JPS60107877A - レ−ザ発振器 - Google Patents
レ−ザ発振器Info
- Publication number
- JPS60107877A JPS60107877A JP21499583A JP21499583A JPS60107877A JP S60107877 A JPS60107877 A JP S60107877A JP 21499583 A JP21499583 A JP 21499583A JP 21499583 A JP21499583 A JP 21499583A JP S60107877 A JPS60107877 A JP S60107877A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- gas
- laser oscillator
- reflecting mirrors
- laser
- reflecting mirror
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/034—Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
- H01S3/0346—Protection of windows or mirrors against deleterious effects
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はレーザ発振器に関する。
レーザ光を集束レンズによって集束し、被加工体に上記
レーザ光を照射しつつ加工を行うレーザ加工装置は公知
であり広く利用されている。
レーザ光を照射しつつ加工を行うレーザ加工装置は公知
であり広く利用されている。
上記レーザ加工装置のレーザ発振器には、固体レーザ、
気体レーザ又は半導体レーザ等が使用され、上記各レー
ザ発振器は備えｆｌけられた反射鏡によってレーザビー
ムが反射され発振効率が高められるように構成されてい
る。
気体レーザ又は半導体レーザ等が使用され、上記各レー
ザ発振器は備えｆｌけられた反射鏡によってレーザビー
ムが反射され発振効率が高められるように構成されてい
る。
然しなから、上記反射鏡はレーザビームを反射する際に
、そのエネルギの一部を吸収してしまうため、加工時に
は上記反射鏡の表面温度が上昇し、材質が変質したり、
機械的歪が生じて反射方向が変ワたり、レーザガス中の
異物やガスの変質物及びその他の異物が付着するとか焼
き付けられたりする結果その反射効率が低下してしまう
と云う問題点があった。しかも、上記反射鏡はその表面
温度の上昇に伴い反射効率が低下し、これに連れてレー
ザ発１ｌｉｉ器の発振出力が低下してまうので、長時間
の加工の際にはレーザ発振器の発振を中断し、反射鏡の
温度を下げ、然る後、レーザ加工を再開すると云う方法
が採られていた。
、そのエネルギの一部を吸収してしまうため、加工時に
は上記反射鏡の表面温度が上昇し、材質が変質したり、
機械的歪が生じて反射方向が変ワたり、レーザガス中の
異物やガスの変質物及びその他の異物が付着するとか焼
き付けられたりする結果その反射効率が低下してしまう
と云う問題点があった。しかも、上記反射鏡はその表面
温度の上昇に伴い反射効率が低下し、これに連れてレー
ザ発１ｌｉｉ器の発振出力が低下してまうので、長時間
の加工の際にはレーザ発振器の発振を中断し、反射鏡の
温度を下げ、然る後、レーザ加工を再開すると云う方法
が採られていた。
而して、長時間のレーザ加工は手間と時間がかかり、ま
た、反射鏡は熱によっ゛Ｃ劣化する為、一定の期間毎に
新しい反射鏡と交換しなければならなかった。
た、反射鏡は熱によっ゛Ｃ劣化する為、一定の期間毎に
新しい反射鏡と交換しなければならなかった。
この問題点を解決するために、反射鏡の裏面に冷却装置
を取り付け、上記反射鏡の温度上昇を防止するレーザ発
振器が開発されたが、装置が複雑且つ大型に成る割には
反射鏡の裏面から冷却する為、充分な冷却が１１なわれ
ず、やはり発振時間が長くなると発振出力が低ドしてし
まうと云う問題点は解決されなかった。
を取り付け、上記反射鏡の温度上昇を防止するレーザ発
振器が開発されたが、装置が複雑且つ大型に成る割には
反射鏡の裏面から冷却する為、充分な冷却が１１なわれ
ず、やはり発振時間が長くなると発振出力が低ドしてし
まうと云う問題点は解決されなかった。
本発明は斜上の観点に立って為されたものであって、そ
の目的とするところは、レーザ発振器の反射鏡の汚れを
防止乃至は浄化し、また反射鏡を充分に冷却し”Ｃ反射
鏡の反射すＪ率が低下確゛ることなく、長時間にわたる
レーザ発振器の連続発振を可能にすると共に、反射鏡の
寿命を延ばすことができるシンプルで、且つコンパクト
なレーデ発振器を提供することにある。
の目的とするところは、レーザ発振器の反射鏡の汚れを
防止乃至は浄化し、また反射鏡を充分に冷却し”Ｃ反射
鏡の反射すＪ率が低下確゛ることなく、長時間にわたる
レーザ発振器の連続発振を可能にすると共に、反射鏡の
寿命を延ばすことができるシンプルで、且つコンパクト
なレーデ発振器を提供することにある。
而しζ、上記の目的は、レーザ発振器に備え付けられた
反射鏡の反射面及び半透過鏡の表面に、浄化ガス若しく
は浄化空気を供給し、冷却と異物のパージとを行なう装
置を設けることによって達成される。
反射鏡の反射面及び半透過鏡の表面に、浄化ガス若しく
は浄化空気を供給し、冷却と異物のパージとを行なう装
置を設けることによって達成される。
以下、図面により本発明の詳細を置体的に説明する。
第１図は、本発明にかかるレーザ発振器の一実施例を示
す説明図、第２図は、他の実施例を示す説明図である。
す説明図、第２図は、他の実施例を示す説明図である。
ｆｆ１１図中、１は直管１ａとウォータ・ジャケット１
ｂ等から構成されるレーザ管、２．２はガス導入路、３
はガス吸引口、４は上記ウォータ・ジャケラＨｂに冷却
水を供給する冷却水供給口、５は上記冷却水の排水口、
６及び７はリング状の陰極及び陽極、８及び９は反射鏡
、８ａは上記反射鏡８の中心に形成された孔、１０及び
１１は反射鏡９の固定板、１２及び１３は反射鏡８のＵ
整根、１４．１４は調整ねじ、１５は０リング、１６は
ＫＣｌガ％、結晶板で半透明な出力取出窓、１７はｃｏ
２−Ｎ２−１ｔ２の混合ガスが図示しない各ガスの充填
ボンベから所定の組成となるように制御供給されて貯留
するガス留め、又ハ混合カスが充填されたガスボンベｉ
８ｉ；［ｊＥバルブ、１９はニードルバルブ、２ｏは圧
力１１．２１はフローバルブ、２２は毛細管、詔は荒引
バルブ、２４はリークバルブ、部はロータリ・ポンプ、
部、届はガス供給管である。
ｂ等から構成されるレーザ管、２．２はガス導入路、３
はガス吸引口、４は上記ウォータ・ジャケラＨｂに冷却
水を供給する冷却水供給口、５は上記冷却水の排水口、
６及び７はリング状の陰極及び陽極、８及び９は反射鏡
、８ａは上記反射鏡８の中心に形成された孔、１０及び
１１は反射鏡９の固定板、１２及び１３は反射鏡８のＵ
整根、１４．１４は調整ねじ、１５は０リング、１６は
ＫＣｌガ％、結晶板で半透明な出力取出窓、１７はｃｏ
２−Ｎ２−１ｔ２の混合ガスが図示しない各ガスの充填
ボンベから所定の組成となるように制御供給されて貯留
するガス留め、又ハ混合カスが充填されたガスボンベｉ
８ｉ；［ｊＥバルブ、１９はニードルバルブ、２ｏは圧
力１１．２１はフローバルブ、２２は毛細管、詔は荒引
バルブ、２４はリークバルブ、部はロータリ・ポンプ、
部、届はガス供給管である。
而して、反射鏡８及び９は直管１ａの両端部に配置され
ており、上記反射鏡８及び９は誘電多層膜を用いる他、
金を蒸着したものが多く使用される。
ており、上記反射鏡８及び９は誘電多層膜を用いる他、
金を蒸着したものが多く使用される。
な′！、？、上記＊Ｗ１ａの両端部に取り付けられた２
個の反射鏡８及び９のうち反射鏡８は、動作状妨に於て
も外部から朝整が可能なように配置された内ｊｌｌミラ
ー形である。
個の反射鏡８及び９のうち反射鏡８は、動作状妨に於て
も外部から朝整が可能なように配置された内ｊｌｌミラ
ー形である。
直管１ａのプラズマ部分は冷却を行なう為のウメータ・
ジャケット１ｈで覆われており、ウォータ・ジャケラ、
）ｌｂに冷却水供給口４から冷却水が供給され、冷却水
の排水口５がら排出される。
ジャケット１ｈで覆われており、ウォータ・ジャケラ、
）ｌｂに冷却水供給口４から冷却水が供給され、冷却水
の排水口５がら排出される。
マタ、肖’ｌ’ｆｌａの内部には有効なプラズマガスを
発生さ・けるに必要な陰極６と陽極７とが配置され、更
に片側にけ発据光をｊ３遇させる半透明な出方取出窓１
６が設けられている。
発生さ・けるに必要な陰極６と陽極７とが配置され、更
に片側にけ発据光をｊ３遇させる半透明な出方取出窓１
６が設けられている。
而して、予め所定組成に混合されガス留１７に貯留され
た、例えば圧力フ６０ Ｔｏｒｒ前後の混合ガス、又は
ガスボンベＩＴ、１７に圧入に（例えば、約ｌｏ。
た、例えば圧力フ６０ Ｔｏｒｒ前後の混合ガス、又は
ガスボンベＩＴ、１７に圧入に（例えば、約ｌｏ。
ｋｇ）されたガスが、減圧バルブ１８．１８を介してニ
ードルハル７”１９．１９に導かれ、ここでガスの流量
が調整され、所定の量のガスがガス導入路２．２を経て
ガス供給管２６、墓から直管ｌａ内に取り付けられた反
射鏡８．９の反射面にレーザ直管ｌａ内の低ガス圧によ
り吸引噴射されつつ供給される。また、直管ｌａ内に供
給されたガスは、ガス吸引口３から荒引バルブ詔、ガス
・フローバルブ２１及び適当な排気抵抗を持つ毛細管２
２を通してロータリ・ポンプ部で吸引され、常に直管ｌ
ａ内のガスの景とガス圧力（例えば、３０〜５０Ｔｏｒ
ｒ）を所定の値に保つように構成されている。
ードルハル７”１９．１９に導かれ、ここでガスの流量
が調整され、所定の量のガスがガス導入路２．２を経て
ガス供給管２６、墓から直管ｌａ内に取り付けられた反
射鏡８．９の反射面にレーザ直管ｌａ内の低ガス圧によ
り吸引噴射されつつ供給される。また、直管ｌａ内に供
給されたガスは、ガス吸引口３から荒引バルブ詔、ガス
・フローバルブ２１及び適当な排気抵抗を持つ毛細管２
２を通してロータリ・ポンプ部で吸引され、常に直管ｌ
ａ内のガスの景とガス圧力（例えば、３０〜５０Ｔｏｒ
ｒ）を所定の値に保つように構成されている。
而して、反射鏡８．９の反射面は上述の如く、発振時に
は常に混合ガスが噴射され、反射鏡の表面温度の上昇が
最低限度に抑えられるので、反射効率の低下も少なく、
レーザ発ｍ器の発振出力を高く保った状態での連続ｊ１
転が可能と成るのである。
は常に混合ガスが噴射され、反射鏡の表面温度の上昇が
最低限度に抑えられるので、反射効率の低下も少なく、
レーザ発ｍ器の発振出力を高く保った状態での連続ｊ１
転が可能と成るのである。
そして、上記の場合ガス供給管２６．２６から反射鏡８
．９の反射面に噴射供給される混合ガスは、予め所定の
処理が為された清浄ガスであるから、Ｍｔａ浄ガスによ
って反射面が汚染されることなく、直管ｌａ内のガスの
流れからも、反射面が電１ｆ！６．７内の変性ガスに接
触、汚染されることなく、また必要ならば、上記噴射供
給ガスをコロナ又はグロー放電領域を通過させるとか、
紫外線若しくは放射性照射により一部をイオン化したガ
スとして供給することにより積極的な浄化ガスの作用を
し、反射面への付着又は焼４＝ｆ Ｒ物等をパージ等処
理して清浄に保ってやることができる。
．９の反射面に噴射供給される混合ガスは、予め所定の
処理が為された清浄ガスであるから、Ｍｔａ浄ガスによ
って反射面が汚染されることなく、直管ｌａ内のガスの
流れからも、反射面が電１ｆ！６．７内の変性ガスに接
触、汚染されることなく、また必要ならば、上記噴射供
給ガスをコロナ又はグロー放電領域を通過させるとか、
紫外線若しくは放射性照射により一部をイオン化したガ
スとして供給することにより積極的な浄化ガスの作用を
し、反射面への付着又は焼４＝ｆ Ｒ物等をパージ等処
理して清浄に保ってやることができる。
なオｉ、半透明な出力取出窓１６にも上記混合ガスが反
射鏡８の中心に形成されＣいる孔８ａを介して発振時に
は常時噴射されるので、出力取出窓１６の表面γ１．に
度も最小限度に抑えられる。
射鏡８の中心に形成されＣいる孔８ａを介して発振時に
は常時噴射されるので、出力取出窓１６の表面γ１．に
度も最小限度に抑えられる。
次に、第２図について説明する。
ｍ２図中、ｆｆ１１図に付した９番号と同一の番号を付
したものは同一の構成要素を示しており、２７は必要に
応じてガスイオン化装置を有するフィルタ、２８．２８
はバルブ、２９．２９はニードルバルブ、３（）、３０
はガス導入路である。
したものは同一の構成要素を示しており、２７は必要に
応じてガスイオン化装置を有するフィルタ、２８．２８
はバルブ、２９．２９はニードルバルブ、３（）、３０
はガス導入路である。
而して、予め最適条件に混合されたガスを圧入したガス
ボンベ１７から減圧バルブ１８を介してニードルバルブ
１９に導き、ここでガスの流量が調整されつつ所定の量
が直管ｌａ内に初期充填的に供給されると、直管１ａの
内部に配置された陰極６と陽極７に電圧パルスが供給さ
れてレーザ発振が開始される。
ボンベ１７から減圧バルブ１８を介してニードルバルブ
１９に導き、ここでガスの流量が調整されつつ所定の量
が直管ｌａ内に初期充填的に供給されると、直管１ａの
内部に配置された陰極６と陽極７に電圧パルスが供給さ
れてレーザ発振が開始される。
直管ｌａ内に供給されたガスは、ガス吸引口３から荒引
バルブ２３、ガス・フローバルブ２１及びＮ 当な排気
抵抗を持つ毛細管２２を通し“（ｖ−クリ・ポンプ２５
で吸引され、冷却され、そし゛ζ心要に応じてガスイオ
ン化装置を有する通常のフィルタ又はｌ１ｆｉフイルタ
２７によって浄化された後、減圧バルブ２８．２８を介
してニードルバルブ２９．２９に導き、ここでガスの流
量が調整されつつ所定の量がガス導入路３０．３０を経
てガス供給管２に、２６から直管Ｉａ内に取り付けられ
た反ＲＪ １１１８．９の反射面にガスが噴射されつつ
循環供給される。
バルブ２３、ガス・フローバルブ２１及びＮ 当な排気
抵抗を持つ毛細管２２を通し“（ｖ−クリ・ポンプ２５
で吸引され、冷却され、そし゛ζ心要に応じてガスイオ
ン化装置を有する通常のフィルタ又はｌ１ｆｉフイルタ
２７によって浄化された後、減圧バルブ２８．２８を介
してニードルバルブ２９．２９に導き、ここでガスの流
量が調整されつつ所定の量がガス導入路３０．３０を経
てガス供給管２に、２６から直管Ｉａ内に取り付けられ
た反ＲＪ １１１８．９の反射面にガスが噴射されつつ
循環供給される。
而し５て、直管ｌａ内のカスの量とガス圧力は一首に所
定の値に保たれると共に、反射鏡８及び９０表面もガス
によって浄化及び充分に冷却されるので、レーザ発振器
の発振出力を一゛チ＜保った状態での連続運転が可能と
成るのである。
定の値に保たれると共に、反射鏡８及び９０表面もガス
によって浄化及び充分に冷却されるので、レーザ発振器
の発振出力を一゛チ＜保った状態での連続運転が可能と
成るのである。
特に、本発明の如く構成されたｃｏ２レーザ発振器を使
用し、その出力を約５５０ Ｗに保って連続運転をした
ところ、発振出力は２１１Ｊ経過後も低下しなかった。
用し、その出力を約５５０ Ｗに保って連続運転をした
ところ、発振出力は２１１Ｊ経過後も低下しなかった。
然しなから、従来のレーザ発振器では２１１−］経過後
にはその発振出力が略半分の３００ Ｗに（１（下しＣ
しまった。
にはその発振出力が略半分の３００ Ｗに（１（下しＣ
しまった。
本発明は叙」二の如く構成されるので、本発明によると
きには、レーザ発振器に備えられた反射鏡が充分に浄化
及び冷却されるので、反射鏡の反射効イ１が４１（丁Ｊ
ることがなく、長時間にゎたるレーザ発振器の連続発振
を可能にすると共に、反射鏡の寿命を大幅に延ばすこと
ができるのである。
きには、レーザ発振器に備えられた反射鏡が充分に浄化
及び冷却されるので、反射鏡の反射効イ１が４１（丁Ｊ
ることがなく、長時間にゎたるレーザ発振器の連続発振
を可能にすると共に、反射鏡の寿命を大幅に延ばすこと
ができるのである。
なお、本発明は叙上の実施例に限定されるものではない
。即ち、例えば、本実施例に於てはレーザ発振器をガス
レーザ発振器としたが、固体レーザ発振器又は半導体レ
ーザ発ｆｉ器等にも応用できるものである。なお、この
場合には反射鏡には浄化ガスに限定されず清浄空気や必
要に応じてイオン化された浄化空気等を噴射させるよう
にしてもよい。また、反射鏡の反射面の冷却を行なうと
同時に、反射鏡の裏面に浄化空気噴射等を噴射させるよ
うに構成すればより反射鏡の冷却効果が高められる。更
にまた、フィルタも通常のフィルタ又は磁気フィルタに
限定されず、その目的を達成し自るものであれば他の公
知フィルタが利用できるものである。その他、ガス供給
管の取り付は位置、ガスの供給方法及びその噴射制御の
方法等は本発明の目的の範囲内で自由に設＋１＋変更で
きるものであって、本発明はそれらの総てを包摂するも
のである。
。即ち、例えば、本実施例に於てはレーザ発振器をガス
レーザ発振器としたが、固体レーザ発振器又は半導体レ
ーザ発ｆｉ器等にも応用できるものである。なお、この
場合には反射鏡には浄化ガスに限定されず清浄空気や必
要に応じてイオン化された浄化空気等を噴射させるよう
にしてもよい。また、反射鏡の反射面の冷却を行なうと
同時に、反射鏡の裏面に浄化空気噴射等を噴射させるよ
うに構成すればより反射鏡の冷却効果が高められる。更
にまた、フィルタも通常のフィルタ又は磁気フィルタに
限定されず、その目的を達成し自るものであれば他の公
知フィルタが利用できるものである。その他、ガス供給
管の取り付は位置、ガスの供給方法及びその噴射制御の
方法等は本発明の目的の範囲内で自由に設＋１＋変更で
きるものであって、本発明はそれらの総てを包摂するも
のである。
ｆｆ１１図は、本発明にががるレーザ発Ｗ器の一実施例
を示す説明図、第２図は、他の実施例を示す説明図であ
る。 １−−−−−−−−−−−−−−−−−−一・−レーザ
管１ａ−−−−−−−−−・−−−−−−−−−−−−
−直管１ｂ−−−−−−−−−・−−一一−−−−−−
−−−ウメータ・ジ十ケット２．３０−−−−−−−−
−−−−−−ガス導入路３−−−−−−−−−−−へ−
−−−−一一−−ガス吸引口４−・−一−〜−一−−一
−−−−−−−−−−一−−−−冷却水供給口５−一−
−・−・−・−−−−一−−−−−−−−−−〜冷却水
排水口６−−−−−−−−−−−−−−・−陰極？ −
−−−−・−・−−−−−−−一一一一−−隅極８．９
−−−−−−−−−−−−−一反射鏡１０．１１・−−
−−−一−−−−−−−−−−−固定板１２．１３−−
−一−−−−−−−−−−−−１！ｌ整板１４−−−−
−−・・−−−一−−−−−−−−−−−−問整ねじ１
５−−−一・−・−−−−一−−−−−−・−０リング
１６−−−−一・−一−−−−−−−−−−−−−−−
出力取出窓１７−−−−−−−−−−−−−−−−・−
ガス留め又はボンベ１８−−−−−−−〜−−−−−−
−−−−−−−減圧バルブ＋９−−−−・−一−−−−
−−−−−−−−−・−ニードルバルブ２０−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−一圧力針２１−・−
・・−・−−−一−−−・−・・フローバルブ２２−・
・−−−一一−−−−−−−・−ｍ−−・−毛楕管詔−
・−一−−−−・−・・−−−−−−−−一荒引バルブ
２４−・−・−・−−一−−−−−−・・−リークバル
ブδ−−−−−−−−−−−−−−−一−−−−−−・
ロータリ・ポンプ２６−・・−・−・−−−−−−・−
−−−−−−・−ガス供給管２７−・−一−−−−・−
・−−−・−−一・−フィルタ特許出願人 株式会社
井土ジャパックス研究所代理人（７５２４） ｌＩｋ上
正太部
を示す説明図、第２図は、他の実施例を示す説明図であ
る。 １−−−−−−−−−−−−−−−−−−一・−レーザ
管１ａ−−−−−−−−−・−−−−−−−−−−−−
−直管１ｂ−−−−−−−−−・−−一一−−−−−−
−−−ウメータ・ジ十ケット２．３０−−−−−−−−
−−−−−−ガス導入路３−−−−−−−−−−−へ−
−−−−一一−−ガス吸引口４−・−一−〜−一−−一
−−−−−−−−−−一−−−−冷却水供給口５−一−
−・−・−・−−−−一−−−−−−−−−−〜冷却水
排水口６−−−−−−−−−−−−−−・−陰極？ −
−−−−・−・−−−−−−−一一一一−−隅極８．９
−−−−−−−−−−−−−一反射鏡１０．１１・−−
−−−一−−−−−−−−−−−固定板１２．１３−−
−一−−−−−−−−−−−−１！ｌ整板１４−−−−
−−・・−−−一−−−−−−−−−−−−問整ねじ１
５−−−一・−・−−−−一−−−−−−・−０リング
１６−−−−一・−一−−−−−−−−−−−−−−−
出力取出窓１７−−−−−−−−−−−−−−−−・−
ガス留め又はボンベ１８−−−−−−−〜−−−−−−
−−−−−−−減圧バルブ＋９−−−−・−一−−−−
−−−−−−−−−・−ニードルバルブ２０−−−−−
−−−−−−−−−−−−−−−−一圧力針２１−・−
・・−・−−−一−−−・−・・フローバルブ２２−・
・−−−一一−−−−−−−・−ｍ−−・−毛楕管詔−
・−一−−−−・−・・−−−−−−−−一荒引バルブ
２４−・−・−・−−一−−−−−−・・−リークバル
ブδ−−−−−−−−−−−−−−−一−−−−−−・
ロータリ・ポンプ２６−・・−・−・−−−−−−・−
−−−−−−・−ガス供給管２７−・−一−−−−・−
・−−−・−−一・−フィルタ特許出願人 株式会社
井土ジャパックス研究所代理人（７５２４） ｌＩｋ上
正太部
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）レーザ発Ｉａ器に備えｆｔ Ｉｔられた反射鏡の反
射面及び半透過鏡の表面に、浄化ガス若しくは浄化空気
を供給する装置を具備したことを特徴とするレーザ発振
器。 ２）上記浄化ガス若しくは浄化空気を循環さ−Ｕるよう
に構成すると共に、その循環路内にフィルタを装着した
特許請求の範囲第１項記載のレーザ発振器。 ３）上記フィルタが磁気フィルタである時ｉ’ｒ請求の
範囲第１項又は第２項記載のレーザ発振器。 ４）上記フィルタが通常のフィルタである特１′「請求
の範囲第１項又は第２項記載のレーザ発振器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21499583A JPS60107877A (ja) | 1983-11-17 | 1983-11-17 | レ−ザ発振器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP21499583A JPS60107877A (ja) | 1983-11-17 | 1983-11-17 | レ−ザ発振器 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS60107877A true JPS60107877A (ja) | 1985-06-13 |
Family
ID=16664952
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP21499583A Pending JPS60107877A (ja) | 1983-11-17 | 1983-11-17 | レ−ザ発振器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS60107877A (ja) |
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6138964U (ja) * | 1984-08-07 | 1986-03-11 | 日本電気株式会社 | ガスレ−ザ発振器 |
| JPS63253682A (ja) * | 1987-04-10 | 1988-10-20 | Fanuc Ltd | レ−ザ発振器の光学部品保持構造 |
| WO1988009579A1 (en) * | 1987-05-18 | 1988-12-01 | Fanuc Ltd | Laser oscillator and method of sealing laser gas into said laser oscillator |
| JPH01115179A (ja) * | 1987-10-28 | 1989-05-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | ガスレーザ装置 |
| US6627843B2 (en) * | 2000-10-06 | 2003-09-30 | Arms Komatsu Ltd. | Casing for laser device, production method and cleaning method of the same |
| CN107017544A (zh) * | 2017-05-22 | 2017-08-04 | 西北核技术研究所 | 一种放电激励气体激光器及其运行方法 |
-
1983
- 1983-11-17 JP JP21499583A patent/JPS60107877A/ja active Pending
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