JPS60103635A - 半導体装置 - Google Patents
半導体装置Info
- Publication number
- JPS60103635A JPS60103635A JP21117183A JP21117183A JPS60103635A JP S60103635 A JPS60103635 A JP S60103635A JP 21117183 A JP21117183 A JP 21117183A JP 21117183 A JP21117183 A JP 21117183A JP S60103635 A JPS60103635 A JP S60103635A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wiring
- electrode pads
- semiconductor device
- electrodes
- semiconductor substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
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Classifications
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/02—Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L24/06—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L22/00—Testing or measuring during manufacture or treatment; Reliability measurements, i.e. testing of parts without further processing to modify the parts as such; Structural arrangements therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/0555—Shape
- H01L2224/05552—Shape in top view
- H01L2224/05554—Shape in top view being square
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Electrodes Of Semiconductors (AREA)
- Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明に半導体装置の欠陥全発見する構造に関するもの
であるO 8i、GaAs等の半導体基板上に、A4 Au 等の
金属及び多結晶Si等で形成された配線及び外部扱続用
電極パッド?有する半導体装置を製造する際に、その小
片化工程1組立工程、封止工程等において種々の後天的
欠陥が発生ずる。
であるO 8i、GaAs等の半導体基板上に、A4 Au 等の
金属及び多結晶Si等で形成された配線及び外部扱続用
電極パッド?有する半導体装置を製造する際に、その小
片化工程1組立工程、封止工程等において種々の後天的
欠陥が発生ずる。
これらの欠陥(例えば、小片化工程におけるワレ、カケ
、クラック、組立工程における汚れ異物等)を除去する
為に工程内検査として肉眼による目視横置が一般に採用
されているが、検出力に光分とげ云えない0又、″+導
体素子が容器に封止された後での上記欠陥の検出、除去
ぼさらに検出力が落ち、特に上記欠陥が進行性を有する
場合げ、その検出が困難である。
、クラック、組立工程における汚れ異物等)を除去する
為に工程内検査として肉眼による目視横置が一般に採用
されているが、検出力に光分とげ云えない0又、″+導
体素子が容器に封止された後での上記欠陥の検出、除去
ぼさらに検出力が落ち、特に上記欠陥が進行性を有する
場合げ、その検出が困難である。
本発明の目的に、上記欠陥が半導体小片の外周部で発生
する比率が大であることを利用し、簡便な電気的特注測
定vc、エク、こわら欠陥を検出可能な半導体装置?提
供するものである。
する比率が大であることを利用し、簡便な電気的特注測
定vc、エク、こわら欠陥を検出可能な半導体装置?提
供するものである。
本発明に工りば’t’4体基板体表板周辺部に金属配線
層?有し、この金属配線層ぼ少なくとも2つの電極バッ
ド[li続されており、電極パッド間の11L′4度全
測定することIc工って半導体基板の欠陥を発見できる
半導体装置を得る。
層?有し、この金属配線層ぼ少なくとも2つの電極バッ
ド[li続されており、電極パッド間の11L′4度全
測定することIc工って半導体基板の欠陥を発見できる
半導体装置を得る。
次に図面を参照して、本発明を工V詳細VC説明する0
+S体基板lの表面に分離領域2.内部素子並びに配線
會有する能動部3.内部配線と外部電極を陸続する外部
陸続用電極パッド41 が形成される0更に半導体基板
lの表面lCa能動部2と外部陸続用電極パッド4會囲
む周辺配線8,9が形成されている。この周辺配線8,
9aそhぞれ能動部3とに陸続されない外部陸続用電極
バッド11゜12お工び13,14vcli続されてい
る。
會有する能動部3.内部配線と外部電極を陸続する外部
陸続用電極パッド41 が形成される0更に半導体基板
lの表面lCa能動部2と外部陸続用電極パッド4會囲
む周辺配線8,9が形成されている。この周辺配線8,
9aそhぞれ能動部3とに陸続されない外部陸続用電極
バッド11゜12お工び13,14vcli続されてい
る。
この工うな半導体装置に、カケ、クラックが半導体小片
の外周部で発生する比率が大である。従って、半導体装
置にカケ5.クラック6が発生した場合、周辺配線8ま
た汀9もしく汀両者が断線する0これa外部陸続用電極
11.12間及び13゜14間の電気的導通管測定Tる
こと范エク検出可能となる。また、各種汚れ、異物7が
工程内で付着、あるいげ容器封止後侵入した場合、この
汚わが電気的絶縁を損う様な物質である場合、外部妥続
用電極11,13間又rr12.14間の洩れ電流の増
大?測定することにより検出可能となる〇父上記汚れが
腐食性の物質であわば、周辺配線8゜9′ft腐食し断
線音生ずる。この場合、前述の外部陸続用電極11.1
2間及び13.14間の電気的導通を測定することVC
エリ検出可能となる。
の外周部で発生する比率が大である。従って、半導体装
置にカケ5.クラック6が発生した場合、周辺配線8ま
た汀9もしく汀両者が断線する0これa外部陸続用電極
11.12間及び13゜14間の電気的導通管測定Tる
こと范エク検出可能となる。また、各種汚れ、異物7が
工程内で付着、あるいげ容器封止後侵入した場合、この
汚わが電気的絶縁を損う様な物質である場合、外部妥続
用電極11,13間又rr12.14間の洩れ電流の増
大?測定することにより検出可能となる〇父上記汚れが
腐食性の物質であわば、周辺配線8゜9′ft腐食し断
線音生ずる。この場合、前述の外部陸続用電極11.1
2間及び13.14間の電気的導通を測定することVC
エリ検出可能となる。
本構造rcおいて、周辺配線8と外部陸続用電極パッド
11.12のみとし周辺配線9お工び外部陸続用電極パ
ッド12.13’lj省略しても同様の機能aはぼ達成
出来るが、これらげ複数組あった万がより確実である。
11.12のみとし周辺配線9お工び外部陸続用電極パ
ッド12.13’lj省略しても同様の機能aはぼ達成
出来るが、これらげ複数組あった万がより確実である。
第1図a不発明の一笑施例の平面図、第2図aその断面
図である。 l・・・#P4体基板基板・・・分離領域、3・・・能
動部、4・・・外部陸続用電極パッド、5・・・カケ、
6・・・クラック、7・・・汚れ、8,9・・・周辺配
線、11,12゜13.14・・・・・・外部吸続用璽
極パッド5−
図である。 l・・・#P4体基板基板・・・分離領域、3・・・能
動部、4・・・外部陸続用電極パッド、5・・・カケ、
6・・・クラック、7・・・汚れ、8,9・・・周辺配
線、11,12゜13.14・・・・・・外部吸続用璽
極パッド5−
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 +1) 表面VcFF3部配線お裏配線極パッドが設け
られた半導体基板の表面に前記内部配線お工び前記電極
パッドを囲み、前記電極パッドの所定のもの少なくとも
2つrc咲続された周辺配線tVすることt特徴と丁、
6半導体装置0 (2) wlr記電極電極パッド記所定のものa前記円
部配線vcrX連結していないことvi−特徴と丁、6
特許請求の範囲第1項記載の′!p導体装置。 (3) 前記周辺配Ha複数個有することを特徴とする
特許請求の範囲第1項もしくa第2項記載の半導体装置
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21117183A JPS60103635A (ja) | 1983-11-10 | 1983-11-10 | 半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21117183A JPS60103635A (ja) | 1983-11-10 | 1983-11-10 | 半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60103635A true JPS60103635A (ja) | 1985-06-07 |
Family
ID=16601582
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21117183A Pending JPS60103635A (ja) | 1983-11-10 | 1983-11-10 | 半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60103635A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04225811A (ja) * | 1990-12-26 | 1992-08-14 | Masao Kani | 集塵機における塵埃払い落し装置 |
US5889757A (en) * | 1996-05-27 | 1999-03-30 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laminated optical disc and turntable for the laminated optical disc |
JP2009049269A (ja) * | 2007-08-22 | 2009-03-05 | Seiko Epson Corp | 半導体装置 |
-
1983
- 1983-11-10 JP JP21117183A patent/JPS60103635A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04225811A (ja) * | 1990-12-26 | 1992-08-14 | Masao Kani | 集塵機における塵埃払い落し装置 |
US5889757A (en) * | 1996-05-27 | 1999-03-30 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laminated optical disc and turntable for the laminated optical disc |
US6049522A (en) * | 1996-05-27 | 2000-04-11 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laminated optical disc and turntable for the laminated optical disc |
US6212159B1 (en) | 1996-05-27 | 2001-04-03 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Laminated optical disc and turntable for the laminated optical disc |
JP2009049269A (ja) * | 2007-08-22 | 2009-03-05 | Seiko Epson Corp | 半導体装置 |
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