JPH01115179A - ガスレーザ装置 - Google Patents
ガスレーザ装置Info
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- JPH01115179A JPH01115179A JP27401487A JP27401487A JPH01115179A JP H01115179 A JPH01115179 A JP H01115179A JP 27401487 A JP27401487 A JP 27401487A JP 27401487 A JP27401487 A JP 27401487A JP H01115179 A JPH01115179 A JP H01115179A
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- Japan
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- gas
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Links
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- 239000007772 electrode material Substances 0.000 abstract description 4
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 abstract 1
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 abstract 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 241000287107 Passer Species 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
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- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01S—DEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
- H01S3/00—Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
- H01S3/02—Constructional details
- H01S3/03—Constructional details of gas laser discharge tubes
- H01S3/034—Optical devices within, or forming part of, the tube, e.g. windows, mirrors
- H01S3/0346—Protection of windows or mirrors against deleterious effects
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Lasers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明はレーザ光を用いて切断、溶接、熱処理などを行
うがスレーザ装置に関するものである。
うがスレーザ装置に関するものである。
従来の技術
従来、ガスレーザ装置の出力ミラ一部、終段ミラ一部な
どｌこおけるレーザ媒１（ガス（以下、単にガスという
）の噴出構造は、第３図に示すようにされていた。すな
わち、ミラー台４１とミラーホルダー４２との間に共振
用ミラー４３が保持されるとともに、このミラー４３を
保持した状態でミラー台４１およびミラーホルダー４２
が固定台４４にボルト４５により一体的に支持されてい
る。上ｇ＋：！固定台４４のミラー４１／こ対向するｉ
通人４６の大径部には、放電管（図示せず）側とを接続
する継ぎ管４７が挿入され、またミラー台４１のミラー
４３１こ対向する貫通穴４８ ｆこはレーザガイド管４
９が挿入されでいる。そして、また上記固定台４４ｆこ
は、先端部が貫通穴４６の小径部側壁に開口されたガス
導入穴５０が穿設されでおり、このガス導入穴５０から
貫通穴４６にすなわちミラー４３の反射面側ｌこガスが
導入される。なお、ミラー４３とミラーホルダー４２と
の間、ミラーホルダー４２と固定台４４との間、レーザ
ガイド管４９とミラー台４１との間および継ぎ管４７と
固定台４４との間には密封用のＯリング５１ 、５２．
５３゜５４が介装されでいる。
どｌこおけるレーザ媒１（ガス（以下、単にガスという
）の噴出構造は、第３図に示すようにされていた。すな
わち、ミラー台４１とミラーホルダー４２との間に共振
用ミラー４３が保持されるとともに、このミラー４３を
保持した状態でミラー台４１およびミラーホルダー４２
が固定台４４にボルト４５により一体的に支持されてい
る。上ｇ＋：！固定台４４のミラー４１／こ対向するｉ
通人４６の大径部には、放電管（図示せず）側とを接続
する継ぎ管４７が挿入され、またミラー台４１のミラー
４３１こ対向する貫通穴４８ ｆこはレーザガイド管４
９が挿入されでいる。そして、また上記固定台４４ｆこ
は、先端部が貫通穴４６の小径部側壁に開口されたガス
導入穴５０が穿設されでおり、このガス導入穴５０から
貫通穴４６にすなわちミラー４３の反射面側ｌこガスが
導入される。なお、ミラー４３とミラーホルダー４２と
の間、ミラーホルダー４２と固定台４４との間、レーザ
ガイド管４９とミラー台４１との間および継ぎ管４７と
固定台４４との間には密封用のＯリング５１ 、５２．
５３゜５４が介装されでいる。
発明が解決しようとする問題点
上記従来の構成Ｅこよると、レーザ媒質ガスが一箇所か
ら噴出するため、ミラー４３１こ均一に当たらず、レー
ザ媒質ガス内の汚染物質がミラー４３に付着し、加工重
賞が低下するととも１こミラー４３の寿命が短かくなる
という問題点があった。
ら噴出するため、ミラー４３１こ均一に当たらず、レー
ザ媒質ガス内の汚染物質がミラー４３に付着し、加工重
賞が低下するととも１こミラー４３の寿命が短かくなる
という問題点があった。
そこで、本発明は上記問題点を解消し得るガスレーザ装
置を提供することを目的とする。
置を提供することを目的とする。
問題点を解決するための手段
上記問題点を解決するため、本発明のガスレーザ装置は
、ミラーの反射面全周囲にレーザ媒質ガスを噴出させる
開口部を設けたものである。
、ミラーの反射面全周囲にレーザ媒質ガスを噴出させる
開口部を設けたものである。
作 用
上記構成によると、レーザ媒質ガスはミラーの反射面全
周囲から噴出されるため、ガス中に経時的１こ増加して
くる汚染物質（たとえば、電極材料の酸化物、油など）
がミラーの表面に到達しにくくなるだけでなく、付着し
た場合に吹き飛ばすことができる。
周囲から噴出されるため、ガス中に経時的１こ増加して
くる汚染物質（たとえば、電極材料の酸化物、油など）
がミラーの表面に到達しにくくなるだけでなく、付着し
た場合に吹き飛ばすことができる。
実施例
以下、本発明の一実施例を第１図に基づき説明する。
第１図はガスレーザ装置の出力ミラ一部、終段ミラ一部
の断面を示している。第１図において、１は共振用ミラ
ーであって、ミラー台２とミラーホルダー３との間Ｅこ
保持されるとともに、このミラーｌを保持した状態でミ
ラー台２およびミラーホルダー３が固定台４Ｉζボルト
５により一体的に支持される。すなわち、ミラー台２は
フランジ部２ａと、フランジ部２ａの一表面側に突設さ
れた突出部２ｂとから構成されるとともにその中央には
レーザガイド管６を挿入する貫通穴７が形成されている
。また、ミラーホルダー３は、上記ミラー台２の一表面
Ｅこ密着可能なように、フランジ部２ａの外周Ｅこ接触
する外側環状部３ａと、この外側環状部３ａの内端から
突出部２ｂｌこ沿って突設された筒状部３ｂと、この筒
状部３ｂの先端から内側蚤ζ折曲げられた内側環状部３
Ｃとから構成されている。そして、ミラー１は突出部２
ｂと内側環状部３ｃとの間に保持されることになる。上
記固定台４は、中央に大径の貫通穴８Ａおよび小径（ミ
ラーの外径に略等しい）の貫通穴８Ｂが２段に形成され
たフランジ部４ａと、このフランジ部４ａの一表面から
突設されるとともにミラーホルダー３の外側環状部３ａ
および筒状１１ｒＪ３ｂ！こ外嵌する突出部４ｂとから
構成され、またフランジ部４ａの内部（こは、レーザ媒
質ガス（以下、単にガスという）を小径の貫通穴８Ｂ内
に導入するガス導入穴９が穿設されでいる。そして、さ
らｌこ小径の貫通穴８ＢＪこは、ガス導入穴９より導入
されたガスをミラー１の全周囲から均等に反射面Ｅこ導
くために、ガイド簡１０が装着されている。すなわら、
このガイド簡１０は、大径の貫通穴８Ａと小径の貫通穴
８Ｂとの間の段部４ｃに係合するフランジ部１０ａと、
このフランジ部１０ａの内周端からミラーｌの方蚤こ延
設されるとともに外径が小径の貫通穴８Ｂの内径および
ミラーホルダー３の内側環状部３ｃの内径よりも小さく
され、しかも先端部とミラー１との間に所定寸法の隙間
ａを有するような長さにされた筒状部１０ｂとから構成
されている。なお、ガイド簡ｌＯは大径の貫通穴８Ａに
挿入される継ぎ！ １１１ζよって段部４Ｃの方に押付
けられている。また、１２はミラーｌとミラーホルダー
３との間に介装された０−リング、１３はミラーホルダ
ー３と固定台４との間に介装された０−リング、１４お
よび１５はレーザガイド管６とミラー台２との間および
継ぎ管１１と固定台４との間１こ介装されたＯ−リング
で。らる。
の断面を示している。第１図において、１は共振用ミラ
ーであって、ミラー台２とミラーホルダー３との間Ｅこ
保持されるとともに、このミラーｌを保持した状態でミ
ラー台２およびミラーホルダー３が固定台４Ｉζボルト
５により一体的に支持される。すなわち、ミラー台２は
フランジ部２ａと、フランジ部２ａの一表面側に突設さ
れた突出部２ｂとから構成されるとともにその中央には
レーザガイド管６を挿入する貫通穴７が形成されている
。また、ミラーホルダー３は、上記ミラー台２の一表面
Ｅこ密着可能なように、フランジ部２ａの外周Ｅこ接触
する外側環状部３ａと、この外側環状部３ａの内端から
突出部２ｂｌこ沿って突設された筒状部３ｂと、この筒
状部３ｂの先端から内側蚤ζ折曲げられた内側環状部３
Ｃとから構成されている。そして、ミラー１は突出部２
ｂと内側環状部３ｃとの間に保持されることになる。上
記固定台４は、中央に大径の貫通穴８Ａおよび小径（ミ
ラーの外径に略等しい）の貫通穴８Ｂが２段に形成され
たフランジ部４ａと、このフランジ部４ａの一表面から
突設されるとともにミラーホルダー３の外側環状部３ａ
および筒状１１ｒＪ３ｂ！こ外嵌する突出部４ｂとから
構成され、またフランジ部４ａの内部（こは、レーザ媒
質ガス（以下、単にガスという）を小径の貫通穴８Ｂ内
に導入するガス導入穴９が穿設されでいる。そして、さ
らｌこ小径の貫通穴８ＢＪこは、ガス導入穴９より導入
されたガスをミラー１の全周囲から均等に反射面Ｅこ導
くために、ガイド簡１０が装着されている。すなわら、
このガイド簡１０は、大径の貫通穴８Ａと小径の貫通穴
８Ｂとの間の段部４ｃに係合するフランジ部１０ａと、
このフランジ部１０ａの内周端からミラーｌの方蚤こ延
設されるとともに外径が小径の貫通穴８Ｂの内径および
ミラーホルダー３の内側環状部３ｃの内径よりも小さく
され、しかも先端部とミラー１との間に所定寸法の隙間
ａを有するような長さにされた筒状部１０ｂとから構成
されている。なお、ガイド簡ｌＯは大径の貫通穴８Ａに
挿入される継ぎ！ １１１ζよって段部４Ｃの方に押付
けられている。また、１２はミラーｌとミラーホルダー
３との間に介装された０−リング、１３はミラーホルダ
ー３と固定台４との間に介装された０−リング、１４お
よび１５はレーザガイド管６とミラー台２との間および
継ぎ管１１と固定台４との間１こ介装されたＯ−リング
で。らる。
上記構成において、ガス導入穴９より、ガイド簡１０の
筒状部１０ｂの外側Ｉこ形成される環状空間室１６に入
ったガスは、ミラー１と筒状部１０ｂの先端との隙間（
開口部）ａよりしかも全周囲から均等にミラーｌの反射
面Ｅこ噴出されながらすなわち吹付けられながら継ぎ管
１１の方に導かれる。
筒状部１０ｂの外側Ｉこ形成される環状空間室１６に入
ったガスは、ミラー１と筒状部１０ｂの先端との隙間（
開口部）ａよりしかも全周囲から均等にミラーｌの反射
面Ｅこ噴出されながらすなわち吹付けられながら継ぎ管
１１の方に導かれる。
これにより、ガス中に経時的ｌこ増加しでくる汚染物ｆ
ｆ（たとえば、電極材料の酸化物、浦など）がミラーｌ
の表面ｆこ到達しｆこくくなるたけでなく、付着した場
合に吹き飛ばすことができる。この結果、ミラーｌに汚
染物が焼き付けられることが少なくなり、ミラーｌの寿
命が長くなるだけでなく、ミラー１の長寿命化（こ伴な
い加工品質が長明間Ｅこ亘って安定する。
ｆ（たとえば、電極材料の酸化物、浦など）がミラーｌ
の表面ｆこ到達しｆこくくなるたけでなく、付着した場
合に吹き飛ばすことができる。この結果、ミラーｌに汚
染物が焼き付けられることが少なくなり、ミラーｌの寿
命が長くなるだけでなく、ミラー１の長寿命化（こ伴な
い加工品質が長明間Ｅこ亘って安定する。
次に、他の実施例を第２図Ｅこ基づき説明する。
第２図はガスレーザ装置の折り返しミラ一部の断面を示
し、でいる。第２図においで、２１は折り返し用ミラー
で、ミラーホルダー２２の筒状部２２ａの内部（こ挿入
されるとともに、ミラーホルダ−２２のフランジ部２２
ｂの方から挿入されたミラー押え２３１こより、筒状部
２２ａの先端から内側Ｅこ折曲げられた環状係止部２２
ｃに押付けられるように保持されている。この場合も、
やはり筒状部２２ａの先端から折り返し用ミラー２１の
反射面にガスが噴出されて吹付けられるようにしている
。
し、でいる。第２図においで、２１は折り返し用ミラー
で、ミラーホルダー２２の筒状部２２ａの内部（こ挿入
されるとともに、ミラーホルダ−２２のフランジ部２２
ｂの方から挿入されたミラー押え２３１こより、筒状部
２２ａの先端から内側Ｅこ折曲げられた環状係止部２２
ｃに押付けられるように保持されている。この場合も、
やはり筒状部２２ａの先端から折り返し用ミラー２１の
反射面にガスが噴出されて吹付けられるようにしている
。
すなわち、ミラーホルダー２２の筒状部２２ａの先端の
環状係止部２２ｃの内部（こは、環状空間室２４が形成
されるとともに、ミラー押え２３１こはこの環状空間室
２４に接続穴２５を介してガスを導くガス導入穴２６が
穿設され、また環状係止ｆｆｆ１２２ｃには環状空間室
２４１こ導かれたガスをミラー２１の反射面に案内する
環状噴出溝（開口部）２７が形成されている。なお、上
記ミラー押え２３の内部には、ミラー２１を冷却するた
めの油冷室２８が形成され、その蓋２９には油の出入口
３０が形成されている。なお、上記ミラーホルダー２２
、ミラー押え２３および蓋２９はボルト３１により一体
化される。また、３２はミラーホルダー２２とミラー押
え２３との間膠こ介装されたＯ−リングである。
環状係止部２２ｃの内部（こは、環状空間室２４が形成
されるとともに、ミラー押え２３１こはこの環状空間室
２４に接続穴２５を介してガスを導くガス導入穴２６が
穿設され、また環状係止ｆｆｆ１２２ｃには環状空間室
２４１こ導かれたガスをミラー２１の反射面に案内する
環状噴出溝（開口部）２７が形成されている。なお、上
記ミラー押え２３の内部には、ミラー２１を冷却するた
めの油冷室２８が形成され、その蓋２９には油の出入口
３０が形成されている。なお、上記ミラーホルダー２２
、ミラー押え２３および蓋２９はボルト３１により一体
化される。また、３２はミラーホルダー２２とミラー押
え２３との間膠こ介装されたＯ−リングである。
したがって、この構成の場合でも、上述した実施例と同
様の効果が得られる。
様の効果が得られる。
発明の効果
上記本発明の構成によると、ミラーの反射面全周囲Ｅこ
レーザ媒質ガスを噴出させる開口部を設けたので、ガス
中に経時的（こ増加してくる汚染物質（たとえば、電極
材料の酸化物、油など）がミラーの表面に到達しくこく
くなるだけでなく、付着し。
レーザ媒質ガスを噴出させる開口部を設けたので、ガス
中に経時的（こ増加してくる汚染物質（たとえば、電極
材料の酸化物、油など）がミラーの表面に到達しくこく
くなるだけでなく、付着し。
た場合Ｅこ吹き飛ばすことができる。この結果、ミラー
１こ汚染物が焼き付けられることが少なくなり、ミラー
の寿命が長（なるだけでなく、ミラーの長寿命化に伴な
い加工品質が長期間１こ亘って安定する。
１こ汚染物が焼き付けられることが少なくなり、ミラー
の寿命が長（なるだけでなく、ミラーの長寿命化に伴な
い加工品質が長期間１こ亘って安定する。
第１図は本発明の一実施例におけるガスレーザ装置の要
部断面図、第２図は本発明の他の実施例におけるがスレ
ーザ装置の要部断面図、第３図は従来例のがスレーザ装
置の要部断面図である。 １・・・ミラー、２・・・ミラー台、３・・・ミラーホ
ルダー、４・・・固定台、９・・・ガス導入穴、ＩＯ・
・・ガイド簡、１０ｂ・・・筒状部。
部断面図、第２図は本発明の他の実施例におけるがスレ
ーザ装置の要部断面図、第３図は従来例のがスレーザ装
置の要部断面図である。 １・・・ミラー、２・・・ミラー台、３・・・ミラーホ
ルダー、４・・・固定台、９・・・ガス導入穴、ＩＯ・
・・ガイド簡、１０ｂ・・・筒状部。
Claims (1)
- １．ミラーの反射面全周囲にレーザ媒質ガスを噴出させ
る開口部を設けたガスレーザ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27401487A JPH01115179A (ja) | 1987-10-28 | 1987-10-28 | ガスレーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27401487A JPH01115179A (ja) | 1987-10-28 | 1987-10-28 | ガスレーザ装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01115179A true JPH01115179A (ja) | 1989-05-08 |
Family
ID=17535756
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27401487A Pending JPH01115179A (ja) | 1987-10-28 | 1987-10-28 | ガスレーザ装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH01115179A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7954786B2 (en) | 2007-06-14 | 2011-06-07 | Smc Corporation | Solenoid valve assembly |
| TWI414433B (zh) * | 2007-11-29 | 2013-11-11 | Silverbrook Res Pty Ltd | 具有壓力減緩結構之列印頭 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS548997A (en) * | 1977-06-23 | 1979-01-23 | Mitsubishi Electric Corp | Laser oscillator of horizontal excited gas circulation type |
| JPS60107877A (ja) * | 1983-11-17 | 1985-06-13 | Inoue Japax Res Inc | レ−ザ発振器 |
| JPS627179A (ja) * | 1985-07-03 | 1987-01-14 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ発振器 |
| JPS6442188A (en) * | 1987-08-10 | 1989-02-14 | Mitsubishi Electric Corp | Excimer laser apparatus |
-
1987
- 1987-10-28 JP JP27401487A patent/JPH01115179A/ja active Pending
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS548997A (en) * | 1977-06-23 | 1979-01-23 | Mitsubishi Electric Corp | Laser oscillator of horizontal excited gas circulation type |
| JPS60107877A (ja) * | 1983-11-17 | 1985-06-13 | Inoue Japax Res Inc | レ−ザ発振器 |
| JPS627179A (ja) * | 1985-07-03 | 1987-01-14 | Mitsubishi Electric Corp | レ−ザ発振器 |
| JPS6442188A (en) * | 1987-08-10 | 1989-02-14 | Mitsubishi Electric Corp | Excimer laser apparatus |
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|---|---|---|---|---|
| US7954786B2 (en) | 2007-06-14 | 2011-06-07 | Smc Corporation | Solenoid valve assembly |
| TWI414433B (zh) * | 2007-11-29 | 2013-11-11 | Silverbrook Res Pty Ltd | 具有壓力減緩結構之列印頭 |
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