JP7127334B2 - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
まず、本発明の第1実施形態に係るプラズマ処理装置の全体構成について図1を用いて説明する。図1は、本実施形態に係るプラズマ処理装置10の全体構成を概略的に示す図である。
次に、本発明の第2実施形態について述べる。図4は、本実施形態に係る電極部31および絶縁部41に関する構成を示す縦断面図である。なお、本実施形態において、図4に示すワーク1は、第1実施形態と同様に図示しない保持部2により保持される。本実施形態において、図示しないイジェクタ7により排気を行う構成も第1実施形態と同様である。
次に、本発明の第3実施形態について述べる。図6は、本実施形態に係る電極部32および絶縁部42に関する構成を示す縦断面図である。なお、本実施形態において、図6に示すワーク1は、第1実施形態と同様に図示しない保持部2により保持される。本実施形態において、図示しないイジェクタ7により排気を行う構成も第1実施形態と同様である。
次に、本発明の第4実施形態について述べる。図7は、本実施形態に係る電極部33および絶縁部43に関する構成を示す縦断面図である。なお、本実施形態において、図7に示すワーク1は、例えば、図示しない金属製の保持部により保持され、当該保持部との導通によって接地される。
次に、本発明の第5実施形態について述べる。図8は、本実施形態に係る保持部2、電極部33および絶縁部43に関する構成を示す縦断面図である。
次に、本発明の第6実施形態について述べる。図9は、本実施形態に係る保持部21、電極部34および絶縁部44に関する構成を示す縦断面図である。本実施形態では、ワーク11の貫通孔11Cに対してプラズマ処理を行う。
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明の趣旨の範囲内であれば、実施形態は種々の変形が可能である。
Claims (8)
- ワークの軸方向に延びる貫通孔をプラズマ処理するプラズマ処理装置であって、
電極部と、ガス流生成部と、を備え、
前記電極部は、前記ワークの前記貫通孔端面の周囲に位置する周囲領域と軸方向に対向し、
前記ガス流生成部は、前記周囲領域と前記電極部との間の隙間から前記貫通孔へ向けて流れるガス流を生成する、
プラズマ処理装置。 - 前記周囲領域の外縁は、前記電極部の前記ワーク側端面の外縁を軸方向に投影した位置に配置され、
前記貫通孔端面の縁と前記周囲領域の外縁との間に境界が位置し、
前記境界と前記周囲領域の外縁との間の領域を第1領域とし、
前記貫通孔端面と、前記貫通孔端面の縁と前記境界との間の領域と、を含む領域を第2領域とすると、
前記第2領域と前記電極部の前記ワーク側端面との間の軸方向距離は、前記第1領域と前記電極部の前記ワーク側端面との間の軸方向距離よりも長い、請求項1に記載のプラズマ処理装置。 - 前記電極部は、軸方向に貫通する中空部を有し、
前記電極部の前記ワーク側端面における前記中空部端面を、前記電極部と対向するワーク面に軸方向に投影した場合に、
前記貫通孔端面は、軸方向から視て、投影した前記中空部端面により囲まれる、請求項1に記載のプラズマ処理装置。 - 前記ワークを保持する保持部をさらに備え、
前記ワークに対して前記電極部の位置する側を軸方向一方側とし、その反対側を軸方向他方側とすると、
前記保持部の内部空間は、前記貫通孔の軸方向他方側端面と連通し、
前記ガス流生成部は、前記内部空間におけるガスを排気する排気部を有する、請求項1から請求項3のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。 - 前記保持部は、接地される金属部を有し、
前記ワークは、前記金属部に接触可能である、請求項4に記載のプラズマ処理装置。 - 前記電極部は、ガス流路を有し、
前記ガス流生成部は、前記ガス流路を介して前記貫通孔に対して所定のガスを送り込むガス送り込み部を有する、請求項1から請求項5のいずれか1項に記載のプラズマ処理装置。 - 前記ガス送り込み部によって送り込まれるガスを前記貫通孔へ噴出する噴出口は、前記電極部と対向するワーク面に軸方向に投影した場合に、軸方向から視て前記貫通孔に囲まれる、請求項6に記載のプラズマ処理装置。
- 前記噴出口は、前記電極部の前記ワーク側に配置される絶縁部に設けられる、請求項7に記載のプラズマ処理装置。
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