・切
溝−（３）・・・上部コア、 （４）・・・コイル部。 ゝ（）／
Claims (1)
- （１）基板の上面側に、逆二等辺三角形状の切溝をその
頂角が９ｄ〜１２０になるように複数個連続して設ける
と共に一該各切溝の一方の斜面に〜ヅドパターンを夫々
形成して、切溝のビヴチがトラ・ソクピ・ｔチとなるよ
う（＝シた事を特徴とする゛マルチ１う９り型薄膜磁気
へ叩ドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21734683A JPS60109009A (ja) | 1983-11-17 | 1983-11-17 | マルチトラック型薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21734683A JPS60109009A (ja) | 1983-11-17 | 1983-11-17 | マルチトラック型薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60109009A true JPS60109009A (ja) | 1985-06-14 |
| JPH0517603B2 JPH0517603B2 (ja) | 1993-03-09 |
Family
ID=16702732
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21734683A Granted JPS60109009A (ja) | 1983-11-17 | 1983-11-17 | マルチトラック型薄膜磁気ヘッドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60109009A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63225909A (ja) * | 1986-02-13 | 1988-09-20 | Sony Corp | 薄膜磁気ヘツド |
Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5358219A (en) * | 1976-11-06 | 1978-05-26 | Fujitsu Ltd | Thin film magnetic head assembly |
-
1983
- 1983-11-17 JP JP21734683A patent/JPS60109009A/ja active Granted
Patent Citations (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5358219A (en) * | 1976-11-06 | 1978-05-26 | Fujitsu Ltd | Thin film magnetic head assembly |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63225909A (ja) * | 1986-02-13 | 1988-09-20 | Sony Corp | 薄膜磁気ヘツド |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0517603B2 (ja) | 1993-03-09 |
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